JPH04305584A - 有機材料用安定剤として使用するための、シラン基を含有するピペリジン−トリアジン化合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、シラン基を含有する新
規のピペリジン−トリアジン化合物、有機材料、特に合
成高分子のための光安定剤、熱安定剤および酸化安定剤
としてのそれらの使用、およびかくして安定化された有
機材料に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば米国特許４，０８６，２０４号に
請求されている合成高分子のための安定剤として、２，
２，６，６−テトラメチルピペリジル基を含有するトリ
アジン化合物を使用することは知られている。米国特許
４，１７７，１８６号、４，９４６，８８０号および４
，９４８，８８８号および欧州特許公開公報１６２，５
２４号および３４３，７１７号に記述されているように
、シラン基を含有する２，２，６，６−テトラメチルピ
ペリジン誘導体も知られている。

【０００３】

【課題を解決するための手段】本発明は、一般式（Ｉ）

【化７】 ｛式中、Ｒ１　は式（ＩＩ）

【０００４】

【化８】 〔式中、Ｒ７　は水素原子、炭素原子数１ないし８のア
ルキル基、Ｏ．　、ＯＨ、ＮＯ、ＣＨ２　ＣＮ、炭素原
子数１ないし１８のアルコキシ基、炭素原子数５ないし
１２のシクロアルコキシ基、炭素原子数３ないし６のア
ルケニル基、未置換のまたは炭素原子数１ないし４のア
ルキル基によりフェニル基上が単、二または三置換され
た炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；または
炭素原子数１ないし８のアシル基を表し；Ｘは−Ｏ−ま
たは＞Ｎ−Ｒ１０（式中、Ｒ１０は水素原子、炭素原子
数１ないし１８のアルキル基；炭素原子数１ないし８の
アルコキシ基により、ジ（炭素原子数１ないし４のアル
キル）アミノ基によりまたは窒素原子上に自由価をもつ
５員ないし７員の含窒素複素環により２−、３−または
４−位が置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基
；未置換のまたは炭素原子数１ないし４のアルキル基に
より単、二または三置換された炭素原子数５ないし１２
のシクロアルキル基；未置換のまたは炭素原子数１ない
し４のアルキル基によりフェニル基上が単、二または三
置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基
；テトラヒドロフルフリル基またはＲ７　が上と同じに
定義される式（ＩＩＩ　）

【０００５】

【化９】 の基を表す。）を表すか；またはＸはＲ７　が１，４−
ピペラジンジイル基またはＲ７　が上と同じに定義され
そしてピペリジル基により置換された窒素原子が式（Ｉ
Ｉ）の基のトリアジン環に結合している式（ＩＶａ）ま
たは（ＩＶｂ）

【０００６】

【化１０】 の基を表してもよく；Ｒ８　は式（Ｖａ）−（Ｖｄ）

【
０００７】

【化１１】 （式中、Ｒ１１はＲ７　のために定義されたのと同じで
あり；ＺはＸのために定義されたのと同じであり；そし
て同一または異なっていてよいＲ１２、Ｒ１３およびＲ
１４は水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基
、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基により、ジ（炭
素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基によりまたは
窒素原子上に自由価をもつ５員ないし７員の含窒素複素
環により２−、３−または４−位が置換された炭素原子
数２ないし４のアルキル基；未置換のまたは炭素原子数
１ないし４のアルキル基により単、二または三置換され
た炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；炭素原
子数３ないし１８のアルケニル基、未置換のまたは炭素
原子数１ないし４のアルキル基または炭素原子数１ない
し４のアルコキシ基により単、二または三置換されたフ
ェニル基；未置換のまたは炭素原子数１ないし４のアル
キル基によりフェニル基上が単、二または三置換された
炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；またはテ
トラヒドロフルフリル基を表すか；またはＲ１３はＯＨ
または炭素原子数１ないし８のアルコキシ基を表すか；
またはＲ１３（Ｒ１４）Ｎ−は５−員ないし７−員の複
素環基を表す。）の基の一つを表し；Ｒ９　は炭素原子
数１ないし１２のアルキレン基またはＲ７　、Ｒ８　お
よびＸが上と同じに定義される式（ＶＩ）

【０００８】

【化１２】 の基の１または２個により中断された炭素原子数５ない
し１５のアルキレン基を表し；Ｙは基：＞Ｎ−Ｒ１５（
式中、Ｒ１５は水素原子、炭素原子数１ないし１８のア
ルキル基、未置換のまたは炭素原子数１ないし４のアル
キル基により単、二または三置換された炭素原子数５な
いし１２のシクロアルキル基；または未置換のまたは炭
素原子数１ないし４のアルキル基によりフェニル基上が
単、二または三置換された炭素原子数７ないし９のフェ
ニルアルキル基を表す。）を表すか；またはＹは、Ｒ９
　が炭素原子数１ないし１２のアルキレン基を表す時、
−Ｏ−または−Ｓ−であってもよい。〕の基を表し；Ｒ
２　は炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数
１ないし８のアルコキシ基、ＯＨ、ＯＮａまたはＯＫを
表し；同一または異なることのできるＲ３　とＲ４　は
、炭素原子数１ないし８のアルキル基またはフェニル基
を表し；ｍ＋ｎは１ないし１００の数を表し；ｎは零ま
たは１ないし９０の数を表し；そしてｍ＋ｎの合計の零
から９０％に変わることができ；Ｒ５　は水素原子、炭
素原子数１ないし８のアルキル基、Ｎａ、ＫまたはＲ１
６が炭素原子数１ないし８のアルキル基であり得る基：
（Ｒ１６）３　Ｓｉ−を表し；そしてＲ６　は炭素原子
数１ないし８のアルコキシ基、ＯＨ、ＯＮａ、ＯＫまた
はＲ１６が上と同じに定義される基：（Ｒ１６）３　Ｓ
ｉＯ−を表しそして；ｍ＋ｎが３ないし１０の数を表す
場合、Ｒ５　とＲ６　は一緒になって直接結合も形成で
きる。｝の新規の化合物に関する。

【０００９】基：Ｒ１　、Ｒ２　、Ｒ３　およびＲ４　
の各々は、式（Ｉ）に包含される反復単位中において同
じ定義または異なる定義を持ってもよく；そして式（Ｉ
）の化合物が共重合体である時、それらは個々の構造単
位のランダム分布またはブロック分布をもってよい。

【００１０】１８個より多い炭素原子を持たないアルキ
ル基の例は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプ
ロピル基、ブチル基、２−ブチル基、イソブチル基、ｔ
ｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、２−ペンチル基、ヘキ
シル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル
基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ノニル基、デシル基、ウン
デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基
、ヘキサデシル基およびオクタデシル基である。

【００１１】炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、好
ましくは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、特にメ
トキシ基またはエトキシ基により置換された炭素原子数
２ないし４のアルキル基の例は、２−メトキシエチル基
、２−エトキシエチル基、３−メトキシプロピル基、３
−エトキシプロピル基、３−ブトキシプロピル基、３−
オクトキシプロピル基および４−メトキシブチル基であ
る。

【００１２】ジ（炭素原子数１ないし４のアルキル）ア
ミノ基により、好ましくはジメチルアミノ基またはジエ
チルアミノ基により置換された炭素原子数２ないし４の
アルキル基の例は、２−ジメチルアミノエチル基、２−
ジエチルアミノエチル基、３−ジメチルアミノプロピル
基、３−ジエチルアミノプロピル基、３−ジブチルアミ
ノプロピル基および４−ジエチルアミノブチル基である
。

【００１３】５員ないし７員の含窒素複素環基により置
換された炭素原子数２ないし４のアルキル基の例は、式
：

【化１３】 （式中、Ａは直接結合、−Ｏ−、−ＣＨ２　−または−
ＣＨ２　ＣＨ２　−を表す。）の基である。基：

【化１
４】 が好ましい。

【００１４】１８個より多い炭素原子を持たないアルコ
キシ基の例は、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基
、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ペ
ントキシ基、イソペントキシ基、ヘキソキシ基、ヘプト
キシ基、オクトキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキ
シ基、テトラデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基お
よびオクタデシルオキシ基である。

【００１５】未置換のまたは炭素原子数１ないし４のア
ルキル基により単、二または三置換された炭素原子数５
ないし１２のシクロアルキル基の例は、シクロペンチル
基、メチルシクロペンチル基、ジメチルシクロペンチル
基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、ジメ
チルシクロヘキシル基、トリメチルシクロヘキシル基、
ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル基、シクロオクチル基
、シクロデシル基およびシクロドデシル基である。未置
換のまたは炭素原子数１ないし４のアルキル基により置
換されたシクロヘキシル基が好ましい。

【００１６】炭素原子数５ないし１２のシクロアルコキ
シ基のＲ７　とＲ１１の代表例は、シクロペントキシ基
、シクロヘキソキシ基、シクロヘプトキシ基、シクロオ
クトキシ基、シクロデシルオキシ基およびシクロドデシ
ルオキシ基である。シクロペントキシ基とシクロヘキソ
キシ基が好ましい。

【００１７】１８個より多い炭素原子を持たないアルケ
ニル基の例は、アリル基、２−メチルアリル基、ヘキセ
ニル基、デセニル基、ウンデセニル基およびオレイル基
である。１−位の炭素原子が飽和されているアルケニル
基が好ましい。アリル基が特に好ましい。

【００１８】炭素原子数１ないし４のアルキル基または
炭素原子数１ないし４のアルコキシ基により単、二また
は三置換されたフェニル基のＲ１２、Ｒ１３およびＲ１
４の代表例は、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基
、トリメチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基
、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、３，５−ジ−ｔｅ
ｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル基、メトキシフェニ
ル基およびエトキシフェニル基である。

【００１９】未置換のまたは炭素原子数１ないし４のア
ルキル基によりフェニル基上が単、二または三置換され
た炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基の例は、
ベンジル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、
トリメチルベンジル基、ｔｅｒｔ−ブチルベンジル基お
よび２−フェニルエチル基である。ベンジル基が好まし
い。

【００２０】８個より多くない炭素原子を持つアシル基
のＲ７　とＲ１１は脂肪族または芳香族基であり得る。 代表例は、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、
ブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタ
ノイル基、オクタノイル基、ベンゾイル基、アクリロイ
ル基またはクロトノイル基である。炭素原子数１ないし
８のアルカノイル基、炭素原子数３ないし８のアルケノ
イル基およびベンゾイル基は好ましい。アセチル基が特
に好ましい。

【００２１】５員ないし７員の複素環基：Ｒ１３（Ｒ１
４）Ｎ−は別のヘテロ原子、例えば窒素原子または酸素
原子を包含することができ；その代表例は１−ピロリジ
ル基、１−ピペリジル基、４−モルホリニル基、４−メ
チル−１−ピペラジニル基および１−ヘキサヒドロアゼ
ピニル基である。４−モルホリニル基が好ましい。

【００２２】炭素原子数１ないし１２のアルキレン基の
例は、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメ
チレン基、２−メチルトリメチレン基、テトラメチレン
基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチ
レン基、デカメチレン基、ウンデカメチレン基およびド
デカメチレン基である。トリメチレン基が好ましい。

