JPH04294041A - 電子銃 - Google Patents
電子銃Info
- Publication number
- JPH04294041A JPH04294041A JP3060558A JP6055891A JPH04294041A JP H04294041 A JPH04294041 A JP H04294041A JP 3060558 A JP3060558 A JP 3060558A JP 6055891 A JP6055891 A JP 6055891A JP H04294041 A JPH04294041 A JP H04294041A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cathode
- chamber
- high voltage
- electron gun
- ionization chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】[発明の目的]
【0002】
【産業上の利用分野】本発明は、高電力電子銃に係り、
特に、電子ビームの強度を容易に変化させることができ
るように改良を施した電子銃に関するものである。
特に、電子ビームの強度を容易に変化させることができ
るように改良を施した電子銃に関するものである。
【0003】
【従来の技術】近年、化学反応,顕微鏡,分析,溶接等
の多くの先端材料の分野で電子ビームが使用され、この
電子ビームの発生源として電子銃が用いられている。図
2に、従来から用いられている電子銃の一例を示した。 即ち、電子銃は、陽極ワイヤ1をその内部に配置したイ
オン化室2と、後述する導電性抽出グリッド4を介して
前記イオン化室2と連通する高電圧室6とから構成され
ている。また、前記イオン化室2には、高電圧室6とは
反対側に、電子に対して透過性のある出口窓11が形成
され、さらに、高電圧室6との連結部には、出口窓11
の電圧にほぼ等しい電圧の導電性抽出グリッド4が形成
されている。
の多くの先端材料の分野で電子ビームが使用され、この
電子ビームの発生源として電子銃が用いられている。図
2に、従来から用いられている電子銃の一例を示した。 即ち、電子銃は、陽極ワイヤ1をその内部に配置したイ
オン化室2と、後述する導電性抽出グリッド4を介して
前記イオン化室2と連通する高電圧室6とから構成され
ている。また、前記イオン化室2には、高電圧室6とは
反対側に、電子に対して透過性のある出口窓11が形成
され、さらに、高電圧室6との連結部には、出口窓11
の電圧にほぼ等しい電圧の導電性抽出グリッド4が形成
されている。
【0004】一方、前記高電圧室6内には、高い負のバ
イアス電圧にある陰極5が絶縁物8に支持されて収納さ
れ、この陰極5から高電圧室6の外部へ電圧導入端子9
が引き出されている。また、高電圧室6には排気口10
が設けられ、これを排気装置(図示せず)に連結するこ
とによって、前記イオン化室2及び高電圧室6内の圧力
を制御できるように構成されている。
イアス電圧にある陰極5が絶縁物8に支持されて収納さ
れ、この陰極5から高電圧室6の外部へ電圧導入端子9
が引き出されている。また、高電圧室6には排気口10
が設けられ、これを排気装置(図示せず)に連結するこ
とによって、前記イオン化室2及び高電圧室6内の圧力
を制御できるように構成されている。
【0005】なお、イオン化室2と高電圧室6の両者は
、陽イオン化を達成できる極めて低い圧力の気体を含有
しており、通常は、10〜50ミリ・トールのヘリウム
が用いられる。また、イオン化室2の壁3と高電圧室6
の壁7は、共にアース電位になっている。さらに、イオ
ン化を行なう際には、陽極ワイヤ1とイオン化室の壁3
との間に、10〜20キロ・ボルトのパルス電圧が印加
される。
、陽イオン化を達成できる極めて低い圧力の気体を含有
しており、通常は、10〜50ミリ・トールのヘリウム
が用いられる。また、イオン化室2の壁3と高電圧室6
の壁7は、共にアース電位になっている。さらに、イオ
ン化を行なう際には、陽極ワイヤ1とイオン化室の壁3
との間に、10〜20キロ・ボルトのパルス電圧が印加
される。
【0006】一方、陰極5は、高電圧供給源(図示せず
)に接続された電圧導入端子9を通じて、負のバイアス
電圧(例えば、−150キロ・ボルト)に恒常的に維持
されている。また、出口窓11は、高エネルギーに対し
て透過性のある幾分薄いシートで構成されている。この
シートは、アルミニウムまたはチタンの様な金属で作成
することが可能であり、数10マイクロ・メーターの厚
