JPH04308545A

JPH04308545A - 光学活性なｄ−コンズリトールｂ、ならびに、ｄ−コンズリトールｂおよびｌ−コンズリトールｆの合成方法

Info

Publication number: JPH04308545A
Application number: JP3071120A
Authority: JP
Inventors: Akihiro Isaka; 井　坂　明　洋; Kunio Kageyama; 影　山　邦　夫; Morihisa Machida; 町　田　守　久; Shoichiro Ozaki; 尾　崎　庄一郎; Takahiko Akiyama; 秋　山　隆　彦
Original assignee: Yokohama Rubber Co Ltd
Current assignee: Yokohama Rubber Co Ltd
Priority date: 1991-04-03
Filing date: 1991-04-03
Publication date: 1992-10-30

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】【０００１】【産業上の利用分野】本発明は、グリコシダーゼ阻害剤
であるコンズリトール類に関する。【０００２】【従来の技術】グリコシダーゼ阻害剤は、炭水化物の代
謝を抑制し、結果として血糖値の上昇を抑制する。従っ
て、肥満症、脂肪過多症、過脂肪血症、糖尿病、前糖尿
症などの治療薬等の用途がある。そして、コンズリトー
ル類は、近年、このようなグリコシダーゼ阻害剤として
注目されるようになってきた。【０００３】コンズリトール類には、理論上、コンズリ
トールＡ、コンズリトールＢ、コンズリトールＣ、コン
ズリトールＤ、コンズリトールＥ、コンズリトールＦが
あり、コンズリトールＢ、コンズリトールＣ、コンズリ
トールＥおよびコンズリトールＦには、それぞれ、光学
異性体が存在し、また、これらのうちのコンズリトール
ＡおよびＤ−コンズリトールＦは、天然に存在すること
が知られている。【０００４】これらのコンズリトール類のうち、コンズ
リトールＢに関しては、以下の先行技術がある。コンズ
リトールＢは、ＤＬ体として、Ｍ．Ｂａｌｃｉら１）に
よりオキセピンベンゼンオキシドから、また、Ｈ．Ａ．
Ｊ．Ｃａｒｌｅｓｓら２）によりベンゼンから、さらに
、Ｎ．Ｓ．Ｒａｄｉｎら３）によりミオイノシトールか
ら合成されている。また、Ｌ体として、Ｈ．Ｐａｕｌｓ
ｅｎら４）によりＬ−クエブラキトールから合成されて
いる。しかし、Ｄ体としての合成例はなく、また、ＤＬ体から
Ｄ体が分割、単離されたとの報告もない。【０００５】コンズリトールＦに関しては、以下の先行
技術がある。【０００６】コンズリトールＦは、ＤＬ体として、Ｍ．
Ｂａｌｃｉら１）により、トランス−１，２−ジアセト
キシ−シクロヘキサ−３，５−ジエンを光酸化反応など
によって処理する工程を経由して合成されている。また
、Ｌ体としては、Ｈ．Ｐａｕｌｓｅｎら４）により、Ｌ
−クエブラキトールから７工程で合成されているが、こ
の方法は、不要な化合物が主生成物となる工程を有する
ため、収率が低いという問題がある。さらに、Ｓ．Ｖ．
Ｌｅｙら５）は、ベンゼンからＤ体とＬ体をそれぞれ合
成しているが、この方法では、１：１で生じるジアステ
レオマーをカラムクロマトグラフィーにより分離する工
程があり、従って大量合成には適さないという問題があ
る。【０００７】なお、ここで引用した文献は、下表１に示
す通りである。【０００８】【表１】【０００９】【発明が解決しようとする課題】前記の如く、コンズリ
トール類は、医薬としての用途があり、注目されている
化合物である。しかしながら、コンズリトール類のうち
、単一物質としてのＤ−コンズリトールＢは知られてお
らず、また、Ｌ−コズリトールＦに関しては、収率が高
く、大量合成が可能な方法は知られていない。【００１０】本発明は、このような従来技術に鑑みてな
されたものであり、Ｄ−コンズリトールＢおよびその合
成方法と、Ｌ−コンズリトールＦの合成方法の提供を目
的とするものである。【００１１】【課題を解決するための手段】本発明第一の態様は、Ｄ
−コンズリトールＢを提供するものである。【００１２】本発明第二の態様は、下記一般式Ｉで示さ
れる１Ｄ−１，２−Ｏ−（Ｒ１　）−３，４，５，６−
テトラ−Ｏ−（Ｒ２　）−ミオイノシトールの１位およ
び２位の酸素原子に結合した保護基を脱保護して１位お
よび２位の置換基を水酸基とした後、１位および２位を
脱水酸基化して１Ｄ−１，２，３，４−テトラ−Ｏ−（
Ｒ２　）−シクロヘキサ−５−エン−（１，３／２，４
）−テトロールとし、その後、該テトロールの１位、２
位、３位および４位の酸素原子に結合した保護基を脱保
護する工程を経ることを特徴とするＤ−コンズリトール
Ｂの合成方法を提供するものである。【化２】（上記一般式Ｉにおいて、Ｒ１　は、隣接する２個の酸
素原子に結合するブリッジ型保護基であり、Ｒ２　は、
１個の酸素原子に結合する保護基である。なお、４箇所
のＲ２　は、互いに同じであっても異なっていてもよい
。）【００１３】本発明第三の態様は、Ｌ−クエブラキ
トールの３位、４位、５位、および６位の水酸基を保護
