JPH04305610A - 空間フィルターの設置方法 - Google Patents
空間フィルターの設置方法Info
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- JPH04305610A JPH04305610A JP7110291A JP7110291A JPH04305610A JP H04305610 A JPH04305610 A JP H04305610A JP 7110291 A JP7110291 A JP 7110291A JP 7110291 A JP7110291 A JP 7110291A JP H04305610 A JPH04305610 A JP H04305610A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光学式走査型顕微鏡や
光走査読取装置等において用いられるピンホール板やス
リット板等の空間フィルターを設置する方法に関するも
のである。
光走査読取装置等において用いられるピンホール板やス
リット板等の空間フィルターを設置する方法に関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】従来より、照明光としてのレーザビーム
を微小な光点に収束させ、この光点を試料上において2
次元的に走査させ、その際該試料を透過した光あるいは
そこで反射した光、さらには試料から生じた蛍光を光検
出器で検出して、試料の拡大像を担持する電気信号を得
るようにした光学式走査型顕微鏡が公知となっている。 なお特開昭62−217218 号公報には、この走査
型顕微鏡の一例が示されている。
を微小な光点に収束させ、この光点を試料上において2
次元的に走査させ、その際該試料を透過した光あるいは
そこで反射した光、さらには試料から生じた蛍光を光検
出器で検出して、試料の拡大像を担持する電気信号を得
るようにした光学式走査型顕微鏡が公知となっている。 なお特開昭62−217218 号公報には、この走査
型顕微鏡の一例が示されている。
【0003】この種の走査型顕微鏡においては、通常、
試料からの光を検出する光検出器の前にピンホール板や
スリット板を配して、この光のハローや、試料で散乱し
た光等の不要光をカットするようにしている。例えば特
開昭62−138819 号公報にはスリット板の一例
が、また本出願人による特願平2−143544号明細
書にはピンホール板の一例が示されている。
試料からの光を検出する光検出器の前にピンホール板や
スリット板を配して、この光のハローや、試料で散乱し
た光等の不要光をカットするようにしている。例えば特
開昭62−138819 号公報にはスリット板の一例
が、また本出願人による特願平2−143544号明細
書にはピンホール板の一例が示されている。
【0004】このようなピンホール板やスリット板等の
微小開口を有する空間フィルターは、走査型顕微鏡のみ
ならず、例えば特開平1−207736号公報に示され
るように、光走査読取装置において光ビームで走査され
た読取原稿からの光を検出する場合にも、光検出器の前
側に設置されることが多い。
微小開口を有する空間フィルターは、走査型顕微鏡のみ
ならず、例えば特開平1−207736号公報に示され
るように、光走査読取装置において光ビームで走査され
た読取原稿からの光を検出する場合にも、光検出器の前
側に設置されることが多い。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上述のような空間フィ
ルターは、その開口の中心が、試料や読取原稿等の測定
対象物上のビームスポット中心と整合するように、正確
に位置決めされなければならない。この空間フィルター
の位置決め調整は非常に難しく、それが走査型顕微鏡等
の装置の組立て、保守を面倒なものとし、装置のコスト
アップや使い勝手の悪さを招くものとなっていた。
ルターは、その開口の中心が、試料や読取原稿等の測定
対象物上のビームスポット中心と整合するように、正確
に位置決めされなければならない。この空間フィルター
の位置決め調整は非常に難しく、それが走査型顕微鏡等
の装置の組立て、保守を面倒なものとし、装置のコスト
アップや使い勝手の悪さを招くものとなっていた。
【0006】そこで本発明は、面倒な位置決め調整を必
要とせずに上記空間フィルターを設置することができる
方法を提供することを目的とする。
要とせずに上記空間フィルターを設置することができる
方法を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明による第1の空間
フィルターの設置方法は、測定対象物で反射した光を検
出する場合、あるいは測定対象物からの発光光をレーザ
ービーム照射側から検出する場合のためのものであり、
すなわち、前述した走査型顕微鏡や光走査読取装置のよ
うに、レーザビームを所定の入射光学系を通して測定対
象物に照射し、その際の該測定対象物からの光を、レー
