JPH04292834A - 表示装置の表示窓を製造する方法 - Google Patents
表示装置の表示窓を製造する方法Info
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- JPH04292834A JPH04292834A JP3332029A JP33202991A JPH04292834A JP H04292834 A JPH04292834 A JP H04292834A JP 3332029 A JP3332029 A JP 3332029A JP 33202991 A JP33202991 A JP 33202991A JP H04292834 A JPH04292834 A JP H04292834A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/86—Vessels; Containers; Vacuum locks
- H01J29/89—Optical or photographic arrangements structurally combined or co-operating with the vessel
- H01J29/896—Anti-reflection means, e.g. eliminating glare due to ambient light
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2229/00—Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
- H01J2229/89—Optical components associated with the vessel
- H01J2229/8913—Anti-reflection, anti-glare, viewing angle and contrast improving treatments or devices
- H01J2229/8916—Anti-reflection, anti-glare, viewing angle and contrast improving treatments or devices inside the vessel
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
- Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、表示装置用の表示窓を
製造する方法に関するものである。また、本発明は、こ
のような方法によって製造された表示窓に関するもので
ある。
製造する方法に関するものである。また、本発明は、こ
のような方法によって製造された表示窓に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】表示装置の例として陰極線管表示装置及
びLCD(液晶表示装置)がある。これらの表示装置は
、例えばコンピュータのモニタ装置又はカラーテレビジ
ョン受像機として用いられている。表示窓に入射する光
によって生ずる表示窓の表面における反射は表示画像の
コントラストを低下させ画像に対する外乱となる。
びLCD(液晶表示装置)がある。これらの表示装置は
、例えばコンピュータのモニタ装置又はカラーテレビジ
ョン受像機として用いられている。表示窓に入射する光
によって生ずる表示窓の表面における反射は表示画像の
コントラストを低下させ画像に対する外乱となる。
【0003】この課題に対する既知の解決方法として、
表示窓の表面にゾル状のシリカ層を形成し、その後シリ
カ層を処理する方法がある。このような方法は米国特許
第4560581号明細書から既知である。
表示窓の表面にゾル状のシリカ層を形成し、その後シリ
カ層を処理する方法がある。このような方法は米国特許
第4560581号明細書から既知である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上述した既知の方法で
は、処理に長時間かかるばかりでなく、生態学的に有害
な汚染物質が生ずる欠点がある。従って、本発明の目的
は一層簡単で且つ一層清浄な状態で処理でき、表示スク
リーンにおける外乱反射を低減できる表示装置の表示窓
を製造する方法を提供することにある。
は、処理に長時間かかるばかりでなく、生態学的に有害
な汚染物質が生ずる欠点がある。従って、本発明の目的
は一層簡単で且つ一層清浄な状態で処理でき、表示スク
リーンにおける外乱反射を低減できる表示装置の表示窓