【００２３】式（ＶＩ）の基の１または２個により中断
された炭素原子数５ないし１５のアルキレン基の例は、
　　−（ＣＨ２　）２−６　−Ｑ−（ＣＨ２　）３　−
および−（ＣＨ２　）２−６　−Ｑ−（ＣＨ２　）２−
６　−Ｑ−（ＣＨ２）３　−（式中、Ｑは式（ＶＩ）の
基を表す。）である。

【００２４】ｍ＋ｎが１ないし１００の数を表し；ｎは
零または１ないし５０の数を表しそしてｍ＋ｎの合計の
零から５０％に変わり得る式（Ｉ）の化合物は、興味が
ある。

【００２５】Ｒ７　とＲ１１の好ましい定義は、水素原
子、炭素原子数１ないし４のアルキル基、ＯＨ、炭素原
子数６ないし１２のアルコキシ基、炭素原子数５ないし
８のシクロアルコキシ基、アリル基、ベンジル基および
アセチル基、特に水素原子またはメチル基である。

【００２６】Ｒ１　が式（ＩＩ）の基を表し；Ｘは−Ｏ
−または＞Ｎ−Ｒ１０を表し；Ｒ１０は水素原子、炭素
原子数１ないし１２のアルキル基；炭素原子数１ないし
４のアルコキシ基により、ジ（炭素原子数１ないし４の
アルキル）アミノ基によりまたは１−ピロリジル基、１
−ピペリジル基もしくは４−モルホリニル基により２−
または３−位が置換された炭素原子数２ないし３のアル
キル基；未置換のまたは炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基により単、二または三置換された炭素原子数５ない
し８のシクロアルキル基；ベンジル基、テトラヒドロフ
ルフリル基または式（ＩＩＩ　）の基を表し；

【００２
７】またはＸは１，４−ピペラジル基または式（ＩＶａ
）または（ＩＶｂ）の基であってもよく；Ｒ８　は、式
中、ＺがＸのために定義したのと同じである式（Ｖａ）
−（Ｖｄ）の基の一つを表し；そして同一または異なっ
ていてよいＲ１２、Ｒ１３およびＲ１４は水素原子、炭
素原子数１ないし１２のアルキル基；炭素原子数１ない
し４のアルコキシ基により、ジ（炭素原子数１ないし４
のアルキル）アミノ基によりまたは１−ピロリジル基、
１−ピペリジル基もしくは４−モルホリニル基により２
−または３−位が置換された炭素原子数２ないし３のア
ルキル基；未置換のまたは炭素原子数１ないし４のアル
キル基により単、二または三置換された炭素原子数５な
いし８のシクロアルキル基；フェニル基、ベンジル基ま
たはテトラヒドロフルフリル基を表すか；

【００２８】
またはＲ１３はＯＨまたは炭素原子数１ないし４のアル
コキシ基を表すか；またはＲ１３（Ｒ１４）Ｎ−は１−
ピロリジル基、１−ピペリジル基、４−モルホリニル基
または１−ヘキサヒドロアゼピニル基を表し；Ｒ９　は
炭素原子数１ないし６のアルキレン基または式（ＶＩ）
　の１または２の基により中断されている炭素原子数５
ないし９のアルキレン基を表し；Ｙは、Ｒ１５が水素原
子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、未置換のま
たは炭素原子数１ないし４のアルキル基により単、二ま
たは三置換された炭素原子数５ないし８のシクロアルキ
ル基；またはベンジル基を表す基：＞Ｎ−Ｒ１５を表す
か；

【００２９】またはＹは、Ｒ９　が炭素原子数１ないし
６のアルキレン基を表す時、−Ｏ−または−Ｓ−であっ
てもよく；Ｒ２　は炭素原子数１ないし６のアルキル基
、炭素原子数１ないし６のアルコキシ基、ＯＨ、ＯＮａ
またはＯＫを表し；同一または異なることのできるＲ３
　とＲ４　は炭素原子数１ないし６のアルキル基または
フェニル基を表し；ｍ＋ｎは１ないし５０の数を表し；
ｎは零または１ないし４５の数を表しそしてｍ＋ｎの合
計の零ないし９０％に変わることができ；Ｒ５　は水素
原子、炭素原子数１ないし６のアルキル基、Ｎａ、Ｋま
たはＲ１６が炭素原子数１ないし４のアルキル基である
基：（Ｒ１６）３　Ｓｉ−を表し；そしてＲ６　は炭素
原子数１ないし６のアルコキシ基、ＯＨ、ＯＮａ、ＯＫ
またはＲ１６が上と同じに定義される基：（Ｒ１６）３
ＳｉＯ−を表し；そして、ｍ＋ｎが３ないし１０の数を
表す時、Ｒ５　とＲ６　は一緒になって直接結合も形成
することもできる式（Ｉ）の化合物は好ましい。

【００３０】式中、Ｒ１　は式（ＩＩ）の基を表し；Ｘ
は−Ｏ−または＞Ｎ−Ｒ１０を表し；Ｒ１０は水素原子
、炭素原子数１ないし１０のアルキル基；メトキシ基に
より、エトキシ基により、ジメチルアミノ基により、ジ
エチルアミノ基によりもしくは４−モルホリニル基によ
り２−または３−位が置換された炭素原子数２ないし３
のアルキル基；未置換のまたは炭素原子数１ないし４の
アルキル基により単、二または三置換されたシクロヘキ
シル基；ベンジル基、テトラヒドロフルフリル基または
式（ＩＩＩ　）の基を表し；またはＸは式（ＩＶａ）ま
たは（ＩＶｂ）の基であってもよく；Ｒ８　は、式中、
ＺがＸのために定義したのと同じである式（Ｖａ）−（
Ｖｄ）の基の一つを表し；

【００３１】そして同一または異なっていてよいＲ１２
、Ｒ１３およびＲ１４は炭素原子数１ないし１０のアル
キル基；メトキシ基により、エトキシ基により、ジメチ
ルアミノ基により、ジエチルアミノ基によりもしくは４
−モルホリニル基により２−または３−位が置換された
炭素原子数２ないし３のアルキル基；未置換のまたは炭
素原子数１ないし４のアルキル基により単、二または三
置換されたシクロヘキシル基；アリル基、フェニル基、
ベンジル基またはテトラヒドロフルフリル基を表すか；

【００３２】またはＲ１３は水素原子またはＯＨであっ
てもよく；またはＲ１３（Ｒ１４）Ｎ−は４−モルホリ
ニル基を表し；Ｒ９　は炭素原子数１ないし４のアルキ
レン基または式　（ＶＩ）　の１または２の基により中
断されている炭素原子数５ないし７のアルキレン基を表
し；Ｙは、Ｒ１５が水素原子、炭素原子数１ないし１０
のアルキル基、未置換のまたは炭素原子数１ないし４の
アルキル基により単、二または三置換されたシクロヘキ
シル基；またはベンジル基を表す基：＞Ｎ−Ｒ１５を表
すか；またはＹは、Ｒ９　が炭素原子数１ないし４のア
ルキレン基を表す時、−Ｏ−または−Ｓ−であってもよ
く；

【００３３】Ｒ２　は炭素原子数１ないし４のアルキル
基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、ＯＨ、ＯＮ
ａまたはＯＫを表し；同一または異なることのできるＲ
３　とＲ４　は炭素原子数１ないし４のアルキル基また
はフェニル基を表し；ｍ＋ｎは１ないし３０の数を表し
；ｎは零または１ないし２７の数を表しそしてｍ＋ｎの
合計の零ないし９０％に変わることができ；Ｒ５　は水
素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基、Ｎａ、Ｋ
または基：（ＣＨ３　）３　Ｓｉ−を表し；そしてＲ６
　は炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、ＯＨ、ＯＮ
ａ、ＯＫまたは基：（ＣＨ３　）３　ＳｉＯ−を表し；
そして、ｍ＋ｎが３ないし１０の数を表す時、Ｒ５　と
Ｒ６　は一緒になって直接結合を形成することもできる
式（Ｉ）の化合物は特に好ましい。

【００３４】式中、Ｒ１　は式（ＩＩ）の基を表し；Ｘ
は−Ｏ−または＞Ｎ−Ｒ１０を表し；Ｒ１０は水素原子
、炭素原子数１ないし８のアルキル基、シクロヘキシル
基、ベンジル基、テトラヒドロフルフリル基または式（
ＩＩＩ　）の基を表すか；またはＸは式（ＩＶａ）また
は（ＩＶｂ）の基であってもよく；Ｒ８　は、式中、Ｚ
がＸのために定義したのと同じである式（Ｖａ）の基を
表し；Ｒ９　は炭素原子数２ないし４のアルキレン基ま
たは式　（ＶＩ）　の基により中断されている炭素原子
数５ないし６のアルキレン基を表し；Ｙは、Ｒ１５が水
素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、シクロヘ
キシル基またはベンジル基を表す基：＞Ｎ−Ｒ１５を表
すか；

【００３５】またはＹは、Ｒ９　が炭素原子数２ないし
４のアルキレン基を表す時、−Ｏ−または−Ｓ−であっ
てもよく；Ｒ２　は炭素原子数１ないし３のアルキル基
、炭素原子数１ないし３のアルコキシ基またはＯＨを表
し；Ｒ３　とＲ４　はメチル基を表し；ｍ＋ｎは１ない
し２０の数を表し；ｎは零または１ないし１０の数を表
しそしてｍ＋ｎの合計の零ないし５０％に変わることが
でき；Ｒ５　は水素原子、炭素原子数１ないし３のアル
キル基、Ｎａ、Ｋまたは基：（ＣＨ３　）３　Ｓｉ−を
表し；そしてＲ６　は炭素原子数１ないし３のアルコキ
シ基、ＯＨ、ＯＮａ、ＯＫまた（ＣＨ３　）３　ＳｉＯ
−を表し；そして、ｍ＋ｎが３ないし１０の数を表す時
、Ｒ５　とＲ６　は一緒になって直接結合も形成するこ
ともできる式（Ｉ）の化合物は特に興味がある。

【００３６】式中、Ｒ１　は式（ＩＩ）の基を表し；Ｒ
７　は水素原子またはメチル基を表し；Ｘは−Ｏ−また
はＲ１０が炭素原子数１ないし８のアルキル基、２，２
，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル基または１，
２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル基であ
る＞Ｎ−Ｒ１０を表し；Ｒ８　は、式中、Ｒ１１が水素
原子もしくはメチル基を表しそしてＺがＸのために定義
したのと同じである式（Ｖａ）の基を表し；

【００３７】Ｙは＞Ｎ−Ｈを表し；Ｒ９　はトリメチレ
ン基または式中、Ｑが式（ＶＩ）の基である−（ＣＨ２
　）２　−Ｑ−（ＣＨ２　）３　−を表し；Ｒ２　はメ
チル基、メトキシ基、エトキシ基またはＯＨを表し；ｍ
は１ないし１０の数を表し；ｎは零を表し；Ｒ５　は水
素原子、メチル基またはエチル基を表し；そしてＲ６　
はメトキシ基、エトキシ基またはＯＨ基を表し；そして
ｍが３ないし１０の数を表す時、Ｒ５　とＲ６　は一緒
になって直接結合も形成できる式（Ｉ）の化合物は特別
に興味がある。