ザビーム照射側から空間フィルターの微小開口を通して
光検出器により検出する装置において、◆空間フィルタ
ーの設置位置に遮光性光破壊部材を配設し、◆上記測定
対象物が配されるべき位置に光反射部材を配置し、◆上
記入射光学系を通して上記光反射部材に向けて加工用レ
ーザビームを照射し、そのとき該光反射部材で反射した
レーザビームにより光破壊部材を破壊してそこに微小開
口を形成し、この光破壊部材をそのままの位置に残して
空間フィルターとすることを特徴とするものである。
フィルターの設置方法は、測定対象物で反射した光を検
出する場合、あるいは測定対象物からの発光光をレーザ
ービーム照射側から検出する場合のためのものであり、
すなわち、前述した走査型顕微鏡や光走査読取装置のよ
うに、レーザビームを所定の入射光学系を通して測定対
象物に照射し、その際の該測定対象物からの光を、レー
ザビーム照射側から空間フィルターの微小開口を通して
光検出器により検出する装置において、◆空間フィルタ
ーの設置位置に遮光性光破壊部材を配設し、◆上記測定
対象物が配されるべき位置に光反射部材を配置し、◆上
記入射光学系を通して上記光反射部材に向けて加工用レ
ーザビームを照射し、そのとき該光反射部材で反射した
レーザビームにより光破壊部材を破壊してそこに微小開
口を形成し、この光破壊部材をそのままの位置に残して
空間フィルターとすることを特徴とするものである。
【0008】また本発明の第2の空間フィルターの設置
方法は、測定対象物を透過した光を検出する場合、ある
いは測定対象物からの発光光をレーザビーム照射側と反
対側から検出する場合のためのものであり、すなわち、
レーザビームを所定の入射光学系を通して測定対象物に
照射し、その際の該測定対象物からの光を、レーザビー
ム照射側と反対側から空間フィルターの微小開口を通し
て光検出器により検出する装置において、◆上記空間フ
ィルターの設置位置に遮光性光破壊部材を配設し、◆上
記入射光学系を通して上記光破壊部材に向けて加工用レ
ーザビームを照射し、このレーザビームにより光破壊部
材を破壊してそこに微小開口を形成し、この光破壊部材
をそのままの位置に残して空間フィルターとすることを
特徴とするものである。
方法は、測定対象物を透過した光を検出する場合、ある
いは測定対象物からの発光光をレーザビーム照射側と反
対側から検出する場合のためのものであり、すなわち、
レーザビームを所定の入射光学系を通して測定対象物に
照射し、その際の該測定対象物からの光を、レーザビー
ム照射側と反対側から空間フィルターの微小開口を通し
て光検出器により検出する装置において、◆上記空間フ
ィルターの設置位置に遮光性光破壊部材を配設し、◆上
記入射光学系を通して上記光破壊部材に向けて加工用レ
ーザビームを照射し、このレーザビームにより光破壊部
材を破壊してそこに微小開口を形成し、この光破壊部材
をそのままの位置に残して空間フィルターとすることを
特徴とするものである。
【0009】なお上記第1の方法においても、また第2
の方法においても、加工用レーザビームとしては、本来
測定対象物に照射されるレーザビームを用いてもよいし
、あるいは加工用レーザ光源から発せられた加工専用の
レーザビームを入射光学系内に導いて用いるようにして
もよい。
の方法においても、加工用レーザビームとしては、本来
測定対象物に照射されるレーザビームを用いてもよいし
、あるいは加工用レーザ光源から発せられた加工専用の
レーザビームを入射光学系内に導いて用いるようにして
もよい。
【0010】
【作用】上述のように、本来の測定に利用されるレーザ
ビームと同じ光路を辿る加工用レーザビームにより空間
フィルターの微小開口を加工すれば、その微小開口は必
ず、本来の測定時に測定対象物を照射するレーザビーム
のスポット中心と整合する位置に形成されることになる
。
ビームと同じ光路を辿る加工用レーザビームにより空間
フィルターの微小開口を加工すれば、その微小開口は必
ず、本来の測定時に測定対象物を照射するレーザビーム
のスポット中心と整合する位置に形成されることになる
。
【0011】
【発明の効果】したがって本発明によれば、空間フィル
ターを位置決め調整することが不要となるので、装置の
組立て、保守が簡単になり、装置のコストダウン、使い
勝手改善の効果が得られる。
ターを位置決め調整することが不要となるので、装置の
組立て、保守が簡単になり、装置のコストダウン、使い
勝手改善の効果が得られる。
【0012】
【実施例】以下、図面に示す実施例に基づいて本発明を
詳細に説明する。図2は、本発明方法によりピンホール
板を設置する共焦点走査型顕微鏡を示すものである。ま
ずこの共焦点走査型顕微鏡の基本構成について説明する
。単色光レーザ10からは、照明光としてのレーザビー
ム11が射出される。紙面に平行な方向に直線偏光した
この照明光11は、強度調節用のAOM(音響光学光変
調器)12により減衰されてミラー13で反射し、ビー
ムエキスパンダー14でビーム径が拡大されて、走査部