を製造する方法を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段並びに作用】上記目的を達
成するため、本発明による方法は、冒頭部で述べた方法
において、表示窓の表面における反射を減少させるため
、表示窓の表面に、紫外域レーザから放出された放射に
よる前記表面における溶発により不規則性パターンを形
成することを特徴とする。
成するため、本発明による方法は、冒頭部で述べた方法
において、表示窓の表面における反射を減少させるため
、表示窓の表面に、紫外域レーザから放出された放射に
よる前記表面における溶発により不規則性パターンを形
成することを特徴とする。
【0006】本発明による方法は、既知の方法よりも一
層簡単であり、しかも汚染物がほとんど発生しない。
層簡単であり、しかも汚染物がほとんど発生しない。
【0007】本発明による方法の別の利点は、正確に規
定された不規則性パターンを形成できるので、表示窓の
表面における反射性能を簡単な方法で調整できることで
ある。既知の方法では、スタート材料を変えることによ
り及び/又は処理を変えることにより反射性能がわずか
な範囲に亘ってしか調整することができない。これに対
して、本発明による方法では、要求に応じて数μm の
寸法の不規則部を表示窓の表面に正確に形成することが
できる。本発明による方法の別の利点は、一層大きな融
通性を呈することができることである。例えば、不規則
性部分の深さ及び数、つまり処理された表面における反
射に対する不規則性部分の効果を正確に調整することが
できる。
定された不規則性パターンを形成できるので、表示窓の
表面における反射性能を簡単な方法で調整できることで
ある。既知の方法では、スタート材料を変えることによ
り及び/又は処理を変えることにより反射性能がわずか
な範囲に亘ってしか調整することができない。これに対
して、本発明による方法では、要求に応じて数μm の
寸法の不規則部を表示窓の表面に正確に形成することが
できる。本発明による方法の別の利点は、一層大きな融
通性を呈することができることである。例えば、不規則
性部分の深さ及び数、つまり処理された表面における反
射に対する不規則性部分の効果を正確に調整することが
できる。
【0008】不規則性部分の深さは約0.1 〜0.3
μm とすることが好ましい。この深さの不規則性部
分により、表面反射を顕著に低減することができる。
μm とすることが好ましい。この深さの不規則性部
分により、表面反射を顕著に低減することができる。
【0009】本発明の方法の一実施例においては、紫外
域レーザと処理すべき表面との間の放射光路中に透過型
回折格子を配置する。以下、図面に基づいて本発明を詳
細に説明する。
域レーザと処理すべき表面との間の放射光路中に透過型
回折格子を配置する。以下、図面に基づいて本発明を詳
細に説明する。
【0010】
【実施例】図1は本発明による陰極線管の構成を示す水
平方向断面図である。本例ではカラー表示管について説
明するものとし、このカラー表示管は、ほぼ矩形の表示
窓2と、エンベロープ部3と、ネック部4とを有する真
空容器1を具える。ネック部4に、3本の電子ビーム6
,7及び8を発生させる電極部5を設ける。本例では、
3本の電子ビームは1個の面内(本例の場合、紙面内)
で発生し、表示窓2の内側に形成した表示スクリーン9
に入射する。この表示スクリーンは赤、緑及び青の光を
発光する多数の蛍光素子から成る蛍光パターンを有して
いる。これら蛍光素子はドット状又はラインに形成する
ことができる。表示スクリーン9に至る経路上において
電子ビーム6,7及び8は偏向ユニット10によって表
示スクリーン9の両端に亘って偏向され、表示窓2の前
面に配置したカラー選択電極を通過する。このカラー選
択電極は開口12を有する薄い金属プレートで構成する
。3本の電子ビーム6,7及び8は互いに微小角だけず
れてカラー選択電極の開口12を通過し、従って各電子
ビームは1色の蛍光素子に入射する。このカラー選択電
極は支持部材13により表示窓2に支持する。
平方向断面図である。本例ではカラー表示管について説
明するものとし、このカラー表示管は、ほぼ矩形の表示
窓2と、エンベロープ部3と、ネック部4とを有する真
空容器1を具える。ネック部4に、3本の電子ビーム6
,7及び8を発生させる電極部5を設ける。本例では、
3本の電子ビームは1個の面内(本例の場合、紙面内)
で発生し、表示窓2の内側に形成した表示スクリーン9
に入射する。この表示スクリーンは赤、緑及び青の光を
発光する多数の蛍光素子から成る蛍光パターンを有して
いる。これら蛍光素子はドット状又はラインに形成する
ことができる。表示スクリーン9に至る経路上において
電子ビーム6,7及び8は偏向ユニット10によって表
