JPH04302212A - パルス成形線路 - Google Patents
パルス成形線路Info
- Publication number
- JPH04302212A JPH04302212A JP6680791A JP6680791A JPH04302212A JP H04302212 A JPH04302212 A JP H04302212A JP 6680791 A JP6680791 A JP 6680791A JP 6680791 A JP6680791 A JP 6680791A JP H04302212 A JPH04302212 A JP H04302212A
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- JP
- Japan
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- pulse
- conductor
- ring
- impedance
- line
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】[発明の目的]
【0002】
【産業上の利用分野】本発明は、電子銃やクライストロ
ンなどに高電圧方形波パルスを供給するパルス発生装置
を構成するパルス成形線路に関する。
ンなどに高電圧方形波パルスを供給するパルス発生装置
を構成するパルス成形線路に関する。
【0003】
【従来の技術】従来、電子銃やクライストロンなどに高
電圧方形波パルスを発生させる回路としては、パルス成
形線路(PFLと略称される)とサイラトロンなどの投
入スイッチとを組み合わせたパルス発生装置が使われる
ことが多かった。
電圧方形波パルスを発生させる回路としては、パルス成
形線路(PFLと略称される)とサイラトロンなどの投
入スイッチとを組み合わせたパルス発生装置が使われる
ことが多かった。
【0004】図4にこのような方形波パルス発生装置の
一例を示す。この方形波パルス発生装置では、充電回路
1によってパルス成形路線2を一定電圧に充電しておき
、次にサイラトロン3をオンすることにより方形波パル
スを負荷5に発生させることができる。このサイラトロ
ン3の耐電圧は通常数十kVであり、それ以上の電圧を
発生させる場合は、図のようにパルストランス4を用い
て昇圧する。
一例を示す。この方形波パルス発生装置では、充電回路
1によってパルス成形路線2を一定電圧に充電しておき
、次にサイラトロン3をオンすることにより方形波パル
スを負荷5に発生させることができる。このサイラトロ
ン3の耐電圧は通常数十kVであり、それ以上の電圧を
発生させる場合は、図のようにパルストランス4を用い
て昇圧する。
【0005】パルス成形線路2を用いた場合、線路のイ
ンピーダンスは負荷のインピーダンスに等しくしておく
必要があり、出力電圧はパルストランス4の一次側で充
電電圧の1/2になる。
ンピーダンスは負荷のインピーダンスに等しくしておく
必要があり、出力電圧はパルストランス4の一次側で充
電電圧の1/2になる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところで、クライスト
ロンなどの高周波増幅管による粒子加速の効率を上げる
ためには、パルスの電圧を高くして立上がりを速くする
必要がある。また、質のよい粒子ビームを得るために波
高値の変動の少ないパルスが要求される。
ロンなどの高周波増幅管による粒子加速の効率を上げる
ためには、パルスの電圧を高くして立上がりを速くする
必要がある。また、質のよい粒子ビームを得るために波
高値の変動の少ないパルスが要求される。
【0007】しかしながら、負荷5のインピーダンスの
時間的変動やパルストランス4及び高電圧部の漂遊キャ
パシタンスや漂遊インダクタンスのために、波形の歪み
がなく波高値の波動の少ない方形波パルスを得ることは
必ずしも容易ではない。
時間的変動やパルストランス4及び高電圧部の漂遊キャ
パシタンスや漂遊インダクタンスのために、波形の歪み
がなく波高値の波動の少ない方形波パルスを得ることは
必ずしも容易ではない。
【0008】特に、パルスの立上がりを速くするために
はパルストランス4の漏れインダクタンスL1 を小さ
くする必要がある。
はパルストランス4の漏れインダクタンスL1 を小さ
くする必要がある。
【0009】漏れインダクタンスL1 を小さくするた
めには、コイルの巻回数を少なくするか、一次−二次巻
線間のギャップを小さくすればよい。しかし、巻回数を
減らせばトランスの励磁インダクタンスLeも小さくな
る。この励磁インダクタンスLeが小さくなると、方形
波パルスの波尾の減退が大きくなる。また、一次−二次