15のPBS(偏光ビームスプリッタ)16に入射する
。照明光11はこのPBS16の膜面16aにP波とし
て入射してそこを透過し、λ/4板17により円偏光と
された上で対物レンズ18に入射する。照明光11はこ
の対物レンズ18によって集光され、試料台22上に載
置された試料23上で(表面あるいは内部で)微小な光
点Pに収束する。
詳細に説明する。図2は、本発明方法によりピンホール
板を設置する共焦点走査型顕微鏡を示すものである。ま
ずこの共焦点走査型顕微鏡の基本構成について説明する
。単色光レーザ10からは、照明光としてのレーザビー
ム11が射出される。紙面に平行な方向に直線偏光した
この照明光11は、強度調節用のAOM(音響光学光変
調器)12により減衰されてミラー13で反射し、ビー
ムエキスパンダー14でビーム径が拡大されて、走査部
15のPBS(偏光ビームスプリッタ)16に入射する
。照明光11はこのPBS16の膜面16aにP波とし
て入射してそこを透過し、λ/4板17により円偏光と
された上で対物レンズ18に入射する。照明光11はこ
の対物レンズ18によって集光され、試料台22上に載
置された試料23上で(表面あるいは内部で)微小な光
点Pに収束する。
【0013】試料23で反射した反射光11”の光束は
対物レンズ18によって平行光とされ、λ/4板17で
直線偏光とされるが、この直線偏光の向きは、試料23
に向かう照明光11の直線偏光方向に対して90°ずれ
ることになる。 したがってこの反射光11”はS偏光状態でPBS16
の膜面16aに入射してそこで反射し、照明光11から
分岐される。分岐した反射光11”は収束レンズ24に
よって集光されて収束し、その一部がハーフミラー27
を透過し、その光量が例えばフォトダイオード等の光検
出器25によって検出される。光検出器25はこの反射
光11”の光量、すなわち試料23の明るさを示す信号
Sを出力する。
対物レンズ18によって平行光とされ、λ/4板17で
直線偏光とされるが、この直線偏光の向きは、試料23
に向かう照明光11の直線偏光方向に対して90°ずれ
ることになる。 したがってこの反射光11”はS偏光状態でPBS16
の膜面16aに入射してそこで反射し、照明光11から
分岐される。分岐した反射光11”は収束レンズ24に
よって集光されて収束し、その一部がハーフミラー27
を透過し、その光量が例えばフォトダイオード等の光検
出器25によって検出される。光検出器25はこの反射
光11”の光量、すなわち試料23の明るさを示す信号
Sを出力する。
【0014】なお光検出器25の前側の反射光11”の
収束位置には、後述のようにして形成されるピンホール
板26が設置されている。反射光11”をこのピンホー
ル板26のピンホール26aに通すことにより、そのハ
ローや、試料23で散乱した光等の不要光をカットする
ことができる。
収束位置には、後述のようにして形成されるピンホール
板26が設置されている。反射光11”をこのピンホー
ル板26のピンホール26aに通すことにより、そのハ
ローや、試料23で散乱した光等の不要光をカットする
ことができる。
【0015】ここで、前述した走査部15は図示しない
駆動手段により、照明光光点Pが試料23上を2次元的
に走査するように駆動される。なおこの照明光走査を行
なうための機構としては、例えば前記特願平2−143
544号明細書に示されるものや、その他の公知のもの
を用いることができる。こうして光点Pが試料23上を
2次元的に走査することにより、該試料23の2次元拡
大像を担持する連続的な信号Sが得られる。この信号S
は信号処理部20に送られ、例えば所定周期毎にサンプ
リングする等により、画素分割された信号とされる。こ
の信号を例えばCRT表示装置等に入力すれば、上記の
拡大像を再生することができる。
駆動手段により、照明光光点Pが試料23上を2次元的
に走査するように駆動される。なおこの照明光走査を行
なうための機構としては、例えば前記特願平2−143
544号明細書に示されるものや、その他の公知のもの
を用いることができる。こうして光点Pが試料23上を
2次元的に走査することにより、該試料23の2次元拡
大像を担持する連続的な信号Sが得られる。この信号S
は信号処理部20に送られ、例えば所定周期毎にサンプ
リングする等により、画素分割された信号とされる。こ
の信号を例えばCRT表示装置等に入力すれば、上記の
拡大像を再生することができる。
【0016】次に、前述のピンホール板26を形成する
方法について図1を参照して説明する。走査型顕微鏡を
組み立てる際、収束レンズ24による反射光11”の収
束位置には、ピンホール板26の材料となる板状の遮光
性光破壊部材26Aが配設される。この光破壊部材26
Aは図3に詳しく示すように、光学ガラスなどの透明支
持体26B上に、例えばCr等の遮光性金属蒸着膜26
Cが形成されたものである。この光破壊部材26Aは3
次元移動ステージ30に保持されて、X、YおよびZ方
向に位置調整可能となっている。
