JPH0429023B2 - - Google Patents
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- JPH0429023B2 JPH0429023B2 JP57180044A JP18004482A JPH0429023B2 JP H0429023 B2 JPH0429023 B2 JP H0429023B2 JP 57180044 A JP57180044 A JP 57180044A JP 18004482 A JP18004482 A JP 18004482A JP H0429023 B2 JPH0429023 B2 JP H0429023B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
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- G01N27/123—Circuits particularly adapted therefor, e.g. linearising circuits for controlling the temperature
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Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、モニタしている雰囲気またはガス
媒体中のガスまたは気体不純物の痕跡量を検出す
るための方法及び装置に関し、より詳細には、そ
の検出方法が、SnO2およびNiOよりなる群から
選択された金属酸化物により製造されたセンサの
導電率を測定することにより実行され、その検出
方法において、そのセンサが検出装置内に配置さ
れ、その検出装置内でそのセンサが加熱され、か
つそのセンサがモニタしようとするガス媒体に曝
されるか、またはそのセンサにガス媒体が供給さ
れるような、ガス媒体またはモニタしている雰囲
気中のガスまたは気体不純物の痕跡量を検出する
ための方法に関する。
媒体中のガスまたは気体不純物の痕跡量を検出す
るための方法及び装置に関し、より詳細には、そ
の検出方法が、SnO2およびNiOよりなる群から
選択された金属酸化物により製造されたセンサの
導電率を測定することにより実行され、その検出
方法において、そのセンサが検出装置内に配置さ
れ、その検出装置内でそのセンサが加熱され、か
つそのセンサがモニタしようとするガス媒体に曝
されるか、またはそのセンサにガス媒体が供給さ
れるような、ガス媒体またはモニタしている雰囲
気中のガスまたは気体不純物の痕跡量を検出する
ための方法に関する。
またこの発明は、上記のような金属酸化物製の
センサ、および上記検出方法を実施しかつ上記セ
ンサを含む装置に関する。
センサ、および上記検出方法を実施しかつ上記セ
ンサを含む装置に関する。
ある種の金属酸化物が半導体としての特性を有
することは周知である。そのような金属酸化物の
導電率は、ある種のガスが存在する時に温度の関
数として変化する。従来、このような特性がガス
または気体不純物の痕跡量の検出のために使用さ
れている。この目的のための使用される金属酸化
物は、一般には酸化錫SnO2および酸化ニツケル
NiOである。これらの金属酸化物は、結晶状態、
またはセラミツク基板に付着された層の形態、ま
たは焼結粉末のペレツトの形態で使用される。こ
の種の応用は特に米国特許第3625756号、同
3900815号、および同4039941号明細書に記載され
ている。
することは周知である。そのような金属酸化物の
導電率は、ある種のガスが存在する時に温度の関
数として変化する。従来、このような特性がガス
または気体不純物の痕跡量の検出のために使用さ
れている。この目的のための使用される金属酸化
物は、一般には酸化錫SnO2および酸化ニツケル
NiOである。これらの金属酸化物は、結晶状態、
またはセラミツク基板に付着された層の形態、ま
たは焼結粉末のペレツトの形態で使用される。こ
の種の応用は特に米国特許第3625756号、同
3900815号、および同4039941号明細書に記載され
ている。
多くのガスはこれらの金属酸化物の導電率に影
響を与えるが、それ故にそれらの金属酸化物を検
出用のセンサとして使用する場合には、作用が不
特定でかつ選択的に使用できないため、信頼性が
充分でない。
響を与えるが、それ故にそれらの金属酸化物を検
出用のセンサとして使用する場合には、作用が不
特定でかつ選択的に使用できないため、信頼性が
充分でない。
以下に詳細に説明するこの発明は、上述した半
導体金属酸化物に、特定のいくつかのガスまたは
ガス群を選択的に検出できる全く新規な導電率特
性を付与するような、ある処理を発見したことに
基づくものである。
導体金属酸化物に、特定のいくつかのガスまたは
ガス群を選択的に検出できる全く新規な導電率特
性を付与するような、ある処理を発見したことに
基づくものである。
一般的に言えば、半導体金属酸化物は、温度と
雰囲気を構成するガスの性質および圧力とによつ
て変化する導電率σを有する。すなわち、 −σは温度に対して指数関数的に増加する。
雰囲気を構成するガスの性質および圧力とによつ
て変化する導電率σを有する。すなわち、 −σは温度に対して指数関数的に増加する。
−σが変化する向きはガスの性質に依存する。