巻線間のギャップを小さくすれば巻線間のキャパシタン
スが増大し、結局漂遊キャパシタンスの増加を招き波形
の歪みを大きくする。
めには、コイルの巻回数を少なくするか、一次−二次巻
線間のギャップを小さくすればよい。しかし、巻回数を
減らせばトランスの励磁インダクタンスLeも小さくな
る。この励磁インダクタンスLeが小さくなると、方形
波パルスの波尾の減退が大きくなる。また、一次−二次
巻線間のギャップを小さくすれば巻線間のキャパシタン
スが増大し、結局漂遊キャパシタンスの増加を招き波形
の歪みを大きくする。
【0010】このように、クライストロンのような高イ
ンピーダンスの負荷に立上がりの速いパルスを印加する
場合、パルストランス4の漂遊キャパシタンスのもつイ
ンピーダンスが負荷のインピーダンスに対して無視でき
なくなり、トランスの一次側に印加した波形をそのまま
二次側に発生させることが極めて難しくなる。
ンピーダンスの負荷に立上がりの速いパルスを印加する
場合、パルストランス4の漂遊キャパシタンスのもつイ
ンピーダンスが負荷のインピーダンスに対して無視でき
なくなり、トランスの一次側に印加した波形をそのまま
二次側に発生させることが極めて難しくなる。
【0011】本発明は以上の点に鑑みなされたもので、
高電圧で速い立上がりをもちかつパルス幅の広い方形波
パルスを、負荷に供給するパルス発生装置において、パ
ルストランスや負荷側のインピーダンスの影響で出力パ
ルスに歪みが生じたときに、逆に波形を矯正して波高値
の変動の少ない良質なパルスを得ることのできるパルス
成形線路を提供することを目的としている。
高電圧で速い立上がりをもちかつパルス幅の広い方形波
パルスを、負荷に供給するパルス発生装置において、パ
ルストランスや負荷側のインピーダンスの影響で出力パ
ルスに歪みが生じたときに、逆に波形を矯正して波高値
の変動の少ない良質なパルスを得ることのできるパルス
成形線路を提供することを目的としている。
【0012】[発明の構成]
【0013】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明は、スパイラル状に巻かれた内部導体とこ
れと同軸の外部円筒導体とを有するパルス成形線路にお
いて、内部導体の内側に同軸のリング状導体を、所定の
間隔で複数個設けたことを特徴とする。
めに、本発明は、スパイラル状に巻かれた内部導体とこ
れと同軸の外部円筒導体とを有するパルス成形線路にお
いて、内部導体の内側に同軸のリング状導体を、所定の
間隔で複数個設けたことを特徴とする。
【0014】
【作用】このような構成を有する本発明のパルス成形線
路においては、リング状導体は短絡リングとして働き、
スパイラル状となった内部導体のインダクタンスを低減
させる。従って、このリング状導体の軸方向位置を変え
、線路内の配置に粗密をもたせてやれば、線路のインピ
ーダンスが軸方向に沿って均一でなくなり、方形波パル
スの平坦部の波高値を任意に調節できる。この性質を利
用すれば、パルストランスや負荷のインピーダンスの影
響で出力パルスに歪みが生じたときに、逆に波形を矯正
して波高値の変動の少ないパルスを得ることができる。
路においては、リング状導体は短絡リングとして働き、
スパイラル状となった内部導体のインダクタンスを低減
させる。従って、このリング状導体の軸方向位置を変え
、線路内の配置に粗密をもたせてやれば、線路のインピ
ーダンスが軸方向に沿って均一でなくなり、方形波パル
スの平坦部の波高値を任意に調節できる。この性質を利
用すれば、パルストランスや負荷のインピーダンスの影
響で出力パルスに歪みが生じたときに、逆に波形を矯正
して波高値の変動の少ないパルスを得ることができる。
【0015】
【実施例】以下に本発明の実施例を図面に基づいて具体
的に説明する。
的に説明する。
【0016】(1)第1実施例…図1
図1において、絶縁筒6の上には絶縁被覆された幅広の
板状導体がスパイラル状に巻かれて内部導体7を構成し
ている。この内部導体7の外側に、絶縁筒6と同軸に外
部円筒導体8が配置され、内部導体7と外部円筒導体8
とがパルス成形線路2を形成している。
板状導体がスパイラル状に巻かれて内部導体7を構成し
ている。この内部導体7の外側に、絶縁筒6と同軸に外
部円筒導体8が配置され、内部導体7と外部円筒導体8
とがパルス成形線路2を形成している。
【0017】内部導体7が巻かれた絶縁筒6のさらに内
側に別の絶縁筒9が同軸に配置され、この絶縁筒9の上
に複数個のリング状導体10が一定の間隔を置いて配置
されている。このリング状導体10は、絶縁筒9上を滑
らせて軸方向に移動可能になっている。
側に別の絶縁筒9が同軸に配置され、この絶縁筒9の上
に複数個のリング状導体10が一定の間隔を置いて配置