示スクリーン9の両端に亘って偏向され、表示窓2の前
面に配置したカラー選択電極を通過する。このカラー選
択電極は開口12を有する薄い金属プレートで構成する
。3本の電子ビーム6,7及び8は互いに微小角だけず
れてカラー選択電極の開口12を通過し、従って各電子
ビームは1色の蛍光素子に入射する。このカラー選択電
極は支持部材13により表示窓2に支持する。
【0011】図2は図1の細部を断面で示す。表示窓2
の表面20に表示スクリーン9を設ける。入射光23は
表示窓2の面20で部分的に反射する。
の表面20に表示スクリーン9を設ける。入射光23は
表示窓2の面20で部分的に反射する。
【0012】図3は上述した反射による外乱効果を図示
する。ランプ31からの光は表示装置33の表示窓32
に入射し視聴者34に対して部分的に反射する。この反
射光により表示画像が不鮮明になり、表示装置33の表
示画像はコントラストが低下してしまう。尚、反射光の
強度は内側面20における反射により支配される。
する。ランプ31からの光は表示装置33の表示窓32
に入射し視聴者34に対して部分的に反射する。この反
射光により表示画像が不鮮明になり、表示装置33の表
示画像はコントラストが低下してしまう。尚、反射光の
強度は内側面20における反射により支配される。
【0013】反射を低減する方法として米国特許第45
60581号公報に記載されている方法が既知である。 この既知の方法では、反射が生ずる面にゾル状シリカ層
が被着され、この層はその後乾燥され、洗浄されて焼結
される。この既知の方法は処理に長時間かかるばかりで
なく環境汚染を生ずる不都合がある。従って、本発明の
目的は、処理中に汚染がほとんど生じない反射処理方法
を提供することにある。
60581号公報に記載されている方法が既知である。 この既知の方法では、反射が生ずる面にゾル状シリカ層
が被着され、この層はその後乾燥され、洗浄されて焼結
される。この既知の方法は処理に長時間かかるばかりで
なく環境汚染を生ずる不都合がある。従って、本発明の
目的は、処理中に汚染がほとんど生じない反射処理方法
を提供することにある。
【0014】図4は本発明による方法を実施するための
配置構成を線図的に示す。紫外域レーザ41から例えば
300nm 以下の波長の紫外放射を発生する。本例で
は、このレーザは193nm の波長の放射を放出する
ものとする。レーザパルスの時間幅は数10n秒の範囲
にある。本例では、パルス期間を約20n秒とする。表
示窓44とレーザ41との間に透過型の回折格子42及
びレンズ系43を配置する。尚、表示窓44の内側面4
5に処理を施す。レンズ系43により透過型回折格子4
2の縮小画像を表示窓44の内側面45上に形成する。 この内側面上には誘発(ablation) により不
規則性パターンを形成する。表示窓44を適切に移動さ
せ、内側面の一部を順次処理して内側面全体に亘って不
規則性部分を形成することができる。この処理方法は高
い融通性を有している。例えば、透過型回折格子を変更
させることができ、或いは移動させることができ、これ
と共に又はこれとは別に回折格子の縮小率を変化させる
こともできる。このように構成することにより、不規則
性部分の形状又は位置が良好に規定されると共に所望の
ように形成することができる。この結果、例えば反射の
程度を簡単な方法で変化させることができる。
配置構成を線図的に示す。紫外域レーザ41から例えば
300nm 以下の波長の紫外放射を発生する。本例で
は、このレーザは193nm の波長の放射を放出する
ものとする。レーザパルスの時間幅は数10n秒の範囲
にある。本例では、パルス期間を約20n秒とする。表
示窓44とレーザ41との間に透過型の回折格子42及
びレンズ系43を配置する。尚、表示窓44の内側面4
5に処理を施す。レンズ系43により透過型回折格子4
2の縮小画像を表示窓44の内側面45上に形成する。 この内側面上には誘発(ablation) により不
規則性パターンを形成する。表示窓44を適切に移動さ
せ、内側面の一部を順次処理して内側面全体に亘って不
規則性部分を形成することができる。この処理方法は高
い融通性を有している。例えば、透過型回折格子を変更
させることができ、或いは移動させることができ、これ
と共に又はこれとは別に回折格子の縮小率を変化させる
こともできる。このように構成することにより、不規則
性部分の形状又は位置が良好に規定されると共に所望の
ように形成することができる。この結果、例えば反射の
程度を簡単な方法で変化させることができる。
【0015】紫外域放射を用いることによる溶発により
、極めて微細な不規則性部分を形成することができる。 ここで、“極めて微細”とは、不規則性部分の平均の大