【００３８】式中、Ｒ１　は式（ＩＩ）の基を表し；Ｒ
７　は水素原子またはメチル基を表し；ＸはＲ１０が炭
素原子数１ないし４のアルキル基である＞Ｎ−Ｒ１０を
表し；Ｒ８　は、式中、Ｒ１１が水素原子もしくはメチ
ル基を表しそしてＺがＸのために定義したのと同じであ
る式（Ｖａ）の基を表し；

【００３９】Ｙは＞Ｎ−Ｈを表し；Ｒ９　はトリメチレ
ン基を表し；Ｒ２　はメチル基、エトキシ基またはＯＨ
を表し；ｍは１ないし１０の数を表し；ｎは零を表し；
Ｒ５　はエチル基を表し；そしてＲ６　はエトキシ基を
表し；そしてｍが３ないし１０の数を表す時、Ｒ５　と
Ｒ６　は一緒になって直接結合も形成できる式（Ｉ）の
化合物も特別に興味のある化合物である。

【００４０】式（Ｉ）の化合物は、いろいろな工程によ
り製造できる。工程Ａによると、ｍが１を表しそしてｎ
が零を表す場合、式（Ｉ）の化合物は、例えば、適当な
モル比率で、式（ＶＩＩ　）

【化１５】 （式中、Ｒ７　、Ｒ８　およびＸは上述と同じに定義さ
れる。）のクロロトリアジンを、式（ＶＩＩＩ）

【化１
６】

【００４１】（式中、Ｙは上述と同じに定義され；Ｒ１
７は炭素原子数１ないし１２のアルキレン基または１も
しくは２個の＞ＮＨ基により中断されている炭素原子数
３ないし１５のアルキレン基を表し；Ｒ１８は炭素原子
数１ないし８のアルキル基または炭素原子数１ないし８
のアルコキシ基を表し；そしてＲ１９は炭素原子数１な
いし８のアルコキシ基を表す。）のシラン化合物を、例
えば、８０°と２００℃間、好ましくは例えば１００°
と１８０℃の間の温度で、好ましくは第二級もしくは第
三級の炭素原子数３ないし８のアルコール、ジオキサン
、ジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエ
タン、ビス（２−メトキシエチル）エーテルまたはビス
（２−エトキシエチル）エーテルのような溶媒中、無水
の条件下で操作して、反応させることにより製造される
。

【００４２】この反応では式（ＩＸ）

【化１７】 の化合物が塩酸塩として形成し、この化合物の遊離塩基
は、例えば０°と４０℃の間の温度、好ましくは例えば
１０°と２５℃の間の温度で、ナトリウムもしくはカリ
ウム水酸化物または炭酸塩のような好ましい無機塩基で
中和した後、得られる。

【００４３】かくして得られた化合物の全体的または部
分的加水分解により、珪素原子に結合した１，２または
３個のＯＨを含有する該当するシラノールが製造でき、
この化合物から縮合反応によりｍが少なくとも２であり
そしてｎが零である式（Ｉ）の該当する化合物が得られ
る。

【００４４】加水分解と縮合反応は、触媒、例えば酸、
塩基およびＺｎ、Ｆｅ、Ｐｂ、Ｓｎまたは有機錫化合物
の塩の存在下、珪素原子に結合したアルコキシ基当り少
なくとも０．５モルの量の水で、式（ＩＸ）の化合物を
処理することにより行うのが好ましい。

【００４５】好ましい塩基は、無機酸、例えばＨＣｌ、
Ｈ２　ＳＯ４　およびＨ３　ＰＯ４　、そして無機塩基
、例えばＮａＯＨおよびＫＯＨであって；無機酸とは−
１０°と１５０℃の間の、好ましくは１０°と１００℃
の間の温度で；そして無機塩基とは４０°と２００℃の
、好ましくは６０°と１５０℃の間で操作する。

【００４６】加水分解／縮合反応は、水中または式（Ｉ
Ｘ）の化合物の製造のために使用したのと同じ溶媒中で
使用するのが好ましい。

【００４７】ｍが少なくとも２でありそしてｎが零以上
である場合、例えば式（Ｉ）の化合物は、上述の条件下
で操作して、式（ＩＸ）の化合物と式（Ｘ）

【化１８】 （式中、Ｒ３　とＲ４　は上述と同じに定義されそして
Ｒ２０はＣｌまたは炭素原子数１ないし８のアルコキシ
基を表す。）の化合物の、適当なモル比率の混合物の加
水分解／縮合反応により、製造できる。

【００４８】ｍ＞２でありそしてｎ＝０または０より大
である式（Ｉ）の化合物は、式（ＩＸ）の化合物の塩酸
塩からも、同じ反応溶媒中でまたは水中で操作して、無
機酸または無機塩基の存在下、同じ反応容器中での加水
分解／縮合により、直接に得られる。

【００４９】工程Ｂに従うと、Ｒ９　はトリメチレン基
または２−メチルトリメチレン基であり、式（Ｉ）の化
合物は、例えばＲ２１が水素原子またはメチル基である
式（ＸＩ）

【化１９】 の化合物を、式（ＸＩＩａ）または（ＸＩＩｂ）

【化２
０】 （式中、Ｒ１８とＲ１９は上述と同じに定義されそして
Ｒ２２はＣｌまたは炭素原子数１ないし８のアルキル基
を表す。）と反応させることによっても製造できる。

【００５０】各々、得られた式（ＸＩＩＩ　ａ）および
（ＸＩＩＩ　ｂ）

【化２１】 の化合物は、次に、例えば工程Ａのために上述した条件
下操作して、それ自身または式（Ｘ）の化合物との混合
物として、加水分解／縮合反応に処する。

【００５１】式（ＸＩＩａ）または（ＸＩＩｂ）の化合
物と式（ＸＩ）の化合物との付加反応は、例えば６０°
と１５０℃の間の、好ましくは８０°と１２０℃の間の
温度で、ヘキサン、ヘプタン、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、シクロヘキサン、トルエンまたはキシレンの
ような不活性溶媒を使用して、例えば、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒ
ｈおよびそれらの誘導体、好ましくはＰｔとＲｈ錯体、
特にＨ２　ＰｔＣｌ６　またはＲｈＣｌ（Ｐｈ３　Ｐ）
３　のようなハイドロシリル化触媒の存在下、行うこと
ができる。

【００５２】工程Ｃに従うと、ｍが少なくとも２であり
、ｎが零または零より大であると、Ｒ９　はトリメチレ
ン基または２−メチルトリメチレン基を表し；式（Ｉ）
の化合物は、例えば、適当なモル比で、式（ＸＩ）　の
化合物を、式（ＸＩＶ）の化合物

【化２２】 （式中、Ｒ２　、Ｒ３　、Ｒ４　、Ｒ５　、Ｒ６　、ｍ
およびｎは上述と同じに定義される。）と、工程Ｂのた
めに上述したようなハイドロシラン化触媒の存在下、反
応させることによっても製造できる。

【００５３】工程Ｄに従うと、ｍは少なくとも２であり
そしてｎは零であるかまたは零より大である時は、式（
Ｉ）の化合物は、例えば、工程Ａのために上述した条件
で操作して、式（ＶＩＩ　）のクロロトリアジンを、式
（ＸＶ）

【化２３】 （式中、Ｒ２　、Ｒ３　、Ｒ４　、Ｒ５　、Ｒ６　、Ｒ
１７、Ｙ、ｍおよびｎは上述と同じに定義される。）の
化合物を、適当なモル比で反応させることによっても製
造できる。

【００５４】上で説明したいろいろの工程に従う加水分
解／縮合反応においては、Ｒ１６とＲ２０が上述と同じ
に定義される式：（Ｒ１６）３　Ｓｉ−Ｒ２０の化合物
を連鎖停止剤として使用することは可能である。この場
合、末端基は（Ｒ１６）３　ＳｉＯ−基になり得る。

【００５５】上述の連鎖停止剤が無い時は、末端基は加
水分解／縮合条件のおよび使用される触媒の機能として
の、例えば炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、ＯＨ
、ＯＮａまたはＯＫであり得る。

【００５６】式（ＶＩＩ　）のクロロトリアジンは、例
えば米国特許４，１０８，８２９号に報告されているよ
うな、公知の方法により製造できる。

【００５７】式（ＸＩ）の化合物は、例えば、欧州特許
公開公報１０１，４１１号に記述されているように製造
できる。

【００５８】式（ＶＩＩＩ　）、（Ｘ）、（ＸＩＩａ）
、（ＸＩＩｂ）および（ＸＩＶ）の化合物は、市販品で
あり、公知の方法により得られる。

【００５９】式（ＸＶ）の化合物は、式（ＶＩＩＩ　）
の化合物をそれ自身でまたは式（Ｘ）の化合物の混合物
として、加水分解／縮合することにより製造できる。

【００６０】冒頭に述べたように、式（Ｉ）の化合物は
、有機材料、特に合成高分子または共重合体の光安定性
、熱安定性および酸化安定性を改善するのに非常に優れ
ている。

【００６１】安定化できるこのような有機材料の例を下
記する： １．モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例
えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン−
１、ポリメチルペンテン−１、ポリイソプレンまたはポ
リブタジエン、並びにシクロオレフィン例えばシクロペ
ンテンまたはノルボルネンのポリマー、（所望により架
橋結合できる）ポリエチレン、例えば高密度ポリエチレ
ン（ＨＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）およ
び線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）。

【００６２】２．　　１．に記載したポリマーの混合物
、例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物
、ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物（例えばＰ
Ｐ／ＨＤＰＥ，ＰＰ／ＬＤＰＥ）およびポリエチレンの
異なるタイプの混合物（例えば、ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）
。

【００６３】３．モノオレフィンとジオレフィン相互ま
たは他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレ
ン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン（
ＬＬＤＰＥ）およびその低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ
）との混合物、プロピレン／ブテン−１、エチレン／ヘ
キセン、エチレン／エチルペンテン、エチレン／ヘプテ
ン、エチレン／オクテン、プロピレン／イソブチレン、
エチレン／ブテン−１、プロピレン／ブタジエン、イソ
ブチレン／イソプレン、エチレン／アルキルアクリレー
ト、エチレン／アルキルメタクリレート、エチレン／ビ
ニルアセテートまたはエチレン／アクリル酸コポリマー
およびそれらの塩類（アイオノマー）、およびエチレン
とプロピレンとジエン例えばヘキサジエン、ジシクロペ
ンタジエンまたはエチリデン−ノルボルネンのようなも
のとのターポリマー；並びに前記コポリマーおよびそれ
らの混合物と１．に記載したポリマーとの混合物、例え
ばポリプロピレン／エチレン−プロピレン−コポリマー
、ＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＤＰＥ／ＥＡＡ、ＬＬＤＰＥ／
ＥＶＡおよびＬＬＤＰＥ／ＥＡＡ。

【００６４】３ａ．　一酸化炭素によるα−　オレフィ
ンのランダム共重合体または交互共重合体。

【００６５】３ｂ．　炭化水素樹脂（例えば炭素原子数
５ないし９）およびそれらの水素化変性物（例えば粘着
付与剤）。

【００６６】４．ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルス
チレン）、ポリ−（α−メチルスチレン）。