されている。このリング状導体10は、絶縁筒9上を滑
らせて軸方向に移動可能になっている。
【0018】以上のような構成を有する本実施例のパル
ス成形線路において、リング状導体10には内部導体7
が作る磁束を打ち消すように電流が流れるので、内部導
体7のインダクタンスはリング状導体9がない場合に比
べて小さくなる。すなわち、パルス成形線路2の単位長
あたりのインダクタンスLは小さくなる。
ス成形線路において、リング状導体10には内部導体7
が作る磁束を打ち消すように電流が流れるので、内部導
体7のインダクタンスはリング状導体9がない場合に比
べて小さくなる。すなわち、パルス成形線路2の単位長
あたりのインダクタンスLは小さくなる。
【0019】一方、パルス成形線路2の単位長あたりの
キャパシタンスCは、内部導体7と外部円筒導体8の両
者の直径と両導体の間の媒質の誘電率で決まるので、内
部導体7の内側のリング状導体10の存在には影響され
ない。
キャパシタンスCは、内部導体7と外部円筒導体8の両
者の直径と両導体の間の媒質の誘電率で決まるので、内
部導体7の内側のリング状導体10の存在には影響され
ない。
【0020】ところで、パルス成形線路の特性インピー
ダンスZ0 は、
ダンスZ0 は、
【0021】
【式1】
【0022】
【0023】で与えられるので、リング状導体10の存
在によって、Z0 はLの平方根に比例して小さくなる
。
在によって、Z0 はLの平方根に比例して小さくなる
。
【0024】従って、本実施例の構成を有するパルス成
形線路を、図4に示した方形波パルス発生装置に適用し
た時の作用は、次のようになる。
形線路を、図4に示した方形波パルス発生装置に適用し
た時の作用は、次のようになる。
【0025】リング状導体10を絶縁筒9の上に軸方向
に均一に並べて置けば、パルス成形線路2の特性インピ
ーダンスZ0 は線路の入口から出口までほぼ均一にな
る。この場合、もしパルストランス4や負荷5の漂遊キ
ャパシタンスや漂遊インピーダンスの影響がなければ、
パルス成形線路2を充電してからサイラトロン3をオン
することによって、負荷5には平坦部の波高値の変動の
少ない方形波パルスが得られる。
に均一に並べて置けば、パルス成形線路2の特性インピ
ーダンスZ0 は線路の入口から出口までほぼ均一にな
る。この場合、もしパルストランス4や負荷5の漂遊キ
ャパシタンスや漂遊インピーダンスの影響がなければ、
パルス成形線路2を充電してからサイラトロン3をオン
することによって、負荷5には平坦部の波高値の変動の
少ない方形波パルスが得られる。
【0026】ところが、例えば、リング状導体10の配
置をパルス成形線路2の中央部に密に、両端部で粗にな
るように配置したとすると、パルス成形線路2の特性イ
ンピーダンスZ0 は線路の軸方向に沿って均一でなく
なり、両端部で大きく中央部で小さくなる。
置をパルス成形線路2の中央部に密に、両端部で粗にな
るように配置したとすると、パルス成形線路2の特性イ
ンピーダンスZ0 は線路の軸方向に沿って均一でなく
なり、両端部で大きく中央部で小さくなる。
【0027】いま簡単のためにパルス成形線路2を入口
側からパルス成形線路2a〜パルス成形線路2eまで軸
方向に5等分する。そして、リング状導体10をパルス
成形線路2cの部分に多く集め、パルス成形線路2cの
特性インピーダンスZcを他の部分の特性インピーダン
スZ0 の80%まで下げたとする。このようなパルス
成形線路2を充電回路1で充電した後、サテラトロン3
をオンした場合の出力パルス波形の解析結果を、図2に
示す。これによれば、方形波パルスPの中央部2cの全
パルス幅の5分の1に相当する部分の波高値のみが約1
2%高くなったパルスが得られる。
側からパルス成形線路2a〜パルス成形線路2eまで軸
方向に5等分する。そして、リング状導体10をパルス
成形線路2cの部分に多く集め、パルス成形線路2cの
特性インピーダンスZcを他の部分の特性インピーダン
スZ0 の80%まで下げたとする。このようなパルス
成形線路2を充電回路1で充電した後、サテラトロン3
をオンした場合の出力パルス波形の解析結果を、図2に
示す。これによれば、方形波パルスPの中央部2cの全
パルス幅の5分の1に相当する部分の波高値のみが約1
2%高くなったパルスが得られる。
【0028】このパルスPの波高値の変化分は、パルス
成形線路2cの特性インピーダンスZcの変化分で決ま
り、特性インピーダンスZcを小さくすればするほど波
高値が高くなり、逆にパルス成形線路2cの特性インピ
ーダンスZcを他の部分の特性インピーダンスZ0 よ
り大きくすれば平坦部の中央部のみ低くなったパルスP
が得られる。
成形線路2cの特性インピーダンスZcの変化分で決ま
り、特性インピーダンスZcを小さくすればするほど波