きさが、表面方向に測った場合に数μm から約10μ
m の大きさにあることを意味する。この微細性はHD
TV(高品位テレビジョン)の場合に特に重要である。 この不規則性は蛍光区域の大きさよりも小さくすること
が好ましく、蛍光区域の寸法はHDTVの場合数10μ
m 程度である。
、極めて微細な不規則性部分を形成することができる。 ここで、“極めて微細”とは、不規則性部分の平均の大
きさが、表面方向に測った場合に数μm から約10μ
m の大きさにあることを意味する。この微細性はHD
TV(高品位テレビジョン)の場合に特に重要である。 この不規則性は蛍光区域の大きさよりも小さくすること
が好ましく、蛍光区域の寸法はHDTVの場合数10μ
m 程度である。
【0016】本発明による方法で処理した場合、表面に
クラックが全く形成されなかった。この効果は、紫外線
放射のガラスへの浸透深さ(本例の場合、表示窓はガラ
スで構成する)が極めて浅いことに起因するものと解さ
れる。すなわち、レーザ光がガラスに入射する場合、そ
の単位体積別当りのエネルギー密度は極めて高くなる。 溶発は供給エネルギーの熱拡散に要する時間内において
急速に発生する。この結果ガラスの周囲部分に対する熱
的負荷は極めて微小でありガラス中でのクラックの発生
が防止される。ガラス中にクラックが生ずると、表示画
像の強度及び/又は鮮明度が低下し、この結果表示窓の
強度も低下するおそれがある。
クラックが全く形成されなかった。この効果は、紫外線
放射のガラスへの浸透深さ(本例の場合、表示窓はガラ
スで構成する)が極めて浅いことに起因するものと解さ
れる。すなわち、レーザ光がガラスに入射する場合、そ
の単位体積別当りのエネルギー密度は極めて高くなる。 溶発は供給エネルギーの熱拡散に要する時間内において
急速に発生する。この結果ガラスの周囲部分に対する熱
的負荷は極めて微小でありガラス中でのクラックの発生
が防止される。ガラス中にクラックが生ずると、表示画
像の強度及び/又は鮮明度が低下し、この結果表示窓の
強度も低下するおそれがある。
【0017】図5は、20n秒のレーザパルスを用いた
場合の溶発深さA(μm )すなわちレーザパルスによ
って溶発される層の厚さ(縦軸)を表示窓の表面上のエ
ネルギー密度B(横軸)の関数として示す。本例で用い
たレーザ放射は193nm の波長である。このグラフ
を外挿すると、溶発はエネルギー密度Emin (本例
の場合約40mジュール/cm2 )から開始しており
、このエネルギー密度は2×106 ワット/cm2
のパワー密度に対応する。他のパルス期間、他のガラス
の型式及び他の波長の放射の場合において、溶発を発生
させるために必要な最小エネルギー密度Emin は、
溶発の割合をエネルギー密度の関数にして測定し、測定
結果をエネルギー密度の対数としてプロットすることに
よりほぼ決定することができる。外挿線と横軸との交点
がEmin となる。図5は、溶発の深さがエネルギー
密度のほぼ対数に従って増大していることを示している
。エネルギー密度は最小エネルギー密度の1.2 〜2
.5 倍の範囲、本例の場合50mジュール/cm2
と1000mジュール/cm2 の間にあることが好ま
しく、この範囲は2.5 ×106 〜5×107 ワ
ット/cm2 に対応し、溶発深さはレーザパルス当た
り約0.005 〜0.05μm に相当する。
場合の溶発深さA(μm )すなわちレーザパルスによ
って溶発される層の厚さ(縦軸)を表示窓の表面上のエ
ネルギー密度B(横軸)の関数として示す。本例で用い
たレーザ放射は193nm の波長である。このグラフ
を外挿すると、溶発はエネルギー密度Emin (本例
の場合約40mジュール/cm2 )から開始しており
、このエネルギー密度は2×106 ワット/cm2
のパワー密度に対応する。他のパルス期間、他のガラス
の型式及び他の波長の放射の場合において、溶発を発生
させるために必要な最小エネルギー密度Emin は、
溶発の割合をエネルギー密度の関数にして測定し、測定
結果をエネルギー密度の対数としてプロットすることに
よりほぼ決定することができる。外挿線と横軸との交点
がEmin となる。図5は、溶発の深さがエネルギー
密度のほぼ対数に従って増大していることを示している
。エネルギー密度は最小エネルギー密度の1.2 〜2
.5 倍の範囲、本例の場合50mジュール/cm2
と1000mジュール/cm2 の間にあることが好ま
しく、この範囲は2.5 ×106 〜5×107 ワ
ット/cm2 に対応し、溶発深さはレーザパルス当た
り約0.005 〜0.05μm に相当する。
【0018】図6は表示窓の表面を紫外線レーザで処理
するのに必要な時間t(秒)を示す。ここで、処理は、