【００６７】５．スチレンまたはα−メチルスチレンと
ジエンまたはアクリル誘導体とのコポリマー、例えばス
チレン／アクリロニトリル、スチレン／アルキルメタク
リレート、スチレン／無水マレイン酸、スチレン／ブタ
ジエン／エチルアクリレート、スチレン／アクリロニト
リル／メチルアクリレート；スチレンコポリマーと別の
ポリマー、例えばポリアクリレート、ジエンポリマーま
たはエチレン／プロピレン／ジエンターポリマーのよう
なものからの高耐衝撃性混合物；およびスチレンのブロ
ックコポリマー例えばスチレン／ブタジエン／スチレン
、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレン／エチレ
ン／ブチレン／スチレンまたはスチレン／エチレン／プ
ロピレン／スチレンのようなの。

【００６８】６．スチレンまたはαメチルスチレンのグ
ラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレン、
ポリブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−アク
リロニトリルにスチレンのようなもの；ポリブタジエン
にスチレンおよびアクリロニトリル（またはメタアクリ
ロニトリル）；ポリブタジエンにスチレンおよび無水マ
レイン酸またはマレインイミド；ポリブタジエンにスチ
レン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸またはマ
レインイミド；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニ
トリルおよびメチルメタアクリレート、ポリブタジエン
にスチレンおよびアルキルアクリレートまたはメタアク
リレート、エチレン／プロピレン／ジエンターポリマー
にスチレンおよびアクリロニトリル、ポリアクリレート
またはポリメタクリレートにスチレンおよびアクリロニ
トリル、アクリレート／ブタジエンコポリマーにスチレ
ンおよびアクリロニトリル、並びにこれらと５．に列挙
したコポリマーとの混合物、例えばＡＢＳ−、ＭＢＳ−
、ＡＳＡ−またはＡＥＳ−ポリマーとして知られている
コポリマー混合物。

【００６９】７．ハロゲン含有ポリマー、例えばポリク
ロロプレン、塩素化ゴム、塩素化またはクロロスルホン
化ポリエチレン、エピクロロヒドリンホモ−およびコポ
リマー、ハロゲン含有ビニル化合物からのポリマー、例
えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化
ビニル、ポリフッ化ビニリデン並びにこれらのコポリマ
ー、例えば塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／
酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマ
ー。

【００７０】８．α，β−不飽和酸およびその誘導体か
ら誘導されたポリマー、例えばポリアクリレートおよび
ポリメタアクリレート、ポリアクリルアミドおよびポリ
アクリロニトリル。

【００７１】９．前項８．に挙げたモノマー相互のまた
は他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロ
ニトリル／ブタジエン、アクリロニトリル／アルキルア
クリレート、アクリロニトリル／アルコキシアルキルア
クリレートまたはアクリロニトリル／ハロゲン化ビニル
コポリマーまたはアクリロニトリル／アルキルメタアク
リレート／ブタジエンターポリマー。

【００７２】１０．不飽和アルコールおよびアミンまた
はそれらのアシル誘導体またはそれらのアセタールから
誘導されたポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポ
リ酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベ
ンゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラ
ール、ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン
；並びにそれらと上記１．に記載したオレフィンとのコ
ポリマー。

【００７３】１１．　環状エーテルのホモポリマーおよ
びコポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリ
エチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはこれ
らとビス−グリシジルエーテルとのコポリマー。

【００７４】１２．　ポリアセタール、例えばポリオキ
シメチレンおよびエチレンオキシドをコモノマーとして
含むポリオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタンで変性
させたポリアセタール、アクリレートまたはＭＢＳ。

【００７５】１３．　ポリフェニレンオキシドおよびス
ルフィド並びにポリフェニレンオキシドとポリスチレン
またはポリアミドとの混合物。

【００７６】１４．　一方の成分としてヒドロキシ末端
基を含むポリエーテル、ポリエステルまたはポリブタジ
エンと他方の成分として脂肪族または芳香族ポリイソシ
アネートとから誘導されたポリウレタン並びにその前駆
物質（ポリイソシアネート、ポリオールまたはプレポリ
マー）。

【００７７】１５．　ジアミンおよびジカルボン酸およ
び／またはアミノカルボン酸または相当するラクタムか
ら誘導されたポリアミドおよびコポリアミド。例えばポ
リアミド４、ポリアミド６／６、ポリアミド６／１０、
６／９、６／１２および４／６、ポリアミド１１、ポリ
アミド１２、ｍ−キシレンジアミンおよびアジピン酸の
縮合によって得られる芳香族ポリアミド；ヘキサメチレ
ンジアミンおよびイソフタル酸または／およびテレフタ
ル酸および所望により変性剤としてのエラストマーから
製造されるポリアミド、例えはポリ−２，４，４−トリ
メチルヘキサメチレンテレフタルアミドまたはポリ−ｍ
−フェニレンイソフタルアミド。さらに、前記ポリアミ
ドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、アイオノ
マーまたは化学的に結合またはグラフトしたエラストマ
ーとの別のコポリマー；またはこれらとポリエーテル、
例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコ
ールまたはポリテトラメチレングリコールとのコポリマ
ー。 ＥＰＤＭまたはＡＢＳで変性させたポリアミドまたはコ
ポリアミド。加工の間に縮合させたポリアミド（ＲＩＭ
−ポリアミド系）。

【００７８】１６．　ポリ尿素、ポリイミドおよびポリ
アミド−イミド。

【００７９】１７．　ジカルボン酸およびジオールおよ
び／　またはヒドロキシカルボン酸または相当するラク
トンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレン
テレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−
１，　４−ジメチロール−シクロヘキサンテレフタレー
ト、ポリ−［２，２−（４−ヒドロキシフェニル）−プ
ロパン］テレフタレートおよびポリヒドロキシベンゾエ
ート並びにヒドロキシ末端基を含有するポリエーテルか
ら誘導されたブロックコポリエーテルエステル。

【００８０】１８．　ポリカーボネートおよびポリエス
テル−カーボネート。

【００８１】１９．　ポリスルホン、ポリエーテルスル
ホンおよびポリエーテルケトン。

【００８２】２０．　一方の成分としてアルデヒドおよ
び他方の成分としてフェノール、尿素およびメラミンか
ら誘導された架橋ポリマー、例えばフェノール／ホルム
アルデヒド樹脂、尿素／　ホルムアルデシド樹脂および
メラミン／ホルムアルデヒド樹脂。

【００８３】２１．　乾性および不乾性アルキド樹脂。

【００８４】２２．　飽和および不飽和ジカルボン酸と
多価アルコールおよび架橋剤としてのビニル化合物との
コポリエステルから誘導された不飽和ポリエステル樹脂
並びに燃焼性の低いそれらのハロゲン含有変性物。

【００８５】２３．　置換アクリル酸エステル、例えば
エポキシアクリレート、ウレタン−アクリレートまたは
ポリエステル−アクリレートのようなものから誘導され
た熱硬化性アクリル樹脂。

【００８６】２４．　架橋剤としてのメラミン樹脂、尿
素樹脂、ポリイソシアネートまたはエポキシ樹脂と混合
してあるアルキド樹脂、ポリエステル樹脂またはアクリ
レート樹脂。

【００８７】２５．　ポリエポキシド、例えばビス−グ
リシジルエーテル、または脂環式ジエポキシドから誘導
された架橋エポキシ樹脂。

【００８８】２６．　天然ポリマー、例えばセルロース
、ゴム、ゼラチンおよびこれらの重合同族体方法で化学
的に変性させた誘導体、例えば酢酸セルロース、プロピ
オン酸セルロースおよび酪酸セルロースのようなもの、
またはセルロースエーテル、例えばメチルセルロースの
ようなもの；ロジンおよびそれらの誘導体。

【００８９】２７．　前記したポリマーの混合物（ポリ
ブレンド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド６／Ｅ
ＰＤＭまたはＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ
、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶ
Ｃ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレート、ＰＯＭ／熱可塑性
ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＯＭ／アクリレート
、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＥ／ＨＩＰＳ、ＰＰＥ／ＰＡ６
．６およびコポリマー、ＰＡ／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、
ＰＡ／ＰＰＥ。

【００９０】２８．　純単量体化合物またはその化合物
からなる天然および合成有機材料、例えば鉱油、動物お
よび植物脂肪、オイルおよびワックスまたは合成エステ
ル（　例えばフタレート、アジペート、ホスフェートま
たはトリメリテート）をベースとした上記オイル、脂肪
およびワックス、並びに合成エステルのどんな重量比で
も混合された鉱油との混合物で、その材料はポリマーの
ための繊維紡績油として並びにこのような材料の水性エ
マルジョンとして使用され得る。

【００９１】２９．　天然または合成ゴムの水性エマル
ジョン、例えば天然ラテックスまたはカルボキシル化ス
チレン／ブタジエンコポリマーのラテックス。

【００９２】式（Ｉ）により表される化合物は、ポリオ
レフィン、特にポリエチレンおよびポリプロピレンの光
安定性、熱安定性および酸化安定性を改良するために特
に適している。

【００９３】式（Ｉ）により表される化合物は、安定化
される材料の性質、最終使用および他の添加剤の存在に
よっていろいろいな比率で有機材料と混合して使用でき
る。

【００９４】一般に、安定化される材料の重量に対して
、式（Ｉ）により表される化合物を、例えば約０．０１
ないし約５重量％、好ましくは０．０５ないし１％の重
量で使用するのが適当である。

【００９５】概して、式（Ｉ）の化合物は、該材料の重
合または架橋の前、後もしくは後に重合性材料に添加で
きる。

【００９６】式（Ｉ）により表される化合物は、ポリマ
ー材料中に、いろいろな工程により、例えば粉末の形態
で乾燥混合のような工程により、溶液またはけん濁液の
形態で、またはマスターバッチの形態でも湿式混合のよ
うな工程により包含させることができる。

【００９７】このような操業において、ポリマーは粉末
、顆粒、溶液、けん濁液の形態で、またはラテックスの
形態で使用できる。

【００９８】式（Ｉ）により表される化合物は、純粋な
形でまたはロウ、油もしくは高分子にカプセル化して、
安定化されるべき材料に包含せしめることができる。

【００９９】式（Ｉ）により表される製品で安定化され
た材料は、成形品、フィルム、テープ、モノフィラメン
ト、繊維、表面塗料等々の製造のために使用できる。

【０１００】所望ならば、他の常用の合成ポリマー用の
添加剤、例えば抗酸化剤、紫外線吸収剤、ニッケル安定
剤、色素、充填剤、可塑剤、帯電防止剤、防炎剤、潤滑
剤、防食剤および金属不活性化剤のようなものを、有機
材料との式（Ｉ）により表される化合物の混合物に添加
できる。

【０１０１】式（Ｉ）により表される化合物との混合に
添加できる添加剤の個々の例を下記する：

【０１０２】
１．酸化防止剤 １．１　　アルキル化モノフェノール、例えば２，６−
ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチ
ル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブ
チル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル
−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル
−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチ
ル−４−メチルフェノ−ル、２−（α−メチルシクロヘ
キシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオ
クタデシル−４−メチルフェノ−ル、２，４，６−トリ
シクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−
４−メトキシメチルフェノール、２，６−ジノニル−４
−メチルフェノール、