方法について図1を参照して説明する。走査型顕微鏡を
組み立てる際、収束レンズ24による反射光11”の収
束位置には、ピンホール板26の材料となる板状の遮光
性光破壊部材26Aが配設される。この光破壊部材26
Aは図3に詳しく示すように、光学ガラスなどの透明支
持体26B上に、例えばCr等の遮光性金属蒸着膜26
Cが形成されたものである。この光破壊部材26Aは3
次元移動ステージ30に保持されて、X、YおよびZ方
向に位置調整可能となっている。
【0017】一方対物レンズ18は専用の治具31と組
み合わされた上で、所定の位置(実使用される際と同じ
位置)に保持される。この治具31は底面にミラー31
aを備えた有底筒状のものであり、対物レンズ18に対
して所定状態に組み合わされると、上記ミラー31aが
対物レンズ18の焦点面に位置するように形成されてい
る。なおこの焦点面は、走査型顕微鏡の実使用状態下で
は、試料23が位置することになる面である。
み合わされた上で、所定の位置(実使用される際と同じ
位置)に保持される。この治具31は底面にミラー31
aを備えた有底筒状のものであり、対物レンズ18に対
して所定状態に組み合わされると、上記ミラー31aが
対物レンズ18の焦点面に位置するように形成されてい
る。なおこの焦点面は、走査型顕微鏡の実使用状態下で
は、試料23が位置することになる面である。
【0018】次いで単色光レーザ10が作動状態とされ
る一方、AOM制御信号S1に基づいてAOM12が、
照明光通過光量が次第に増大するように駆動される。な
おこのとき走査部15は停止されている。この際も照明
光11は対物レンズ18によって集光され、実使用時試
料23上で収束するのと同様に、治具31のミラー31
aの表面で収束し、そしてそこで反射する。この反射光
11”はPBS16の膜面16aで反射してハーフミラ
ー27に入射し、一部がそこで反射する。ハーフミラー
27で反射した反射光11”はモニター用光検出器32
に受光され、光検出器32はこの光量を示す信号S2を
出力する。この信号S2は表示計33に入力され、そこ
で該信号S2に基づいて上記光量が表示される。
る一方、AOM制御信号S1に基づいてAOM12が、
照明光通過光量が次第に増大するように駆動される。な
おこのとき走査部15は停止されている。この際も照明
光11は対物レンズ18によって集光され、実使用時試
料23上で収束するのと同様に、治具31のミラー31
aの表面で収束し、そしてそこで反射する。この反射光
11”はPBS16の膜面16aで反射してハーフミラ
ー27に入射し、一部がそこで反射する。ハーフミラー
27で反射した反射光11”はモニター用光検出器32
に受光され、光検出器32はこの光量を示す信号S2を
出力する。この信号S2は表示計33に入力され、そこ
で該信号S2に基づいて上記光量が表示される。
【0019】またこの際、撮像用光検出器25の出力S
も表示計34に入力され、光破壊部材26Aを経て光検
出器25に入射する反射光11”の光量がこの表示計3
4に表示される。上記モニター用表示計33の表示が所
定の光量Mo まで上昇すると、そこでAOM12の状
態がそのままに保持され、そして表示計34が示す光量
が読み取られる。
も表示計34に入力され、光破壊部材26Aを経て光検
出器25に入射する反射光11”の光量がこの表示計3
4に表示される。上記モニター用表示計33の表示が所
定の光量Mo まで上昇すると、そこでAOM12の状
態がそのままに保持され、そして表示計34が示す光量
が読み取られる。
【0020】上述のようにAOM12が駆動されて、次
第に高強度の反射光11”が光破壊部材26Aに入射す
ると、この光破壊部材26Aの金属蒸着膜26Cが破壊
されて、そこにピンホール26aが形成される。モニタ
ー用光検出器32が検出した光量が上記所定値Mo ま
で上昇したとき、上述のようにして形成されたピンホー
ル26aの径が所定値に達していれば、光検出器25が
検出する光量は所定値To になるはずである。もしそ
うなっていれば、設計通りのピンホール板26が形成さ
れたものとみなせるから、そこで作業を終了し、治具3
1を対物レンズ18から取り外す。こうして設置された
ピンホール板26は、走査型顕微鏡の使用に際して、前
述した通りの作用を果たす。
第に高強度の反射光11”が光破壊部材26Aに入射す
ると、この光破壊部材26Aの金属蒸着膜26Cが破壊
されて、そこにピンホール26aが形成される。モニタ
ー用光検出器32が検出した光量が上記所定値Mo ま
で上昇したとき、上述のようにして形成されたピンホー
ル26aの径が所定値に達していれば、光検出器25が
検出する光量は所定値To になるはずである。もしそ
うなっていれば、設計通りのピンホール板26が形成さ
れたものとみなせるから、そこで作業を終了し、治具3
1を対物レンズ18から取り外す。こうして設置された
ピンホール板26は、走査型顕微鏡の使用に際して、前
述した通りの作用を果たす。
【0021】一方、モニター用光検出器32が検出した
