JPH0429382A - ガスレ―ザ装置とレ―ザ加工システム - Google Patents
ガスレ―ザ装置とレ―ザ加工システムInfo
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- JPH0429382A JPH0429382A JP13480290A JP13480290A JPH0429382A JP H0429382 A JPH0429382 A JP H0429382A JP 13480290 A JP13480290 A JP 13480290A JP 13480290 A JP13480290 A JP 13480290A JP H0429382 A JPH0429382 A JP H0429382A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はガスレーザ装置及びレーザ加ニジステムに係り
、特に、高気圧で動作する放電励起型エキシマレーザと
して用いるに好適なガスレーザ装置及びこの装置を利用
したレーザ加ニジステムに関する。
、特に、高気圧で動作する放電励起型エキシマレーザと
して用いるに好適なガスレーザ装置及びこの装置を利用
したレーザ加ニジステムに関する。
従来のガスレーザ装置においては、特開昭63−199
475号公報に記載されているように、放電励起型エキ
シマレーザの予備電離源としてX線管によるX線を用い
、主放電電極のうち多孔開口構造の陰極電極の背面側か
らX線を照射する構成が採用されている。
475号公報に記載されているように、放電励起型エキ
シマレーザの予備電離源としてX線管によるX線を用い
、主放電電極のうち多孔開口構造の陰極電極の背面側か
らX線を照射する構成が採用されている。
また、予備電離源としてレーザ光を用いたものとして、
米国特許4679203号公報に記載されているものが
知られている。このものは、パルス充電回路(PFL)
のパルス電圧が波高値を示す時点で、予備電離用のレー
ザ光を主放電電極間に照射して予備電離すると同時に、
レールギャップを作動させて主放電を形成する方法が採
用されている。
米国特許4679203号公報に記載されているものが
知られている。このものは、パルス充電回路(PFL)
のパルス電圧が波高値を示す時点で、予備電離用のレー
ザ光を主放電電極間に照射して予備電離すると同時に、
レールギャップを作動させて主放電を形成する方法が採
用されている。
上記従来技術は予備電離源としてX線やレーザ光を用い
ているため、装置の機能からX線やレーザ光を連続して
出射することができず、予備電離源の紫外線発光量が単
発でパルス的なハイピークを有するものとなっている。
ているため、装置の機能からX線やレーザ光を連続して
出射することができず、予備電離源の紫外線発光量が単
発でパルス的なハイピークを有するものとなっている。
このため、グロー放電に必要で十分な予備電離量を得る
にはある時間が必要であっても、この時間の間X線やレ
ーザ光を出射することができず、主放電電極間に電圧が
印加されたと同時にパルス的なレーザ光やX線照射する
と、主放電電極間の端子電圧が比較的低い電圧で主放電
が開始されることがある。一方、主放電電極間の端子電
圧が比較的高いときにパルス的なレーザ光又はX線を主
放電電極間に照射すると、十分な予備電離量が得られな
いうちに主放電がトリガーされる。従って、従来技術で
は−様なグロー放電が得られず、アークが発生してレー
ザ媒質ガスが劣下し、レーザ出力の効率が低下したり、
出力が低下したりする恐れがある。
にはある時間が必要であっても、この時間の間X線やレ
ーザ光を出射することができず、主放電電極間に電圧が
印加されたと同時にパルス的なレーザ光やX線照射する
と、主放電電極間の端子電圧が比較的低い電圧で主放電
が開始されることがある。一方、主放電電極間の端子電
圧が比較的高いときにパルス的なレーザ光又はX線を主
放電電極間に照射すると、十分な予備電離量が得られな
いうちに主放電がトリガーされる。従って、従来技術で
は−様なグロー放電が得られず、アークが発生してレー
ザ媒質ガスが劣下し、レーザ出力の効率が低下したり、
出力が低下したりする恐れがある。
なお、特開平1−201975号公報に記載されている
ように、予備電離源として紫外線発光ランプを用い、こ
のランプをレーザ容器内に配置するものが提案されてい
るが、ランプを容器内に配置した構成では、ランプの発
光に伴う熱でレーザ媒質ガスが劣下する恐れがある。
ように、予備電離源として紫外線発光ランプを用い、こ
のランプをレーザ容器内に配置するものが提案されてい
るが、ランプを容器内に配置した構成では、ランプの発
光に伴う熱でレーザ媒質ガスが劣下する恐れがある。
本発明の目的は、アークを発生させることなく−様なグ
ロー放電によってレーザ光を発生させることができるガ
スレーザ装置及びレーザ加エシステムを提供することに
ある。
ロー放電によってレーザ光を発生させることができるガ
スレーザ装置及びレーザ加エシステムを提供することに
ある。
前記目的を達成するために、本発明は、第1の装置とし
て、光線透過窓を備えレーザ媒質ガスを貯留する容器と
、容器内に相対向して配置され、放電に伴うレーザ光を
光線透過窓へ導く一対の主放電電極と、電源と各主放電
電極とを結ぶ回路を形成して電源からの電荷を蓄積し、
放電指令により蓄積電荷を各主放電電極へ放電する電極
励起手段と、紫外線発光ランプを備え主放電電極間の端
子電圧が設定電圧に達したときに、紫外線発光ランプ光
を主放電電極間のレーザ媒質ガス中に連続して照射する
予備電離手段とを有するガスレーザ装置を構成したもの
である。
て、光線透過窓を備えレーザ媒質ガスを貯留する容器と
、容器内に相対向して配置され、放電に伴うレーザ光を
光線透過窓へ導く一対の主放電電極と、電源と各主放電
電極とを結ぶ回路を形成して電源からの電荷を蓄積し、
放電指令により蓄積電荷を各主放電電極へ放電する電極
励起手段と、紫外線発光ランプを備え主放電電極間の端
子電圧が設定電圧に達したときに、紫外線発光ランプ光