−その変化の大きさはガスの分圧とガス相の組
成とに依存する。
成とに依存する。
ガスが半導体金属酸化物によつて科学吸着され
ると、そのガスとその半導体金属酸化物との間に
電子の移動が生じる。ガスgの電子に対する親和
力が、半導体金属酸化物sの電子に対する親和力
より大きいか小さいかによつて、その固体すなわ
ち半導体金属酸化物からそのガスへの電子の移動
(s+−g-)、またはそのガスからその固体への電子
の移動(s+−g-)がそれぞれ発生する。この移動
によつて、固体中の自由多数キヤリアの数が増加
または減少する。この変化の向きは、結合の形式
(g+−s-またはg-−s+)と多数キヤリアの性質、
すなわちn形半導体の場合の電子とp形半導体の
場合の正孔とによつて決まる。
ると、そのガスとその半導体金属酸化物との間に
電子の移動が生じる。ガスgの電子に対する親和
力が、半導体金属酸化物sの電子に対する親和力
より大きいか小さいかによつて、その固体すなわ
ち半導体金属酸化物からそのガスへの電子の移動
(s+−g-)、またはそのガスからその固体への電子
の移動(s+−g-)がそれぞれ発生する。この移動
によつて、固体中の自由多数キヤリアの数が増加
または減少する。この変化の向きは、結合の形式
(g+−s-またはg-−s+)と多数キヤリアの性質、
すなわちn形半導体の場合の電子とp形半導体の
場合の正孔とによつて決まる。
よく知られているように、半導体の電気的コン
ダクタンスGは多数キヤリアの数にほゞ比例す
る。従つて、ガスが存在すると、吸着されたガス
が半導体から電子を取り込むかまたは与えるかに
応じて、半導体のコンダクタンスが変化する。
ダクタンスGは多数キヤリアの数にほゞ比例す
る。従つて、ガスが存在すると、吸着されたガス
が半導体から電子を取り込むかまたは与えるかに
応じて、半導体のコンダクタンスが変化する。
従つて、電子アクセプタまたは電子ドナーとそ
れぞれ称される。
れぞれ称される。
ガスがアクセプタでかつ半導体金属酸化物がn
形である場合は、ガスが固体から電子を奪い、固
体のコンダクタンスが減少する。ガスがアクセプ
タでかつ半導体金属酸化物がp形である場合は、
ガスが固体から電子を奪い、固体のコンダクタン
スが増加する。
形である場合は、ガスが固体から電子を奪い、固
体のコンダクタンスが減少する。ガスがアクセプ
タでかつ半導体金属酸化物がp形である場合は、
ガスが固体から電子を奪い、固体のコンダクタン
スが増加する。
ガスがドナーの場合は、観測される電気的変化
の向きが上記と逆になる。言い換えれば、ある特
定のガスについては、そのガスの濃度に応じて導
電率の変化が常に観測される。従つてこのガスの
存在を検出するためには、そのような変化を測定
するだけでよい。この原理に基づいて現在使用さ
れているセンサの多くは、実用的に比較的感度が
よいが、しかしこれらのセンサは、センサが呈す
る電気的応答によつてはガス混合体中の所定のガ
スを選択的かつ特定して検出できないという、重
大な短所を有している。
の向きが上記と逆になる。言い換えれば、ある特
定のガスについては、そのガスの濃度に応じて導
電率の変化が常に観測される。従つてこのガスの
存在を検出するためには、そのような変化を測定
するだけでよい。この原理に基づいて現在使用さ
れているセンサの多くは、実用的に比較的感度が
よいが、しかしこれらのセンサは、センサが呈す
る電気的応答によつてはガス混合体中の所定のガ
スを選択的かつ特定して検出できないという、重
大な短所を有している。
この発明の目的は、非常に高い感度でガスを選
択的に検出することのできる新規な方法、センサ
および装置を提供することにある。
択的に検出することのできる新規な方法、センサ
および装置を提供することにある。
そこでこの発明の特徴は、SnO2およNiOより
なる群から選択された金属酸化物から約500℃の
最高温度で製造され、かつ使用に先立つて、SO2
およびH2Sを含む群から選択された活性化ガスよ
りなるガス流に、上記とほゞ同一温度で約550℃
の最高温度で曝すことにより処理されたセンサの
導電率を測定することにより、雰囲気中のガスま
たは気体不純物の痕跡量を検出する方法にあり、
この方法において、上記センサが検出装置内に配
置され、その検出装置内でセンサが加熱されかつ
モニタする雰囲気に曝されるものである。
なる群から選択された金属酸化物から約500℃の
最高温度で製造され、かつ使用に先立つて、SO2
およびH2Sを含む群から選択された活性化ガスよ
りなるガス流に、上記とほゞ同一温度で約550℃
の最高温度で曝すことにより処理されたセンサの
導電率を測定することにより、雰囲気中のガスま
たは気体不純物の痕跡量を検出する方法にあり、
この方法において、上記センサが検出装置内に配
置され、その検出装置内でセンサが加熱されかつ
モニタする雰囲気に曝されるものである。
本発明者等は、ベンゼン用のセンサを開発する
過程において、ベンゼンの濃度が0.0035%という
有毒性しきい値よりも充分低い濃度0.001%以下
のベンゼン雰囲気中において、ある種のセンサ
が、曲線G=f(T)(但し、G=コンダクタン
ス、T=温度)上の約400℃付近で1つのピーク
を示すことを見い出した。この種のセンサのいく
つは酸化物粉末から焼結されたものであり、残り
のセンサはセラミツク基体上に酸化物粉末を付着
