JPH04310543A - コーティング膜形成ノズル - Google Patents
コーティング膜形成ノズルInfo
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- JPH04310543A JPH04310543A JP4025087A JP2508792A JPH04310543A JP H04310543 A JPH04310543 A JP H04310543A JP 4025087 A JP4025087 A JP 4025087A JP 2508792 A JP2508792 A JP 2508792A JP H04310543 A JPH04310543 A JP H04310543A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/001—General methods for coating; Devices therefor
- C03C17/002—General methods for coating; Devices therefor for flat glass, e.g. float glass
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- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、加熱されたガラス帯に
対して、例えばシランやモノシランなどに代表されるよ
うな、カルボニル金属や気化性水素化合金属成分からな
るガスから得られる被覆フィルムを形成する装置に取り
付けられるノズルに関する。
対して、例えばシランやモノシランなどに代表されるよ
うな、カルボニル金属や気化性水素化合金属成分からな
るガスから得られる被覆フィルムを形成する装置に取り
付けられるノズルに関する。
【０００２】
【従来の技術】仏国特許第２３１４１５２号によってこ
の種のノズルが公知であり、それには移動するガラス帯
の被覆面に対して、ガラス帯の搬送方向に横断する方向
に延びる分配器からのコーティングガスが噴射され、更
にガスはガラス表面に対して平行にかつガラス帯の全幅
に亙って均一に薄く流れるように噴射される。
の種のノズルが公知であり、それには移動するガラス帯
の被覆面に対して、ガラス帯の搬送方向に横断する方向
に延びる分配器からのコーティングガスが噴射され、更
にガスはガラス表面に対して平行にかつガラス帯の全幅
に亙って均一に薄く流れるように噴射される。
【０００３】このため、ノズルは、ガス噴射装置、中央
ブロック、上流側の側方ヒール・下流の側方ヒールを有
し、これらのヒールは中央ブロックの片側に配置され、
噴射装置からのガスに対し、上流側側方ヒール・中央ブ
ロック間、中央ブロックの下面・ガラス帯間及び中央ブ
ロック・下流側ヒール間に延びるＵ状ガイド溝に沿った
流路を提供し、ノズルは更に中央ブロックと下流側ヒー
ルとの間の溝からの出口に形成されるガス吸引装置を有
する。
ブロック、上流側の側方ヒール・下流の側方ヒールを有
し、これらのヒールは中央ブロックの片側に配置され、
噴射装置からのガスに対し、上流側側方ヒール・中央ブ
ロック間、中央ブロックの下面・ガラス帯間及び中央ブ
ロック・下流側ヒール間に延びるＵ状ガイド溝に沿った
流路を提供し、ノズルは更に中央ブロックと下流側ヒー
ルとの間の溝からの出口に形成されるガス吸引装置を有
する。
【０００４】尚、ここで用いられている上流側、中央、
下流側の各表現はガラス帯の搬送方向に対して定義した
ものである。上流側ヒールと下流側ヒールには、ガラス
表面に対し微少距離（約１ｍｍ）をおいて平行に延びる
平坦な下面が設けられ、これらの下面とガラスとの間で
起こるガス飛散を最小限にする。
下流側の各表現はガラス帯の搬送方向に対して定義した
ものである。上流側ヒールと下流側ヒールには、ガラス
表面に対し微少距離（約１ｍｍ）をおいて平行に延びる
平坦な下面が設けられ、これらの下面とガラスとの間で
起こるガス飛散を最小限にする。
【０００５】このノズルは、ガラス帯上に例えば６０ナ
ノメートル以下の微少薄さのコーティングを施したり、
かつ／又は小流量のガスを用いて約３．３ｍ幅のノズル
に対して１００ １／ｍｉｎ．のオーダの薄膜コーテ
ィングを施すことが望まれるような場合、正しく機能す
る。事実、これらの厚さに対しては、溝の水平部のガス
流はガラス帯のそれよりも小さな速度で流れる。この流
れはこのため下流側方向においてはガラス帯に乗せられ
、その結果、上流側ヒール上でのガス飛散も外殻飛散も
発生しない。同様に、下流ヒール側の下で発生する飛散
は、清浄期間と比較して長い生産期間に対し充分小さい
。従ってガラスの損失は比較的制限される。
ノメートル以下の微少薄さのコーティングを施したり、
かつ／又は小流量のガスを用いて約３．３ｍ幅のノズル
に対して１００ １／ｍｉｎ．のオーダの薄膜コーテ
ィングを施すことが望まれるような場合、正しく機能す
る。事実、これらの厚さに対しては、溝の水平部のガス
流はガラス帯のそれよりも小さな速度で流れる。この流