0.1 μm の深さを有する不規則パターンを形成す
ることを意味するものと理解すべきである。必要なパル
ス数は、本例の場合2〜20パルスの範囲にある。不規
則部の深さは、パルス数又はパルス強度Fにより正確に
調整することができる。本例では、紫外域レーザは波長
が193nm でパルス幅が20n秒、従って全エネル
ギーが1パルス当り200 mジュールのレーザパルス
を毎秒200 パルス発生する。処理に必要な時間tを
縦軸にエネルギー密度B(mジュール/cm2 )を横
軸に表示した。曲線61は必要な処理時間tをエネルギ
ーの関数として示す。溶発させるのに必要な最小エネル
ギー密度(Emin ) を直線62で示す。必要な処
理時間tは用いたレーザエネルギーの効率の目安となる
。処理時間が少なくとも最小値を超えるようにエネルギ
ー密度を調整することが好ましい。本例の場合、このエ
ネルギー密度は50mジュール/パルス〜1000mジ
ュール/パルスの範囲のエネルギー密度が対応し、これ
らの範囲は必要な最小エネルギー密度Emin の約1
.2 〜25倍の範囲に相当する。この範囲を、図6に
おいて符号64で示す。本例では、最適値は最小値Em
in の約2.7 倍に位置する。
するのに必要な時間t(秒)を示す。ここで、処理は、
0.1 μm の深さを有する不規則パターンを形成す
ることを意味するものと理解すべきである。必要なパル
ス数は、本例の場合2〜20パルスの範囲にある。不規
則部の深さは、パルス数又はパルス強度Fにより正確に
調整することができる。本例では、紫外域レーザは波長
が193nm でパルス幅が20n秒、従って全エネル
ギーが1パルス当り200 mジュールのレーザパルス
を毎秒200 パルス発生する。処理に必要な時間tを
縦軸にエネルギー密度B(mジュール/cm2 )を横
軸に表示した。曲線61は必要な処理時間tをエネルギ
ーの関数として示す。溶発させるのに必要な最小エネル
ギー密度(Emin ) を直線62で示す。必要な処
理時間tは用いたレーザエネルギーの効率の目安となる
。処理時間が少なくとも最小値を超えるようにエネルギ
ー密度を調整することが好ましい。本例の場合、このエ
ネルギー密度は50mジュール/パルス〜1000mジ
ュール/パルスの範囲のエネルギー密度が対応し、これ
らの範囲は必要な最小エネルギー密度Emin の約1
.2 〜25倍の範囲に相当する。この範囲を、図6に
おいて符号64で示す。本例では、最適値は最小値Em
in の約2.7 倍に位置する。
【0019】本発明による表示窓の製造方法は、上述し
た実施例だけに限定されず種々の変形が可能である。上
述した実施例では表示装置として陰極線管を用いたがL
CD(液晶表示装置)や他の型式の表示装置を用いるこ
とができる。また、上述した実施例では陰極線管の内側
表面に処理を施したが、内側表面及び外側表面に、又は
外側表面だけに処理を施すことも可能である。これとの
関連において、当該処理を行った後蛍光パターンが形成
される陰極線管表示装置の表示窓の内側面を処理すべき
面とする場合、本発明の方法を用いるのが特に好適であ
る。この理由は、本発明による製造方法では、汚染物質
が生じないためである。汚染物質が生じると、蛍光体の
品質及び/又は寿命に悪影響を及ぼすおそれがある。
た実施例だけに限定されず種々の変形が可能である。上
述した実施例では表示装置として陰極線管を用いたがL
CD(液晶表示装置)や他の型式の表示装置を用いるこ
とができる。また、上述した実施例では陰極線管の内側
表面に処理を施したが、内側表面及び外側表面に、又は
外側表面だけに処理を施すことも可能である。これとの
関連において、当該処理を行った後蛍光パターンが形成
される陰極線管表示装置の表示窓の内側面を処理すべき
面とする場合、本発明の方法を用いるのが特に好適であ
る。この理由は、本発明による製造方法では、汚染物質
が生じないためである。汚染物質が生じると、蛍光体の
品質及び/又は寿命に悪影響を及ぼすおそれがある。
【0020】上述した実施例において、紫外線レーザは
波長193nm の放射を放出したが、紫外域の他の波
長放射例えば248nm, 308nm及び351nm
の紫外放射を用いることも可能であり、さらに上述し
た波長域内の他の波長の放射又はこれに近接した放射或
いはこれら波長放射を組み合わせたものを用いることも
可能である。さらに、不規則パターンを形成するために
透過型回折格子を用いたが、別の方法として孔を有する
スクリーン又はメッシュ状スクリーン或いは紫外線に対
して透明な材料から成り紫外線に対して不透明な区域が
形成されているプレートを用いることも可能である。実
施例は限定的に解釈すべきではなく、本発明による別の
