JPH04286611A - セルローストリアセテートフイルムの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、平面性が良好なセルロ
ーストリアセテートフイルムを製造する方法に関するも
のである。

【０００２】

【従来の技術】セルローストリアセテートフイルムの製
膜方法の一つに、バンドまたはドラム上にドープを流延
して剥ぎ取った後これを乾燥する溶液製膜法がある。

【０００３】従来、この溶液製膜法における乾燥方法と
しては、例えば、図２に示すように、流延面１から剥ぎ
取ったドープ２を乾燥室３内に設けられた多数のロール
４の間に掛け渡し、その多数のロール４間を移動させる
（ロール搬送方式という）間に、熱風ａ、赤外線などで
乾燥するさせる方法があった（米国特許第２，３１９，
０５３号明細書等）。

【０００４】また、流延面から剥ぎ取ったウェブの両側
縁部をテンタークリップ等で保持しながら、延伸させる
ことなく搬送しつつ乾燥する方法もあった（特開昭６２
−４６６２５号、特開昭６２−４６６２６号各公報）。 この方法は、流延面から剥ぎ取ったウエブの残留溶媒が
非常に多く、直接ロール搬送するとロール表面の接触に
よりウェブの表面が損なわれる場合に効果がある。

【０００５】ところで、溶液製膜法は製膜速度が遅いこ
とが大きな問題点であり、乾燥工程においても乾燥速度
を上げることが工業上重要な課題となっていた。そこで
、流延面上から剥ぎ取ったドープをできるだけ高温で乾
燥できるように、流延面から剥ぎ取りを早めるためのゲ
ル化剤、例えば、ブタノールなどの高沸点溶剤を含ませ
たり（米国特許第２，６０７，７０４号、米国特許第２
，７３９，０６９号各明細書等）、また、乾燥温度を高
くしたりする方法が提案されていた。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の方法では、平面性故障が発生することが多かっ
た。すなわち、膜は高温になるにしたがって、搬送過程
において搬送方向に連続的なしわ（以後、スジバリと言
う。）が多発する。例えば、ピッチ３０〜５０ｍｍ、凹
凸の高さ搬送時５〜６ｍｍ（静止時で張力がない場合０
．５〜１．０ｍｍ）のスジバリが発生する。

【０００７】このスジバリは、セルローストリアセテー
トフイルムを写真フイルム等の支持体として用いた時、
乳剤層の厚みむらの原因となるものであった。

【０００８】本発明は、以上の問題点を解決し、高温乾
燥により高速製膜しても平面性が良好なセルローストリ
アセテートフイルムの製造方法を提供することを目的と
する。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成するためにスジバリの発生する原因に付いて鋭意
研究し、高温乾燥によって膜の弾性率が低下し、搬送方
向に作用する搬送テンションによってその方向に延伸さ
れやすくなり、そして、この時膜の幅方向には圧縮力が
働くので座屈変形し、その結果スジバリが発生するもの
であることを見出した。

【００１０】そして、さらに研究の結果、セルロースト
リアセテートフイルムの溶液製膜工程において乾燥温度
を特定の条件にすることにより、高温で高速乾燥しても
フイルムの平面性が損なわれないことを見いだした。

【００１１】すなわち、本発明のセルローストリアセテ
ートフイルムの製造方法は、ドープをバンドまたはドラ
ム上に流延した後、剥ぎ取って乾燥させる溶液製膜法に
おいて、最終乾燥工程に入る直前のドープの残留溶媒を
１０％以下にし、最終乾燥工程において表面温度をガラ
ス転移温度からガラス転移温度＋４０℃の範囲に維持し
つつロールに巻回して膜を搬送し、かつ最終乾燥工程に
至る前の膜の表面温度を最終乾燥工程の膜の表面温度よ
り１５℃以上低くしたことを特徴として構成されている
。

【００１２】最終乾燥工程におけるフイルムの表面温度
は、ガラス転移温度からガラス転移温度＋４０℃の範囲
、好ましくはガラス転移温度から２０〜３０℃高い範囲
である。ガラス転移温度未満では、十分な平面性改良の
効果が得られない。ガラス転移温度＋４０℃を越えると
、膜の弾性率が低下して搬送方向に延伸されやすくなり
、また、膜内の可塑剤の揮発量が著しく増加する。

【００１３】最終乾燥工程に入る前のフイルムの表面温
度は、最終乾燥工程のフイルム表面温度より１５℃以上
、好ましくは２０〜４５℃低くする。温度差が１５℃未
満では平面性の改良効果が十分に得られない。

【００１４】ガラス転移温度は、例えば、ＡＳＴＭ　Ｄ
３４１８−８２にもとずいてＤＳＣ（Ｄｉｆｅｒｅｎｔ
ｉａｌＳｃａｎｎｉｎｇ　Ｃａｌｏｒｉｍｅｔｅｒ；走
査型示差熱量計）　を用いて測定した値を用いる。 セルローストリアセテートフイルムのガラス転移温度は
１０２℃であった。

【００１５】流延速度を増加させると乾燥室内を通過す
る時間が短くなるので残留溶媒は増加する。

【００１６】最終乾燥工程以前の乾燥工程は、ロール搬
送方式でもよいし、特開昭６３−２７３６０号に開示さ
れているような非接触搬送方式でもよい。

【００１７】最終乾燥工程に至るドープの残留溶媒は、
１０重量％以下、好ましくは２重量％以下であり、当然
０％であってもよい。残留溶媒が１０重量％を越えると
、最終製品中の残留溶媒が多くなる。残留溶媒は下記の
式による。 残留溶媒（重量％）＝（Ａ−Ｂ）×１００／ＡＡ：試料
フイルムの重量（ｇ） Ｂ：１１０℃、１時間、熱風乾燥後の試料フイルムの重
量（ｇ）