高値が高くなり、逆にパルス成形線路2cの特性インピ
ーダンスZcを他の部分の特性インピーダンスZ0 よ
り大きくすれば平坦部の中央部のみ低くなったパルスP
が得られる。
【0029】また、パルス成形線路2の特性インピーダ
ンスを部分的に変化させる位置によって、パルスの波高
値の変化する部分が異なり、パルス成形線路の入口側の
特性インピーダンスを変動させればパルスの波頭に近い
部分の波高値を増減させることができる。逆に、パルス
成形線路の出口側の特性インピーダンスを変動させれば
、パルスの波尾に近い部分の波高値を増減させることが
できる。
ンスを部分的に変化させる位置によって、パルスの波高
値の変化する部分が異なり、パルス成形線路の入口側の
特性インピーダンスを変動させればパルスの波頭に近い
部分の波高値を増減させることができる。逆に、パルス
成形線路の出口側の特性インピーダンスを変動させれば
、パルスの波尾に近い部分の波高値を増減させることが
できる。
【0030】このような本実施例のパルス成形線路によ
れば、リング状導体10の軸方向の位置を調整すること
により、パルス成形線路の軸方向に沿っての特性インピ
ーダンスを一定の範囲で増減させることができる。従っ
て、本実施例のパルス成形線路を図4のようなパルス発
生装置に使用すれば、出力パルスの平坦部の波頭から波
尾までの任意の部分の波高値を特性インピーダンスの変
化に応じて増減させることができ、パルストランス4や
負荷5の漂遊キャパシタンスや漂遊インダクタンスなど
によって出力波形に歪みが生じた場合でも波形の矯正が
でき、波高値の変動の少ないパルスを得ることができる
。
れば、リング状導体10の軸方向の位置を調整すること
により、パルス成形線路の軸方向に沿っての特性インピ
ーダンスを一定の範囲で増減させることができる。従っ
て、本実施例のパルス成形線路を図4のようなパルス発
生装置に使用すれば、出力パルスの平坦部の波頭から波
尾までの任意の部分の波高値を特性インピーダンスの変
化に応じて増減させることができ、パルストランス4や
負荷5の漂遊キャパシタンスや漂遊インダクタンスなど
によって出力波形に歪みが生じた場合でも波形の矯正が
でき、波高値の変動の少ないパルスを得ることができる
。
【0031】例えば、パルストランスの励磁インダクタ
ンスをLe、電源のインピーダンスをR1 、負荷のイ
ンピーダンスをR2 とすると、パルスの波高値Vは、
ンスをLe、電源のインピーダンスをR1 、負荷のイ
ンピーダンスをR2 とすると、パルスの波高値Vは、
【0032】
【式2】
【0033】
【0034】に従って、時間tと共に指数関数的に減少
するので、励磁インダクタンスLeが小さいとパルスの
平坦部の波高値が波尾に近い部分ほど減少する。
するので、励磁インダクタンスLeが小さいとパルスの
平坦部の波高値が波尾に近い部分ほど減少する。
【0035】この場合、本実施例のパルス成形線路2を
、そのリング状導体10を線路の出口側ほど密になるよ
うに配置すれば、パルスの平坦部の波尾側を持ち上げる
ことができ、波高値の波尾側での減少を矯正できる。
、そのリング状導体10を線路の出口側ほど密になるよ
うに配置すれば、パルスの平坦部の波尾側を持ち上げる
ことができ、波高値の波尾側での減少を矯正できる。
【0036】(2)第2実施例…図3
前記第1実施例は、パルス成形線路2の各部の特性イン
ピーダンスを調整するのに、複数個のリング状導体10
を絶縁筒9に沿って移動させるようにしたが、第2実施
例は、予め多数のリング状導体10を所定の間隔で配置
しておき、このリング状導体10を短絡あるいは開放す
ることで、特性インピーダンスの調整を可能としたもの
である。
ピーダンスを調整するのに、複数個のリング状導体10
を絶縁筒9に沿って移動させるようにしたが、第2実施
例は、予め多数のリング状導体10を所定の間隔で配置
しておき、このリング状導体10を短絡あるいは開放す
ることで、特性インピーダンスの調整を可能としたもの
である。
【0037】すなわち、図3は第2実施例に使用するリ
ング状導体10の拡大図で、このリング状導体10には
、その一部に切欠部11と、この切欠部11を短絡でき
るような接片12が設けられている。この接片12は、
絶縁筒9の内部に設けられた操作棒14と、絶縁筒9に
設けられた開口部13の部分を貫通して固定され、操作
棒14の移動に伴い線路の軸方向に移動し、前記切欠部
11を短絡あるいは開放する。
ング状導体10の拡大図で、このリング状導体10には
、その一部に切欠部11と、この切欠部11を短絡でき
るような接片12が設けられている。この接片12は、
絶縁筒9の内部に設けられた操作棒14と、絶縁筒9に
設けられた開口部13の部分を貫通して固定され、操作