した後、２位のメトキシ基を脱メチル化して水酸基とし
、その後、１位および２位の脱水酸基化と、３位、４位
、５位および６位の酸素原子に結合した保護基の脱保護
を行なうことを特徴とするＬ−コンズリトールＦの合成
方法を提供するものである。【００１４】以下に、本発明を詳細に説明する。【００１５】本発明第一の態様のＤ−コンズリトールＢ
は、下記式ＩＩで示される化合物である。【００１６】【化３】【００１７】Ｄ−コンズリトールＢは、比旋光度（２２
℃、Ｄ線）が＋１５０°、融点が１６９〜１７２℃、メ
タノール、水等に可溶で、ヘキサン、トルエン、ベンゼ
ン等に不あるいは難溶であるという性質を有する。また
、コンズリトールＢエポキシドとその臭素化誘導体は、
酵素の触媒部位に共有結合するためグリコシダーゼ阻害
剤として働く。【００１８】Ｄ−コンズリトールＢを合成するに際し、
その出発原料や合成方法は限定されず、例えば、前記し
た方法（表１中の１）、２）、３）参照）によってＤＬ
体として得た後、光学分割を行なう等の方法も考えられ
るが、光学分割カラムを用いる方法は、大量合成に適さ
ず、また、ジアステレオマー化合物に変換し、分離し、
Ｄ体とＬ体の各々を得る方法では、工程が長くなり、労
力を要し、収率が低下するという問題があるため、本発
明第二の態様の方法により、Ｄ体のみを合成するのがよ
い。【００１９】次に、本発明第二の態様を説明する。【００２０】本発明第二の態様は、前記一般式Ｉで示さ
れる１Ｄ−１，２−Ｏ−（Ｒ１　）−３，４，５，６−
テトラ−Ｏ−（Ｒ２　）−ミオイノシトールを出発原料
として用い、■　　その１位および２位の酸素原子に結
合した保護基を脱保護して１位および２位の置換基を水
酸基とする工程、■　　１位および２位を脱水酸基化し
て１Ｄ−１，２，３，４−テトラ−Ｏ−（Ｒ２　）−シ
クロヘキサ−５−エン−（１，３／２，４）−テトロー
ルとする工程、■　　該テトロールの１位、２位、３位
および４位の酸素原子に結合した保護基を脱保護する工
程、を経て、Ｄ−コンズリトールＢを合成する方法であ
る。【００２１】本発明第二の態様に係る合成方法の出発原
料は、前記一般式Ｉで示される１Ｌ−１，２−Ｏ−（Ｒ
１　）−３，４，５，６−テトラ−Ｏ−（Ｒ２　）−ミ
オイノシトールであるがここで、Ｒ１　は、隣接する２
個の酸素原子に結合するブリッジ型保護基であり、Ｒ２
は、１個の酸素原子に結合する保護基である。また、４
箇所のＲ２　は、互いに同じであっても異なっていても
よい。【００２２】なお、Ｒ１　としては、例えば、シクロヘ
キシリデン基、イソプロピリデン基等が挙げられ、Ｒ２
　としては、ベンゾイル基、ベンジル基等が挙げられる
。【００２３】この、出発原料である前記１Ｌ−１，２−
Ｏ−（Ｒ１　）−３，４，５，６−テトラ−Ｏ−（Ｒ２
　）−ミオイノシトールの由来はいかようであってもよ
いが、Ｌ−クエブラキトールから合成したものであるの
がよく、特に、Ｌ−クエブラキトールの１位の水酸基の
反転、２位のメトキシ基の脱メチル化および水酸基の保
護を順序によらずに行なって合成したものであるのがよ
い。【００２４】ここで、Ｌ−クエブラキトールについて説
明する。【００２５】Ｌ−クエブラキトール（１Ｌ−（−）−２
−０−Ｍｅｔｈｙｌ−Ｃｈｉｒｏ　−ｉｎｏｓｉｔｏｌ
）は、イノシトールのモノメチルエーテルであり、光学
活性体であるので、Ｌ−クエブラキトールから前記１Ｌ
−１，２−Ｏ−（Ｒ１　）−３，４，５，６−テトラ−
Ｏ−（Ｒ２　）−ミオイノシトールを合成すれば、光学
分割を行なう必要がない。　　　　【００２６】また、Ｌ−クエブラキトールは、ケブラコ
皮や、パラゴムノキ（ｈｅｖｅａ　ｂｒａｓｉｌｉｅｎ
ｓｉｓ）の汁液、その他植物体中に広く見い出されてお
り、Ｌ−クエブラキトールのこうした植物体からの採取
方法については、例えば、パラゴムノキからＬ−クエブ
ラキトールを採取する方法が特願平０２−１９３３２号
および特願平０３−２７３３９号に記載されているので
、これら植物由来のＬ−クエブラキトールの出発原料と
して用いればよい。【００２７】続いて、Ｌ−クエブラキトールから前記１
Ｄ−１，２−Ｏ−（Ｒ１　）−３，４，５，６−テトラ
−Ｏ−（Ｒ２　）−ミオイノシトールまでの合成工程を
含む、本発明第二の態様によるＤ−コンズリトールＢの
好適合成例を図１に基づいて説明する。【００２８】Ｌ−クエブラキトール１は、２位がメチル
エーテル化してメトキシ基となっており、二つの隣り合
った水酸基（３、４位の水酸基と５、６位の水酸基）を
選択的にブリッジ型保護基で保護することが出来る。こ
のようなブリッジ型保護基としては、例えば、シクロヘ
キシリデン基、イソプロピリデン基等が挙げられる。そ
して、保護基の導入反応の際には、各々のエノールエー
テル、すなわちシクロヘキサノンのエノールエーテルで
ある１−エトキシシクロヘキセン、アセトンのアセター
ルである２，２−ジメトキシプロパン等を作用させる。【００２９】Ｌ−クエブラキトール１を上述のブリッジ
型保護基（図１の例ではシクロヘキシリデン基）で保護
し、化合物２を得る。次に、化合物２を、無水ベンゼン
および酸無水物中で、ジメチルスルホキシドで酸化し、
化合物３を得る。これにより、１位の水酸基が選択的に