さを有している。さらに、この窓幅としては、多くの適
用例、特に、照射による材料の処理に関連した適用例に
おいては、1cmを越える窓幅を要している。
)に接続された電圧導入端子9を通じて、負のバイアス
電圧(例えば、−150キロ・ボルト)に恒常的に維持
されている。また、出口窓11は、高エネルギーに対し
て透過性のある幾分薄いシートで構成されている。この
シートは、アルミニウムまたはチタンの様な金属で作成
することが可能であり、数10マイクロ・メーターの厚
さを有している。さらに、この窓幅としては、多くの適
用例、特に、照射による材料の処理に関連した適用例に
おいては、1cmを越える窓幅を要している。
【0007】この様に構成された従来の電子銃において
は、以下に述べる様にして、電子ビーム源となる電子が
放出される。即ち、イオン化室2に配置された陽極ワイ
ヤ1に、低圧力下でパルス電圧を印加すると、アース電
位にあるイオン化室の壁3との間にワイヤ放電が起こり
、イオン化室2内の陽極ワイヤ露出部とイオン化室の壁
との間にプラズマが発生する。一方、高電圧室6内に配
設された陰極5は、前記プラズマ中から導電性抽出グリ
ッド4を通して陽イオンを引き出す。
は、以下に述べる様にして、電子ビーム源となる電子が
放出される。即ち、イオン化室2に配置された陽極ワイ
ヤ1に、低圧力下でパルス電圧を印加すると、アース電
位にあるイオン化室の壁3との間にワイヤ放電が起こり
、イオン化室2内の陽極ワイヤ露出部とイオン化室の壁
との間にプラズマが発生する。一方、高電圧室6内に配
設された陰極5は、前記プラズマ中から導電性抽出グリ
ッド4を通して陽イオンを引き出す。
【0008】この陽イオンは、イオン化室2と高電圧室
6との間に配設された導電性抽出グリッド4を通って高
電圧室6内に侵入し、陰極5に当たる。すると、陰極5
の表面において、前記陽イオンの衝撃によって電子が放
出される。この様にして放出された電子は、陽イオンと
は逆方向に進み、導電性抽出グリッド4に向かって加速
され、さらに、イオン化室2を通過して出口窓11に至
り、電子ビーム源として供給される。
6との間に配設された導電性抽出グリッド4を通って高
電圧室6内に侵入し、陰極5に当たる。すると、陰極5
の表面において、前記陽イオンの衝撃によって電子が放
出される。この様にして放出された電子は、陽イオンと
は逆方向に進み、導電性抽出グリッド4に向かって加速
され、さらに、イオン化室2を通過して出口窓11に至
り、電子ビーム源として供給される。
【0009】ここで、導電性抽出グリッド4の近辺にお
ける陽イオンの初期エネルギーを無視し、負のバイアス
電圧をVHT、陽イオンの電荷量をeとすれば、陽イオ
ンは(単一の荷電イオンに関係があることを念頭におけ
ば)、e・VHTに等しいエネルギーをもって陰極5に
到達するものと考えることができる。また、陰極5の表
面上で抽出グリッドより引き出された陽イオンの衝撃に
より2次放出された電子は、導電性抽出グリッド4に向
かって加速され、そこで電子は、e・VHTのエネルギ
ーに到達する。これらの状態下において、1個の陽イオ
ンと、この陽イオンによって放出される電子は、同じ電
場線に対応して、ほぼ重畳する軌道を呈する。上記の様
な電子銃は、主として、電子銃を電子励起によるガス・
レーザー、マグネット・ハイドロダイナミック発電機に
、また、出口窓11をX線発生用ターゲットに置き換え
ることで、X線発生装置に適用し得るものである。
ける陽イオンの初期エネルギーを無視し、負のバイアス
電圧をVHT、陽イオンの電荷量をeとすれば、陽イオ
ンは(単一の荷電イオンに関係があることを念頭におけ
ば)、e・VHTに等しいエネルギーをもって陰極5に
到達するものと考えることができる。また、陰極5の表
面上で抽出グリッドより引き出された陽イオンの衝撃に
より2次放出された電子は、導電性抽出グリッド4に向
かって加速され、そこで電子は、e・VHTのエネルギ
ーに到達する。これらの状態下において、1個の陽イオ
ンと、この陽イオンによって放出される電子は、同じ電
場線に対応して、ほぼ重畳する軌道を呈する。上記の様
な電子銃は、主として、電子銃を電子励起によるガス・
レーザー、マグネット・ハイドロダイナミック発電機に
、また、出口窓11をX線発生用ターゲットに置き換え
ることで、X線発生装置に適用し得るものである。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】ところで、電子銃より
発生する電子ビームの強度は、適用対象(例えば、電子
励起によるガス・レーザー等)に著しく依存するもので
ある。そのため、従来は上記のビーム強度対策として、