を主放電電極間のレーザ媒質ガス中に連続して照射する
予備電離手段とを有するガスレーザ装置を構成したもの
である。
第2の装置として光線透過窓を備えレーザ媒質ガスを貯
留する容器と、容器内に相対向して配置され、放電に伴
うレーザ光を光線透過窓へ導く一対の主放電電極と、電
源と各主放電電極とを結ぶ回路を形成して電源からの電
荷を蓄積し、放電指令により蓄積電荷を各主放電電極へ
放電する電極励起手段と、紫外線発光ランプを備え主放
電電極間の端子電圧が設定電圧に達したときに、紫外線
発光ランプ光を主放電電極間のレーザ媒質ガス中に連続
して照射する第1予備電離手段と、紫外線発光ランプ光
を主放電電極間のレーザ媒質ガス中に連続して照射する
第2予備電離手段とを有するガスレーザ装置を構成した
ものである。
留する容器と、容器内に相対向して配置され、放電に伴
うレーザ光を光線透過窓へ導く一対の主放電電極と、電
源と各主放電電極とを結ぶ回路を形成して電源からの電
荷を蓄積し、放電指令により蓄積電荷を各主放電電極へ
放電する電極励起手段と、紫外線発光ランプを備え主放
電電極間の端子電圧が設定電圧に達したときに、紫外線
発光ランプ光を主放電電極間のレーザ媒質ガス中に連続
して照射する第1予備電離手段と、紫外線発光ランプ光
を主放電電極間のレーザ媒質ガス中に連続して照射する
第2予備電離手段とを有するガスレーザ装置を構成した
ものである。
第3の装置として光線透過窓を備えレーザ媒質ガスを貯
留する容器と、容器内に相対向して配置され、放電に伴
うレーザ光を光線透過窓へ導く一対の主放電電極と、電
源と各主放電電極とを結ぶ回路を形成して電源からの電
荷を蓄積し、放電指令により蓄積電荷を各主放電電極へ
放電する電極励起手段と、紫外線発光ランプを備えこの
ランプ光を主放電電極間のレーザ媒質ガス中に連続して
照射すると共に照射光の照射エネルギーを段階的に高め
ていく予備電離手段とを有するガスレーザ装置を構成し
たものである。
留する容器と、容器内に相対向して配置され、放電に伴
うレーザ光を光線透過窓へ導く一対の主放電電極と、電
源と各主放電電極とを結ぶ回路を形成して電源からの電
荷を蓄積し、放電指令により蓄積電荷を各主放電電極へ
放電する電極励起手段と、紫外線発光ランプを備えこの
ランプ光を主放電電極間のレーザ媒質ガス中に連続して
照射すると共に照射光の照射エネルギーを段階的に高め
ていく予備電離手段とを有するガスレーザ装置を構成し
たものである。
第1.第2.又は第3の装置を含む第4の装置として、
予備電離手段が容器外に配置され、一対の主放電電極の
うち一方の電極のほぼ全域に、容器の光線透過窓からの
入射光を他方の電極へ導く複数の光線透過路が形成され
、予備電離手段からのランプ光が前記各光線透過路内に
照射されてなるガスレーザ装置を構成したものである。
予備電離手段が容器外に配置され、一対の主放電電極の
うち一方の電極のほぼ全域に、容器の光線透過窓からの
入射光を他方の電極へ導く複数の光線透過路が形成され
、予備電離手段からのランプ光が前記各光線透過路内に
照射されてなるガスレーザ装置を構成したものである。
第1.第2.又は第3の装置を含む第5の装置として、
レーザ媒質ガスを間にして相対向して配置された高圧用
主放電電極と低圧用主放電極を一組として、これらの電
極群を少なくとも2組以上積層して多層主放電電極部を
構成し、多層主放電電極部の各組の電極を電極励起手段
に接続し、前記各組の電極間のレーザ媒質ガス中に予備
電離手段からのランプ光を照射してなるガスレーザ装置
を構成したものである。
レーザ媒質ガスを間にして相対向して配置された高圧用
主放電電極と低圧用主放電極を一組として、これらの電
極群を少なくとも2組以上積層して多層主放電電極部を
構成し、多層主放電電極部の各組の電極を電極励起手段
に接続し、前記各組の電極間のレーザ媒質ガス中に予備
電離手段からのランプ光を照射してなるガスレーザ装置
を構成したものである。
第1.第2.第3.第4.又は第5の装置を含む第6の
装置として、予備電離手段からのランプ光の一部を主放
電電極間の特定の領域に集光させる集光手段を有するガ
スレーザ装置を構成したものである。
装置として、予備電離手段からのランプ光の一部を主放
電電極間の特定の領域に集光させる集光手段を有するガ
スレーザ装置を構成したものである。
第4の装置を含む第7の装置として、容器はし一ザ光出
射用光線透過窓と紫外線ランプ光入射用光線透過窓を備
えているガスレーザ装置を構成したものである。
射用光線透過窓と紫外線ランプ光入射用光線透過窓を備
えているガスレーザ装置を構成したものである。
第4の装置を含む第8の装置として、容器はレーザ光出
射用と紫外線ランプ光入射用とを兼用する光線透過窓を
備え、容器外のレーザ光伝搬路と紫外線ランプ光伝搬路
中にビームスプリッタが配置されてなるガスレーザ装置
を構成したものである。
射用と紫外線ランプ光入射用とを兼用する光線透過窓を
備え、容器外のレーザ光伝搬路と紫外線ランプ光伝搬路
中にビームスプリッタが配置されてなるガスレーザ装置
を構成したものである。
ガスレーザ装置を用いたシステムとして、第1〜第8の
装置のうちのいずれか1つの装置を有し、主放電電極か
らのレーザ光を被加工材料の切削に用いてなるレーザ加
ニジステムを構成したものである。
装置のうちのいずれか1つの装置を有し、主放電電極か
らのレーザ光を被加工材料の切削に用いてなるレーザ加
ニジステムを構成したものである。
電極励起手段によって主放電電極間に電圧が印加されて
いく過程で、主放電電極間のレーザ媒質ガスには予備電
離手段からの紫外線発光ランプ光が連続して照射される
ので、ランプ光の照射タイミングがわずかにずれたとし
ても、一定光量の紫外線発光ランプ光の連続照射によっ
て、十分な予備電離量となった時点で主放電が開始され
る。このため電極間にアークが発生することなく−様な
グロー放電のもとでレーザ光を発生させることができる
。しかも、主電極間を均一に予備電離状態にすることが
でき、主放電トリガ作用によって高効率で長寿命の出力