酸化され、ケトンとなる。化合物３を、−７８℃にて、
水素化ホウ素リチウムを用いて還元、反転を行ない、化
合物４を得る。【００３０】以上の工程により、Ｌ−クエブラキトール
１の１位の水酸基の反転が行なわれる。しかし、この他
の方法によっても、水酸基の反転を行なうことができる
。【００３１】例えば、化合物２の１位の水酸基の酸化は
、三酸化クロムおよびピリジンを用いる方法や、ピリジ
ニウムクロロクロメートを用いる方法でもよい。さらに
、化合物３の１位のケトンの還元も、ここでは水素化ホ
ウ素リチウムを用いて行なっているが、他にもさしつか
えない方法があり、例えば、水素化ホウ素ナトリウムを
用いて行なってもよい。【００３２】上記した方法は、いずれも、Ｌ−クエブラ
キトール１の１位の水酸基の反転を酸化・還元反応によ
り行なうものであるが、他の手段、例えば二分子的求核
置換反応（ＳＮ　２型反応）によって行なうこともでき
る。ＳＮ　２型反応で行なう場合は、例えば、Ｌ−クエ
ブラキトール１の１位の水酸基をｐ−トルエンスルホニ
ル化した後、安息香酸ナトリウムなどで処理すればよい
。【００３３】化合物４が得られたら、反転した１位の水
酸基を保護する。すなわち、１位の水酸基の水素原子を
、ベンゾイル基、ベンジル基等の保護基で置換するので
ある。この際、ベンゾイル基を導入するのであれば、塩
化ベンゾイルまたは無水安息香酸等を、また、ベンジル
基を導入するのであれば、塩化ベンジル、臭化ベンジル
等を用いるとよい。なお、図１の例は、ベンゾイル基に
よる保護を行ない、化合物５を得るものである。【００３４】次に、化合物５に、ハロゲン化アルミニウ
ムとヨウ化ナトリウムを作用させる等の手段により、脱
メチル化反応と３、４位の保護基の取り外しを行なうと
、化合物６が得られる。この化合物６は、１，２−Ｏ−
（シクロヘキシリデン）−３−Ｏ−ベンゾイルミオイノ
シトールであるが、１，２位を保護するブリッジ型保護
基、および３位を保護する保護基は、各々、シクロヘキ
シリデン基、ベンゾイル基に限定されない。【００３５】以上の工程により、Ｌ−クエブラキトール
１の１位の水酸基の反転と、２位のメトキシ基の脱メチ
ル化反応とが行なわれたが、この順序は、特に限定され
ない。【００３６】続いて、化合物６の３個（４位、５位およ
び６位）の水酸基を保護する。すなわち、反応性の高い
水酸基が後の工程で変化しないように、保護基を導入す
るのである。【００３７】ここで導入する保護基は、特に限定されな
いが、３位にある酸素原子に結合した、すなわち３位に
導入された保護基と同じ挙動を示すものを導入するのが
好ましい。【００３８】図１に示す例では、化合物６の３位にはベ
ンゾイル基が導入されているので、４位、５位および６
位に導入する保護基は、ベンゾイル基が好ましい。例え
ばベンゾイル基を導入するのであれば、化合物６に、例
えばトリエチルアミンとハロゲン化ベンゾイルとを反応
させると、化合物７が得られる。【００３９】この化合物７は、１Ｄ−１，２−Ｏ−（シ
クロヘキシリデン）−３，４，５，６−テトラ−Ｏ−ベ
ンゾイルミオイノシトールであり、本発明第二の態様の
合成方法の出発原料のひとつであるが、該出発原料は、
１，２位を保護するブリッジ型保護基や、３位、４位、
５位、６位を各々保護する保護基が、各々、シクロヘキ
シリデン基、ベンゾイル基である化合物に限定されない
ことは、先に述べた通りである。【００４０】次に、化合物７の１位および２位にある酸
素原子に結合した、すなわち１位と２位の水酸基を同時
に保護しているブリッジ型保護基を外し、１位および２
位の置換基を水酸基とする。【００４１】この工程に用いる化合物や反応条件は、ブ
リッジ型保護基の種類によって異なるが、公知の化合物
を用い、公知の反応条件で反応させればよい。具体的に
は、化合物７に、例えばトリフルオロ酢酸とメタノール
との混合溶液を反応させると、シクロヘキシリデン基が
外れ、１位と２位の置換基が水酸基となり、化合物８が
得られる。【００４２】次いで、化合物８の１位および２位を脱水
酸基化する。この工程も、どのような手段で行なっても
よいが、図１に示すように、化合物９を経て１Ｄ−１，
２，３，４−テトラ−Ｏ−（Ｒ２　）−シクロヘキサ−
５−エン−（１，３／２，４）−テトロール（図１にお
いては化合物１０）を得る場合は、以下のように行なう
。【００４３】すなわち、化合物８を、１，１´−チオカ
ルボニルジイミダゾールで処理して環状のチオカーボネ
ート部分を有する化合物９を得た後、それにトリメチル
ホスファイト等を作用させると、二重結合を有する化合
物１０が得られる。【００４４】化合物８から化合物１０を得る他の手段の
一例としては、化合物８に、塩化ｐ−トルエンスルホニ
ルを作用させて１位および２位を各々ｐ−トルエンスル
ホニル化した後、ヨウ化ナトリウムと亜鉛とを作用させ
るというものが挙げられる。【００４５】化合物１０にナトリウムメトキシド等を反
応させることによって保護基を外す（脱ベンゾイル化す
る）と、Ｄ−コンズリトールＢ（化合物１１）が得られ
る。【００４６】以上が本発明第二の態様のＤ−コンズリト
ールＢの合成方法であるが、各工程において、通常は、
