JPH04288312A

JPH04288312A - （メタ）アクリレート誘導体、これを含む樹脂組成物及び光デイスク用コート剤

Info

Publication number: JPH04288312A
Application number: JP3077283A
Authority: JP
Inventors: Kazuhiko Ishii; 一彦石井; Minoru Yokoshima; 実横島
Original assignee: Nippon Kayaku Co Ltd
Current assignee: Nippon Kayaku Co Ltd
Priority date: 1991-03-18
Filing date: 1991-03-18
Publication date: 1992-10-13
Anticipated expiration: 2015-03-06
Also published as: JP3016401B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】【０００１】【産業上の利用分野】本発明は、新規なエポキシ（メタ
）アクリレート、これを含む樹脂組成物、光ディスク用
材料及びその硬化物に関する。【０００２】【従来の技術】現在、民生用のコンパクトディスク記録
媒体用保護コート剤としては紫外線硬化型オーバーコー
ト剤が使用されている。一方、現在、書き込み、消去の
可能な光ディスクの開発が行われており、光ディスク用
保護コート剤や傷つき防止用ハードコート剤等の開発も
進められている。【０００３】【発明が解決しようとする課題】光ディスク用の記録媒
体は、水分やヒートショックに弱く、保護コート剤に対
する特性として、耐湿性、耐ヒートショック性、硬度等
に優れた硬化物が要求されている。従来使用されている
コンパクトディスク用保護コート剤は、耐湿性が不十分
であり、光ディスクの保護コート剤やハードコート剤と
して使用するには、不向きである。【０００４】【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、本発明者らは、鋭意研究の結果、新規なエポキシ（
メタ）アクリレートを開発し、これを用いることにより
、硬化速度が速く、基材に対する密着性に優れ、硬化物
の硬度が大きく、耐湿性に優れている光ディスク用材料
に適した樹脂組成物を提供することに成功し本発明を完
成した。【０００５】すなわち、本発明は、１．式（１）で示されるエポキシ（メタ）アクリレート
、【０００６】【化２】【０００７】（式中、Ｒは、Ｈ又はＣＨ３　である。）
２．第１項記載のエポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）
、分子中に１個以上のエチレン性不飽和基を有する化合
物（Ｂ）及び任意成分として光重合開始剤（Ｃ）を含有
することを特徴とする樹脂組成物。３．第１項記載のエポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）
、分子中に１個以上のエチレン性不飽和基を有する化合
物（Ｂ）及び任意成分として光重合開始剤（Ｃ）を含有
することを特徴とする光ディスク用材料。４．第２項記載の樹脂組成物の硬化物。５．第３項記載の光ディスク用材料の硬化物に関するも
のである。【０００８】本発明のエポキシ（メタ）アクリレート（
Ａ）は、式（２）【０００９】【化３】【００１０】（式中、Ｒは、Ｈ又はＣＨ３　である。）
で表される化合物と（メタ）アクリル酸を反応させるこ
とにより得ることができる。式（２）で表される化合物
は、市場より容易に入手することが出来る。例えば、ダ
イセル化学工業（株）製、ＡＥＴＨＢ【００１１】【化４】【００１２】及びＭＥＴＨＢ【００１３】【化５】【００１４】等である。式（２）で表される化合物とア
クリル酸又はメタクリル酸との反応において、式（２）
で表される化合物のエポキシ基１化学当量に対する（メ
タ）アクリル酸の使用割合は、０．５〜１．５化学当量
が好ましく、特に好ましくは、０．９〜１．０化学当量
である。反応温度は、７０〜１３０℃が好ましく、特に
８０〜１００℃が好ましい。反応は、触媒を使用し促進
させることができる。その様な触媒としては、トリエチ
ルアミン、ベンジルジメチルアミン、メチルトリエチル
アンモニウムクロライド、トリフェニルスチビン等の公
知の触媒があげられ、その使用量は、原料の重量に対し
て０．０５〜１０重量％が好ましく、特に好ましくは０
．１〜５重量％使用される。反応時間は、５〜４８時間
が好ましい。【００１５】次に、本発明で使用する分子中に１個以上
のエチレン性不飽和基を有する化合物（Ｂ）の具体例と
しては、例えば、ネオペンチルグリコールジ（メタ）ア
クリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコ
ールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチ
ロールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパ
ントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールト
リ（メタ）アクリレート、ジトメチロールプロパンテト
ラ（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メ
タ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、カルビト
ール（メタ）アクリレート、トリシクロデカン（メタ）
アクリレート（日立化成（株）製、ＦＡ−５１３Ａ）、
エポキシ（メタ）アクリル酸エステル（例えば、ビスフ
ェノール型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂等
のエポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸との反応物。）ウ
レタン（メタ）アクリレート（例えば、ポリエーテルポ
リオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネート
ポリオール、ポリカプロラクトンポリオール、エチレン
グリコール、１，６−ヘキサンジオール等のポリオール
類と、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジ
イソシアネート、トリレンジイソシアネート等の有機ポ
リイソシアネート類と、２−ヒドロキシエチル（メタ）
アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリ
レート等のヒドロキシ基含有（メタ）アクリレート類と
を反応させることにより得ることができる。）等が挙げ
られる。特に好ましいものとしては、ネオペンチルグリ
コールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペン
チルグリコールジアクリレート、トリシクロデカンジメ
チロールジアクリレート、トリメチロ−ルプロパントリ
アクリレート、トリシクロデカンアクリレート、カルビ
トールアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレ
ート等が挙げられる。【００１６】分子中に１個以上のエチレン性不飽和基を
有する化合物（Ｂ）の使用量は、樹脂組成物又は光ディ
スク用材料（以下単に組成物という。）中、式（１）で
表されるエポキシ（メタ）アクリレート（Ａ）を１００
重量部とした時に、５０〜２０００重量部が好ましく、
特に好ましくは、１００〜９００重量部である。【００１７】任意成分として使用する光重合開始剤（Ｃ
）は、公知のどのような光重合開始剤でも使用すること
が出来るが配合後の貯蔵安定性の良いものが望ましい。その様な光重合開始剤としては、例えば、１−ヒドロキ
シシクロヘキシルフェニルケトン、ベンジルジメチルケ
タール、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン
、ベンゾフェノン、２，４−ジエチルチオキサントン、
イソプロピルチオキサントン、ｐ−ジメチルアミノアセ
トフェノン、ｐ−ジメチルアミノベンズアルデヒド、ｐ
−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル等が挙げられ
る。かかる光重合開始剤は、１種或いは２種以上を混合
して使用することができる。好ましい光重合開始剤（Ｃ
）としては、例えば、１−ヒドロキシシクロヘキシルフ
ェニルケトン、ベンゾフェノン、ｐ−ジメチルアミノア
セトフェノン等挙げられる。光重合開始剤（Ｃ）の使用
量は、組成物中、（Ａ）成分＋（Ｂ）成分の総量１００
重量部に対して好ましくは０〜１０重量％、特に好まし
くは１〜８重量％である。本発明の組成物は、（Ａ）成
分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分（任意成分）を混合、溶
解することにより調製することができる。又、本発明の
組成物は、（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）（任意成分）の成
分物質だけで十分所期の目的を達成するものであるが、
さらに性能改良のため、本来の特性を変えない範囲で、
シランカップリング剤、重合禁止剤、レベリング剤等の
材料を添加することもできる。シラカップリング剤とし
てはγ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプト
プロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。重合禁止剤としては、メトキノン、ベンゾキノン、メチ
ルハイドロキノン等が挙げられる。又、レベリング剤と
しては、モダフロー（モンサント社製）、フルオラド（
３Ｍ社製）等が挙げられる。【００１８】本発明の組成物の硬化物は常法に従い紫外
線照射又は電子線照射により硬化として得られる。電子