させて構成されたものであつた。得られた構造体
を続いて臨界試験しかつ組織的に試験した結果、
本発明者等は以下のことを確証することができ
た。すなわち、(1)そのピークは、温度が上昇する
方向に移動し、かつピークの大きさが減少してい
き、センサを最高550℃程度の温度に加熱すると
ピークが完全に消える。(2)センサを前以てSO2ま
たはH2Sに曝した場合のみにピークが発生する。
この処理は、センサを例えば数時間の間飽和させ
ることにより処理しない限り、不可逆的である。
過程において、ベンゼンの濃度が0.0035%という
有毒性しきい値よりも充分低い濃度0.001%以下
のベンゼン雰囲気中において、ある種のセンサ
が、曲線G=f(T)(但し、G=コンダクタン
ス、T=温度)上の約400℃付近で1つのピーク
を示すことを見い出した。この種のセンサのいく
つは酸化物粉末から焼結されたものであり、残り
のセンサはセラミツク基体上に酸化物粉末を付着
させて構成されたものであつた。得られた構造体
を続いて臨界試験しかつ組織的に試験した結果、
本発明者等は以下のことを確証することができ
た。すなわち、(1)そのピークは、温度が上昇する
方向に移動し、かつピークの大きさが減少してい
き、センサを最高550℃程度の温度に加熱すると
ピークが完全に消える。(2)センサを前以てSO2ま
たはH2Sに曝した場合のみにピークが発生する。
この処理は、センサを例えば数時間の間飽和させ
ることにより処理しない限り、不可逆的である。
上記2つの観測は、この発明の基本的な特徴と
して具体化されている。
して具体化されている。
また、センサによつて吸着された水分の影響に
よつて、湿気を含んだ空気中で温度を上げると
250℃で異常なピークが現われ、温度を下げてい
くと400℃付近でピークのレベルで平坦となる、
ということも述べなければならない。しかしなが
ら、そのような湿度の条件は、通常の作動条件で
はほとんど発生しない。
よつて、湿気を含んだ空気中で温度を上げると
250℃で異常なピークが現われ、温度を下げてい
くと400℃付近でピークのレベルで平坦となる、
ということも述べなければならない。しかしなが
ら、そのような湿度の条件は、通常の作動条件で
はほとんど発生しない。
好ましい実施例においては、センサは、それ自
体公知の焼結処理を用いて金属酸化物から製造さ
れる。この製造方法は、電源や測定電極が手近に
あつて利用し易くかつセンサの機械加工が容易で
あるので、好ましいものである。
体公知の焼結処理を用いて金属酸化物から製造さ
れる。この製造方法は、電源や測定電極が手近に
あつて利用し易くかつセンサの機械加工が容易で
あるので、好ましいものである。
この発明によれば、ガス流は、約0.1%の活性
化ガスを含む空気または中性ガスの流れである。
センサは、活性化ガスを含むガスの流れに30秒か
ら5分の間の時間だけ曝される。
化ガスを含む空気または中性ガスの流れである。
センサは、活性化ガスを含むガスの流れに30秒か
ら5分の間の時間だけ曝される。
特性ピークの検出はセンサを2つの異なつた温
度に昇温することにより容易となるが、低い方の
温度は、センサをモニタしようとする雰囲気に曝
している間の、検出しようとするガスのピークの
温度に対応する。上記2つの温度のそれぞれにお
ける導電率の値の間の変化の方向または差は、ガ
ス状不純物の存在または濃度を表すものとして測
定される。
度に昇温することにより容易となるが、低い方の
温度は、センサをモニタしようとする雰囲気に曝
している間の、検出しようとするガスのピークの
温度に対応する。上記2つの温度のそれぞれにお
ける導電率の値の間の変化の方向または差は、ガ
ス状不純物の存在または濃度を表すものとして測
定される。
1つの実施例としては、センサを上記2つの温
度に連続して昇温するが、好ましい実施例として
は、2つの同一のセンサを同時に使用し、それぞ
れを上記2つの温度のどちらか一方と他方とに昇
温する。
度に連続して昇温するが、好ましい実施例として
は、2つの同一のセンサを同時に使用し、それぞ
れを上記2つの温度のどちらか一方と他方とに昇
温する。
上記いずれの場合でも、2つの温度の差は約
100℃であり、低い方の温度は、被検出ガスH2S
に対しては約100℃、SO2に対しては約200℃、ベ
ンゼンに対しては約400℃、四塩化炭素、ジエチ
ルエーテル、酢酸ブチル、ブタノールおよびアセ
トアルデヒドに対しては約250℃から約275℃、ト
ルエンおよクロロホルムに対しては約300℃から
約325℃、ヘキサンに対しては約325℃から約350
℃、シクロヘキサンに対しては約375℃である。
100℃であり、低い方の温度は、被検出ガスH2S
に対しては約100℃、SO2に対しては約200℃、ベ
ンゼンに対しては約400℃、四塩化炭素、ジエチ
ルエーテル、酢酸ブチル、ブタノールおよびアセ
トアルデヒドに対しては約250℃から約275℃、ト
ルエンおよクロロホルムに対しては約300℃から
約325℃、ヘキサンに対しては約325℃から約350
℃、シクロヘキサンに対しては約375℃である。
この発明のこれらの特性は、2つの温度のうち
の低い方の温度における指定された1つまたはい
くつかのガスに特有な導電率のピークを観測した
結果に基づいている。
の低い方の温度における指定された1つまたはい
くつかのガスに特有な導電率のピークを観測した
結果に基づいている。