【０１０３】１．２．アルキル化ハイドロキノン、例え
ば２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、
２，５−ジ−第三ブチルハイドロキノン、２，５−ジ−
第三アミルハイドロキノン、２，６−ジフェニル−４−
オクタデシルオキシフェノール。

【０１０４】１．３．ヒドロキシル化チオジフェニルエ
ーテル例えば、２，２′−チオビス（６−第三ブチル−
４−メチルフェノール）、２，２′−チオビス（４−オ
クチルフェノール）、４，４′−チオビス（６−第三ブ
チル−３−メチルフェノール）、４，４′−チオビス（
６−第三ブチル−２−メチルフェノール）。

【０１０５】１．４．アルキリデンビスフェノール、例
えば２，２′−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メ
チルフェノール）、２，２′−メチレンビス（６−第三
ブチル−４−エチルフェノール）、２，２′−メチレン
ビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）
フェノール］、２，２′−メチレンビス（４−メチル−
６−シクロヘキシルフェノール）、２，２′−メチレン
ビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２′
−メチレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）
、２，２′−エチリデンビス（４，６−ジ−第三ブチル
フェノール）、２，２′−エチリデンビス（６−第三ブ
チル−４−イソブチルフェノール）、２，２′−メチレ
ンビス〔６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェ
ノール〕、２，２′−メチレンビス〔６−（α，α−ジ
メチルベンジル）−４−ノニルフェノール〕、４，４′
−メチレンビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノール）
、４，４′−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチ
ルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−
ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビ
ス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベン
ジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（
５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル
）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロ
キシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカ
プトブタン、エチレングリコールビス［３，３−ビス（
３′−第三ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）ブチレ
ート〕、ビス（３−第三ブチル−４ーヒドロキシ−５−
メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２−（
３′−第三ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチルベ
ンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル］テレ
フタレート。

【０１０６】１．５．ベンジル化合物、例えば１，３，
５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、ビス（
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ス
ルフィド、イソオクチル　　３，５−ジ−第三ブチル−
４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート、ビス（
４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベ
ンジル）ジチオテレフタレート、１，３，５−トリス（
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イ
ソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第三ブチル
−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシ
アヌレート、ジオクタデシル　　３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、モノエチル
　　３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル
ホスホネートのカルシウム塩、１，３，５−トリス（３
，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イ
ソシアヌレート。

【０１０７】１．６．アシルアミノフェノール、例えば
ラウリン酸４−ヒドロキシアニリド、ステアリン酸４−
ヒドロキシアニリド、２，４−ビス（オクチルメルカプ
ト）−６−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
アニリノ）−ｓ−トリアジン、オクチル　　Ｎ−（３，
５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−カル
バメート。

【０１０８】１．７．β−（３，５−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の以下の一価また
は多価アルコールとのエステル、 アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、１，６−
ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチ
ルグリコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌ
レート、チオジエチレングリコール、Ｎ，Ｎ′−ビス（
ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド。

【０１０９】１．８．β−（５−第三ブチル−４−ヒド
ロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸の以下の一
価または多価アルコールとのエステル、アルコールの例
：メタノール、ジエチレングリコール、オクタデカノー
ル、トリエチレングリコール、１，６−ヘキサンジオー
ル、ペンタエリトリトール、ネオペンチルグリコール、
トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、チオジ
エチレングリコール、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチ
ル）シュウ酸ジアミド。

【０１１０】１．９．β−（３，５−ジシクロヘキシル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の以下の一価
または多価アルコールとのエステル、 アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、１，６−
ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチ
ルグリコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌ
レート、チオジエチレングリコール、Ｎ，Ｎ′−ビス（
ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド。

【０１１１】１．１０．β−（３，５−ジ第三ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、例え
ばＮ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン
、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。

【０１１２】２．　　紫外線吸収剤および光安定剤２．
１．２−（　２′−ヒドロキシフェニル）　ベンゾトリ
アゾール、例えば、５′−メチル、３′，５′−ジ−第
三ブチル−、５′−第三ブチル−、５′−（１，１，３
，３−テトラメチルブチル）　−、５−クロロ−３′，
５′−ジ−第三ブチル−、５−クロロ−３′−第三ブチ
ル−５′−メチル−、３′−第二ブチル−５′−第三ブ
チル、４′−オクトキシ−、３′，５′−ジ−第三アミ
ルおよび３′，５′−ビス（α，α−ジメチルベンジル
）誘導体。

【０１１３】２．２．２−ヒドロキシ−ベンゾフェノン
、例えば４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オク
トキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ−
、４−ベンジルオキシ−、４，２′，４′−トリヒドロ
キシ−および２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ
誘導体。

【０１１４】２．３．置換されたおよび非置換安息香酸
のエステル、例えば４−第三ブチルフェニル　　サリチ
レート、フェニル　　サリチレート、オクチルフェニル
　　サリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス
（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾ
イルレゾルシノール、２，４−ジ−第三ブチルフェニル
　　３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエ
ート、およびヘキサデシル　　３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンゾエート。

【０１１５】２．４．アクリレート、例えばα−シアノ
−β，　β−ジフェニル−アクリル酸エチルエステル、
α−シアノ−β，　β−ジフェニル−アクリル酸イソオ
クチルエステル、α−カルボメトキシ−桂皮酸メチルエ
ステル、α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−桂皮
酸メチルエステル、α−シアノ−β−メチル−ｐ−メト
キシ−桂皮酸ブチルエステル、α−カルボメトキシ−ｐ
　−メトキシ桂皮酸メチルエステル、およびＮ−（β−
カルボメトキシ−β−シアノビニル）　−２−メチルイ
ンドリン。

【０１１６】２．５．ニッケル化合物、例えば２，２′
−チオビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブ
チル）　−フェノール］のニッケル錯体、例えば１：１
または１：２錯体であって、所望によりｎ−ブチルアミ
ン、トリエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシル
−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴うもの
、ニッケルジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロキ
シ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノア
ルキルエステル例えばメチルもしくはエチルエステルの
ニッケル塩、２−ヒドロキシ−４−メチル−フェニルウ
ンデシルケトキシムのようなケトキシムのニッケル錯体
、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラ
ゾールのニッケル錯体であって、所望により他の配位子
を伴うもの。

【０１１７】２．６．立体障害性アミン、例えばセバシ
ン酸ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）
、セバシン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル
ピペリジル）、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチ
ルピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−第三ブチル−
４−ヒドロキシベンジルマロネート、１−（２−ヒドロ
キシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒ
ドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物、Ｎ，Ｎ
′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミ
ノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮
合生成物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラキス（
２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１
，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、１，１
′−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，５
−テトラメチルピペラジノン）。

【０１１８】２．７．シュウ酸ジアミド、例えば４，４
′−ジ−オクチル−オキシオキサニリド、２，２′−ジ
−オクチルオキシ−５，５′−ジ−第三ブチルオキサニ
リド、２，２′−ジ−ドデシルオキシ−５，５′−ジ−
第三ブチルオキサニリド、２−エトキシ−２′−エチル
オキサニリド、Ｎ，Ｎ′−ビス（３−ジメチルアミノプ
ロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−
２′−エチルオキサニリドおよび該化合物と２−エトキ
シ−２′−エチル−５，４′−ジ−第三ブチル−オキサ
ニリドとの混合物、オルト−およびパラ−メトキシ−二
置換オキサニリドの混合物、およびｏ−およびｐ−エト
キシ−二置換オキサニリドの混合物。

【０１１９】２．８．２−（２−ヒドロキシフェニル）
−１，３，５−トリアジン、例えば２，４，６−トリス
（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）　−
１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−
オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジ
メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２
，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４
−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，
４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニ
ル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５
−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオ
キシフェニル）　−４，６−ビス（４−メチルフェニル
）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−
４−ドデシルオキシフェニル）　−４，６−ビス（２，
４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン。

【０１２０】３．　　金属不活性化剤、例えばＮ，Ｎ′
−ジフェニルシュウ酸ジアミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ′
−サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロ
イル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラ
ジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾ
ール、ビス（ベンジリデン）オキサロジヒドラジッド　
　［ｂｉｓ（ｂｅｎｚｙｌｉｄｅｎｅ）ｏｘａｌｏｄｉ
ｈｙｄｒａｚｉｄｅ］。

【０１２１】４．　　ホスフィットおよびホスホナイト
、例えばトリフェニル　　ホスフィット、ジフェニル　
　アルキル　　ホスフィット、フェニル　　ジアルキル
　　ホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィ
ット、トリラウリル　　ホスフィット、トリオクタデシ
ル　　ホスフィット、ジステアリル　　ペンタエリトリ
トール　　ジホスフィット、トリス（２，４−ジ−第三
ブチルフェニル）　　ホスフィット、ジイソデシル　　
ペンタエリトリトール　　ジホスフィット、ビス（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）　　ペンタエリトリトー
ル　　ジホスフィット、トリステアリル　　ソルビトー
ル　　トリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ−第
三ブチルフェニル）４，４′−ビフェニレンジホスホナ
イト、３，９−ビス（２，４−ジ−第三ブチルフェノキ
シ）−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−ジホ
スファスピロ〔５．５〕ウンデカン。

【０１２２】４−２．　　ヒドロキシルアミン、例えば
ジベンジルヒドロキシルアミン、ジオクチルヒドロキシ
ルアミン、ジドデシルヒドロキシルアミン、ジテトラデ
シルヒドロキシルアミン、ジヘキサデシルヒドロキシル
アミン、ジオクタデシルヒドロキシルアミン、１−ヒド
ロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル　　ベンゾエート、セバシン酸ビス（１−ヒドロキシ
−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）、

【０１２３】５．　　過酸化物スカベンジャー、例えば
β−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、
ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メ
ルカプトベンズイミダゾール、または２−メルカプトベ
ンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン
酸亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリ
トール　　テトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロ
ピオネート。

【０１２４】６．　　ポリアミド安定剤、例えばヨウ化
物および／またはリン化合物と組合せた銅塩、および二
価マンガンの塩。

【０１２５】７．　　塩基性補助安定剤、例えばメラミ
ン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリア
リルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、ア
ミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカ
リ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばＣａステア
レート、Ｚｎステアレート、Ｍｇステアレート、Ｎａリ
シノレートおよびＫパルミテート、ピロカテコール酸ア
ンチモン、またはピロカテコール酸亜鉛。

【０１２６】８．　　核剤、例えば４−第三ブチル安息
香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸。

【０１２７】９．　　充填剤および強化剤、例えば炭酸
カルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、アスベスト、タル
ク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物および
水酸化物、カーボンブラック、グラファイト。

【０１２８】１０．　その他の添加剤、例えば可塑剤、
潤滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃剤、静電防止剤お
よび発泡剤。

【０１２９】

【実施例】本発明の更に詳細な説明のために式（Ｉ）の
化合物の製造の数例の実施例を報告する：これらの実施
例は単に説明の目的のためだけに提示するのであって、
何らの限定を意図するものではない。本発明の好ましい
実施態様は、実施例２、７、９、１２および１３に関す
る。