実施例として表示窓の材料に粒子を混合することによっ
て表示窓の表面に不規則性のパターンを形成することが
できる。この場合、表示窓の材料として例えばガラスが
あり、混合される粒子として紫外線レーザからの放射に
対して純粋のガラスの吸収率よりも高いか又は低い吸収
率を有する粒子を用いることができ、或いは、処理すべ
き面上にこのような粒子を付与形成してもよい。このよ
うにすることにより、吸収率を局部的に変化させること
ができる。パルス状の紫外線レーザビームは、溶発が局
部的にだけ生ずるようなエネルギー密度で処理表面に入
射する。従って、いかなる所望の不規則性パターンも形
成できる。この場合、透過型回折格子を省略することが
でき、製造装置を簡単化することができる。別の実施例
として、2本のレーザビームによる干渉パターンを処理
表面上に形成することもできる。2本のレーザビームの
干渉パターンを形成するには、例えばレーザビームをビ
ームスプリッタにより2個の放射成分に分割し、その後
これらのビームを処理すべき表面上に同一のスポットと
して集束させることにより形成することができる。
波長193nm の放射を放出したが、紫外域の他の波
長放射例えば248nm, 308nm及び351nm
の紫外放射を用いることも可能であり、さらに上述し
た波長域内の他の波長の放射又はこれに近接した放射或
いはこれら波長放射を組み合わせたものを用いることも
可能である。さらに、不規則パターンを形成するために
透過型回折格子を用いたが、別の方法として孔を有する
スクリーン又はメッシュ状スクリーン或いは紫外線に対
して透明な材料から成り紫外線に対して不透明な区域が
形成されているプレートを用いることも可能である。実
施例は限定的に解釈すべきではなく、本発明による別の
実施例として表示窓の材料に粒子を混合することによっ
て表示窓の表面に不規則性のパターンを形成することが
できる。この場合、表示窓の材料として例えばガラスが
あり、混合される粒子として紫外線レーザからの放射に
対して純粋のガラスの吸収率よりも高いか又は低い吸収
率を有する粒子を用いることができ、或いは、処理すべ
き面上にこのような粒子を付与形成してもよい。このよ
うにすることにより、吸収率を局部的に変化させること
ができる。パルス状の紫外線レーザビームは、溶発が局
部的にだけ生ずるようなエネルギー密度で処理表面に入
射する。従って、いかなる所望の不規則性パターンも形
成できる。この場合、透過型回折格子を省略することが
でき、製造装置を簡単化することができる。別の実施例
として、2本のレーザビームによる干渉パターンを処理
表面上に形成することもできる。2本のレーザビームの
干渉パターンを形成するには、例えばレーザビームをビ
ームスプリッタにより2個の放射成分に分割し、その後
これらのビームを処理すべき表面上に同一のスポットと
して集束させることにより形成することができる。
【0021】不規則性パターンは不規則形態又は規則性
形態のものとすることができる。本発明において、表示
窓の上述の実施例に示した表示窓を意味するが、陰極線
管の前側に配置した透明プレートも含むものである。本
発明による方法によって低減できる外乱性反射はこのプ
レート表面でも同様に生ずるからである。上述した実施
例では表示窓をガラスとしたが、本発明では表示窓を別
の透明材料で構成することもできる。
形態のものとすることができる。本発明において、表示
窓の上述の実施例に示した表示窓を意味するが、陰極線
管の前側に配置した透明プレートも含むものである。本
発明による方法によって低減できる外乱性反射はこのプ
レート表面でも同様に生ずるからである。上述した実施
例では表示窓をガラスとしたが、本発明では表示窓を別
の透明材料で構成することもできる。
【0022】従って、本発明による方法は簡単であり、
周囲に有害なことにはならず、しかも高い融通性(構造
の選択性)と高精度性(不規則性部分の寸法及び位置)
の両方を達成することができる。
周囲に有害なことにはならず、しかも高い融通性(構造
の選択性)と高精度性(不規則性部分の寸法及び位置)
の両方を達成することができる。
【図1】図1は、本発明による直視型陰極線管表示装置
の構成を示す線図である。
の構成を示す線図である。
【図2】図2は、図1の細部を示す断面図である。
【図3】図3は、表示窓の表面における外乱効果を示す
線図である。
線図である。
【図4】図4は、本発明による方法を実施するのに好適
な装置を示す線図である。
な装置を示す線図である。
【図5】図5は、溶発速度をレーザパルスのエネルギー
密度の関数として示すグラフである。
密度の関数として示すグラフである。
【図6】図6は、表面処理に必要な時間をレーザパルス