これらの特性は、H2S、SO2、炭化水素または
指定された群の有毒性誘導体を選択的に検出する
ことが可能であることを示している。分析された
ガスが指定されたガスのうちの1つであると仮定
し、上述した2つの温度を使用すると、低い方の
温度すなわち予め参照されたピークの近傍で動作
するセンサによつて、高い方の温度で動作するセ
ンサによつて作り出される電気信号よりも高いレ
ベルの電気信号が作り出され、他方、そのガスが
存在しない時には電気信号は温度によつて変わ
る。
指定された群の有毒性誘導体を選択的に検出する
ことが可能であることを示している。分析された
ガスが指定されたガスのうちの1つであると仮定
し、上述した2つの温度を使用すると、低い方の
温度すなわち予め参照されたピークの近傍で動作
するセンサによつて、高い方の温度で動作するセ
ンサによつて作り出される電気信号よりも高いレ
ベルの電気信号が作り出され、他方、そのガスが
存在しない時には電気信号は温度によつて変わ
る。
この発明の別の特徴は、センサの導電率を測定
することによつて、雰囲気中のガスまたは気体不
純物の痕跡量を検出するためのセンサにあり、そ
のセンサは、SnO2およびNiOよりなる群から選
択された金属酸化物から550℃の最高温度におい
て制造され、かつSO2およびH2Sを含むグループ
から選択された活性化ガスを含むガス流に曝すこ
とによつて活性化される。
することによつて、雰囲気中のガスまたは気体不
純物の痕跡量を検出するためのセンサにあり、そ
のセンサは、SnO2およびNiOよりなる群から選
択された金属酸化物から550℃の最高温度におい
て制造され、かつSO2およびH2Sを含むグループ
から選択された活性化ガスを含むガス流に曝すこ
とによつて活性化される。
この発明の実用的な実施例においては、ガス媒
体中のガス痕跡量検出装置は、炉と、その炉の温
度を調節する手段と、SnO2およびNiOよりなる
群から選択された金属酸化物から製造され、かつ
SO2およH2Sよりなる群から選択された活性化ガ
スを含むガス流によつて活性化され、かつその炉
内に設けられるセンサと、そのセンサ用の電力供
給手段と、1つの電気的パラメータの変化に応じ
てそのセンサにより作り出される信号を検出する
手段と、モニタされる雰囲気の一部を炉に導入し
かつ排出する手段と、炉の温度を2つ異なつた値
に設定する手段と、一方の温度におけるセンサか
らの電気信号を記憶する手段と、その記憶された
信号を他方の温度においてセンサから得られる信
号と比較する手段とから構成される。
体中のガス痕跡量検出装置は、炉と、その炉の温
度を調節する手段と、SnO2およびNiOよりなる
群から選択された金属酸化物から製造され、かつ
SO2およH2Sよりなる群から選択された活性化ガ
スを含むガス流によつて活性化され、かつその炉
内に設けられるセンサと、そのセンサ用の電力供
給手段と、1つの電気的パラメータの変化に応じ
てそのセンサにより作り出される信号を検出する
手段と、モニタされる雰囲気の一部を炉に導入し
かつ排出する手段と、炉の温度を2つ異なつた値
に設定する手段と、一方の温度におけるセンサか
らの電気信号を記憶する手段と、その記憶された
信号を他方の温度においてセンサから得られる信
号と比較する手段とから構成される。
この発明のさらに別の変形例として、上述した
検出装置は、第2の炉と、第2のセンサと、2つ
の炉の温度を異なつた値に設定する手段と、2つ
のセンサで作り出される信号を比較する手段とか
ら構成される。
検出装置は、第2の炉と、第2のセンサと、2つ
の炉の温度を異なつた値に設定する手段と、2つ
のセンサで作り出される信号を比較する手段とか
ら構成される。
その他の目的および効果は、以下に添付図面を
参照して説明される実施例から明らかにされ、新
規な特徴が特許請求の範囲において特に指摘され
る。
参照して説明される実施例から明らかにされ、新
規な特徴が特許請求の範囲において特に指摘され
る。
第1図および第2図はこの発明のセンサの第一
実施例および第2実施例をそれぞれ拡大して示
す。
実施例および第2実施例をそれぞれ拡大して示
す。
第1図において、アルミナ製の基体1は、エタ
ノール中の懸濁液から付着された粉末状のSnO2
またはNiOの厚さ約1mmの層2で被覆される。ア
ルミナ製基体1には、層2の下方に開口する2つ
の孔3が形成される。2つの金ペースト製のコン
タクトシール4によつてループ状に配置された2
つのプラチナ製のリードワイヤ5の電気的接触が
得られ、各リードワイヤ5は電極6に接続され
る。センサは使用に先立つて、0.1%の活性化ガ
スSO2またはH2Sを含む空気流に550℃の温度で
30秒から5分の間の時間、好ましくは3分間曝さ
れる。
ノール中の懸濁液から付着された粉末状のSnO2
またはNiOの厚さ約1mmの層2で被覆される。ア
ルミナ製基体1には、層2の下方に開口する2つ
の孔3が形成される。2つの金ペースト製のコン
タクトシール4によつてループ状に配置された2
つのプラチナ製のリードワイヤ5の電気的接触が
得られ、各リードワイヤ5は電極6に接続され
る。センサは使用に先立つて、0.1%の活性化ガ
スSO2またはH2Sを含む空気流に550℃の温度で
30秒から5分の間の時間、好ましくは3分間曝さ
れる。
第2図は好ましい焼結処理を用いて製造したセ
ンサを示す。粒度50ないし100μmの粉末状の