図2に示した陽極ワイヤ1に印加するパルス電圧を変え
ることにより、イオン化室2内のプラズマ密度を変化さ
せ、高電圧室6に引き出す陽イオン数を変化させること
で、陽イオンによって放出される電子数を変えることに
より、電子ビーム強度対策を行っていた。
発生する電子ビームの強度は、適用対象(例えば、電子
励起によるガス・レーザー等)に著しく依存するもので
ある。そのため、従来は上記のビーム強度対策として、
図2に示した陽極ワイヤ1に印加するパルス電圧を変え
ることにより、イオン化室2内のプラズマ密度を変化さ
せ、高電圧室6に引き出す陽イオン数を変化させること
で、陽イオンによって放出される電子数を変えることに
より、電子ビーム強度対策を行っていた。
【0011】しかしながら、上述した様な従来の電子銃
において、電子ビームの強度を増加させるためには、パ
ルス電源容量を増加させなければならず、非常に効率の
悪いものであった。
において、電子ビームの強度を増加させるためには、パ
ルス電源容量を増加させなければならず、非常に効率の
悪いものであった。
【0012】本発明は、上記の様な従来技術の欠点を解
消するために提案されたものであり、その目的は、電子
ビームの強度の調整を容易に行うことができる、高効率
の電子銃を提供することにある。
消するために提案されたものであり、その目的は、電子
ビームの強度の調整を容易に行うことができる、高効率
の電子銃を提供することにある。
【0013】[発明の構成]
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明は、電子に対して
透過性のある出口窓と、その反対側に設けられた導電性
抽出グリッドを備え、また、低圧力でイオン化すべき気
体と、この気体を電離させて陽イオンを発生させる陽極
ワイヤを備えたイオン化室と、前記抽出グリッドを介し
てイオン化室と連通され、抽出グリッドに対向する位置
に陰極を収容した高電圧室から成る電子銃において、前
記高電圧室内に収納された陰極の近傍に、陰極を加熱す
るヒータを配設したことを特徴とするものである。
透過性のある出口窓と、その反対側に設けられた導電性
抽出グリッドを備え、また、低圧力でイオン化すべき気
体と、この気体を電離させて陽イオンを発生させる陽極
ワイヤを備えたイオン化室と、前記抽出グリッドを介し
てイオン化室と連通され、抽出グリッドに対向する位置
に陰極を収容した高電圧室から成る電子銃において、前
記高電圧室内に収納された陰極の近傍に、陰極を加熱す
るヒータを配設したことを特徴とするものである。
【0015】
【作用】本発明の電子銃においては、高電圧室内に収納
された陰極を、ヒータによって加熱することにより、陰
極に衝突した陽イオンによって放出される電子数を増加
させることができる。
された陰極を、ヒータによって加熱することにより、陰
極に衝突した陽イオンによって放出される電子数を増加
させることができる。
【0016】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図1に基づいて具
体的に説明する。なお、図2に示した従来型と同一の部
材には同一の符号を付して、説明は省略する。
体的に説明する。なお、図2に示した従来型と同一の部
材には同一の符号を付して、説明は省略する。
【0017】本実施例においては、図1に示した様に、
高電圧室6内に収納された陰極5の近傍に、陰極を加熱
するヒータ20が配設されている。このヒータ20は高
電圧室の壁7を貫通して取付けられ、その貫通部には絶
縁物21が配設されている。この様な構成を有する本実
施例の電子銃においては、以下に述べる様にして、電子
ビームの強度を容易に調整することができる。即ち、イ
オン化室2内に配設された陽極ワイヤ1とイオン化室の
壁3との間にパルス電圧を印加する。すると、陽極ワイ
ヤ1とイオン化室の壁3との間にワイヤ放電が生じ、プ
ラズマが生成される。
高電圧室6内に収納された陰極5の近傍に、陰極を加熱
するヒータ20が配設されている。このヒータ20は高
電圧室の壁7を貫通して取付けられ、その貫通部には絶
縁物21が配設されている。この様な構成を有する本実
施例の電子銃においては、以下に述べる様にして、電子
ビームの強度を容易に調整することができる。即ち、イ
オン化室2内に配設された陽極ワイヤ1とイオン化室の
壁3との間にパルス電圧を印加する。すると、陽極ワイ
ヤ1とイオン化室の壁3との間にワイヤ放電が生じ、プ
ラズマが生成される。
【0018】この様にして生成されたプラズマ中の陽イ
オンは、高電圧室6内の陰極5に向かって加速され、導