のエネルギー密度の関数として示すグラフである。
のエネルギー密度の関数として示すグラフである。
2,44 表示窓
41 レーザ
42 透過型回折格子
43 レンズ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項1】 表示装置の表示窓を製造するに当たり
、表示窓の表面における反射を減少させるため、表示窓
の表面に、紫外域レーザから放出された放射による前記
表面における溶発により不規則性パターンを形成するこ
とを特徴とする表示装置の表示窓を製造する方法。 【請求項2】 請求項1に記載の表示装置の表示窓を
製造する方法において、前記不規則パターンを、ほぼ0
.1 μm から約0.3 μm の深さを有するよう
に形成することを特徴とする表示装置の表示窓を製造す
る方法。 【請求項3】 請求項1又は2に記載の表示装置の表
示窓を製造する方法において、前記紫外域レーザと前記
表面との間の放射光路中に透過型回折格子を配置したこ
とを特徴とする表示装置の表示窓を製造する方法【請求
項4】 請求項1から3までのいずれか1項に記載の
表示装置の表示窓を製造する方法において、前記処理す
べき表面を、蛍光パターンが形成されている陰極線管表
示装置の表示窓の内側表面としたことを特徴とする表示
装置の表示窓を製造する方法。 【請求項5】 請求項1〜4までのいずれか1項に記
載の方法によって製造された表示窓。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL9002769 | 1990-12-17 | ||
| NL9002769A NL9002769A (nl) | 1990-12-17 | 1990-12-17 | Werkwijze voor het vervaardigen van een beeldvenster voor een beeldweergave-apparaat. |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04292834A true JPH04292834A (ja) | 1992-10-16 |
Family
ID=19858153
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3332029A Pending JPH04292834A (ja) | 1990-12-17 | 1991-12-16 | 表示装置の表示窓を製造する方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5240748A (ja) |
| EP (1) | EP0491419B1 (ja) |
| JP (1) | JPH04292834A (ja) |
| DE (1) | DE69112002T2 (ja) |
| NL (1) | NL9002769A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100522673B1 (ko) * | 1998-09-29 | 2006-01-27 | 삼성에스디아이 주식회사 | 레이저 음극선관 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0705483B1 (en) * | 1994-04-25 | 1999-11-24 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Method of curing a film |
| US5608286A (en) * | 1994-11-30 | 1997-03-04 | Texas Instruments Incorporated | Ambient light absorbing face plate for flat panel display |
| US5637958A (en) * | 1995-03-06 | 1997-06-10 | Texas Instruments Incorporated | Grooved anode plate for cathodoluminescent display device |
| JP3163563B2 (ja) * | 1995-08-25 | 2001-05-08 | 富士通株式会社 | 面放電型プラズマ・ディスプレイ・パネル及びその製造方法 |
| KR100257826B1 (ko) * | 1997-06-09 | 2000-07-01 | 윤종용 | 영상표시장치의 기울기 조정 방법 및 장치 |