光量が上記所定値Mo まで上昇したとき、光検出器2
5が検出した光量が所定値To に達しないのは、金属
蒸着膜26Cに対して反射光11”がデフォーカスして
いて、金属蒸着膜26Cの破壊が不十分の場合である。 そこでこのときは、光検出器25の検出光量が所定値T
o に達するまで、3次元移動ステージ30により光破
壊部材26AのZ方向位置を適宜微調整する。こうして
光検出器25の検出光量が所定値To に達したならば
、前述の場合と同様にそこで作業を終了する。
光量が上記所定値Mo まで上昇したとき、光検出器2
5が検出した光量が所定値To に達しないのは、金属
蒸着膜26Cに対して反射光11”がデフォーカスして
いて、金属蒸着膜26Cの破壊が不十分の場合である。 そこでこのときは、光検出器25の検出光量が所定値T
o に達するまで、3次元移動ステージ30により光破
壊部材26AのZ方向位置を適宜微調整する。こうして
光検出器25の検出光量が所定値To に達したならば
、前述の場合と同様にそこで作業を終了する。
【0022】このように本発明方法においては、走査型
顕微鏡の実使用の際と同じ光路を辿るレーザビーム(照
明光11)により、光破壊部材26Aの金属蒸着膜26
Cを破壊してピンホール26を形成するようにしている
ので、予めピンホールが設けられているピンホール板を
所定の位置に配置する際に求められる面倒な位置決め調
整作業が不要となる。
顕微鏡の実使用の際と同じ光路を辿るレーザビーム(照
明光11)により、光破壊部材26Aの金属蒸着膜26
Cを破壊してピンホール26を形成するようにしている
ので、予めピンホールが設けられているピンホール板を
所定の位置に配置する際に求められる面倒な位置決め調
整作業が不要となる。
【0023】なおピンホール板26を形成する際、特に
上述の治具31は設けず、試料台22上に試料23に代
わるミラーを載置しておき、そして試料観察時と同様に
して照明光光点Pをこのミラーの表面で収束させるよう
にしてもよい。さらに、ミラーの代わりに位相共役鏡を
載置してもよい。
上述の治具31は設けず、試料台22上に試料23に代
わるミラーを載置しておき、そして試料観察時と同様に
して照明光光点Pをこのミラーの表面で収束させるよう
にしてもよい。さらに、ミラーの代わりに位相共役鏡を
載置してもよい。
【0024】また、前述したモニター光量の所定値Mo
をより大きく設定することにより、ピンホール26a
の径を拡大させることができる。そのようにする場合は
、光破壊部材26Aに対して反射光11”がデフォーカ
スしていることを判別し難いので、まずいったん比較的
小さな所定値Mo を設定して光破壊部材26AのZ方
向位置を適正に調整し、その後、より大きな所定値Mo
を設定してピンホール26aを所望の大きさまで拡径
させるのが好ましい。
をより大きく設定することにより、ピンホール26a
の径を拡大させることができる。そのようにする場合は
、光破壊部材26Aに対して反射光11”がデフォーカ
スしていることを判別し難いので、まずいったん比較的
小さな所定値Mo を設定して光破壊部材26AのZ方
向位置を適正に調整し、その後、より大きな所定値Mo
を設定してピンホール26aを所望の大きさまで拡径
させるのが好ましい。
【0025】次に図4および図5を参照して、本発明の
第2実施例について説明する。なおこれらの図において
、図1あるいは図2中のものと同等の要素については同
番号を付し、それらについては特に必要の無い限り説明
を省略する。
第2実施例について説明する。なおこれらの図において
、図1あるいは図2中のものと同等の要素については同
番号を付し、それらについては特に必要の無い限り説明
を省略する。
【0026】この第2実施例においてピンホール板26
が設置されるのは、透過型の走査型顕微鏡である。まず
、この走査型顕微鏡について図5を参照して説明する。 図2の装置におけるのと同様にして、試料23上で微小
な光点Pに収束した照明光11は、この試料23を透過
する。この透過光11’は収束レンズ24で集光され、
ピンホール板26を介して光検出器25によって検出さ
れる。そして照明光光点Pの2次元走査は、図2の装置
と同様にしてなされる。
が設置されるのは、透過型の走査型顕微鏡である。まず
、この走査型顕微鏡について図5を参照して説明する。 図2の装置におけるのと同様にして、試料23上で微小
な光点Pに収束した照明光11は、この試料23を透過
する。この透過光11’は収束レンズ24で集光され、
ピンホール板26を介して光検出器25によって検出さ
れる。そして照明光光点Pの2次元走査は、図2の装置
と同様にしてなされる。
【0027】ピンホール板26を形成する際は、図4に
示すように、対物レンズ18に対して前述の治具31は
取り付けられない。その他の点は第1実施例と同様にし
て、単色光レーザ10およびAOM12が駆動され、レ
ーザビーム11により光破壊部材26Aにピンホール2
6aが形成される。なお本例では、試料台22上に何も