を得ることができる。
いく過程で、主放電電極間のレーザ媒質ガスには予備電
離手段からの紫外線発光ランプ光が連続して照射される
ので、ランプ光の照射タイミングがわずかにずれたとし
ても、一定光量の紫外線発光ランプ光の連続照射によっ
て、十分な予備電離量となった時点で主放電が開始され
る。このため電極間にアークが発生することなく−様な
グロー放電のもとでレーザ光を発生させることができる
。しかも、主電極間を均一に予備電離状態にすることが
でき、主放電トリガ作用によって高効率で長寿命の出力
を得ることができる。
紫外線ランプ光をレーザ媒質ガスに連続して照射すると
レーザ媒質ガスのうち塩化水素系の塩化分系の微量な不
純物だけを解離させることができる。また予備電離量を
段階的に増量することによって十分な予備電離量を確保
することができ、放電開始電圧が安定する。
レーザ媒質ガスのうち塩化水素系の塩化分系の微量な不
純物だけを解離させることができる。また予備電離量を
段階的に増量することによって十分な予備電離量を確保
することができ、放電開始電圧が安定する。
主放電電極を多層主放電電極部で構成すれば。
この電極部で電極幅方向に大口径の均一放電が形成され
、大口径レーザビームを得ることができる。
、大口径レーザビームを得ることができる。
予備電離手段を容器外に配置し、容器外から主放電電極
間に紫外線ランプ光を照射するようにすれば、ランプ光
の発光に伴う熱でレーザ媒質ガスが劣下するのが防止す
ることができると共に予備電離手段のメンテナンスが容
易となる。さらにランプ表面が劣下したり、透過率が低
下するのを防止するIことができる。
間に紫外線ランプ光を照射するようにすれば、ランプ光
の発光に伴う熱でレーザ媒質ガスが劣下するのが防止す
ることができると共に予備電離手段のメンテナンスが容
易となる。さらにランプ表面が劣下したり、透過率が低
下するのを防止するIことができる。
以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。
第1図において、ガスレーザ装置10は装置本体として
箱型の容器12を備えており、容器12の側壁には光線
透過窓としての全反射鏡14と出力鏡16とが相対向し
て配置されている。容器12の内部にはレーザ媒質ガス
となるハロゲン系ガスを含む混合レーザガス、例えばX
eCQ。
箱型の容器12を備えており、容器12の側壁には光線
透過窓としての全反射鏡14と出力鏡16とが相対向し
て配置されている。容器12の内部にはレーザ媒質ガス
となるハロゲン系ガスを含む混合レーザガス、例えばX
eCQ。
KrFガス及びNe、Heが充填されており、この混合
レーザガス中に主放電電極18.20が相対向して、レ
ーザ光を出力鏡16へ導くように配置されている。
レーザガス中に主放電電極18.20が相対向して、レ
ーザ光を出力鏡16へ導くように配置されている。
主放電電極18,20はピーキングコンデンサ22の両
端に接続されており、主放電電極18は高圧側の電極と
して充電用インダクタンス24に接続されていると共に
インダクタンス26、充電用コンデンサ28を介して高
電圧充電電源30へ接続されている。コンデンサ28の
入力側とアース間には高電圧スイッチ32が設けられて
いる。
端に接続されており、主放電電極18は高圧側の電極と
して充電用インダクタンス24に接続されていると共に
インダクタンス26、充電用コンデンサ28を介して高
電圧充電電源30へ接続されている。コンデンサ28の
入力側とアース間には高電圧スイッチ32が設けられて
いる。
このスイッチ32はトリガ装置34からの指令信号に従
ってその接点を開閉するようになっている。
ってその接点を開閉するようになっている。
すなわち、トリガ装置34から放電指令としてのパルス
信号100が出力されたときに、接点を閉じるようにな
っている。そしてスイッチ32の接点が閉じたときに、
コンデンサ28に充電された蓄積電荷を主放電電極18
.20へ放電するようになっている。すなわちインダク
タンス24、ピーキングコンデンサ22.インダクタン
ス26、コンデンサ28、高電圧スイッチ32は電極励
起手段として構成されている。
信号100が出力されたときに、接点を閉じるようにな
っている。そしてスイッチ32の接点が閉じたときに、
コンデンサ28に充電された蓄積電荷を主放電電極18
.20へ放電するようになっている。すなわちインダク
タンス24、ピーキングコンデンサ22.インダクタン
ス26、コンデンサ28、高電圧スイッチ32は電極励
起手段として構成されている。
容器12の外部には予備電離源として、小形の紫外線発
光ランプ36が設置されており、この紫外線発光ランプ
36は電磁シャッタ38を介して全反射鏡14と相対向
して配置されている。この紫外線ランプ36は常時点灯
しており、紫外線発光ランプ36からのランプ光4oが
シリンドリカルレンズなどで構成される光学系と電磁シ
ャッタ38を介して全反射1(14に照射されるように
なっている。全反射鏡14及び出力鏡16には、紫外線
発光ランプ16からのランプ光40の波長に対して無反
射となるようにコーティング処理が施されている。この
ため、全反射鏡14へ入射されたランプ光40は主放電
電極18.20間の混合レーザガスに照射されることに
なる。電磁シャッタ38は遅延装置42を介してトリガ
装置34に接続されており、トリガ装置34からのパル
ス信号100が一定時間遅延した後パルス信号102と
して遅延装置42から出力されると、このパルス信号1
02が出力されている間電磁シャッタ38を開放するよ
うになっている。そして電磁シャッタ38が開放状態に
あるときには、紫外線発光光量が一定量に保たれたラン
プ光40が連続して容器12内に照射される。遅延装置
42の遅延時間Tdは、第2図に示されるように、主放
電電極18.20の端子間電圧がパルス充電電圧Vpに
達する時間に対応づけて設定されており、紫外緑発光ラ
ンプ36、電磁シャッタ38、遅延装置42.トリガ装
置34によって予備電離手段が構成されている。