SnO2またはNiOを出発物質として、2tの圧力を
1分間室温で与えながらペレツトを形成する。得
られたペレツトは次に500℃で10分間保持され、
次いで同じく500℃において0.1%のSO2または
H2Sを含む空気流に30秒から5分の間、好ましく
は3分間曝される。その結果得られる焼結されか
つ活性化されたペレツト7には2つの孔8が形成
され、各孔8にはループ状に配置されたリードワ
イヤ9が収容され、孔8の両側が金ペーストの小
さい塊10によつてシールされる。上記2つの処
理方法のいずれかによつてセンサ11またはセン
サ12が製造されるが、以後の説明では両者を区
別せずに「センサ13」と称する。2つのセンサ
には機能上に差異はなく、耐疲労性が異なるだけ
であり、この耐疲労性は焼結センサ12の方が良
好である。
ンサを示す。粒度50ないし100μmの粉末状の
SnO2またはNiOを出発物質として、2tの圧力を
1分間室温で与えながらペレツトを形成する。得
られたペレツトは次に500℃で10分間保持され、
次いで同じく500℃において0.1%のSO2または
H2Sを含む空気流に30秒から5分の間、好ましく
は3分間曝される。その結果得られる焼結されか
つ活性化されたペレツト7には2つの孔8が形成
され、各孔8にはループ状に配置されたリードワ
イヤ9が収容され、孔8の両側が金ペーストの小
さい塊10によつてシールされる。上記2つの処
理方法のいずれかによつてセンサ11またはセン
サ12が製造されるが、以後の説明では両者を区
別せずに「センサ13」と称する。2つのセンサ
には機能上に差異はなく、耐疲労性が異なるだけ
であり、この耐疲労性は焼結センサ12の方が良
好である。
第3図を参照して、この発明のセンサがベンゼ
ンまたは他のガスが存在する時にどのように動作
するかを以下に説明する。第3図の横座標はセン
サが加熱される温度℃を示し、縦座標はセンサの
コンダクタンスGを10-4Ω-で示す。曲線Aは、
活性化したセンサを空気自体に曝した場合の温度
とコンダクタンスの関係を示す。曲線Bは、非活
性センサ(この発明の一部を構成しない)を0.01
%のベンゼンを含む空気に曝した場合の同様の関
係を示す。曲線Cは、この発明の活性化したセン
サを0.012%のベンゼンを含む空気に曝した場合
を示す。曲線Dは、この発明のセンサを0.04%の
CH4を含む空気に曝した場合を示す。ベンゼンが
存在することによりこの発明のセンサの曲線にお
いて約400℃で特性的なピーク14が現われる。
この発明の方法はこの特性のG(500)−G(400)
の測定に基づいており、G(500)−G(400)の測
定値はベンゼンが存在しない場合は正の値を示
し、ベンゼンが存在する場合は負の値を示す。
ンまたは他のガスが存在する時にどのように動作
するかを以下に説明する。第3図の横座標はセン
サが加熱される温度℃を示し、縦座標はセンサの
コンダクタンスGを10-4Ω-で示す。曲線Aは、
活性化したセンサを空気自体に曝した場合の温度
とコンダクタンスの関係を示す。曲線Bは、非活
性センサ(この発明の一部を構成しない)を0.01
%のベンゼンを含む空気に曝した場合の同様の関
係を示す。曲線Cは、この発明の活性化したセン
サを0.012%のベンゼンを含む空気に曝した場合
を示す。曲線Dは、この発明のセンサを0.04%の
CH4を含む空気に曝した場合を示す。ベンゼンが
存在することによりこの発明のセンサの曲線にお
いて約400℃で特性的なピーク14が現われる。
この発明の方法はこの特性のG(500)−G(400)
の測定に基づいており、G(500)−G(400)の測
定値はベンゼンが存在しない場合は正の値を示
し、ベンゼンが存在する場合は負の値を示す。
第4図を参照して、差G(500)−G(400)は、
(濃度0%ないし0.05%の)図示の範囲における
ベンゼンの濃度の関数として明確に変化する。G
の値のピーク14はベンゼンの濃度が増すと大き
くなり、G(500)とG(400)間の絶対値の負の差
も増大する。
(濃度0%ないし0.05%の)図示の範囲における
ベンゼンの濃度の関数として明確に変化する。G
の値のピーク14はベンゼンの濃度が増すと大き
くなり、G(500)とG(400)間の絶対値の負の差
も増大する。
第5図は第4図と同一の座標でSO2を用いて活
性化したこの発明のセンサを示しているが、第5
図において、曲線Rは純粋の空気について、曲線
Sは0.004%のH2Sと0.1%の便前を含む空気につ
いて、それぞれ得たものである。曲線Sは、約
400℃で(ベンゼンの特性による)ピーク14と
約100℃で(H2Sの特性による)ピーク15とを
含む。曲線Tは0.1%のSO2を含む空気について
のもので、ピーク16を呈する。
性化したこの発明のセンサを示しているが、第5
図において、曲線Rは純粋の空気について、曲線
Sは0.004%のH2Sと0.1%の便前を含む空気につ
いて、それぞれ得たものである。曲線Sは、約
400℃で(ベンゼンの特性による)ピーク14と
約100℃で(H2Sの特性による)ピーク15とを
含む。曲線Tは0.1%のSO2を含む空気について
のもので、ピーク16を呈する。
他の試験を行なつた結果、通常認められる有毒
性のガスや蒸気のほとんどについて特徴であるピ
ークのリストが、以下のように得られた。なお、
それらのガスや蒸気の有毒性のしきい値を( )
内にパーセントで示す。