必要により、抽出、精製等の操作も行なう。【００４７】続いて、本発明第三の態様を説明する。【００４８】本発明第三の態様は、Ｌ−クエブキトール
を出発原料として用い、■　　その３位、４位、５位お
よび６位の水酸基を保護する工程、■　　２位のメトキ
シ基を脱メチル化して水酸基とする工程、■　　１位お
よび２位を脱水酸基化する工程、■　　３位、４位、５
位および６位の酸素原子に結合した保護基を脱保護する
工程、を経て、Ｌ−コンズリトールＦを合成する方法で
ある。【００４９】本発明第三の態様に係る合成方法の出発原
料であるＬ−クエブラキトールについては、本発明第二
の態様についての説明の項で述べた通りである。【００５０】次に、本発明第三の態様によるＬ−コンズ
リトールＦの好適合成例を、図２に基づいて説明する。【００５１】まず、Ｌ−クエブラキトール１の二つの隣
り合った水酸基（３、４位の水酸基と５、６位の水酸基
）を選択的にブリッジ型保護基で保護する（図１におい
ては化合物２を得る）のであるが、この工程については
、本発明第二の態様についての説明で述べた通りである
。【００５２】次に、化合物２の２位のメトキシ基を脱メ
チル化して水酸基とする。この工程は、化合物２に、例
えば、ピリジン存在下、アセトニトリル中で塩化アルミ
ニウム及びテトラブチルアンモニウムヨージドを作用さ
せることによって行なうと、シクロヘキシリデン基の切
断は抑制され、良好な収率で化合物１２が得られる。【００５３】次いで、化合物１２の１位および２位を脱
水酸基化する。この工程は、本発明第二の態様における
化合物８の脱水酸基化と同様に、どのような手段で行な
ってもよい。【００５４】図２に示した例は、化合物１２を、１，１
´−チオカルボニルジイミダゾールで処理して、環状の
チオカーボネート部分を有する化合物１３を得た後、そ
れにトリメチルホスファイトを作用させて、二重結合を
有する化合物１４を得るというものである。【００５５】化合物１２から化合物１４を得る他の手段
の一例としては、化合物１２に、塩化ｐ−トルエンスル
ホニルを作用させて１位および２位を各々ｐ−トルエン
スルホニル化した後、ヨウ化ナトリウムと亜鉛とを作用
させるというものが挙げられる。【００５６】化合物１４にトリフルオロ酢酸とメタノー
ル等を作用させるこトによって保護基を外す（脱シクロ
ヘキシリデン化する）と、Ｌ−コンズリトールＦ（化合
物１５）が得られる。【００５７】以上が本発明第三の態様のＬ−コンズリト
ールＦの合成方法であるが、各工程において、通常は、
必要により、抽出、精製等の操作も行なう。【００５８】以下、実施例を示し、本発明について具体
的に説明する。【００５９】（実施例１）　　Ｌ−クエブラキトールを
出発原料とする１Ｄ−１，２−Ｏ−（シクロヘキシリデ
ン）−３，４，５，６−テトラ−Ｏ−ベンゾイルミオイ
ノシトールの合成図１に従って説明する。【００６０】■　　Ｌ−クエブラキトール（化合物１）
（３．００ｇ、１５．４ｍｍｏｌ）に、窒素雰囲気下、
無水ジメチルホルムアミド５ｍｌを加え、０℃とし、エ
トキシシクロヘキセン（６．６０ｍｌ、４６．３ｍｍｏ
ｌ）とｐ−トルエンスルホン酸（０．２９４ｇ、１．５
４ｍｍｏｌ）とを加えた後、８０℃に加熱する。１．５
時間後、エトキシシクロヘキセン（２．２０ｍｌ、１５
．４ｍｍｏｌ）を加え、さらに１．５時間後、エトキシ
シクロヘキセン（１．１０ｍｌ、７．７２ｍｍｏｌ）を
加え、０．５時間撹拌する。反応液を、氷を入れた分液
ロートに移し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えた
後、ジクロロメタン抽出し、有機層を飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液で２回、水で１回洗浄する。有機層に無水
硫酸ナトリウムを加えて乾燥、濾過し、溶媒を減圧溜去
する。これについて、カラムクロマトグラフィー（酢酸
エチル／ヘキサン＝２／１）を行ない、ヘキサンで再結
晶して化合物２を得る。化合物２収　　量　　４．０１ｇ（７３％）Ｒｆ値　　０．３３（酢酸エチル／ヘキサン＝１／３）
融　　点　　１１４．５〜１１５．５℃〔α〕Ｄ２０　
−１５．５°（ｃ、３．５０　　ｉｎ　　ＣＨＣｌ３　
）１Ｈ−ＮＭＲ（δ　　ｉｎ　　ＣＤＣｌ３　、２７０Ｍ
Ｈｚ）１．３５〜１．７５（２０Ｈ、ｍ）、２．８０（１Ｈ、ｓ）、３．５７（３Ｈ、ｓ）、３．５４〜３．７５（３Ｈ、ｍ）、４．２６〜４．３９（３Ｈ、ｍ）ＩＲ（ｎｕｊｏｌ）３５００、１１００、１０３５ｃｍ−１元素分析（Ｃ１
９Ｈ３０Ｏ６　）Ｃ：６４．３９；Ｈ：８．５３（理論値）Ｃ：６４．３
８；Ｈ：８．６７（測定値）（参考）融点　　　　　　１１７〜１１９℃ 〔α〕Ｄ２２　−１９．３°（ｃ、０．７７５　　ｉｎ
　　ＣＨＣｌ３　）Ｓ．　Ｄ．　Ｇ’ｅｒｏ，　Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　
Ｌｅｔｔ．，　Ｖｏｌ．　２５，　ｐ．ｐ．５６８１　
〜　５６８７　（１９６９）による【００６１】■　　化合物２（１．００ｇ、２．８２ｍ
ｍｏｌ）に、窒素雰囲気下、無水ベンゼン１８ｍｌを加
え、室温でジメチルスルホキシド（２．００ｍｌ、２８