光ランプ36が設置されており、この紫外線発光ランプ
36は電磁シャッタ38を介して全反射鏡14と相対向
して配置されている。この紫外線ランプ36は常時点灯
しており、紫外線発光ランプ36からのランプ光4oが
シリンドリカルレンズなどで構成される光学系と電磁シ
ャッタ38を介して全反射1(14に照射されるように
なっている。全反射鏡14及び出力鏡16には、紫外線
発光ランプ16からのランプ光40の波長に対して無反
射となるようにコーティング処理が施されている。この
ため、全反射鏡14へ入射されたランプ光40は主放電
電極18.20間の混合レーザガスに照射されることに
なる。電磁シャッタ38は遅延装置42を介してトリガ
装置34に接続されており、トリガ装置34からのパル
ス信号100が一定時間遅延した後パルス信号102と
して遅延装置42から出力されると、このパルス信号1
02が出力されている間電磁シャッタ38を開放するよ
うになっている。そして電磁シャッタ38が開放状態に
あるときには、紫外線発光光量が一定量に保たれたラン
プ光40が連続して容器12内に照射される。遅延装置
42の遅延時間Tdは、第2図に示されるように、主放
電電極18.20の端子間電圧がパルス充電電圧Vpに
達する時間に対応づけて設定されており、紫外緑発光ラ
ンプ36、電磁シャッタ38、遅延装置42.トリガ装
置34によって予備電離手段が構成されている。
以上の構成において、ピーキングコンデンサ22両端の
パルス充電電圧Vpと主放電電極18゜20間の放電開
始電圧Va1との関係をVp≧Va□となるように設定
すると共に、パルス充電時間Ttが主放電の放電時間に
比べて長い時間、例えば5〜50μsとなるように、イ
ンダクタンス26の値を調整する。更に遅延装置42の
遅延時間Tdをパルス充電時間Ttよりも大きく設定し
た状態で、トリガ装置34から放電指令としてパルス信
号100を出力すると、まず高電圧スイッチ32の接点
が閉じる。高電圧スイッチ32の接点が閉じると、充電
用コンデンサ28に充電された電荷がコンデンサ28、
高電圧スイッチ32、ピーキングコンデンサ22、イン
ダクタンス26を結ぶループの共振回路を介してピーキ
ングコンデンサ22に移動し、ピーキングコンデンサ2
2両端の電圧が徐々に増加する。すなわち、主放電電極
18.20間の端子電圧が徐々に増加する。
パルス充電電圧Vpと主放電電極18゜20間の放電開
始電圧Va1との関係をVp≧Va□となるように設定
すると共に、パルス充電時間Ttが主放電の放電時間に
比べて長い時間、例えば5〜50μsとなるように、イ
ンダクタンス26の値を調整する。更に遅延装置42の
遅延時間Tdをパルス充電時間Ttよりも大きく設定し
た状態で、トリガ装置34から放電指令としてパルス信
号100を出力すると、まず高電圧スイッチ32の接点
が閉じる。高電圧スイッチ32の接点が閉じると、充電
用コンデンサ28に充電された電荷がコンデンサ28、
高電圧スイッチ32、ピーキングコンデンサ22、イン
ダクタンス26を結ぶループの共振回路を介してピーキ
ングコンデンサ22に移動し、ピーキングコンデンサ2
2両端の電圧が徐々に増加する。すなわち、主放電電極
18.20間の端子電圧が徐々に増加する。
ピーキングコンデンサ22両端の電圧が時間Ttにおい
てVpになると、主放電電極18゜20には放電可能な
電圧である設定電圧が印加されたことになる。その後、
時間Tdでパルス信号102によって電磁シャッタ38
が開放すると、電磁シャッタ38が開放している間、紫
外線発光量が連続して一定量であるランプ光40が電磁
シャッタ38、全反射鏡14を介して容器12内に照射
される。ランプ光40が照射された後時間tにおいて1
例えばt=50nsで主放電電極18゜20間で放電が
開始する。このとき既に予備電離によって主放電電極1
8.20間に種電子が存在しているため、主放電電極1
8.20間の全領域にわたって−様なグロー放電が行な
われ、出力鏡16からレーザ光44が出射される。
てVpになると、主放電電極18゜20には放電可能な
電圧である設定電圧が印加されたことになる。その後、
時間Tdでパルス信号102によって電磁シャッタ38
が開放すると、電磁シャッタ38が開放している間、紫
外線発光量が連続して一定量であるランプ光40が電磁
シャッタ38、全反射鏡14を介して容器12内に照射
される。ランプ光40が照射された後時間tにおいて1
例えばt=50nsで主放電電極18゜20間で放電が
開始する。このとき既に予備電離によって主放電電極1
8.20間に種電子が存在しているため、主放電電極1
8.20間の全領域にわたって−様なグロー放電が行な
われ、出力鏡16からレーザ光44が出射される。
このように、本実施例によれば、予備電離源として、水
銀ランプなどの紫外線発光ランプ36を用いているため
、発光ランプ36を複数個使用したとしても、予備電離
源としてX線やレーザ光を用いたものよりも装置の小形
化が図れると共に取り扱いが容易となる。更に−様なグ
ロー放電が得られるので、アークによってレーザガスが
劣下するのを防止することができ、装置の長寿命化に寄
与することができる。
銀ランプなどの紫外線発光ランプ36を用いているため
、発光ランプ36を複数個使用したとしても、予備電離
源としてX線やレーザ光を用いたものよりも装置の小形
化が図れると共に取り扱いが容易となる。更に−様なグ
ロー放電が得られるので、アークによってレーザガスが
劣下するのを防止することができ、装置の長寿命化に寄
与することができる。
また紫外線発光量が連続して一定量であるランプ光40
をレーザガス中に照射できるので、累積の予備電離量が
多くなった時点で主放電を開始することができ、レーザ
光44の高効率化及び高出力化を図ることが可能となる
。更に、主放電電極18.20間に印加する電圧の上昇
率を高くする必要もなく、しかも、主放電電極18.2
0間のトリガ作用を有するので、高電圧スイッチ32の
負担が減少し、高電圧スイッチ32として固体素子を用
いることが可能となる。高電圧スイッチ32をサイラト