| EP1051722A1 (en) * | 1998-11-02 | 2000-11-15 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Laser illumination arrangement for a cathode ray tube |
| AU4712400A (en) | 1999-05-14 | 2000-12-05 | 3M Innovative Properties Company | Ablation enhancement layer |
| US8585956B1 (en) | 2009-10-23 | 2013-11-19 | Therma-Tru, Inc. | Systems and methods for laser marking work pieces |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL7803025A (nl) * | 1978-03-21 | 1979-09-25 | Philips Nv | Werkwijze voor het vervaardigen van een kleu- rentelevisiebeeldbuis en aldus vervaardigde buis. |
| US4560581A (en) * | 1985-04-15 | 1985-12-24 | Rca Corporation | Method for preparing lithium-silicate glare-reducing coating |
| NL8800581A (nl) * | 1988-03-09 | 1989-10-02 | Philips Nv | Werkwijze voor het vervaardigen van een kleurenkathodestraalbuis en kleurenkathodestraalbuis. |
| US4879451A (en) * | 1988-07-14 | 1989-11-07 | Sun-Flex Company, Inc. | Laser cut video display terminal filter screen |
| NL8801944A (nl) * | 1988-08-04 | 1990-03-01 | Philips Nv | Werkwijze voor het vervaardigen van een kleurenbeeldbuis. |
| US5122708A (en) * | 1990-12-12 | 1992-06-16 | North American Philips Corporation | Color reference CRT and method of making |
-
1990
- 1990-12-17 NL NL9002769A patent/NL9002769A/nl not_active Application Discontinuation
-
1991
- 1991-12-10 EP EP91203216A patent/EP0491419B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-12-10 DE DE69112002T patent/DE69112002T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-12-13 US US07/806,982 patent/US5240748A/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-12-16 JP JP3332029A patent/JPH04292834A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100522673B1 (ko) * | 1998-09-29 | 2006-01-27 | 삼성에스디아이 주식회사 | 레이저 음극선관 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0491419A1 (en) | 1992-06-24 |
| DE69112002T2 (de) | 1996-03-21 |
| EP0491419B1 (en) | 1995-08-09 |
| NL9002769A (nl) | 1992-07-16 |
| US5240748A (en) | 1993-08-31 |
| DE69112002D1 (de) | 1995-09-14 |
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