線照射の場合は光重合開始剤を配合する必要はない。本
発明の組成物の紫外線照射による硬化は、常法により行
うことができる。例えば、低圧又は高圧水銀灯、メタル
ハライドランプ、キセノン灯等を用いて紫外線を照射す
ればよい。本発明の組成物は、特にプラスチックを基板
とする光ディスクの記録膜の保護コート剤として、又光
ディスク用ハードコート剤として有用であるが、その他
にも、金属、プラスチック、ゴム、紙、木材及びセラミ
ック用塗料等にも使用できる。本発明の光ディスク用材
料は、特に光ディスクの記録膜の保護コート剤、又、光
ディスク用ハードコート剤として有用である。本発明の
光ディスク用材料を用いた光ディスクの記録膜の保護膜
の形成は、光ディスクの記録膜の上に光ディスク用材料
を例えば、スピンコート法等により塗布し、紫外線を照
射して硬化することによって保護膜を形成させる。光デ
ィスクの記録膜の上に光ディスク用材料を塗布する場合
、その厚さは、通常１〜５０μ程度とするのが好ましい
。なお、これらの方法において、光ディスク用材料の硬
化は、紫外線照射の代りに電子線照射によることもでき
る。【００１９】【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
る。なお、実施例中の部は、重量部である。エポキシ（
メタ）アクリレート（Ａ）の実施例実施例１前記式（３）の化合物（ダイセル化学工業（株）製、Ａ
ＥＴＨＢ）１９３部、アクリル酸６８．４部、メトキノ
ン０．１部、トリフェニルスチビン１．３部を仕込み、
液温を９５〜１００℃に保ちながら酸価（ｍｇ／ＫＯＨ
／ｇ）　が１．０以下になるまで反応を行いエポキシア
クリレートを得た。このものは、次の性状を有する。粘度（２５℃）　　　　９０ポイズ酸価（ｍｇ／ＫＯＨ／ｇ）　　　０．５得られた生成物
の核磁気共鳴（ＮＭＲ）の測定を行った結果を下記に示
す。　　　　　　　　Ｎｏ．　　　　　　　　ｐｐｍ　　　
　　　　　　　　　Ｎｏ．　　　　　　　　ｐｐｍ　　
　　　　　　　　１　　　　　　　　　　１６６．２０
３　　　　　　　　　　　　　５　　　　　　　　　　
　７９．３９７　　　　　　　　　　　２　　　　　　
　　　　１６５．５５４　　　　　　　　　　　　　６
　　　　　　　　　　　７７．７０８　　　　　　　　
　　　３　　　　　　　　　　１３０．７２７　　　　
　　　　　　　　　７　　　　　　　　　　　７７．１
８８　　　　　　　　　　　４　　　　　　　　　　１
２８．３８８　　　　　　　　　　　　　８　　　　　
　　　　　　７５．１０９　　　　　　　　　Ｎｏ．　
　　　　　　　ｐｐｍ　　　　　　　　　　　　Ｎｏ．
　　　　　　　　ｐｐｍ　　　　　　　　　　９　　　
　　　　　　　　７３．０３０　　　　　　　　　　　
１７　　　　　　　　　　　３１．５７６　　　　　　
　　　１０　　　　　　　　　　　７２．２５０　　　
　　　　　　　　１８　　　　　　　　　　　３０．６
６７　　　　　　　　　１１　　　　　　　　　　　７
０．５６１　　　　　　　　　　　１９　　　　　　　
　　　　２８．５８８　　　　　　　　　１２　　　　
　　　　　　　６８．０９２　　　　　　　　　　　２
０　　　　　　　　　　　２７．５４８　　　　　　　
　　１３　　　　　　　　　　　６７．０５３　　　　
　　　　　　　２１　　　　　　　　　　　２４．４２
９　　　　　　　　　１４　　　　　　　　　　　６６
．６６３　　　　　　　　　　　２２　　　　　　　　
　　　２３．６５０　　　　　　　　　１５　　　　　
　　　　　　３５．３４５　　　　　　　　　　　２３
　　　　　　　　　　　２２．７４０　　　　　　　　
　１６　　　　　　　　　　　３１．８３６　　　　　
　　　　　　２４　　　　　　　　　　　　０．０００
　　　なお、上記測定は、基準物質として、テトラメチル
シランを、溶媒は、重クロロホルムを用いてプロトンデ
カップリング法でで行った。【００２０】実施例２前記式（４）の化合物（ダイセル化学工業（株）製、Ｍ
ＥＴＨＢ）１９３部、アクリル酸８１．８部、メトキノ
ン０．１部、トリフェニルスチビン１．４部を仕込み、
液温を９５〜１００℃に保ちながら酸価（ｍｇＫＯＨ／
ｇ）が１．０以下になるまで反応を行い、エポキシメタ
クリレートを得た。このものは、下記の性状を有する。粘度（２５℃）　　　　１００ホイズ酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）　　　　　　０．７　　　　　
　ＮＭＲ測定結果　　　　　　　　Ｎｏ．　　　　　　　　ｐｐｍ　　　
　　　　　　　　　Ｎｏ．　　　　　　　　ｐｐｍ　　
　　　　　　　　１　　　　　　　　　　１６８．９３
２　　　　　　　　　　　　　８　　　　　　　　　　
１２５．５２９　　　　　　　　　　　２　　　　　　
　　　　１６７．５０２　　　　　　　　　　　　　９
　　　　　　　　　　　７９．５２８　　　　　　　　
　　　３　　　　　　　　　　１６５．６８３　　　　
　　　　　　　１０　　　　　　　　　　　７７．３１