ロンの代りに固体素子を用いれば、更に装置の小形化が
可能になる。
をレーザガス中に照射できるので、累積の予備電離量が
多くなった時点で主放電を開始することができ、レーザ
光44の高効率化及び高出力化を図ることが可能となる
。更に、主放電電極18.20間に印加する電圧の上昇
率を高くする必要もなく、しかも、主放電電極18.2
0間のトリガ作用を有するので、高電圧スイッチ32の
負担が減少し、高電圧スイッチ32として固体素子を用
いることが可能となる。高電圧スイッチ32をサイラト
ロンの代りに固体素子を用いれば、更に装置の小形化が
可能になる。
また、従来のように予備電離源から火花が発生すること
がないので、放電に伴って雑音が発生するのを抑制する
ことができ、装置の誤動作を防止することができると共
に装置の安定化を図ることが可能となる。
がないので、放電に伴って雑音が発生するのを抑制する
ことができ、装置の誤動作を防止することができると共
に装置の安定化を図ることが可能となる。
次に、本発明の第2実施例を第3図及び第4図に基づい
て説明する。
て説明する。
本実施例においては、容器12外部に、第2の予備電離
源として紫外線発光ランプ46を設置すると共に、電磁
シャッタ38と全反射鏡14との間にビームスプリッタ
48を配置し、紫外線発光ランプ36からのランプ光4
0を電磁シャッタ38、ビームスプリッタ48を介して
容器12内に照射すると共に、紫外線ランプ46からの
ランプ光50をビームスプリッタ48を介して容器12
内に常時照射するようにしたものであり、ピーキングコ
ンデンサ22の両端に印加される電圧の上昇率が、例え
ば0.1〜0.3kv/n sの電圧を印加するように
回路定数を設定すると共に、遅延装置42の遅延時間t
工を代えた他は、前記実施例と同様であるので、同一の
ものまたは相当するものには同一符号を付してそれらの
説明は省略する。
源として紫外線発光ランプ46を設置すると共に、電磁
シャッタ38と全反射鏡14との間にビームスプリッタ
48を配置し、紫外線発光ランプ36からのランプ光4
0を電磁シャッタ38、ビームスプリッタ48を介して
容器12内に照射すると共に、紫外線ランプ46からの
ランプ光50をビームスプリッタ48を介して容器12
内に常時照射するようにしたものであり、ピーキングコ
ンデンサ22の両端に印加される電圧の上昇率が、例え
ば0.1〜0.3kv/n sの電圧を印加するように
回路定数を設定すると共に、遅延装置42の遅延時間t
工を代えた他は、前記実施例と同様であるので、同一の
ものまたは相当するものには同一符号を付してそれらの
説明は省略する。
本実施例では、第4図に示されるように、紫外線発光ラ
ンプ46からのランプ光5oが容器12内に常時照射さ
れており、トリガ族!34からのパルス信号100によ
って高電圧スイッチ32の接点が閉じた後時間t1で電
磁シャッタ38が開放状態になると、ランプ光50によ
って既に予備電離がおこなわれているため、主放電電極
18゜20間の電圧がインパルス放電開始電圧VB1よ
り若干低い放電電圧Vpxでとなった時間Tt工におい
て放電が行われる。
ンプ46からのランプ光5oが容器12内に常時照射さ
れており、トリガ族!34からのパルス信号100によ
って高電圧スイッチ32の接点が閉じた後時間t1で電
磁シャッタ38が開放状態になると、ランプ光50によ
って既に予備電離がおこなわれているため、主放電電極
18゜20間の電圧がインパルス放電開始電圧VB1よ
り若干低い放電電圧Vpxでとなった時間Tt工におい
て放電が行われる。
本実施例によれば、前記実施例と同様に、紫外線発光ラ
ンプ光を常時レーザガスに照射しているので、−様なグ
ロー放電が得られ、前記実施例と同様な効果を得ること
ができる。更に本実施例では、紫外線発光ランプ46か
らのランプ光5oを常時レーザガスに照射しているため
、レーザガスに含まれるハロゲン分子、例えば塩化水素
系とは塩化物系の微量な不純物だけを解離させることが
できる。
ンプ光を常時レーザガスに照射しているので、−様なグ
ロー放電が得られ、前記実施例と同様な効果を得ること
ができる。更に本実施例では、紫外線発光ランプ46か
らのランプ光5oを常時レーザガスに照射しているため
、レーザガスに含まれるハロゲン分子、例えば塩化水素
系とは塩化物系の微量な不純物だけを解離させることが
できる。
また前記実施例において、紫外線発光ランプ46出力の
ランプ光5oの照射エネルギーを段階的に高めて行くよ
うに構成すれば、予備電離量を段階的に増加させること
ができ、主放電の開始前に、より充分な予備電離を行う
ことができ、レーザ光の高効率化及び高出力化を図るこ
とが可能となる。また紫外線発光ランプ36の照射エネ
ルギーを段階的に高めるようにすることも可能である。
ランプ光5oの照射エネルギーを段階的に高めて行くよ
うに構成すれば、予備電離量を段階的に増加させること
ができ、主放電の開始前に、より充分な予備電離を行う
ことができ、レーザ光の高効率化及び高出力化を図るこ
とが可能となる。また紫外線発光ランプ36の照射エネ
ルギーを段階的に高めるようにすることも可能である。
次に、本発明の第3実施例を第5図に基づいて説明する
。
。
本実施例では、高電圧側の主放電電極18をメツシュ構
造の電極とし、主放電電極18背面側の容器12の側壁
に光線透過窓52を設け、この光線透過窓52に相対向
させて電離シャッタ38と紫外線発光ランプ38を配置
したものであり、他の構成は第1図に示すものと同様で
あるので、同一のものには同一符号を付してそれらの説
明は省略する。
造の電極とし、主放電電極18背面側の容器12の側壁
に光線透過窓52を設け、この光線透過窓52に相対向
させて電離シャッタ38と紫外線発光ランプ38を配置
したものであり、他の構成は第1図に示すものと同様で
あるので、同一のものには同一符号を付してそれらの説
明は省略する。
本実施例における主放電電極18には、光線透過窓52
からの入射光を主放電電極20側へ導くための光線透過
路54が主放電電極18のほぼ全域にわたって複数本形