．２　ｍｍｏｌ　）と無水酢酸（１．３３ｍｌ、１４．
１　ｍｍｏｌ　）とを加え、７時間加熱還流する。反応
液を氷を入れた分液ロートに移し、水で１回、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液で１回洗浄した後、有機層に無水
硫酸ナトリウムを加えて乾燥、濾過し、溶媒を減圧留去
する。これを、カラムクロマトグラフィー（酢酸エチル
／ヘキサン＝１／４）によって精製し、化合物３を得る
。化合物３収　　量　　０．９９ｇ（１００％）Ｒｆ値　　０．４５（酢酸エチル／ヘキサン＝１／３）
〔α〕Ｄ２２　−１２．０°（ｃ、７．０７　　ｉｎ　
　ＣＨＣｌ３　）１Ｈ−ＮＭＲ（δ　　ｉｎ　　ＣＣｌ４　、９０ＭＨｚ
）１．３０〜１．８７（２０Ｈ、ｍ）、３．４７（３Ｈ、ｓ）、３．２４〜３．７０（２Ｈ、ｍ）、３．７３〜３．９３（１Ｈ、ｍ）、４．３６〜４．７１（２Ｈ、ｍ）ＩＲ（ｎｅａｔ）１７３０、１２２０、１１６０、１０９０ｃｍ−１【０
０６２】■　　化合物３（１．６９２ｇ、４．８０１ｍ
ｍｏｌ）に、窒素雰囲気下、無水テトラヒドロフラン４
０ｍｌを加え、−７８℃に冷却し、水素化ホウ素リチウ
ム（０．１０５ｇ、４．８０１ｍｍｏｌ）を加え、３０
分間撹拌する。反応液を氷水を入れた分液ロートに移し
、ジエチルエーテル抽出し、有機層を水で１回洗浄後、
無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥、濾過し、溶媒を減圧
留去する。これを、カラムクロマトグラフィー（酢酸エ
チル／ヘキサン＝１／４）によって精製し、化合物４を
得る。化合物４収　　量　　１．５６０ｇ（９２％）Ｒｆ値　　０．３４（酢酸エチル／ヘキサン＝１／３）
〔α〕Ｄ２２　−３．９°（ｃ、６．６２　　ｉｎ　　
ＣＨＣｌ３　）１Ｈ−ＮＭＲ（δ　　ｉｎ　　ＣＣｌ４　、９０ＭＨｚ
）１．１７〜１．９０（２０Ｈ、ｍ）、２．１２〜２．４０（１Ｈ、ｂｒ．）、３．４０（３Ｈ
、ｓ）、３．１４〜３．７３（２Ｈ、ｂｒ．）、３．８２（１Ｈ
、ｂｒ．ｓ）、３．９７〜４．４０（３Ｈ、ｍ）ＩＲ（ｎｕｊｏｌ）３５７０、１１６０、１１００、１０４０ｃｍ−１【０
０６３】■　　化合物４（１．５６０ｇ、４．４０ｍｍ
ｏｌ）に、窒素雰囲気下、無水ジクロロメタン１５ｍｌ
を加え、０℃とし、トリエチルアミン（０．７９７ｍｌ
、５．７２　ｍｍｏｌ　）と塩化ベンゾイル（０．６１
３ｍｌ、５．２８　ｍｍｏｌ　）と触媒量のジメチルア
ミノピリジンとを加え、室温で一夜撹拌する。反応液を
分液ロートに移し、飽和食塩水で１回、水で１回洗浄し
た後、有機層に無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥、濾過
し、溶媒を減圧留去する。これを、カラムクロマトグラ
フィー（酢酸エチル／ヘキサン＝１／１０）によって精
製し、化合物５を得る。化合物５収　　量　　１．６２３ｇ（８０％）Ｒｆ値　　０．５５（酢酸エチル／ヘキサン＝１／３）
〔α〕Ｄ２２　−５．１°（ｃ、２．４３　　ｉｎ　　
ＣＨＣｌ３　）１Ｈ−ＮＭＲ（δ　　ｉｎ　　ＣＣｌ４　、９０ＭＨｚ
）１．１５〜１．８０（２０Ｈ、ｍ）、３．５３（３Ｈ、ｓ）、３．２９〜３．５２（１Ｈ、ｂｒ．）、３．８３〜４．
２１（２Ｈ、ｂｒ．ｍ）、４．２２〜４．５３（２Ｈ、
ｍ）、５．２４〜５．３５（１Ｈ、ｂｒ．）、７．３５〜７．
５８（３Ｈ、ｍ）、７．９５〜８．１５（２Ｈ、ｍ）ＩＲ（ｎｅａｔ）１７０５、１２５５、１１００、７００ｃｍ−１【００
６４】■　　化合物５（１．２５０ｇ、２．７３ｍｍｏ
ｌ）に、窒素雰囲気下、無水アセトニトリル３０ｍｌを
加え、０℃とし、塩化アルミニウム（３．６３ｇ、２７
．３ｍｍｏｌ）とヨウ化ナトリウム（４．０９ｇ、２７
．３ｍｍｏｌ）を加える。数分後、室温まで昇温し、１
２時間撹拌する。反応液を氷水を入れた分液ロートに移
し、ジクロロメタン抽出し、有機層を飽和食塩水で１回
、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液で１回、水で１回洗浄
後、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥、濾過し、溶媒を
減圧留去する。これを、薄層クロマトグラフィー（酢酸
エチル／ヘキサン＝３／１→ジクロロメタン／メタノー
ル＝１０／１）によって精製し、化合物６（１，２−Ｏ
−（シクロヘキシリデン）−３−Ｏ−ベンゾイルミオイ
ノシトール）を得る。化合物６収　　量　　０．８２７ｇ（８３％）Ｒｆ値　　０．２５（酢酸エチル／ヘキサン＝３／１）
〔α〕Ｄ２２　＋５３．３°（ｃ、１．２２　　ｉｎ　
　ＥｔＯＨ）１Ｈ−ＮＭＲ（δ　　ｉｎ　　ＣＤＣｌ３　＋ＤＭＳＯ
−ｄ６　、９０ＭＨｚ）１．１４〜１．９０（１０Ｈ、ｍ）、２．７０（３Ｈ、ｂｒ．）、３．２０〜４．７０（５Ｈ、ｂｒ．ｍ）、５．１２〜５
．３４（１Ｈ、ｂｒ．）、７．３０〜７．６８（３Ｈ、
ｍ）、８．０３〜８．２３（２Ｈ、ｍ）ＩＲ（ｎｕｊｏｌ）３４９０、１７００、１２７５、１１０５、７００ｃｍ
−１【００６５】■　　化合物６（８１．０ｍｇ、０．２２
２ｍｍｏｌ）に、窒素雰囲気下、無水ジクロメタン３ｍ
ｌを加え、０℃とし、トリエチルアミン（０．１４９ｍ