【０１３０】実施例１：式：

【化２４】 の化合物の製造 ２０．１ｇ（０．１０５モル）の３−（ジエトシキメチ
ルシリル）−プロピルアミンを、３００ｍｌのビス（２
−メトキシエチル）エーテル中の４８ｇ（０．１モル）
の２−クロロ−４，６−ビス［Ｎ−（２，２，６，６−
テトラメチル）−４−ピペリジル）エチルアミノ］−１
，３，５−トリアジンの、還流下加熱してある溶液に、
９０分間にわたって添加する。

【０１３１】添加終了後、混合物を４時間にわたり還流
下加熱し、次いで溶媒を減圧下蒸発し、残留分を３００
ｍｌのジクロロエタンに溶解し、得られた溶液を２４．
２ｇの３３％水酸化ナトリウム水溶液で、常温下、１５
分間にわたって処理する。

【０１３２】水層を分離して除いた後、有機層を水洗し
、Ｎａ２　ＳＯ４　で脱水し、蒸発して乾涸する。得ら
れた製品は４３−４８℃で融解する。 元素分析値、理論式：Ｃ３３Ｈ６６Ｎ８　Ｏ２　Ｓｉ計
算値：　　　　Ｃ＝６２．４２％；　　Ｈ＝１０．４７
％；　　Ｎ＝１７．６５％ 実測値：　　　　Ｃ＝６２．７３％；　　Ｈ＝１０．５
７％　　　　Ｎ＝１７．４７％

【０１３３】実施例２−５：実施例１に記載した手順に
従い、各々の試薬を使用して、式：

【化２５】 の化合物を製造する。

【０１３４】 実施例　　　　　　Ｒ′　　　　　　Ｒ″　　　　　　
　　　　　　　　　　Ｒ″′　　　　　　　　　　　　
外観２　　　　　　　　　　Ｈ　　　　　　Ｃ２　Ｈ５
　　　　　　　　　−ＯＣ２　Ｈ５　　　　　　　　　
　　蝋状３　　　　　　　　　　Ｈ　　　　ｎ−Ｃ４　
Ｈ９　−　　　　−ＣＨ３　　　　　　　　　　　　　
　　軟質樹脂４　　　　　　　　　　Ｈ　　　　ｎ−Ｃ
４　Ｈ９　−　　　　−ＯＣ２　Ｈ５　　　　　　　　
　　　軟質樹脂５　　　　　　　　ＣＨ３　　　ｎ−Ｃ
４　Ｈ９　−　　　　−ＣＨ３　　　　　　　　　　　
　　融点４０−４４℃

【０１３５】実施例６：式：

【化２６】 の化合物の製造

【０１３６】実施例１に記載したように、１３．２ｇ（
０．０５モル）のＮ−［３−（トリエトキシシリル）−
プロピル］−エチレンジアミンを、４８ｇ（０．１モル
）の２−クロロ−４，６−ビス［Ｎ−（２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジル）エチルアミノ］−１
，３，５−トリアジンと反応させる。得られた生成物は
７９−８１℃で融解する。 元素分析値、理論式：Ｃ６１Ｈ１１８　Ｎ１６Ｏ３　Ｓ
ｉ計算値：　　　　Ｃ＝６３．６１％；　　Ｈ＝１０．
３２％；　　Ｎ＝１９．４６％ 実測値：　　　　Ｃ＝６３．３１％；　　Ｈ＝１０．４
７％　　　　Ｎ＝１９．３１％

【０１３７】実施例７：式：

【化２７】 の反復単位を含有するポリシロキサンの製造

【０１３８
】２０．１ｇ（０．１０５モル）の３−（ジエトキシメ
チルシリル）プロピルアミンを、３００ｍｌのビス（２
−メトキシエチル）エーテル中の４８ｇ（０．１モル）
の２−クロロ−４，６−ビス［Ｎ−（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）エチルアミノ］−１，
３，５−トリアジンの、還流下加熱している溶液に、９
０分間にわたり添加する。

【０１３９】添加終了後、混合物を４時間にわたり還流
下加熱し、次いで溶媒を減圧下蒸発し、残留分を２４０
ｍｌの１ＮＨＣｌに溶解する。その溶液を常温下２時間
攪拌し、次いで常温下１時間にわたり、５０ｍｌの水中
の１５ｇの水酸化ナトリウムの溶液で処理する。

【０１４０】生成した沈澱をろ過し、中性になる迄水洗
し、乾燥する。得られた生成物は１２３−１２６℃の融
点を持ち、数平均分子量：Ｍｎ＝２２００である。

【０１４１】実施例８：実施例７中と同じポリシロキサ
ンは、実施例７に記載してあるようにして、０．１０５
モルの３−（ジエトキシメチルシリル）プロピルアミン
を、０．１モルの２−クロロ−４，６−ビス［Ｎ−（２
，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）エチル
アミノ］−１，３，５−トリアジンと反応させ、そして
反応の終了後有機溶液に３３％水酸化ナトリウム水溶液
の１３．５ｇを添加し、１２０℃で２時間加熱すること
により製造する。常温に冷却した後、水層を分離し、溶
媒を減圧下蒸発し、残留分を水で洗浄しそして乾燥する
。

【０１４２】生成物は、１１６−１１９℃の融点を持ち
、数平均分子量：Ｍｎ＝２１７０を持つ。

【０１４３】実施例９：実施例７に従って、各々の試薬
を使用して、式：

【化２８】 の反復単位を含有し、１０８−１１５℃の融点を持ちそ
して数平均分子量：Ｍｎ＝２８００を持つポリシロキサ
ンを製造する。

【０１４４】実施例１０：実施例８に記載した手順に従
い、各々の試薬を使用し、式：

【化２９】 の反復単位を含有し、１４７−１５０℃の融点を持ちそ
して数平均分子量：Ｍｎ＝３６８０を持つポリシロキサ
ンを製造する。

【０１４５】実施例１１：式：

【化３０】 の反復単位を含有するポリシロキサンの製造

【０１４６
】２２．１ｇ（０．１０５モル）の３−（トリエトキシ
シリル）プロピルアミンを、３００ｍｌのビス（２−メ
トキシエチル）エーテル中の５３．６ｇ（０．１モル）
の２−クロロ−４，６−ビス［Ｎ−（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミノ］−１，
３，５−トリアジンの、還流下加熱している溶液に、９
０分間にわたり添加する。

【０１４７】添加終了後、混合物を４時間にわたり還流
下加熱し、次いで溶媒を減圧下蒸発する；残留分を２０
０ｍｌの０．５ＮＨＣｌに溶解し、その溶液を４時間還
流する。室温に冷却した後、５０ｍｌの水中の８．８ｇ
の水酸化ナトリウムの溶液を添加し、混合物を１時間に
わたり室温で攪拌する。

【０１４８】生成した沈澱をろ過し、中性になる迄水洗
し、乾燥する。得られた生成物は１３０−１３４℃の融
点を持ち、数平均分子量：Ｍｎ＝５５００を持つ。

【０１４９】実施例１２：実施例１１におけるのと同じ
であるが、数平均分子量：Ｍｎ＝３０５０を持つ化合物
を、実施例１１に記載したように、０．１０５モルの３
−（トリエトキシシリル）プロピルアミンと、０．１モ
ルの２−クロロ−４，６−ビス［Ｎ−（２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミノ］−１
，３，５−トリアジンと反応させ、反応終了後有機溶液
に４．０ｇの３３％水酸化ナトリウム水溶液を添加しそ
して１２０℃で８時間加熱することにより製造する。

【０１５０】室温に冷却後、水層をろ過して除き、溶媒
を減圧下蒸発し、残留分を水で洗浄し、乾燥する。生成
物は１３６−１３９℃の融点を持つ。

【０１５１】実施例１３：式：式：

【化３１】 の反復単位を含有するポリシロキサンの製造

【０１５２
】２０．１ｇ（０．１０５モル）の３−（ジエトキシメ
チルシリル）プロピルアミンを、３００ｍｌのビス（２
−メトキシエチル）エーテル中の２−クロロ−４，６−
ビス［Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−
ピペリジル）ブチルアミノ］−１，３，５−トリアジン
の、還流下加熱してある溶液に９０分間にわたり添加す
る。

【０１５３】添加終了後、混合物を４０分間還流し、溶
媒を減圧下蒸発し、残留分を２４０ｍｌのＨＣｌに溶解
する。

【０１５４】溶液を還流下４時間加熱し、室温に冷却し
そして５０ｍｌの水中の１５ｇの水酸化ナトリウムの溶
液で１時間処理する。

【０１５５】生成した沈澱をろ過して分離し、中性にな
るまで洗浄し、乾燥する。

【０１５６】得られた生成物は、１１３−１１６℃の融
点を持ち、数平均分子量：Ｍｎ＝２６００を持つ。

【０１５７】実施例での数平均分子量は、欧州特許公開
公報ＥＰ−Ａ−２５５，９９０号、第１８頁５４行ない
し第１９頁１５行に記載してあるように、蒸気圧浸透圧
計〔登録商標名「ゴノテック」（Ｇｏｎｏｔｅｃ）　〕
により計測した。

【０１５８】安定剤としての本発明の化合物の効能を、
製造実施例で得られた若干数の化合物をポリプロピレン
製の繊維、テープおよびプラックを安定化するために使
用する下記の実施例で説明する。

【０１５９】実施例１４：（ポリプピレン繊維における
光安定化の作用）２．５ｇの表１に示した各製品、１．
０ｇの亜燐酸トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフ
ェニル）、０．５ｇの３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジルホスホン酸エチルのカルシウム塩、１
ｇのステアリン酸カルシウム１ｇおよび２．５ｇの二酸
化チタンを、メルトインデックス＝１２ｇ／１０ｍｉｎ
（２３０℃，２．１６ｋｇで測定）のポリプロピレン粉
末１０００ｇと共に、低速ミキサー中混合する。混合物
を２００−２３０℃で押し出してポリマー粒状物にし、
これを下記の条件で操作するパイロット型装置〔レオナ
ルド−スミラゴ（Ｌｅｏｎａｒｄ−Ｓｕｍｉｒａｇｏ）
（ＶＡ）イタリー〕を使用して、繊維に加工する： 押し出し温度＝２００−２３０℃ 頭部温度　　　　＝２５５−２６０℃ 延伸比　　　　　　＝１：３．５ 番手　　　　　　　　＝フィラメント当り１１ｄｔｅｘ

【０１６０】かくして得られた繊維を、温度６３℃のブ
ラックパネルを設置したウェザロメーター（ＡＳＴＭ　
　Ｄ　　２５６５−８５）中の白カード上に載せて、暴
露試験に処する。いろいろな暴光時間の後得られる試料
の残留強力を定速張力計により測定する；かくして初期
強力を半減するのに要する暴光時間〔Ｔ５０　　　（単
位：ｈｒ）　〕を計算する。上述したのと同じ方法で作
製したが、安定剤を添加していないテープを比較のため
に暴露する。