電性抽出グリッド4を通過して陰極5に衝突する。この
時、陰極5はヒータ20によって加熱されているため、
陽イオンによって2次放出される電子数は、加熱しない
場合に比べて大幅に増強されるので、電子ビーム強度も
大幅に増強される。従って、電子ビーム強度を大幅に増
加させる必要がある場合には、陽極ワイヤのパルス印加
電圧が低い場合であっても、要求されるビーム強度が得
られるまで、ヒータ20によって陰極5を加熱すること
によって、電子ビーム強度を増加させることができる。
オンは、高電圧室6内の陰極5に向かって加速され、導
電性抽出グリッド4を通過して陰極5に衝突する。この
時、陰極5はヒータ20によって加熱されているため、
陽イオンによって2次放出される電子数は、加熱しない
場合に比べて大幅に増強されるので、電子ビーム強度も
大幅に増強される。従って、電子ビーム強度を大幅に増
加させる必要がある場合には、陽極ワイヤのパルス印加
電圧が低い場合であっても、要求されるビーム強度が得
られるまで、ヒータ20によって陰極5を加熱すること
によって、電子ビーム強度を増加させることができる。
【0019】この様に、本実施例によれば、陰極5の近
傍にヒータ20を設けて、陰極を加熱することによって
、電子ビームの強度の調整が容易に行える。
傍にヒータ20を設けて、陰極を加熱することによって
、電子ビームの強度の調整が容易に行える。
【0020】なお、本発明は上述した実施例に限定され
るものではなく、所望の電子ビーム強度を得ることがで
きるように、ヒータによる加熱量を調節できるように構
成することもできる。
るものではなく、所望の電子ビーム強度を得ることがで
きるように、ヒータによる加熱量を調節できるように構
成することもできる。
【0021】
【発明の効果】以上述べた通り、本発明によれば、高電
圧室内に収納された陰極の近傍に、陰極を加熱するヒー
タを配設することにより、電子ビームの強度の調整を容
易に行うことができる、高効率の電子銃を提供すること
ができる。
圧室内に収納された陰極の近傍に、陰極を加熱するヒー
タを配設することにより、電子ビームの強度の調整を容
易に行うことができる、高効率の電子銃を提供すること
ができる。
【図1】本発明による電子銃の一実施例を示す断面図
【
図2】従来の電子銃の一例を示す断面図
図2】従来の電子銃の一例を示す断面図
1…陽極ワイヤ
2…イオン化室
3…イオン化室の壁
4…導電性抽出グリッド
5…陰極
6…高電圧室
7…高電圧室の壁
8…絶縁物
9…高電圧導入端子
10…排気口
11…出口窓
20…ヒータ
21…絶縁物
Claims (1)
- 【請求項1】 電子に対して透過性のある出口窓と、
その反対側に設けられた導電性抽出グリッドを備え、ま
た、低圧力でイオン化すべき気体と、この気体を電離さ
せて陽イオンを発生させる陽極ワイヤを備えたイオン化
室と、前記抽出グリッドを介してイオン化室と連通され
、抽出グリッドに対向する位置に陰極を収容した高電圧
室から成る電子銃において、前記高電圧室内に収納され
た陰極の近傍に、陰極を加熱するヒータを配設したこと
を特徴とする電子銃。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3060558A JPH04294041A (ja) | 1991-03-25 | 1991-03-25 | 電子銃 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3060558A JPH04294041A (ja) | 1991-03-25 | 1991-03-25 | 電子銃 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04294041A true JPH04294041A (ja) | 1992-10-19 |
Family
ID=13145728
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3060558A Pending JPH04294041A (ja) | 1991-03-25 | 1991-03-25 | 電子銃 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04294041A (ja) |
-
1991
- 1991-03-25 JP JP3060558A patent/JPH04294041A/ja active Pending
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