ｌ、１．０７ｍｍｏｌ）と塩化ベンゾイル（０．１１６
ｍｌ、０．９９９ｍｍｏｌ）と触媒量のジメチルアミノ
ピリジンとを加え、室温で３時間撹拌する。反応液を分
液ロートに移し、有機層を０．５Ｎ塩酸で１回、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液で１回洗浄した後、無水硫酸ナ
トリウムを加えて乾燥、濾過し、溶媒を減圧留去する。得られた油状物をカラムクロマトグラフィー（ジクロロ
メタン／ヘキサン＝３／１）によって精製し、化合物７
（１Ｄ−１，２−Ｏ−（シクロヘキシリデン）−３，４
，５，６−テトラ−Ｏ−ベンゾイルミオイノシトール）
を得る。化合物７収　　量　　１４８．３ｍｇ（９９％）Ｒｆ値　　０．
５５（ジクロロメタン／ヘキサン＝１／３）〔α〕Ｄ２６　＋２９．３°（ｃ、３．００　　ｉｎ　
　ＣＨＣｌ３　）１Ｈ−ＮＭＲ（δ　　ｉｎ　　ＣＣｌ４　＋ＣＤＣｌ３
　、９０ＭＨｚ）１．１２〜１．９６（１０Ｈ、ｍ）、４．５０（１Ｈ、ｔ、Ｊ＝６．０Ｈｚ）、４．８０（１
Ｈ、ｔ、Ｊ＝５．１Ｈｚ）、５．５７〜５．９７（３Ｈ
、ｍ）、６．１３（１Ｈ、ｔ、Ｊ＝９．０Ｈｚ）、７．００〜７
．５３（１２Ｈ、ｍ）、７．６７〜８．１３（８Ｈ、ｍ）ＩＲ（ｎｕｊｏｌ）１７００、１２５０、１０８０、１０５０、６８０ｃｍ
−１【００６６】（実施例２）　　１Ｄ−１，２−Ｏ−（シ
クロヘキシリデン）−３，４，５，６−テトラ−Ｏ−ベ
ンゾイルミオイノシトールを出発原料とするＤ−コンズ
リトールＢの合成図１に従って説明する。【００６７】■　　１Ｄ−１，２−Ｏ−（シクロヘキシ
リデン）−３，４，５，６−テトラ−Ｏ−ベンゾイルミ
オイノシトール（化合物７）（１１５．８ｍｇ、０．１
７１ｍｍｏｌ）に、トリフルオロ酢酸とメタノール（８
：１）の混合溶液６ｍｌを加え、室温で１０分間撹拌す
る。溶媒を留去した後、薄層クロマトグラフィー（酢酸
エチル／ヘキサン＝１／２）によって精製し、化合物８
を得る。化合物８収　　量　　９５．２ｍｇ（９３％）Ｒｆ値　　０．１５（酢酸エチル／ヘキサン＝１／３）
〔α〕Ｄ２６　＋２２．９°（ｃ、１．４０　　ｉｎ　
　ＣＨＣｌ３　）１Ｈ−ＮＭＲ（δ　　ｉｎ　　ＣＤＣｌ３　、９０ＭＨ
ｚ）３．５３〜４．２０（３Ｈ、ｂｒ．）、４．５６（
１Ｈ、ｂｒ．ｓ）、５．４２（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ３，４　＝９．９Ｈｚ、Ｊ３
，２　＝２．４Ｈｚ）、５．６７〜６．１０（２Ｈ、ｍ）、６．３３（１Ｈ、ｔ、Ｊ＝９．０Ｈｚ）、７．００〜７
．５０（１２Ｈ、ｍ）、７．５５〜８．０６（８Ｈ、ｍ）ＩＲ（ｎｕｊｏｌ）３４５０、１７１０、１２６０、１１００、７００ｃｍ
−１【００６８】■　　化合物８（４２．５ｍｇ、０．０７
１ｍｍｏｌ）に無水アセトン１ｍｌを加え、無水アセト
ン溶液とした後、１，１´−チオカルボニルジイミダゾ
ール（１４．６ｍｇ、０．０８２ｍｍｏｌ）を加え、５
時間加熱還流する。室温に戻した後、反応液を分液ロー
トに移し、水５ｍｌを加え、さらにジクロロメタン３ｍ
ｌを加え、抽出する。ジクロロメタン抽出をさらに２回
行なった後、有機層を集め、それを、１Ｎ塩酸、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウムを加えて乾燥する。溶媒を留去し、得られた油状物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロロメタ
ン／ヘキサン＝９／１）によって精製し、１，２−Ｏ−
（チオカルボニル）−３，４，５，６−テトラ−Ｏ−ベ
ンゾイルミオイノシトール（化合物９）を得る。化合物９収　　量　　４１．５ｍｇ（０．０６５ｍｍｏｌ、９１
％）１Ｈ−ＮＭＲ（δ　　ｉｎ　　ＣＤＣｌ３　＋ＤＭ
ＳＯ−ｄ６　（３：１）、９０ＭＨｚ）５．７２（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ＝５．８Ｈｚ、Ｊ＝７．９Ｈ
ｚ）、５．８０（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ＝３．４Ｈｚ、Ｊ＝７．９Ｈ
ｚ）、５．８８〜５．９２（２Ｈ、ｍ）、６．００〜６．１０（２Ｈ、ｍ）、７．３２〜７．６７（１２Ｈ、ｍ、Ａｒｏｍａｔｉｃ）
、７．８７〜８．０８（８Ｈ、ｍ、Ａｒｏｍａｔｉｃ）
【００６９】■　　化合物９（４１．５ｍｇ、０．０７
５ｍｍｏｌ）にトリメチルホスファイト２ｍｌを加え、
５時間加熱還流する。室温に戻した後、過剰のトリメチ
ルホスファイトを減圧留去し、得られた油状物を、薄層
クロマトグラフィーによって精製し、１Ｄ−１，２，３
，４−テトラ−Ｏ−ベンゾイル−シクロヘキサ−５−エ
ン−（１，３／２，４）−テトロール（化合物１０）を
得る。化合物１０収　　量　　３６．９ｍｇ（０．０６６ｍｍｏｌ、９７
％）１Ｈ−ＮＭＲ（δ　　ｉｎ　　ＣＤＣｌ３　、９０
ＭＨｚ）６．０４〜６．０８（６Ｈ、ｍ）、７．２６〜
７．５７（１２Ｈ、ｍ、Ａｒｏｍａｔｉｃ）、７．８５〜８．０２（８Ｈ、ｍ、Ａｒｏｍａｔｉｃ）【
００７０】■　　化合物１０（３３．４ｍｇ、０．０５
９４ｍｍｏｌ）に無水メタノール１．５ｍｌと無水テト