【００１８】最終乾燥工程に入る直前の残留溶媒量のコ
ントロールは、例えば、熱風の温度及び風量で行う。

【００１９】

【作用】本発明のセルローストリアセテートフイルムの
製造方法では、最終乾燥工程で表面温度をガラス転移温
度からガラス転移温度＋４０℃の範囲にし、かつ最終乾
燥工程に至る前の表面温度を最終乾燥工程より１５℃以
上低い温度としているので、最終乾燥工程は、最終乾燥
工程以前の工程で座屈変形によりスジバリ故障が発生し
た時の温度、即ち形状記憶温度より高い温度になる。そ
して、この高い温度でロールに巻回して搬送し、座屈変
形した表面を平面に矯正する。

【００２０】

【実施例】本発明のセルローストリアセテートフイルム
の製造方法の一実施例を図面に基づいて説明する。

【００２１】図１はセルローストリアセテートフイルム
の製造方法を実施するための製造装置の模式図である。

【００２２】図において、符号１１は流延部、符号１２
、１３及び１４は、流延部１１から剥ぎ取られた膜１５
を順次乾燥する第１乾燥室、第２乾燥室及び最終乾燥室
である。そして、第１乾燥室１２と第２乾燥室１３の間
に下塗り塗布部１６が設けられている。

【００２３】流延部１１は、所定温度に冷却されるバン
ド１７とその上部に設けられた流延口１８からなってい
る。また、第１、第２及び最終乾燥室乾燥１２、１３及
び１４は、それぞれ、熱風供給口１９、２０及び２１が
設けられ、また、ウェブ１５を搬送するためのロール２
２、２３及び２４が設けられている。

【００２４】以上のような製造装置でセルローストリア
セテートフイルムを製造するには、まず、所定組成のド
ープをバンド１７に流延し、流延されたドープが発泡し
ない温度条件で乾燥しつつ搬送する。そして、ある程度
自己特性が出た時バンド１７から剥ぎ取り、その後、第
１乾燥室１２に送り込み、熱風供給口１９から熱風ａを
送り込みつつロール２２で搬送し、下塗りができる状態
にまで乾燥させる。こうして乾燥させられた膜１５は下
塗り塗布部１６に送られ、写真感光材料用の下塗り剤が
塗布される。

【００２５】下塗りされた膜１５は、第２乾燥室１３へ
送り込まれ第１乾燥室１２と同様に乾燥させられる。こ
の２回の乾燥工程で、膜１５の残留溶媒は１０％以下に
なっている。また、両乾燥室１２、１３での乾燥温度は
、後述する最終乾燥室１４での乾燥温度より１５℃以上
低く設定されている。

【００２６】最後に、膜１５は最終乾燥室１４に送り込
まれ、ガラス転移温度からガラス転移温度＋４０℃の範
囲の温度で加熱されつつロール２４で搬送される。した
がって、ウェブ１５は少し軟化した状態で引張り応力が
発生するので、既に生じていた凹凸等の変形は解消され
る。そして、その後冷却して巻き取る。

【００２７】実施例１〜４及び比較例１、２：セルロー
ストリアセテート２１重量％、トリフェニルホスフェー
ト３重量％、メチレンクロライド６５重量％、メタノー
ル７重量％及びブタノール４重量％からなるドープを調
製し、図１に示すセルローストリアセテートフイルムの
製造装置を用い、厚さ約１２０μｍのセルローストリア
セテートフイルムを製造した。

【００２８】そして、得られたセルローストリアセテー
トフイルムに写真乳剤を塗布して塗布ムラを評価した。 評価方法は現像処理後、透過光を用いて色ムラを肉眼で
判定した。乾燥条件及び評価結果を表１に示す。

【００２９】

【表１】

【００３０】表１の結果より、実施例１〜４（本発明品
）は、高温乾燥したにもかかわらず、フイルム平面性が
良好で写真乳剤の塗布ムラは殆どなく良好であった。 これに対し、比較例１は、温度差が１０℃であったため
に塗布ムラが発生し、比較例２は、残留溶媒が１０％以
上であるので最終製品にも残留溶媒が残り不都合が発生
した。

【００３１】

【発明の効果】本発明は、セルローストリアセテートの
溶液製膜法において、平面性を良好に保持しつつ高温高
速乾燥することができるので、製膜速度を著しく高める
ことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のセルローストリアセテートフイルムの
製造方法を実施する製造装置の模式図である。

【図２】従来のセルローストリアセテートフイルムの製
造装置の模式図である。

【符号の説明】

１１　　流延部 １２　　第１乾燥室 １３　　第２乾燥室 １４　　最終乾燥室 １５　　膜

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　セルローストリアセテートフイルム用
   ドープをバンドまたはドラム上に流延した後、剥ぎ取っ
   て乾燥させる溶液製膜法において、最終乾燥工程に入る
   直前のドープの残留溶媒を１０％以下にし、最終乾燥工
   程において表面温度をガラス転移温度からガラス転移温
   度＋４０℃の範囲に維持しつつロールに巻回して膜を搬
   送し、かつ最終乾燥工程に至る前の膜の表面温度を最終
   乾燥工程の膜の表面温度より１５℃以上低くしたことを
   特徴とするセルローストリアセテートフイルムの製造方
   法