棒14の移動に伴い線路の軸方向に移動し、前記切欠部
11を短絡あるいは開放する。
【0038】この図3に示すようなリング状導体10を
所定の間隔で多数個設けたパルス成形線路においては、
接片12を移動させて所望のリング状導体10のみを短
絡させることにより、パルス成形線路の軸方向に沿った
各部分での特性インピーダンスを自由に調節することが
できる。
所定の間隔で多数個設けたパルス成形線路においては、
接片12を移動させて所望のリング状導体10のみを短
絡させることにより、パルス成形線路の軸方向に沿った
各部分での特性インピーダンスを自由に調節することが
できる。
【0039】その結果、前記第1実施例と同様な作用効
果を得ることができる。
果を得ることができる。
【0040】(3)他の実施例
本発明は上記の実施例に限定されるものではなく、例え
ば第1実施例のようにリング状導体10を絶縁筒9に移
動可能にしなくても、実験その他でパルス成形線路のど
の部分の特性インピーダンスを調整すれば良いかが判明
していれば、それに応じた間隔でリング状導体10を予
め絶縁筒9に固定することもできる。
ば第1実施例のようにリング状導体10を絶縁筒9に移
動可能にしなくても、実験その他でパルス成形線路のど
の部分の特性インピーダンスを調整すれば良いかが判明
していれば、それに応じた間隔でリング状導体10を予
め絶縁筒9に固定することもできる。
【0041】
【発明の効果】以上の通り、本発明のパルス成形線路に
よれば、内部導体の内側に所定の間隔で複数個のリング
状導体を配設すると言う簡単な手段により、特性インピ
ーダンスを所望の値に調整することができ、これによっ
て出力パルスの波形を整正し、パルストランスや負荷に
よる影響を排除した方形波パルス発生装置を提供するこ
とができる。
よれば、内部導体の内側に所定の間隔で複数個のリング
状導体を配設すると言う簡単な手段により、特性インピ
ーダンスを所望の値に調整することができ、これによっ
て出力パルスの波形を整正し、パルストランスや負荷に
よる影響を排除した方形波パルス発生装置を提供するこ
とができる。
【図1】本発明によるパルス成形線路の第1実施例の部
分切り欠き斜視図
分切り欠き斜視図
【図2】図1のパルス成形線路の一部の特性インピーダ
ンスが異なるときの出力パルスを示す波形図
ンスが異なるときの出力パルスを示す波形図
【図3】本
発明の第2実施例によるパルス成形線路のインピーダン
ス調節機能を説明する断面図
発明の第2実施例によるパルス成形線路のインピーダン
ス調節機能を説明する断面図
【図4】パルス成形線路を
使用したパルス発生装置の一例を示す回路図
使用したパルス発生装置の一例を示す回路図
2…パルス成形線路
6…絶縁筒
7…内部導体
8…外部円筒導体
9…絶縁筒
10…リング状導体
Claims (1)
- 【請求項1】スパイラル状に巻かれた内部導体とこれと
同軸の外部円筒導体とを有するパルス成形線路において
、内部導体の内側に同軸のリング状導体を、所定の間隔
で複数個設けたことを特徴とするパルス成形線路。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6680791A JPH04302212A (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | パルス成形線路 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6680791A JPH04302212A (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | パルス成形線路 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04302212A true JPH04302212A (ja) | 1992-10-26 |
Family
ID=13326506
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6680791A Pending JPH04302212A (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | パルス成形線路 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04302212A (ja) |
-
1991
- 1991-03-29 JP JP6680791A patent/JPH04302212A/ja active Pending
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