載置しないようにしているが、ダミーの透過試料を載置
してもよい。
示すように、対物レンズ18に対して前述の治具31は
取り付けられない。その他の点は第1実施例と同様にし
て、単色光レーザ10およびAOM12が駆動され、レ
ーザビーム11により光破壊部材26Aにピンホール2
6aが形成される。なお本例では、試料台22上に何も
載置しないようにしているが、ダミーの透過試料を載置
してもよい。
【0028】また光破壊部材26Aの蒸着膜26Cは、
加工用レーザビームのパワーに対する破壊程度の特性曲
線が、図7に示すように急峻に立ち上がるものを用いる
のが好ましい。前述のCr蒸着膜等は、基本的にこのよ
うな特性になっている。そのような特性の蒸着膜26C
を利用すれば、そこに照射されたレーザビーム11のス
ポットにおいて、レーザパワー相対値がkの部分を境に
、その内側(レーザパワー大側)では蒸着膜26Cがほ
ぼ100 %破壊され、外側(レーザパワー小側)では
蒸着膜26Cがほとんど破壊されないという状態を作り
出せるから、円形の輪郭部分がきれいに加工されたピン
ホール26aを得ることができる。このときの光破壊部
材26A上におけるレーザビーム11のパワー分布は、
図8の曲線aのようになり、形成されるピンホール26
aの直径はdとなる。なお同図の曲線bは、顕微鏡実使
用時のレーザビーム11のパワー分布を示している。
加工用レーザビームのパワーに対する破壊程度の特性曲
線が、図7に示すように急峻に立ち上がるものを用いる
のが好ましい。前述のCr蒸着膜等は、基本的にこのよ
うな特性になっている。そのような特性の蒸着膜26C
を利用すれば、そこに照射されたレーザビーム11のス
ポットにおいて、レーザパワー相対値がkの部分を境に
、その内側(レーザパワー大側)では蒸着膜26Cがほ
ぼ100 %破壊され、外側(レーザパワー小側)では
蒸着膜26Cがほとんど破壊されないという状態を作り
出せるから、円形の輪郭部分がきれいに加工されたピン
ホール26aを得ることができる。このときの光破壊部
材26A上におけるレーザビーム11のパワー分布は、
図8の曲線aのようになり、形成されるピンホール26
aの直径はdとなる。なお同図の曲線bは、顕微鏡実使
用時のレーザビーム11のパワー分布を示している。
【0029】そして、kの値が100 /e2 (約1
3.5)の蒸着膜26Cを利用すれば、そこに照射され
たレーザビーム11のパワーがピーク値の1/e2 で
ある部分(この部分は、実使用時にレーザパワーが低く
されても不変である)を輪郭としてピンホール26aが
形成される。つまりこの場合は、ピンホール直径がいわ
ゆる1/e2 径のピンホール板26が得られることに
なる。
3.5)の蒸着膜26Cを利用すれば、そこに照射され
たレーザビーム11のパワーがピーク値の1/e2 で
ある部分(この部分は、実使用時にレーザパワーが低く
されても不変である)を輪郭としてピンホール26aが
形成される。つまりこの場合は、ピンホール直径がいわ
ゆる1/e2 径のピンホール板26が得られることに
なる。
【0030】以上説明した2つの実施例においては、光
破壊部材26Aを3次元移動ステージ30に保持させて
いるので、顕微鏡使用を重ねるうちに画質や検出光量の
低下によりピンホール板26の光軸がずれていると判断
された際には、ピンホール26aを作り直すことができ
る。すなわちその場合は、3次元移動ステージ30によ
り光破壊部材26AをX、Y方向の少なくとも一方に動
かして、ピンホール26aから外れた部分(つまり金属
蒸着膜26Cが残っている部分)が加工用レーザビーム
の照射を受ける位置に来るようにし、後は前述と同じ作
業を行なえばよい。
破壊部材26Aを3次元移動ステージ30に保持させて
いるので、顕微鏡使用を重ねるうちに画質や検出光量の
低下によりピンホール板26の光軸がずれていると判断
された際には、ピンホール26aを作り直すことができ
る。すなわちその場合は、3次元移動ステージ30によ
り光破壊部材26AをX、Y方向の少なくとも一方に動
かして、ピンホール26aから外れた部分(つまり金属
蒸着膜26Cが残っている部分)が加工用レーザビーム
の照射を受ける位置に来るようにし、後は前述と同じ作
業を行なえばよい。
【0031】また以上の実施例では、レーザビーム11
のパワーを調整する手段としてAOM12が用いられて
いるが、その代わりに、顕微鏡実使用時にはレーザビー
ム11の光路にNDフィルター等の光減衰手段を挿入し
、ピンホール板形成時にはそれを取り除くようにしても
よい。 さらには、顕微鏡実使用時とピンホール板形成時とで、
単色光レーザ10の出力自体を変えるようにしてもよい
。
のパワーを調整する手段としてAOM12が用いられて
いるが、その代わりに、顕微鏡実使用時にはレーザビー
ム11の光路にNDフィルター等の光減衰手段を挿入し
、ピンホール板形成時にはそれを取り除くようにしても
よい。 さらには、顕微鏡実使用時とピンホール板形成時とで、
単色光レーザ10の出力自体を変えるようにしてもよい