性のガスや蒸気のほとんどについて特徴であるピ
ークのリストが、以下のように得られた。なお、
それらのガスや蒸気の有毒性のしきい値を( )
内にパーセントで示す。
四塩化炭素(0.005) :約250ないし275℃
トルエン (0.02) :約300ないし325℃
クロロホルム(0.01) :約300ないし325℃
酢酸ブチル(0.02) :約250℃
ジエチルエーテル(0.04)
:約250ないし275℃ メチルエチルケトン :約250ないし275℃ ヘキサン (0.05) :約325ないし350℃ ブタノール(0.005) :約250ないし275℃ アセトアルデヒド(0.02)
:約275℃ シクロヘキサン(0.04) :約375℃ 以上の全ての製品について、有毒性しきい値以
下でピークが現われる。
:約250ないし275℃ メチルエチルケトン :約250ないし275℃ ヘキサン (0.05) :約325ないし350℃ ブタノール(0.005) :約250ないし275℃ アセトアルデヒド(0.02)
:約275℃ シクロヘキサン(0.04) :約375℃ 以上の全ての製品について、有毒性しきい値以
下でピークが現われる。
以下の炭化水素についても、同様にピークが認
められる。
められる。
ペンタン :約400℃
ブタン :約425℃
エチレン :約425℃
以上のことから、1つのセンサのピークの温度
におけるコンダクタンスと別のセンサのピーク温
度よりも充分(約100℃)の高い温度におけるコ
ンダクタンスとを測定し、かつ両者を比較するこ
とによつて、ベンゼン単独または有毒性製品の選
択された群を選択的な方法で検出することができ
ることがわかる。
におけるコンダクタンスと別のセンサのピーク温
度よりも充分(約100℃)の高い温度におけるコ
ンダクタンスとを測定し、かつ両者を比較するこ
とによつて、ベンゼン単独または有毒性製品の選
択された群を選択的な方法で検出することができ
ることがわかる。
以下に第6図を参照して、この発明の検出装置
とその作用と使用方法を説明する。
とその作用と使用方法を説明する。
この発明による検出装置は、この発明のセンサ
13をそれぞれ収容した2つの炉18および19
を内部に配置したケース17を含む。焼結センサ
の場合、センサ13は約2×5mmの寸法に研削さ
れる。炉18と19は円筒形で、長さが20mm、直
径が8mmである。炉18と19は石英管上に直径
0.1mmカンタル線を巻いて形成される。巻線はア
スベスト編組で分離される。この組立体は耐火性
セメント内に収容される。耐火性セメント内に熱
電対20が埋め込まれて、炉18と19の温度を
検出する。このための測定ヘツド21は小型の寸
法である。2つの測定ヘツド21はケース17内
に取り付けられ、ケース17はガス入口22とガ
ス出口23を有する。窓24に、拡散によつて雰
囲気を直接モニタするための焼結金属製のプラグ
33を取り付けることができる。炉18と19に
は220Vの交流電源に接続される可変変圧器が接
続される。約30V、0.4Aにおいて、2つの温度
(例えば400℃と500℃)は約10ターンで容易に得
られる。炉18と19はそれぞれ電源24と25
および接続線26により加熱され、各電源24と
25は接続線27を介して対応する熱電対20に
より制御される。センサの電極6またはリードワ
イヤ9が接続線28を介して、電源29に接続さ
れかつ抵抗Rを含む測定回路に接続され、抵抗R
に炉18の場合信号X1が、炉19の場合信号X2
がそれぞれ現われる。各信号X1,X2は対応する
センサ13のコンダクタンスGに比例する。信号
X1とX2は方向を弁別する比較器30に付与され
る。比較器30には警報回路31と(X1−X2)
測定回路32が接続される。
13をそれぞれ収容した2つの炉18および19
を内部に配置したケース17を含む。焼結センサ
の場合、センサ13は約2×5mmの寸法に研削さ
れる。炉18と19は円筒形で、長さが20mm、直
径が8mmである。炉18と19は石英管上に直径
0.1mmカンタル線を巻いて形成される。巻線はア
スベスト編組で分離される。この組立体は耐火性
セメント内に収容される。耐火性セメント内に熱
電対20が埋め込まれて、炉18と19の温度を
検出する。このための測定ヘツド21は小型の寸
法である。2つの測定ヘツド21はケース17内
に取り付けられ、ケース17はガス入口22とガ
ス出口23を有する。窓24に、拡散によつて雰
囲気を直接モニタするための焼結金属製のプラグ
33を取り付けることができる。炉18と19に
は220Vの交流電源に接続される可変変圧器が接
続される。約30V、0.4Aにおいて、2つの温度
(例えば400℃と500℃)は約10ターンで容易に得
られる。炉18と19はそれぞれ電源24と25
および接続線26により加熱され、各電源24と
25は接続線27を介して対応する熱電対20に
より制御される。センサの電極6またはリードワ
イヤ9が接続線28を介して、電源29に接続さ
れかつ抵抗Rを含む測定回路に接続され、抵抗R
に炉18の場合信号X1が、炉19の場合信号X2
がそれぞれ現われる。各信号X1,X2は対応する
センサ13のコンダクタンスGに比例する。信号
X1とX2は方向を弁別する比較器30に付与され
る。比較器30には警報回路31と(X1−X2)
測定回路32が接続される。
次に作用を説明する。