ラヒドロフラン０．８ｍｌとを加えて溶解し、０℃とし
た後、水素化ナトリウム１０．７ｍｇを加え、その後、
室温で終夜撹拌する。反応液を分液ロートに移し、１Ｎ
塩酸３ｍｌを加え、抽出を行ない、水層を分取する。水
層をエーテルで洗浄した後、濃縮する。得られた油状物
を、陽イオン交換樹脂（ダイアイオンＳＫ１Ｂ　　Ｈ＋
　型）、続いて、陰イオン交換樹脂（アンバーライトＩ
ＲＡ−９０４、Ｃ１−　型）に通して精製し、１Ｄ−シ
クロヘキサ−５−エン−（１，３／２，４）−テトロー
ル（Ｄ−コンズリトールＢ、化合物１１）を得る。化合物１１収　　量　　８．７ｍｇ（定量的）融　　点　　１６９〜１７２℃ 〔α〕Ｄ２２　＋１５０°（ｃ、０．８８　　ｉｎ　　
ＣＨ３ＯＨ）１Ｈ−ＮＭＲ（δ　　ｉｎ　　ＣＤ３　ＯＤ、９０ＭＨ
ｚ）３．３２〜３．４３（２Ｈ、ｍ、Ｈ２，３）、４．
０１〜４．１３（２Ｈ、ｍ、Ｈ１，４）、５．５７（２
Ｈ、ｓ、Ｈ５，６）（参考）融　　点　　１７９℃ 〔α〕Ｄ２２　−１５６°（ｃ、１．２６　　ｉｎ　　
ＣＨ３ＯＨ）（Ｌ体）Ｈ．　Ｐａｕｌｓｅｎ　ｅｔ．　ａｌ．，　Ｃｈｅｍ．
　Ｂｅｒ．，　Ｖｏｌ．１１４，　ｐ．３２４２（１９
８１）　による【００７１】（実施例３）　　Ｌ−クエブラキトールを
出発原料とするＬ−コンズリトールＦの合成図２に従っ
て説明する。【００７２】■　　実施例１■に従い、Ｌ−クエブラキ
トール１から化合物２を得る。【００７３】■　　化合物２（１０６ｍｇ、０．２９８
ｍｍｏｌ）にアセトニトリル２．５ｍｌを加え、アセト
ニトリル溶液とした後、０℃に冷却し、ピリジン（２．
４２μｌ、２．９８ｍｍｏｌ）、塩化アルミニウム（３
９８ｍｇ、２．９８ｍｍｏｌ）　およびテトラブチルア
ンモニウムヨージド（１．１ｇ、２．９８ｍｍｏｌ）を
加え、室温に戻して１１時間撹拌する。反応液を分液ロ
ートに移し、氷水１０ｍｌを加え、さらにジクロロメタ
ン８ｍｌを加えて抽出する。ジクロロメタン抽出をさら
に２回行なった後、有機層を集め、１０％亜硫酸ナトリ
ウム水溶液４ｍｌを加えて洗浄し、次いで無水硫酸ナト
リウムで乾燥する。濃縮して得られた油状物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（ジクロロメタン／酢酸エ
チル＝１０／１）によって精製し、１Ｌ−１，２；３，
４−ジ−Ｏ−（シクロヘキシリデン）−キロイノシトー
ル（化合物１２）およびＬ−クエブラキトール（化合物
１）を得る。化合物１２収　　量　　７７．６ｍｇ（７６％）１Ｈ−ＮＭＲ（δ　　ｉｎ　　ＣＤＣｌ３　、９０ＭＨ
ｚ）１．２５〜１．７３（２０Ｈ、ｍ）、２．９４（１Ｈ、ｂｒｄ．、Ｊ＝２．４Ｈｚ、ＯＨ）、
３．０８（１Ｈ、ｂｒｄ．、Ｊ＝２．８Ｈｚ、ＯＨ）、
３．６３（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ３，４　＝１０．４Ｈｚ、Ｊ
２，３　＝６．７Ｈｚ）、３．７１（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ４，３　＝１０．４Ｈｚ、Ｊ
４，５　＝７．７Ｈｚ）、４．０８〜４．２１（２Ｈ、ｍ、Ｈ５，６）、４．３３
〜４．４０（２Ｈ、ｍ、Ｈ１，２）ＩＲ（ｎｕｊｏｌ）３４５０、１２７０、１１６０、１０９０、９４０、８
００ｃｍ−１元素分析（Ｃ１８Ｈ２８Ｏ６　）Ｃ：６３．５１；Ｈ：８．２９（理論値）Ｃ：６３．５
９；Ｈ：８．５３（測定値）【００７４】■　　化合物
１２（７１．０ｍｇ、０．２０９ｍｍｏｌ）に無水アセ
トン４ｍｌを加え、無水アセトン溶液とした後、１，１
´−チオカルボニルジイミダゾール（４２．８ｍｇ、０
．２４０ｍｍｏｌ）を加え、６時間加熱還流した後、１
，１´−チオカルボニルジイミダゾール（５５．８ｍｇ
、０．３１３ｍｍｏｌ）を加え、更に３時間加熱還流す
る。反応液を室温に戻した後、分液ロートに移し、水５
ｍｌを加え、さらにジクロロメタン３ｍｌを加えて抽出
する。ジクロロメタン抽出をさらに２回行なった後、有
機層を集め、１Ｎ塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒を
留去し、得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（ジクロロメタン／ヘキサン＝２／３）によっ
て精製し、１Ｌ−１，２−Ｏ−（チオカルボニル）−３
，４；５，６−ジ−Ｏ−（シクロヘキシリデン）−キロ
イノシトール（化合物１３）を得る。化合物１３収　　量　　７２．７ｍｇ（０．１８１ｍｍｏｌ、９０
％）〔α〕Ｄ２２　−４．８°（ｃ、１．０５　　ｉｎ
　　ＣＨＣｌ３　）１Ｈ−ＮＭＲ（δ　　ｉｎ　　ＣＤＣｌ３　、９０ＭＨ
ｚ）１．４１〜１．７０（２０Ｈ、ｍ）、３．６２（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ３，４　＝１１．０Ｈｚ、Ｊ
４，５　＝７．５Ｈｚ、Ｈ４）、３．８４（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ２，３　＝７．３Ｈｚ、Ｊ３
，４　＝１１．０Ｈｚ、Ｈ３）４．４８（１Ｈ、ｔ、Ｊ４，５　＝Ｊ５，６　＝７．４