【０１６１】得られた結果を表１に掲示する：

【０１６
２】実施例１５：（ポリプロピレンテープにおける光安
定化作用） 各１ｇの表２に掲示してある化合物、１．０ｇのトリス
（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）亜リン酸、０．５
ｇのペンタエリスリトール　　テトラキス−［３−（３
，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロ
ピオネート］および１ｇのステアリン酸カルシウムを、
メルトインデックス＝２ｇ／１０ｍｉｎ（２３０℃，２
．１６ｋｇで測定）のポリプロピレン粉末１０００ｇと
共に、低速ミキサー中混合する。

【０１６３】混合物を２００−２２０℃で押し出してポ
リマー粒状物にし、これを下記の条件で操作するパイロ
ット型装置〔登録商標名、レオナルド−スミラゴ（Ｌｅ
ｏｎａｒｄ−Ｓｕｍｉｒａｇｏ）（ＶＡ）イタリー〕を
使用して、５０μｍ厚、２．５ｍｍ幅の延伸テープに加
工する。 押し出し温度＝２１０−２３０℃ 頭部温度　　　　＝２４０−２６０℃ 延伸比　　　　　　＝１：６ かくして得られたテープを、温度６３℃のブラックパネ
ルを設置したウェザロメーター６５ＷＲ（ＡＳＴＭ　　
Ｄ２５６５−８５）中の白カード上に載せて、暴露試験
に処する。

【０１６４】いろいろな暴光時間の後得られる試料の残
留強力を定速張力計により測定する；かくして初期強力
を半減するのに要する暴光時間〔Ｔ５０　（単位：ｈｒ
）　〕を計算する。上述したのと同じ方法で作製したが
、安定剤を添加していないテープを比較のために暴露す
る。得られた結果を表２に掲示する。

【０１６５】実施例１６：（ポリプロピレンプラックに
於ける抗酸化剤作用） 各１ｇの表３に掲示した化合物、０．５ｇの３−（３，
５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオン酸オクタデシル、１ｇの亜リン酸トリス（２
，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）および１ｇのス
テアリン酸カルシウムを、メルトインデックス＝２ｇ／
１０ｍｉｎ（２３０℃，２．１６ｋｇで測定）のポリプ
ロピレン粉末１０００ｇと共に、低速ミキサー中混合す
る。

【０１６６】混合物を２００−２２０℃で２回押し出し
てポリマー粒状物にし、これを２３０℃で６分間圧縮成
形して厚さ１ｍｍのプラックに変形する。　　次いで、
このプラックをＤＩＮ　　５３４５１の金型を使用して
押し抜き、得られた試験片を、１３５℃の温度に保った
強制循環空気炉中暴露する。試験片を、通常の間隔で、
破断に要する時間〔単位：時間（ｈｏｕｒ）〕を決める
ために１８０℃で折り重ねた。上述の条件で調整したが
、本発明の化合物を添加してない試料も比較のために暴
露する。得られた結果を表３に示す。 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　表３　　　　　　　　　　安定剤　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　破断に至る時
間（ｈｒ）　　　　　　　　　　　無添加　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　５５０　　　　
実施例５の化合物　　　　　　　　　　　　　　　　１
９００　　　　実施例７の化合物　　　　　　　　　　
　　　　　　１９５０　　　　実施例９の化合物　　　
　　　　　　　　　　　　　１８９０　　　　実施例１
３の化合物　　　　　　　　　　　　　　２０５０

【０
１６７】式（Ｉ）の化合物は、安定剤として、特に、写
真複写と例えば研究公開（Ｒｅｓｅａｒｃｈ　Ｄｉｓｃ
ｌｏｓｕｒｅ）１９９０，３１４２９号（４７４ないし
４８０頁）に記載されているような他の複写の技術で知
られている殆ど全ての材料の光安定剤としても使用でき
る。