成されている。すなわち。
からの入射光を主放電電極20側へ導くための光線透過
路54が主放電電極18のほぼ全域にわたって複数本形
成されている。すなわち。
紫外線発光ランプ38からのランプ光40が光線透過窓
52、各光線透過路54を介して主放電電極18.20
間のほぼ全域にわたって照射されるようになっている。
52、各光線透過路54を介して主放電電極18.20
間のほぼ全域にわたって照射されるようになっている。
このため、本実施例によれば、主放電電極18.20間
の全域にわたって均一に予備t*することができ、より
一層−様なグロー放電を実現することができる。
の全域にわたって均一に予備t*することができ、より
一層−様なグロー放電を実現することができる。
次に、本発明の第4実施例を第6図及び第7図に基づい
て説明する。
て説明する。
本実施例は、第1図に示す主放電電極18と主放電電極
20を一組として、これらの電極群を少なくとも二組以
上積層して多層主放電電極56を構成し、主放電電極部
56を電極励起手段に接続すると共に主放電電極部56
に紫外線発光ランプ36からのランプ光4oを照射する
ようにしたものである。
20を一組として、これらの電極群を少なくとも二組以
上積層して多層主放電電極56を構成し、主放電電極部
56を電極励起手段に接続すると共に主放電電極部56
に紫外線発光ランプ36からのランプ光4oを照射する
ようにしたものである。
多層主放電電極部56は高圧側主放電電極18A、18
B、18C,低圧側主放電電極2OA。
B、18C,低圧側主放電電極2OA。
20Bを備えており、各電極がレーザ光軸に対して平行
となるように交互に配置されている。各電極間には小放
電部58,60,62.64が多層に形成されている。
となるように交互に配置されている。各電極間には小放
電部58,60,62.64が多層に形成されている。
そして各電極間にはピーキングコンデンサ66.68.
70が接続されており、高圧側の主放電電極18A、1
8B、18Cがそれぞれインダクタンス74,76.7
8を介して充電用コンデンサ80と充電用インダクタン
ス82に接続されている。コンデンサ80の入力側は電
源30に接続され、電源30の出力側に高電圧スイッチ
32が接続されている。また全反射鏡14と電磁シャッ
タ38との間には反射1!84が設置されており、紫外
線発光ランプ36からのランプ光40が電磁シャッタ3
8を介して反射板84で90°屈折した状態で容器12
内に照射されるようになっている。
70が接続されており、高圧側の主放電電極18A、1
8B、18Cがそれぞれインダクタンス74,76.7
8を介して充電用コンデンサ80と充電用インダクタン
ス82に接続されている。コンデンサ80の入力側は電
源30に接続され、電源30の出力側に高電圧スイッチ
32が接続されている。また全反射鏡14と電磁シャッ
タ38との間には反射1!84が設置されており、紫外
線発光ランプ36からのランプ光40が電磁シャッタ3
8を介して反射板84で90°屈折した状態で容器12
内に照射されるようになっている。
以上の構成において、トリガ装置34からパルス信号1
00が出力されると、高電圧スイッチ32の接点が閉じ
、充電用コンデンサ80に充電された電荷がコンデンサ
80→スイツチ32→ピーキングコンデンサ66→イン
ダクタンス74のループ、コンデンサ80→スイツチ3
2→ピーキングコンデンサ68→インダクタンス76の
ループ、コンデンサ80→スイツチ32→ピーキングコ
ンデンサ70→インダクタンス76のループ、コンデン
サ80→スイツチ32→ピーキングコンデンサ72→イ
ンダクタンス78のループによる共振回路を介してピー
キングコンデンサ66゜68.70.72に移動し、各
電極18A、18B、18Cと電極2OA、20B間の
端子電圧が徐々に増加する。なお、電荷の放電時間はイ
ンダクタンス74,76.78の値によって主放電の放
電時間に比べて十分長い時間となるように設定されてい
る。
00が出力されると、高電圧スイッチ32の接点が閉じ
、充電用コンデンサ80に充電された電荷がコンデンサ
80→スイツチ32→ピーキングコンデンサ66→イン
ダクタンス74のループ、コンデンサ80→スイツチ3
2→ピーキングコンデンサ68→インダクタンス76の
ループ、コンデンサ80→スイツチ32→ピーキングコ
ンデンサ70→インダクタンス76のループ、コンデン
サ80→スイツチ32→ピーキングコンデンサ72→イ
ンダクタンス78のループによる共振回路を介してピー
キングコンデンサ66゜68.70.72に移動し、各
電極18A、18B、18Cと電極2OA、20B間の
端子電圧が徐々に増加する。なお、電荷の放電時間はイ
ンダクタンス74,76.78の値によって主放電の放
電時間に比べて十分長い時間となるように設定されてい
る。
スイッチ32の接点が閉じた後遅延時間Tdの後電磁シ
ャッタ38が動作すると、紫外線発光ランプ36からの
ランプ光40が反射鏡84を介して多層主放電電極部5
6の各電極間に照射される。
ャッタ38が動作すると、紫外線発光ランプ36からの
ランプ光40が反射鏡84を介して多層主放電電極部5
6の各電極間に照射される。
これにより小放電部58,60.62,64で予備電離
が行われ、各電極の全域にわたって−様なグロー放電が
形成される。したがって、本実施例によれば、多層構造
の小放電部58,60,62゜64の各領域において、
同時に−様な予備電離ができるので、大口径のレーザビ
ームを得ることができる。
が行われ、各電極の全域にわたって−様なグロー放電が
形成される。したがって、本実施例によれば、多層構造
の小放電部58,60,62゜64の各領域において、
同時に−様な予備電離ができるので、大口径のレーザビ
ームを得ることができる。
本実施例では、主電極空間を多層の小ギヤツプ放電空間
の集合として形成しているため、単一の小ギャップを印
加電圧に合わせて調整でき、比較的低い電圧によっても
主放電が可能となり、レーザ装置の絶縁対策が容易にで
きると共に高電圧充電型130の小形化が可能となる。