。
【0032】また上記2つの実施例では、試料照明用の
単色光レーザ10を加工用レーザとして共用しているが
、この加工用レーザとして専用のものを用いてもよい。 そうする場合は、例えば図6に示すように照明光11の
光路にビームスプリッタ40を配設し、加工用レーザ4
1から射出された加工用レーザビーム42をこのビーム
スプリッタ40により、照明光11と同じ光路を辿るよ
うに導けばよい。
単色光レーザ10を加工用レーザとして共用しているが
、この加工用レーザとして専用のものを用いてもよい。 そうする場合は、例えば図6に示すように照明光11の
光路にビームスプリッタ40を配設し、加工用レーザ4
1から射出された加工用レーザビーム42をこのビーム
スプリッタ40により、照明光11と同じ光路を辿るよ
うに導けばよい。
【0033】さらに本発明は、以上説明したようなピン
ホール板26に限らず、スリット板を形成するために適
用することもできる。例えば特開昭62−209510
号公報に示される走査型顕微鏡においては、照明光と
してのレーザビームを試料上で主走査させると、試料を
経た光もそれにともなって光検出器の受光面上を1次元
走査するようになっている。このような構成においては
、光検出器の前側に光破壊部材を配し、上記照明光と同
じ光路を辿らせた加工用レーザビームを主走査させるこ
とにより、光破壊部材を線状に破壊してスリットを形成
することができる。
ホール板26に限らず、スリット板を形成するために適
用することもできる。例えば特開昭62−209510
号公報に示される走査型顕微鏡においては、照明光と
してのレーザビームを試料上で主走査させると、試料を
経た光もそれにともなって光検出器の受光面上を1次元
走査するようになっている。このような構成においては
、光検出器の前側に光破壊部材を配し、上記照明光と同
じ光路を辿らせた加工用レーザビームを主走査させるこ
とにより、光破壊部材を線状に破壊してスリットを形成
することができる。
【0034】また、以上説明した各実施例におけるよう
に、光破壊部材26Aを3次元移動ステージ30に保持
しておけば、該光破壊部材26AをX、Y方向に適宜動
かすことにより、種々の形状の微小開口を設けることが
できる。図9、図10、図11および図12に、そのよ
うな微小開口の形状例を示す。図中、Oが光軸であり、
斜線を付した部分が開口である。
に、光破壊部材26Aを3次元移動ステージ30に保持
しておけば、該光破壊部材26AをX、Y方向に適宜動
かすことにより、種々の形状の微小開口を設けることが
できる。図9、図10、図11および図12に、そのよ
うな微小開口の形状例を示す。図中、Oが光軸であり、
斜線を付した部分が開口である。
【0035】さらに本発明は、以上説明したような走査
型顕微鏡に限らず、その他前述の光走査読取装置等にお
いて、ピンホール板やスリット板等の空間フィルターを
設置するために適用することも勿論可能である。
型顕微鏡に限らず、その他前述の光走査読取装置等にお
いて、ピンホール板やスリット板等の空間フィルターを
設置するために適用することも勿論可能である。
【図1】本発明によりピンホール板が形成される走査型
顕微鏡の側面図
顕微鏡の側面図
【図2】図1の走査型顕微鏡の実使用時の状態を示す側
面図
面図
【図3】図1の走査型顕微鏡に用いられる光破壊部材を
詳しく示す側面図
詳しく示す側面図
【図4】本発明によりピンホール板が形成される走査型
顕微鏡の他の例を示す側面図
顕微鏡の他の例を示す側面図
【図5】図4の走査型顕微鏡の実使用時の状態を示す側
面図
面図
【図6】本発明によりピンホール板が形成される走査型
顕微鏡の他の例を示す側面図
顕微鏡の他の例を示す側面図
【図7】本発明に用いられる光破壊部材の、加工用レー
ザビームパワー対破壊程度特性の一例を示すグラフ
ザビームパワー対破壊程度特性の一例を示すグラフ
【図
8】上記光破壊部材上におけるレーザビームのパワー分
布を示すグラフ
8】上記光破壊部材上におけるレーザビームのパワー分
布を示すグラフ
【図9】本発明により形成される空間フィルターの別の
例を示す平面図
例を示す平面図
【図10】本発明により形成される空間フィルターの別
の例を示す平面図
の例を示す平面図
【図11】本発明により形成される空間フィルターの別
の例を示す平面図
の例を示す平面図
【図12】本発明により形成される空間フィルターの別
の例を示す平面図
の例を示す平面図
10 単色光レーザ
11 照明光
11’ 透過光
11” 反射光
12 AOM
15 走査部
16 PBS
18 対物レンズ
22 試料台
23 試料
24 収束レンズ
25 光検出器
26 ピンホール板
26A 遮光性光破壊部材
26B 透明支持体
26C 金属蒸着膜
30 3次元移動ステージ
31 治具
32 モニター用光検出器
33、34 表示計
40 ビームスプリッタ
41 加工用レーザ
42 加工用レーザビーム
Claims (2)
- 【請求項1】 レーザビームを所定の入射光学系を通