Ｈｚ、Ｈ５）、４．５４（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ１，６　＝４．６Ｈｚ、Ｊ５
，６　＝７．４Ｈｚ、Ｈ６）５．０１〜５．３０（２Ｈ、ｍ、Ｈ１、Ｈ２）ＩＲ（ｎ
ｕｊｏｌ）１３４０、１２８０、１２４０、９８０、７１０ｃｍ−
１【００７５】■　　化合物１３（１８８．７ｍｇ、０
．４９３ｍｍｏｌ）にトリメチルホスファイト１０ｍｌ
を加え、６時間加熱還流する。室温に戻した後、過剰の
トリメチルホスファイトを減圧留去することにより、化
合物１４を得る。これを精製する事なく、８０％トリフ
ルオロ酢酸メタノール溶液１０ｍｌを加え、室温で終夜
撹拌する。アスピレーターで溶媒を留去した後、水５ｍ
ｌを加え、ジクロロメタンで洗浄を行ない、水層を分取
する。水層を濃縮後、それを、陽イオン交換樹脂（ダイヤイオ
ンＳＫ１Ｂ、Ｈ＋　型）、続いて、陰イオン交換樹脂（
アンバーライトＩＲＡ−９０４、Ｃ１−　型）に通して
精製し、１Ｌ−シクロヘキサ−５−エン−（１，２，４
／３）−テトロール（Ｌ−コンズリトールＦ、化合物１
５）を得る。化合物１５収　　量　　５７．１ｍｇ（７９％）〔α〕Ｄ２２　−７６．５°（ｃ、０．６８　　ｉｎ　
　ＣＨ３　ＯＨ）１Ｈ−ＮＭＲ（δ　　ｉｎ　　ＣＤ３　ＯＤ、９０ＭＨ
ｚ）３．４１（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ２，３　＝１０．４Ｈｚ
、Ｊ３，４　＝４．３Ｈｚ、Ｈ３）、３．６１（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ１，２　＝７．６Ｈｚ、Ｊ２
，３　＝１０．４Ｈｚ、Ｈ２）、３．８６〜３．９８（１Ｈ、ｍ、Ｈ１）、４．１６（１
Ｈ、ｔ、Ｊ３，４　＝Ｊ４，５　＝４．３Ｈｚ、Ｈ４）
、５．７１（１Ｈ、ｄｄ、Ｊ１，６　＝１０．１Ｈｚ、Ｊ
５，６　＝１．８Ｈｚ、Ｈ６）５．７９（１Ｈ、ｄｄｄ、Ｊ４，５　＝４．３Ｈｚ、Ｊ
５，６　＝１．８Ｈｚ、Ｊ１，５　＝１０．１Ｈｚ、Ｈ
５）（参考）〔α〕Ｄ２３　−７１．７°（ｃ、０．２４　　ｉｎ　
　ＣＨ３　ＯＨ）Ｓ．　Ｖ．　Ｌｅｙ　ａｎｄ　Ａ．　Ｊ．　Ｒｅｄｇｒ
ａｖｅ，　Ｓｙｎｌｅｔｔ．，　ｐ．３９３　（１９９
０）による【００７６】このように、本発明法により、Ｌ−コンズ
リトールＦは、５工程で、Ｌ−クエブラキトールに対し
て３９％の収率で合成することができた。一方、前記Ｈ
．Ｐａｕｌｓｅｎらによる方法は、７工程で、その収率
は１５％程度であったと報告されている。【００７７】【発明の効果】本発明により、Ｄ−コンズリトールＢお
よびその合成方法と、Ｌ−コンズリトールＦの合成方法
が提供される。Ｄ−コンズリトールＢおよびＬ−コンズ
リトールＦは、グリコシダーゼ阻害剤として有用である
が、従来は、Ｄ−コンズリトールＢに関しては、ラセミ
体からの光学分割やＤ体単独の合成が出来なかったため
に入手できておらず、一方、Ｌ−コンズリトールＦに関
しては、工程数が多く、収率の低い合成方法しか知られ
ていなかった。従って、Ｄ−コンズリトールＢをその合
成方法を共に提供すると共に、Ｌ−コンズリトールＦの
優れた合成方法を提供する本発明は、医薬の分野に大き
く寄与するものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】Ｌ−クエブラキトールからＤ−コンズリトール
Ｂに到る反応経路図である。

【図２】Ｌ−クエブラキトールからＬ−コンズリトール
Ｆに到る反応経路図である。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】　　Ｄ−コンズリトールＢ。
【請求項２】　　下記一般式Ｉで示される１Ｄ−１，２
−Ｏ−（Ｒ１　）−３，４，５，６−テトラ−Ｏ−（Ｒ
２　）−ミオイノシトールの１位および２位の酸素原子
に結合した保護基を脱保護して１位および２位の置換基
を水酸基とした後、１位および２位を脱水酸基化して１
Ｄ−１，２，３，４−テトラ−Ｏ−（Ｒ２　）−シクロ
ヘキサ−５−エン−（１，３／２，４）−テトロールと
し、その後、該テトロールの１位、２位、３位および４
位の酸素原子に結合した保護基を脱保護する工程を経る
ことを特徴とするＤ−コンズリトールＢの合成方法。【化１】（上記一般式Ｉにおいて、Ｒ１　は、隣接する２個の酸
素原子に結合するブリッジ型保護基であり、Ｒ２　は、
１個の酸素原子に結合する保護基である。なお、４箇所
のＲ２　は、互いに同じであっても異なっていてもよい
。）
【請求項３】　　Ｌ−クエブラキトールの１位の水
酸基の反転、２位のメトキシ基の脱メチル化および水酸
基の保護を順序によらずに行なって合成した前記１Ｄ−
１，２−Ｏ−（Ｒ１　）−３，４，５，６−テトラ−Ｏ
−（Ｒ２　）−ミオイノシトールを用いる請求項２に記
載のＤ−コンズリトールＢの合成方法。
【請求項４】　　Ｌ−クエブラキトールの３位、４位、
５位、および６位の水酸基を保護した後、２位のメトキ
シ基を脱メチル化して水酸基とし、その後、１位および
２位の脱水酸基化と、３位、４位、５位および６位の酸
素原子に結合した保護基の脱保護を行なうことを特徴と
するＬ−コンズリトールＦの合成方法。