の集合として形成しているため、単一の小ギャップを印
加電圧に合わせて調整でき、比較的低い電圧によっても
主放電が可能となり、レーザ装置の絶縁対策が容易にで
きると共に高電圧充電型130の小形化が可能となる。
前記実施例において、各電極18A〜18C920A、
20Bを二重構造としたり、あるいは多孔開口構造の電
極とすることも可能であり、ピーキングコンデンサ66
.68,70.72として高誘電体のものを用いること
も可能である。
20Bを二重構造としたり、あるいは多孔開口構造の電
極とすることも可能であり、ピーキングコンデンサ66
.68,70.72として高誘電体のものを用いること
も可能である。
また、本実施例によれば、大口径レーザビームが得られ
るので、このレーザビームをLSIなどの被加工材料の
切削に用いれば、単一のレーザビームの照射によっても
切削加工における品質の向上を図ることが可能となる。
るので、このレーザビームをLSIなどの被加工材料の
切削に用いれば、単一のレーザビームの照射によっても
切削加工における品質の向上を図ることが可能となる。
なお、前記各実施例における紫外線発光ランプ36の波
長は500nm以下が望ましく、レーザガスの発振周波
数より短い波長のものを用いれば、良好な予備電離効果
を得ることができる。
長は500nm以下が望ましく、レーザガスの発振周波
数より短い波長のものを用いれば、良好な予備電離効果
を得ることができる。
また前記実施例では、全反射鏡14からランプ光40を
照射するようにしているが、出力[16側にビームスプ
リッタを配置し、出力鏡16からのレーザ光をビームス
プリッタを介して出射すると共に、紫外線発光ランプ3
6からのランプ光40をビームスプリッタと出力鏡16
を介して容器12内に照射することも可能である。この
場合には光線透過窓として出力[16のみを設ければよ
いことになる。
照射するようにしているが、出力[16側にビームスプ
リッタを配置し、出力鏡16からのレーザ光をビームス
プリッタを介して出射すると共に、紫外線発光ランプ3
6からのランプ光40をビームスプリッタと出力鏡16
を介して容器12内に照射することも可能である。この
場合には光線透過窓として出力[16のみを設ければよ
いことになる。
また前記各実施例において、紫外線発光ランプ36をサ
イラトロン又は放電管と組合わせ作動させるようにすれ
ば、遅延装置を省略することも可能である。この場合に
は制御の信頼性を更に高めることが可能となる。
イラトロン又は放電管と組合わせ作動させるようにすれ
ば、遅延装置を省略することも可能である。この場合に
は制御の信頼性を更に高めることが可能となる。
以上説明したように、本実施例によれば、紫外線発光ラ
ンプ光をレーザガス中に連続照射して予備電離を行うよ
うにしたため、−様なグロー放電が可能となり、レーザ
光の高効率化及び高出力化が可能となる。
ンプ光をレーザガス中に連続照射して予備電離を行うよ
うにしたため、−様なグロー放電が可能となり、レーザ
光の高効率化及び高出力化が可能となる。
また紫外線ランプ光を容器外から容器内へ照射するよう
にしているため、紫外線ランプ光によってレーザガスが
劣下するのを防止することができ、装置の長寿命化に寄
与することができる。
にしているため、紫外線ランプ光によってレーザガスが
劣下するのを防止することができ、装置の長寿命化に寄
与することができる。
電極を多層構造とすれば、大口径レーザビームを得るこ
とができる。
とができる。
第1図は本発明の第1実施例を示す構成図、第2図は第
1図に示す装置の動作説明図、第3図は本発明の第2実
施例を示す構成図、第4図は第3図に示す装置の動作説
明図、第5図は本発明の第3実施例を示す構成図、第6
図は本発明の第4実施例を示す構成図、第7図は第6図
に示す装置の要部構成図である。 10・・・ガスレーザ装置、12・・・容器、14・・
・全反射鏡、16・・・出力鏡、18.20・・・主放
電電極。 32・・・高電圧スイッチ、34・・・トリガ装置、3
6・・・紫外線発光ランプ、 38・・・電磁シャッタ、42・・・遅延装置、52・
・・光線透過窓、54・・・光線透過路、56・・・多
層主放電電極部、 58.60,62,64・・・小放電部、84・・・反
射鏡。
1図に示す装置の動作説明図、第3図は本発明の第2実
施例を示す構成図、第4図は第3図に示す装置の動作説
明図、第5図は本発明の第3実施例を示す構成図、第6
図は本発明の第4実施例を示す構成図、第7図は第6図
に示す装置の要部構成図である。 10・・・ガスレーザ装置、12・・・容器、14・・
・全反射鏡、16・・・出力鏡、18.20・・・主放
電電極。 32・・・高電圧スイッチ、34・・・トリガ装置、3
6・・・紫外線発光ランプ、 38・・・電磁シャッタ、42・・・遅延装置、52・
・・光線透過窓、54・・・光線透過路、56・・・多
層主放電電極部、 58.60,62,64・・・小放電部、84・・・反
射鏡。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、光線透過窓を備えレーザ媒質ガスを貯留する容器と
、容器内に相対向して配置され、放電に伴うレーザ光を
光線透過窓へ導く一対の主放電電極と、電源と各主放電
電極とを結ぶ回路を形成して電源からの電荷を蓄積し、
放電指令により蓄積電荷を各主放電電極へ放電する電極
励起手段と、紫外線発光ランプを備え主放電電極間の端
子電圧が設定電圧に達したときに、紫外線発光ランプ光
を主放電電極間のレーザ媒質ガス中に連続して照射する
予備電離手段とを有するガスレーザ装置。 2、光線透過窓を備えレーザ媒質ガスを貯留する容器と
、容器内に相対向して配置され、放電に伴うレーザ光を
光線透過窓へ導く一対の主放電電極と、電源と各主放電
電極とを結ぶ回路を形成して電源からの電荷を蓄積し、
放電指令により蓄積電荷を各主放電電極へ放電する電極
励起手段と、紫外線発光ランプを備え主放電電極間の端
子電圧が設定電圧に達したときに、紫外線発光ランプ光
を主放電電極間のレーザ媒質ガス中に連続して照射する