して測定対象物に照射し、その際の該測定対象物からの
光を、レーザビーム照射側から空間フィルターの微小開
口を通して光検出器により検出する装置において、前記
空間フィルターの設置位置に遮光性光破壊部材を配設し
、前記測定対象物が配されるべき位置に光反射部材を配
置し、前記入射光学系を通して前記光反射部材に向けて
加工用レーザビームを照射し、そのとき該光反射部材で
反射したレーザビームにより前記光破壊部材を破壊して
そこに微小開口を形成し、この光破壊部材をそのままの
位置に残して前記空間フィルターとすることを特徴とす
る空間フィルターの設置方法。 - 【請求項2】 レーザビームを所定の入射光学系を通
して測定対象物に照射し、その際の該測定対象物からの
光を、レーザビーム照射側と反対側から空間フィルター
の微小開口を通して光検出器により検出する装置におい
て、前記空間フィルターの設置位置に遮光性光破壊部材
を配設し、前記入射光学系を通して前記光破壊部材に向
けて加工用レーザビームを照射し、このレーザビームに
より光破壊部材を破壊してそこに微小開口を形成し、こ
の光破壊部材をそのままの位置に残して前記空間フィル
ターとすることを特徴とする空間フィルターの設置方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7110291A JPH04305610A (ja) | 1991-04-03 | 1991-04-03 | 空間フィルターの設置方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7110291A JPH04305610A (ja) | 1991-04-03 | 1991-04-03 | 空間フィルターの設置方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04305610A true JPH04305610A (ja) | 1992-10-28 |
Family
ID=13450850
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7110291A Pending JPH04305610A (ja) | 1991-04-03 | 1991-04-03 | 空間フィルターの設置方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04305610A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005006854A (ja) * | 2003-06-18 | 2005-01-13 | Olympus Corp | 光イメージング装置 |
| JP2009181122A (ja) * | 2008-01-30 | 2009-08-13 | Carl Zeiss Microimaging Gmbh | 校正装置およびそのような校正装置を備えた走査型レーザ顕微鏡 |
| JP2019522192A (ja) * | 2016-06-17 | 2019-08-08 | コーニング インコーポレイテッド | 干渉測定のエッジ位置合わせ |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03136001A (ja) * | 1989-10-23 | 1991-06-10 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | アパーチャ及びそれを用いた光学走査顕微鏡 |
-
1991
- 1991-04-03 JP JP7110291A patent/JPH04305610A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03136001A (ja) * | 1989-10-23 | 1991-06-10 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | アパーチャ及びそれを用いた光学走査顕微鏡 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005006854A (ja) * | 2003-06-18 | 2005-01-13 | Olympus Corp | 光イメージング装置 |
| JP2009181122A (ja) * | 2008-01-30 | 2009-08-13 | Carl Zeiss Microimaging Gmbh | 校正装置およびそのような校正装置を備えた走査型レーザ顕微鏡 |
| JP2019522192A (ja) * | 2016-06-17 | 2019-08-08 | コーニング インコーポレイテッド | 干渉測定のエッジ位置合わせ |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19970708 |