上述した検出装置の使用方法は簡単である。
一方の炉(例えば18)の温度を、選択的に検
出しようとするガスまたはガス群のピーク特性が
現われるとわかつている温度付近に調節する。他
方の炉19の温度は、一方の炉18の温度より約
100℃高く設定する。モニタしようとする雰囲気
の一部をケース17内に連続するパルス状に通過
させるか、あるいはケース17を雰囲気内に置い
て、窓24を通して拡散が発生できるようにす
る。検出しようとするガスの検出しきい値は非常
に低い(ベンゼンでは0.015%であり、かつベン
ゼンの有毒しきい値は0.035%である)が、この
ガスが検出しきい値以上の濃度で存在すると、そ
れまで負であつた(第4図参照)信号(X1−X2)
が正になり、比較器30を反転させる。使用者の
要求に応じて、比較器30によつて、予め定めた
しきい値以上で警報を鳴らすか、あるいはこれと
同時またはこれに代えて、差(X1−X2)の値を
記録または表示させる。
出しようとするガスまたはガス群のピーク特性が
現われるとわかつている温度付近に調節する。他
方の炉19の温度は、一方の炉18の温度より約
100℃高く設定する。モニタしようとする雰囲気
の一部をケース17内に連続するパルス状に通過
させるか、あるいはケース17を雰囲気内に置い
て、窓24を通して拡散が発生できるようにす
る。検出しようとするガスの検出しきい値は非常
に低い(ベンゼンでは0.015%であり、かつベン
ゼンの有毒しきい値は0.035%である)が、この
ガスが検出しきい値以上の濃度で存在すると、そ
れまで負であつた(第4図参照)信号(X1−X2)
が正になり、比較器30を反転させる。使用者の
要求に応じて、比較器30によつて、予め定めた
しきい値以上で警報を鳴らすか、あるいはこれと
同時またはこれに代えて、差(X1−X2)の値を
記録または表示させる。
あるいは、有毒性濃度がゆつくり変化する場合
には、唯1つのセンサを用い、このセンサの温度
を連続的にピーク温度まで上昇させ、かつそれに
より100℃高い温度に上昇させ、信号X1の値を記
憶する記憶装置34を設けておき、かつ信号X2
の値が測定されている時のみその信号X1の値を
比較器30に与えるようにすることもできること
は理解されよう。
には、唯1つのセンサを用い、このセンサの温度
を連続的にピーク温度まで上昇させ、かつそれに
より100℃高い温度に上昇させ、信号X1の値を記
憶する記憶装置34を設けておき、かつ信号X2
の値が測定されている時のみその信号X1の値を
比較器30に与えるようにすることもできること
は理解されよう。
以上、この発明の技術思想を理解するために説
明され図示された細部構造、材料、部品配置等に
ついては、特許請求の範囲に記載されたこの発明
の原理と範囲を逸脱することなく、当業者であれ
ば種々の変更をなし得ることは理解されよう。
明され図示された細部構造、材料、部品配置等に
ついては、特許請求の範囲に記載されたこの発明
の原理と範囲を逸脱することなく、当業者であれ
ば種々の変更をなし得ることは理解されよう。
例えば、2個以上のセンサを用いて、異なつた
温度でセンサ特性を呈する2種のガスまたはガス
群を選択的に検出することも可能である。
温度でセンサ特性を呈する2種のガスまたはガス
群を選択的に検出することも可能である。
セラミツク製の基体上に付着される層について
は、数10分の1Åまたは数100分の1Åの薄膜あ
るいはそれより厚い膜を用いて、同一の結果を得
ることもできる。
は、数10分の1Åまたは数100分の1Åの薄膜あ
るいはそれより厚い膜を用いて、同一の結果を得
ることもできる。
第1図はこの発明のセンサの第一実施例の断面
図、第2図は同センサの第二実施例の断面図、第
3図はある種のガス混合物についての同センサの
温度とコンダクタンスの関係を示す図、第4図は
種々の濃度のベンゼンを含む空気についての同セ
ンサの温度とコンダクタンスの関係を示す図、第
5図は純粋空気および不純物を含む空気について
の同センサの温度とコンダクタンスの関係を示す
図、第6図はこの発明の検出装置の構成図であ
る。 1…基体、2…層、4…コンタクトシール、5
…リードワイヤ、6…電極、7…ペレツト、9…
リードワイヤ、11,12,13…センサ、17
…ケース、18,19…炉、20…熱電対、21
…測定ヘツド、22…ガス入口、23…ガス出
口、24,25,29…電源、30…比較器、3
4…記憶装置、R…抵抗、X1,X2…信号。
図、第2図は同センサの第二実施例の断面図、第
3図はある種のガス混合物についての同センサの
温度とコンダクタンスの関係を示す図、第4図は
種々の濃度のベンゼンを含む空気についての同セ
ンサの温度とコンダクタンスの関係を示す図、第
5図は純粋空気および不純物を含む空気について
の同センサの温度とコンダクタンスの関係を示す
図、第6図はこの発明の検出装置の構成図であ
る。 1…基体、2…層、4…コンタクトシール、5
…リードワイヤ、6…電極、7…ペレツト、9…
リードワイヤ、11,12,13…センサ、17
…ケース、18,19…炉、20…熱電対、21
…測定ヘツド、22…ガス入口、23…ガス出
口、24,25,29…電源、30…比較器、3
4…記憶装置、R…抵抗、X1,X2…信号。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 最高温度約500℃で金属酸化物SnO2または