８　　　　　　　　　　　４　　　　　　　　　　１３
６．４４５　　　　　　　　　　　１１　　　　　　　
　　　　７５．２３９　　　　　　　　　　　５　　　
　　　　　　　１３１．５０７　　　　　　　　　　　
１２　　　　　　　　　　　７３．１６０　　　　　　
　　　　　６　　　　　　　　　　１３０．９８８　　
　　　　　　　　　１３　　　　　　　　　　　７２．
５１０　　　　　　　　　　　７　　　　　　　　　　
１２８．７７８　　　　　　　　　　　１４　　　　　
　　　　　　７０．５６１　　　　　　　　　Ｎｏ．　
　　　　　　　ｐｐｍ　　　　　　　　　　　　Ｎｏ．
　　　　　　　　ｐｐｍ　　　　　　　　１５　　　　
　　　　　　　６８．６８２　　　　　　　　　　　２
２　　　　　　　　　　　２７．６７８　　　　　　　
　　１６　　　　　　　　　　　６７．３１２　　　　
　　　　　　　２３　　　　　　　　　　　２４．５６
０　　　　　　　　　１７　　　　　　　　　　　６６
．７９３　　　　　　　　　　　２４　　　　　　　　
　　　２３．７８０　　　　　　　　　１８　　　　　
　　　　　　３５．４７５　　　　　　　　　　　２５
　　　　　　　　　　　２３．０００　　　　　　　　
　１９　　　　　　　　　　　３１．７０７　　　　　
　　　　　　２６　　　　　　　　　　　１８．３２２
　　　　　　　　　２０　　　　　　　　　　　３０．
７９７　　　　　　　　　　　２７　　　　　　　　　
　　　０．０００　　　　　　　　　２１　　　　　　
　　　　　２８．７１８　【００２１】樹脂組成物の実施例実施例３実施例１で得たエポキシアクリレート３０部、トリシク
ロデカンジメチロールジアクリレート５５部、テトラヒ
ドロフルフリルアクリレート１５部、ベンゾフェノン５
部及びＮ，Ｎ−ジメチルアミノアセトフェノン２部を混
合し、紫外線硬化型樹脂組成物（光ディスク用材料）を
調製した。ポリカーボネート基板に記録膜を作製した光
ディスクの記録膜の上に、上記の紫外線硬化型樹脂組成
物をスピンコーターで塗布し、高圧水銀灯（日本電池（
株）製、２ＫＷ）により照射し該組成物を硬化させた。保護コートされた光ディスクを６０℃の９０％ＲＨの状
態に放置し、耐湿性試験を行った所、１０００時間を経
過しても記録膜に異常がなかった。【００２２】実施例４実施例２で得たエポキシメタアクリレート４０部、トリ
シクロデカンアクリレート４０部、ネオペンチルグリコ
ールジアクリレート２０部、ベンゾフェノン５部及びＮ
，Ｎ−ジメチルアミノアセトンフェノン２部を混合し、
紫外線硬化型樹脂組成物（光ディスク用材料）を調製し
た。これを用い、実施例３と同様にして、保護コートさ
れた光ディスクを得た。実施例３と同様の耐湿性の試験
の結果、１０００時間経過しても異常がなかった。【００２３】実施例５実施例１で得たエポキシアクリレート２０部、ヒドロキ
シピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート３
０部、トリメチロールプロパントリアクリレート２０部
、トリシクロデカンアクリレート３０部及びイルガキュ
アー１８４（チバ・ガイギー社製、光重合開始剤）５部
を混合し、紫外線硬化型樹脂組成物（光ディスク用材料
）を調製した。これを用い、実施例３と同様にして、保
護コートされた光ディスクを得た。実施例３と同様の耐
湿性の試験の結果、１０００時間経過しても異常がなか
った。【００２４】実施例６実施例３の中でベンゾフェノン及びＮ，Ｎ−ジメチルア
ミノアセトフェノンをのぞいた以外は、実施例３と同様
に混合し、電子線硬化型樹脂組成物（光ディスク用材料
）を調製した。実施例３と同様、光ディスクの記録膜の
上に、上記の電子線硬化型樹脂組成物をスピンコーター
で塗布し、電子線（ＥＳＩ社製、テストマシーン、１７
５ｋｅＶ）を照射し該組成物を硬化させた。保護コート
された光ディスクを６０℃の９０％ＲＨの状態に放置し
、耐湿性試験を行った所、１０００時間を経過しても記
録膜に異常がなかった。【００２５】【発明の効果】本発明のエポキシ（メタ）アクリレート
を含んだ樹脂組成物を硬化して得られる硬化物は、耐湿
性、耐久性、接着性に優れ、特に光ディスクの記録膜の
保護コート剤等の光ディスク用材料として有用である。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】　　下記式（１）で示されるエポキシ（メ
タ）アクリレート。【化１】（式中、Ｒは、Ｈ又はＣＨ３　である。）
【請求項２】
　　請求項１記載のエポキシ（メタ）アクリレート（Ａ
）、分子中に１個以上のエチレン性不飽和基を有する化
合物（Ｂ）及び任意成分として光重合開始剤（Ｃ）を含
有することを特徴とする樹脂組成物。
【請求項３】　　請求項１記載のエポキシ（メタ）アク
リレート（Ａ）、分子中に１個以上のエチレン性不飽和
基を有する化合物（Ｂ）及び任意成分として光重合開始
剤（Ｃ）を含有することを特徴とする光ディスク用材料
。
【請求項４】　　請求項２記載の樹脂組成物の硬化物。
【請求項５】　　請求項３記載の光ディスク用材料の硬
化物。