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】式（Ｉ） 【化１】 ｛式中、Ｒ１　は式（ＩＩ） 【化２】 〔式中、Ｒ７　は水素原子、炭素原子数１ないし８のア
   ルキル基、Ｏ．　、ＯＨ、ＮＯ、ＣＨ２　ＣＮ、炭素原
   子数１ないし１８のアルコキシ基、炭素原子数５ないし
   １２のシクロアルコキシ基、炭素原子数３ないし６のア
   ルケニル基、未置換のまたは炭素原子数１ないし４のア
   ルキル基によりフェニル基上が単、二または三置換され
   た炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；または
   炭素原子数１ないし８のアシル基を表し；Ｘは−Ｏ−ま
   たは＞Ｎ−Ｒ１０（式中、Ｒ１０は水素原子、炭素原子
   数１ないし１８のアルキル基；炭素原子数１ないし８の
   アルコキシ基により、ジ（炭素原子数１ないし４のアル
   キル）アミノ基によりまたは窒素原子上に自由価をもつ
   ５員ないし７員の含窒素複素環により２−、３−または
   ４−位が置換された炭素原子数２ないし４のアルキル基
   ；未置換のまたは炭素原子数１ないし４のアルキル基に
   より単、二または三置換された炭素原子数５ないし１２
   のシクロアルキル基；未置換のまたは炭素原子数１ない
   し４のアルキル基によりフェニル基上が単、二または三
   置換された炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基
   ；テトラヒドロフルフリル基またはＲ７　が上と同じに
   定義される式（ＩＩＩ　） 【化３】 の基を表す。）を表すか；またはＸはＲ７　が１，４−
   ピペラジンジイル基またはＲ７　が上と同じに定義され
   そしてピペリジル基により置換された窒素原子が式（Ｉ
   Ｉ）の基のトリアジン環に結合している式（ＩＶａ）ま
   たは（ＩＶｂ） 【化４】 の基を表してもよく；Ｒ８　は式（Ｖａ）−（Ｖｄ）【
   化５】 （式中、Ｒ１１はＲ７　のために定義されたのと同じで
   あり；ＺはＸのために定義されたのと同じであり；そし
   て同一または異なっていてよいＲ１２、Ｒ１３およびＲ
   １４は水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基
   、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基により、ジ（炭
   素原子数１ないし４のアルキル）アミノ基によりまたは
   窒素原子上に自由価をもつ５員ないし７員の含窒素複素
   環により２−、３−または４−位が置換された炭素原子
   数２ないし４のアルキル基；未置換のまたは炭素原子数
   １ないし４のアルキル基により単、二または三置換され
   た炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基；炭素原
   子数３ないし１８のアルケニル基、未置換のまたは炭素
   原子数１ないし４のアルキル基または炭素原子数１ない
   し４のアルコキシ基により単、二または三置換されたフ
   ェニル基；未置換のまたは炭素原子数１ないし４のアル
   キル基によりフェニル基上が単、二または三置換された
   炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基；またはテ
   トラヒドロフルフリル基を表すか；またはＲ１３はＯＨ
   または炭素原子数１ないし８のアルコキシ基を表すか；
   またはＲ１３（Ｒ１４）Ｎ−は５−員ないし７−員の複
   素環基を表す。）の基の一つを表し；Ｒ９　は炭素原子
   数１ないし１２のアルキレン基またはＲ７　、Ｒ８　お
   よびＸが上と同じに定義される式（ＶＩ） 【化６】 の基の１または２個により中断された炭素原子数５ない
   し１５のアルキレン基を表し；Ｙは基：＞Ｎ−Ｒ１５（
   式中、Ｒ１５は水素原子、炭素原子数１ないし１８のア
   ルキル基、未置換のまたは炭素原子数１ないし４のアル
   キル基により単、二または三置換された炭素原子数５な
   いし１２のシクロアルキル基；または未置換のまたは炭
   素原子数１ないし４のアルキル基によりフェニル基上が
   単、二または三置換された炭素原子数７ないし９のフェ
   ニルアルキル基を表す。）を表すか；またはＹは、Ｒ９
   　が炭素原子数１ないし１２のアルキレン基を表す時、
   −Ｏ−または−Ｓ−であってもよい。〕の基を表し；Ｒ
   ２　は炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数
   １ないし８のアルコキシ基、ＯＨ、ＯＮａまたはＯＫを
   表し；同一または異なることのできるＲ３　とＲ４　は
   、炭素原子数１ないし８のアルキル基またはフェニル基
   を表し；ｍ＋ｎは１ないし１００の数を表し；ｎは零ま
   たは１ないし９０の数を表し；そしてｍ＋ｎの合計の零
   から９０％に変わることができ；Ｒ５　は水素原子、炭
   素原子数１ないし８のアルキル基、Ｎａ、ＫまたはＲ１
   ６が炭素原子数１ないし８のアルキル基であり得る基：
   （Ｒ１６）３　Ｓｉ−を表し；そしてＲ６　は炭素原子
   数１ないし８のアルコキシ基、ＯＨ、ＯＮａ、ＯＫまた
   はＲ１６が上と同じに定義される基：（Ｒ１６）３　Ｓ
   ｉＯ−を表しそして；ｍ＋ｎが３ないし１０の数を表す
   場合、Ｒ５　とＲ６　は一緒になって直接結合も形成で
   きる。｝により表される化合物であって；基：Ｒ１　、
   Ｒ２　、Ｒ３　およびＲ４　の各々は、式（Ｉ）に包含
   される反復単位中において同じ定義または異なる定義を
   持ってもよく；そして式（Ｉ）の化合物が共重合体であ
   る時、それらは個々の構造単位のランダム分布またはブ
   ロック分布を持つことのできる化合物。
2. 【請求項２】式中、ｍ＋ｎが１ないし１００の数を表し
   ；ｎは、零または１ないし５０の数を表しそしてｍ＋ｎ
   の合計の零から５０％まで変わることができる請求項１
   記載の式（Ｉ）の化合物。
3. 【請求項３】式中、同一または異なることのできるＲ７
   　とＲ１１は、水素原子、炭素原子数１ないし４のアル
   キル基、ＯＨ、炭素原子数６ないし１２のアルコキシ基
   、炭素原子数５ないし８のシクロアルコキシ基、アリル
   基、ベンジル基またはアセチル基を表す請求項１記載の
   式（Ｉ）の化合物。
4. 【請求項４】式中、Ｒ１　は式（ＩＩ）の基を表し；Ｘ
   は−Ｏ−または＞Ｎ−Ｒ１０を表し；Ｒ１０は水素原子
   、炭素原子数１ないし１２のアルキル基；炭素原子数１
   ないし４のアルコキシ基により、ジ（炭素原子数１ない
   し４のアルキル）アミノ基によりまたは１−ピロリジル
   基、１−ピペリジル基もしくは４−モルホリニル基によ
   り２−または３−位が置換された炭素原子数２ないし３
   のアルキル基；未置換のまたは炭素原子数１ないし４の
   アルキル基により単、二または三置換された炭素原子数
   ５ないし８のシクロアルキル基；ベンジル基、テトラヒ
   ドロフルフリル基または式（ＩＩＩ　）の基を表し；ま
   たはＸは１，４−ピペラジル基または式（ＩＶａ）また
   は（ＩＶｂ）の基であってもよく；Ｒ８　は、式中、Ｚ
   がＸのために定義したのと同じである式（Ｖａ）−（Ｖ
   ｄ）の基の一つを表し；そして同一または異なっていて
   よいＲ１２、Ｒ１３およびＲ１４は水素原子、炭素原子
   数１ないし１２のアルキル基；炭素原子数１ないし４の
   アルコキシ基により、ジ（炭素原子数１ないし４のアル
   キル）アミノ基によりまたは１−ピロリジル基、１−ピ
   ペリジル基もしくは４−モルホリニル基により２−また
   は３−位が置換された炭素原子数２ないし３のアルキル
   基；未置換のまたは炭素原子数１ないし４のアルキル基
   により単、二または三置換された炭素原子数５ないし８
   のシクロアルキル基；フェニル基、ベンジル基またはテ
   トラヒドロフルフリル基を表すか；またはＲ１３はＯＨ
   または炭素原子数１ないし４のアルコキシ基を表すか；
   またはＲ１３（Ｒ１４）Ｎ−は１−ピロリジル基、１−
   ピペリジル基、４−モルホリニル基または１−ヘキサヒ
   ドロアゼピニル基を表し；Ｒ９　は炭素原子数１ないし
   ６のアルキレン基または式　（ＶＩ）　の１または２の
   基により中断されている炭素原子数５ないし９のアルキ
   レン基を表し；Ｙは、Ｒ１５が水素原子、炭素原子数１
   ないし１２のアルキル基、未置換のまたは炭素原子数１
   ないし４のアルキル基により単、二または三置換された
   炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基；またはベン
   ジル基を表す基：＞Ｎ−Ｒ１５を表すか；またはＹは、
   Ｒ９　が炭素原子数１ないし６のアルキレン基を表す時
   、−Ｏ−または−Ｓ−であってもよく；Ｒ２　は炭素原
   子数１ないし６のアルキル基、炭素原子数１ないし６の
   アルコキシ基、ＯＨ、ＯＮａまたはＯＫを表し；同一ま
   たは異なることのできるＲ３　とＲ４　は炭素原子数１
   ないし６のアルキル基またはフェニル基を表し；ｍ＋ｎ
   は１ないし５０の数を表し；ｎは零または１ないし４５
   の数を表してｍ＋ｎの合計の零ないし９０％に変わるこ
   とができ；Ｒ５　は水素原子、炭素原子数１ないし６の
   アルキル基、Ｎａ、ＫまたはＲ１６が炭素原子数１ない
   し４のアルキル基である基：（Ｒ１６）３　Ｓｉ−を表
   し；そしてＲ６　は炭素原子数１ないし６のアルコキシ
   基、ＯＨ、ＯＮａ、ＯＫまたはＲ１６が上と同じに定義
   される基：（Ｒ１６）３　ＳｉＯ−を表し；そして、ｍ
   ＋ｎが３ないし１０の数を表す時、Ｒ５　とＲ６　は一
   緒になって直接結合も形成することもできる請求項１記
   載の式（Ｉ）の化合物。
5. 【請求項５】式中、Ｒ１　は式（ＩＩ）の基を表し；Ｘ
   は−Ｏ−または＞Ｎ−Ｒ１０を表し；Ｒ１０は水素原子
   、炭素原子数１ないし１０のアルキル基；メトキシ基に
   より、エトキシ基により、ジメチルアミノ基により、ジ
   エチルアミノ基によりもしくは４−モルホリニル基によ
   り２−または３−位が置換された炭素原子数２ないし３
   のアルキル基；未置換のまたは炭素原子数１ないし４の
   アルキル基により単、二または三置換されたシクロヘキ
   シル基；ベンジル基、テトラヒドロフルフリル基または
   式（ＩＩＩ　）の基を表し；またはＸは式（ＩＶａ）ま
   たは（ＩＶｂ）の基であってもよく；Ｒ８　は、式中、
   ＺがＸのために定義したのと同じである式（Ｖａ）−（
   Ｖｄ）の基の一つを表し；そして同一または異なってい
   てよいＲ１２、Ｒ１３およびＲ１４は炭素原子数１ない
   し１０のアルキル基；メトキシ基により、エトキシ基に
   より、ジメチルアミノ基により、ジエチルアミノ基によ
   りもしくは４−モルホリニル基により２−または３−位
   が置換された炭素原子数２ないし３のアルキル基；未置
   換のまたは炭素原子数１ないし４のアルキル基により単
   、二または三置換されたシクロヘキシル基；アリル基、
   フェニル基、ベンジル基またはテトラヒドロフルフリル
   基を表すか；またはＲ１３は水素原子またはＯＨであっ
   てもよく；またはＲ１３（Ｒ１４）Ｎ−は４−モルホリ
   ニル基を表し；Ｒ９　は炭素原子数１ないし４のアルキ
   レン基または式　（ＶＩ）　の１または２の基により中
   断されている炭素原子数５ないし７のアルキレン基を表
   し；Ｙは、Ｒ１５が水素原子、炭素原子数１ないし１０
   のアルキル基、未置換のまたは炭素原子数１ないし４の
   アルキル基により単、二または三置換されたシクロヘキ
   シル基；またはベンジル基を表す基：＞Ｎ−Ｒ１５を表
   すか；またはＹは、Ｒ９　が炭素原子数１ないし４のア
   ルキレン基を表す時、−Ｏ−または−Ｓ−であってもよ
   く；Ｒ２　は炭素原子数１ないし４のアルキル基、炭素
   原子数１ないし４のアルコキシ基、ＯＨ、ＯＮａまたは
   ＯＫを表し；同一または異なることのできるＲ３　とＲ
   ４　は炭素原子数１ないし４のアルキル基またはフェニ
   ル基を表し；ｍ＋ｎは１ないし３０の数を表し；ｎは零
   または１ないし２７の数を表しそしてｍ＋ｎの合計の零
   ないし９０％に変わることができ；Ｒ５　は水素原子、
   炭素原子数１ないし４のアルキル基、Ｎａ、Ｋまたは基
   ：（ＣＨ３　）３　Ｓｉ−を表し；そしてＲ６　は炭素
   原子数１ないし４のアルコキシ基、ＯＨ、ＯＮａ、ＯＫ
   または基：（ＣＨ３　）３　ＳｉＯ−を表し；そして、
   ｍ＋ｎが３ないし１０の数を表す時、Ｒ５　とＲ６　は
   一緒になって直接結合を形成することもできる請求項１
   記載の式（Ｉ）の化合物。
6. 【請求項６】式中、Ｒ１　は式（ＩＩ）の基を表し；Ｘ
   は−Ｏ−または＞Ｎ−Ｒ１０を表し；Ｒ１０は水素原子
   、炭素原子数１ないし８のアルキル基、シクロヘキシル
   基、ベンジル基、テトラヒドロフルフリル基または式（
   ＩＩＩ　）の基を表すか；またはＸは式（ＩＶａ）また
   は（ＩＶｂ）の基であってもよく；Ｒ８　は、式中、Ｚ
   がＸのために定義したのと同じである式（Ｖａ）の基を
   表し；Ｒ９　は炭素原子数２ないし４のアルキレン基ま
   たは式　（ＶＩ）　の基により中断されている炭素原子
   数５ないし６のアルキレン基を表し；Ｙは、Ｒ１５が水
   素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基、シクロヘ
   キシル基またはベンジル基を表す基：＞Ｎ−Ｒ１５を表
   すか；またはＹは、Ｒ９　が炭素原子数２ないし４のア
   ルキレン基を表す時、−Ｏ−または−Ｓ−であってもよ
   く；Ｒ２　は炭素原子数１ないし３のアルキル基、炭素
   原子数１ないし３のアルコキシ基またはＯＨを表し；Ｒ
   ３　とＲ４　はメチル基を表し；ｍ＋ｎは１ないし２０
   の数を表し；ｎは零または１ないし１０の数を表しそし
   てｍ＋ｎの合計の零ないし５０％に変わることができ；
   Ｒ５　は水素原子、炭素原子数１ないし３のアルキル基
   、Ｎａ、Ｋまたは基：（ＣＨ３　）３　Ｓｉ−を表し；
   そしてＲ６　は炭素原子数１ないし３のアルコキシ基、
   ＯＨ、ＯＮａ、ＯＫまた（ＣＨ３　）３　ＳｉＯ−を表
   し；そして、ｍ＋ｎが３ないし１０の数を表す時、Ｒ５
   　とＲ６　は一緒になって直接結合を形成することもで
   きる請求項１記載の式（Ｉ）の化合物。
7. 【請求項７】式中、Ｒ１　は式（ＩＩ）の基を表し；Ｒ
   ７　は水素原子またはメチル基を表し；Ｘは−Ｏ−また
   はＲ１０が炭素原子数１ないし８のアルキル基、２，２
   ，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル基または１，
   ２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル基であ
   る＞Ｎ−Ｒ１０を表し；Ｒ８　は、式中、Ｒ１１が水素
   原子もしくはメチル基を表しそしてＺがＸのために定義
   したのと同じである式（Ｖａ）の基を表し；Ｙは＞Ｎ−
   Ｈを表し；Ｒ９　はトリメチレン基または式中、Ｑが式
   （ＶＩ）の基である−（ＣＨ２　）２　−Ｑ−（ＣＨ２
   　）３　−を表し；Ｒ２　はメチル基、メトキシ基、エ
   トキシ基またはＯＨを表し；ｍは１ないし１０の数を表
   し；ｎは零を表し；Ｒ５　は水素原子、メチル基または
   エチル基を表し；そしてＲ６はメトキシ基、エトキシ基
   またはＯＨ基を表し；そしてｍが３ないし１０の数を表
   す時、Ｒ５　とＲ６　は一緒になって直接結合も形成で
   きる請求項１記載の式（Ｉ）の化合物。
8. 【請求項８】式中、Ｒ１　は式（ＩＩ）の基を表し；Ｒ
   ７　は水素原子またはメチル基を表し；ＸはＲ１０が炭
   素原子数１ないし４のアルキル基である＞Ｎ−Ｒ１０を
   表し；Ｒ８　は、式中、Ｒ１１が水素原子もしくはメチ
   ル基を表しそしてＺがＸのために定義したのと同じであ
   る式（Ｖａ）の基を表し；Ｙは＞Ｎ−Ｈを表し；Ｒ９　
   はトリメチレン基を表し；Ｒ２　はメチル基、エトキシ
   基またはＯＨを表し；ｍは１ないし１０の数を表し；ｎ
   は零を表し；Ｒ５　はエチル基を表し；そしてＲ６　は
   エトキシ基を表し；そしてｍが３ないし１０の数を表す
   時、Ｒ５　とＲ６　は一緒になって直接結合も形成でき
   る請求項１記載の式（Ｉ）の化合物。
9. 【請求項９】光、熱および酸化により誘導される分解に
   対して感受性があり材料と請求項１記載の式（Ｉ）の化
   合物の少なくとも一種を含有する組成物。
10. 【請求項１０】有機材料が合成高分子である請求項９記
    載の組成物。
11. 【請求項１１】式（Ｉ）の化合物に加えて、合成樹脂用
    の他の常用の添加剤を含有する請求項１０記載の組成物
    。
12. 【請求項１２】有機材料がポリオレフィンである請求項
    ９記載の組成物。
13. 【請求項１３】有機材料がポリエチレンまたはポリプロ
    ピレンである請求項９記載の組成物。