第1予備電離手段と、紫外線発光ランプ光を主放電電極
間のレーザ媒質ガス中に連続して照射する第2予備電離
手段とを有するガスレーザ装置。 3、光線透過窓を備えレーザ媒質ガスを貯留する容器と
、容器内に相対向して配置され、放電に伴うレーザ光を
光線透過窓へ導く一対の主放電電極と、電源と各主放電
電極とを結ぶ回路を形成して電源からの電荷を蓄積し、
放電指令により蓄積電荷を各主放電電極へ放電する電極
励起手段と、紫外線発光ランプを備えこのランプ光を主
放電電極間のレーザ媒質ガス中に連続して照射すると共
に照射光の照射エネルギーを段階的に高めていく予備電
離手段とを有するガスレーザ装置。 4、予備電離手段が容器外に配置され、一対の主放電電
極のうち一方の電極のほぼ全域に、容器の光線透過窓か
らの入射光を他方の電極へ導く複数の光線透過路が形成
され、予備電離手段からのランプ光が前記各光線透過路
内に照射されてなる請求項1、2又は3記載のガスレー
ザ装置。 5、レーザ媒質ガスを間にして相対向して配置された高
圧用主放電電極と低圧用主放電極を一組として、これら
の電極群を少なくとも2組以上積層して多層主放電電極
部を構成し、多層主放電電極部の各組の電極を電極励起
手段に接続し、前記各組の電極間のレーザ媒質ガス中に
予備電離手段からのランプ光を照射してなる請求項1、
2、又は3記載のガスレーザ装置。 6、予備電離手段からのランプ光の一部を主放電電極間
の特定の領域に集光させる集光手段を有する請求項1、
2、3、4又は5記載のガスレーザ装置。 7、容器はレーザ光出射用光線透過窓と紫外線ランプ光
入射用光線透過窓を備えている請求項4記載のガスレー
ザ装置。 8、容器はレーザ光出射用と紫外線ランプ光入射用とを
兼用する光線透過窓を備え、容器外のレーザ光伝搬路と
紫外線ランプ光伝搬路中にビームスプリッタが配置され
てなる請求項4記載のガスレーザ装置。 9、請求項1〜8のうちいずれか1つの項に記載のガス
レーザ装置を有し、主放電電極からのレーザ光を被加工
材料の切削に用いてなるレーザ加工システム。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13480290A JPH0429382A (ja) | 1990-05-24 | 1990-05-24 | ガスレ―ザ装置とレ―ザ加工システム |
| US07/640,168 US5153892A (en) | 1990-01-24 | 1991-01-11 | High-pressure gas laser apparatus and method of laser processing |
| DE4102079A DE4102079A1 (de) | 1990-01-24 | 1991-01-24 | Hochdruck-gaslaservorrichtung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13480290A JPH0429382A (ja) | 1990-05-24 | 1990-05-24 | ガスレ―ザ装置とレ―ザ加工システム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0429382A true JPH0429382A (ja) | 1992-01-31 |
Family
ID=15136872
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13480290A Pending JPH0429382A (ja) | 1990-01-24 | 1990-05-24 | ガスレ―ザ装置とレ―ザ加工システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0429382A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08167753A (ja) * | 1994-12-15 | 1996-06-25 | Nec Corp | X線予備電離放電励起ガスレーザ装置及びその発振方法 |
| US10428960B2 (en) | 2012-08-06 | 2019-10-01 | Apn-Afp Inc. | Valve with a load varying mechanism, and method of operating the same |
| WO2022123714A1 (ja) * | 2020-12-10 | 2022-06-16 | ギガフォトン株式会社 | ガスレーザ装置及び電子デバイスの製造方法 |
-
1990
- 1990-05-24 JP JP13480290A patent/JPH0429382A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08167753A (ja) * | 1994-12-15 | 1996-06-25 | Nec Corp | X線予備電離放電励起ガスレーザ装置及びその発振方法 |
| US10428960B2 (en) | 2012-08-06 | 2019-10-01 | Apn-Afp Inc. | Valve with a load varying mechanism, and method of operating the same |
| WO2022123714A1 (ja) * | 2020-12-10 | 2022-06-16 | ギガフォトン株式会社 | ガスレーザ装置及び電子デバイスの製造方法 |
| JPWO2022123714A1 (ja) * | 2020-12-10 | 2022-06-16 | ||
| CN116491033A (zh) * | 2020-12-10 | 2023-07-25 | 极光先进雷射株式会社 | 气体激光装置和电子器件的制造方法 |
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