NiOから製造し、検出装置内に入れて加熱し、最
高温度約550℃で活性化ガスSO2またはH2Sを含
むガスの流れの中に露出して活性化処理を施した
センサの導電率を測定することにより、被検出雰
囲気中の前記センサにふれるガスまたは気体不純
物の有無または痕跡量を検出することを特徴とす
る検出方法。 2 焼結処理によるか或いはセラミツク基体に層
を付着することによりセンサを製造することを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の検出方法。 3 上記ガスの流れが約0.1%の活性化ガスを含
む空気の流れまたは中性ガスの流れであることを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載の検出方
法。 4 30秒乃至5分間、好ましくは3分間、センサ
を上記活性化ガスを含む中性ガスの流れの中に露
出して活性化処理を施すことを特徴とする特許請
求の範囲第1項記載の検出方法。 5 センサを被検出雰囲気中に露出するか或いは
センサに被検出雰囲気を供給する間に、センサの
温度を異なる2つの値に上げて、各温度における
センサの導電率の値の間の変化の方向または導電
率の値の差を被検出雰囲気中のガスまたは気体不
純物の有無または濃度を表すものとして測定する
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の検
出方法。 6 センサの温度を連続的に2つの異なる値に上
げることを特徴とする特許請求の範囲第5項記載
の検出方法。 7 全く同じ2つのセンサを同時に使用し、各セ
ンサを被検出雰囲気中に露出するか或いは各セン
サに被検出雰囲気を供給しながら、2つのセンサ
の温度をそれぞれ2つの異なる値に上げて、各温
度における各センサの導電率の値の間の変化の方
向または導電率の値の差を被検出雰囲気中のガス
または気体不純物の有無または濃度を表わすもの
として測定することを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載の検出方法。 8 上記2つの温度が約100℃だけ異なり、低い
方の温度が、被検出ガスがH2Sの場合で約100℃、
SO2で200℃、ベンゼン及びペンタンで約400℃、
四塩化炭素、ジエチルエーテル、酢酸ブチル、ブ
タノール及びアセトアルデヒドで約250℃乃至275
℃、トルエン及びクロロホルムで約300℃乃至325
℃、ヘキサンで約325℃乃至350℃、シクロヘキサ
ンで約375℃、そしてブタン及びエチレンで約425
℃であることを特徴とする特許請求の範囲第5項
記載の検出方法。 9 基体1と、その少なくとも一部の表面に付着
されるセンサ層2と、該層2の両端に結合する1
対のリードワイヤ5,5とを有し、前記センサ層
は粉末状の金属酸化物SnO2又はNiOを最高550℃
で活性化ガスSO2又はH2Sの中に露出することに
より活性化処理を施されたセンサ層であり、前記
リードワイヤ5,5間の導電率により被検出雰囲
気中の前記センサ層にふれるガス又は気体不純物
の有無又は痕跡量を検出することを特徴とするセ
ンサ。 10 焼結した金属酸化物SnO2又はNiOを活性
化ガスSO2又はH2Sの中に最高550℃で露出して
活性化したセンサペレツト7と、該ペレツト7の
両端に結合する1対のリードワイヤ9,9とを有
し、前記リードワイヤ9,9間の導電率により被
検出雰囲気中の前記センサペレツトにふれるガス
又は気体不純物の有無又は痕跡量を検出すること
を特徴とするセンサ。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8119536A FR2514898A1 (fr) | 1981-10-16 | 1981-10-16 | Procede, capteur et dispositif de detection de traces ou impuretes gazeuses |
| FR8119536 | 1981-10-16 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5879151A JPS5879151A (ja) | 1983-05-12 |
| JPH0429023B2 true JPH0429023B2 (ja) | 1992-05-15 |
Family
ID=9263130
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57180044A Granted JPS5879151A (ja) | 1981-10-16 | 1982-10-15 | 雰囲気中のガスこん跡量を検出するための方法、センサおよび装置 |
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| Country | Link |
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| JP (1) | JPS5879151A (ja) |
| DE (1) | DE3268991D1 (ja) |
| FR (1) | FR2514898A1 (ja) |
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