れはこのため下流側方向においてはガラス帯に乗せられ
、その結果、上流側ヒール上でのガス飛散も外殻飛散も
発生しない。同様に、下流ヒール側の下で発生する飛散
は、清浄期間と比較して長い生産期間に対し充分小さい
。従ってガラスの損失は比較的制限される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】これに対し、ガラス帯
上に例えば８０ナノメートルの微少薄さのコーティング
を施したり、かつ／又は高流量のガスを用いて約３．３
ｍ幅のノズルに対して少なくとも４００ １／ｍｉｎ
．のオーダの薄膜コーティングを施すことが望まれるよ
うな場合、ガスの流速はガラス帯の速度よりも確かに高
くなることができる。しかしながらこの速度上昇は以下
の欠点を導く。
上に例えば８０ナノメートルの微少薄さのコーティング
を施したり、かつ／又は高流量のガスを用いて約３．３
ｍ幅のノズルに対して少なくとも４００ １／ｍｉｎ
．のオーダの薄膜コーティングを施すことが望まれるよ
うな場合、ガスの流速はガラス帯の速度よりも確かに高
くなることができる。しかしながらこの速度上昇は以下
の欠点を導く。
【０００７】・ その分解を確実にする一方で所望の
膜厚を得るために速度に比例してＵ部溝の水平部長さを
増加しなければならない。・ ガス速度はガラス帯速
度よりも大きいため、下流ヒールの下方からの飛散はか
なりの量になり、上流ヒール下方からも飛散しがちであ
る。 これらのヒールの下面はコーティング材のデポジットで
早い時期に覆われ、流速がより高くなるガス脈を作り、
結果としてガラス帯を横断する方向に不等質の付着物を
生じる。
膜厚を得るために速度に比例してＵ部溝の水平部長さを
増加しなければならない。・ ガス速度はガラス帯速
度よりも大きいため、下流ヒールの下方からの飛散はか
なりの量になり、上流ヒール下方からも飛散しがちであ
る。 これらのヒールの下面はコーティング材のデポジットで
早い時期に覆われ、流速がより高くなるガス脈を作り、
結果としてガラス帯を横断する方向に不等質の付着物を
生じる。
【０００８】・ 閉塞や付着がかなりのものになる時
、コーティング粒子がガラスに接触して跡を残す可能性
がある。・ 時間と共に増加する付着はノズルの定期
的なクリーニングを要し、この時ガラス生産ラインはそ
の生産量を維持しなければならないため、損失ガラスを
産む。
、コーティング粒子がガラスに接触して跡を残す可能性
がある。・ 時間と共に増加する付着はノズルの定期
的なクリーニングを要し、この時ガラス生産ラインはそ
の生産量を維持しなければならないため、損失ガラスを
産む。
【０００９】・ 回復されないガス飛散は、ガラス製
造用浮動容器の内部にこの種のノズルが装着される場合
、ガラス用浮動浴の雰囲気を汚す。本発明は、ガラス帯
上に比較的薄い膜を付着させることができ、かつ／又は
高いガラス流量を用いることができるノズルを提案する
ことで、これらの欠点に対処することを目的とする。
造用浮動容器の内部にこの種のノズルが装着される場合
、ガラス用浮動浴の雰囲気を汚す。本発明は、ガラス帯
上に比較的薄い膜を付着させることができ、かつ／又は
高いガラス流量を用いることができるノズルを提案する
ことで、これらの欠点に対処することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明によればノズルは
、・ ガラス帯に対して横断する中央噴射路をその間
に形成する第１及び第２中央ブロックであって、これら
の中央ブロックはガラス帯とで一定厚の２つの通路を形
成し、中央噴射路からのガスは２つの通路の間で、ガラ
ス帯に平行でかつ一方は上流側へ流れ、他方は下流側に
流れる２つの層流に分割されるような、第１及び第２中
央ブロック、及び・ 第１中央ブロックの上流側と第
２中央ブロックの下流側に夫々取り付けられ、これらの
ブロックと共に上流側吸引路と下流側吸引路を形成する
上流側ヒールと下流側ヒールであって、好ましくはこれ
らのヒールの少なくとも一方にガラス帯よりも高い下面
が設けられる、上・下流側ヒール、を有する。
、・ ガラス帯に対して横断する中央噴射路をその間
に形成する第１及び第２中央ブロックであって、これら
の中央ブロックはガラス帯とで一定厚の２つの通路を形
成し、中央噴射路からのガスは２つの通路の間で、ガラ
ス帯に平行でかつ一方は上流側へ流れ、他方は下流側に
流れる２つの層流に分割されるような、第１及び第２中
央ブロック、及び・ 第１中央ブロックの上流側と第
２中央ブロックの下流側に夫々取り付けられ、これらの
ブロックと共に上流側吸引路と下流側吸引路を形成する
上流側ヒールと下流側ヒールであって、好ましくはこれ
らのヒールの少なくとも一方にガラス帯よりも高い下面
が設けられる、上・下流側ヒール、を有する。
【００１１】ノズルは更に、中央噴射路への入り口に取
り付けられたガス噴射装置と、上記上流吸引路と下流吸
引路からの各出口に夫々取り付けられる２つのガス吸引
装置とを有する。
り付けられたガス噴射装置と、上記上流吸引路と下流吸
引路からの各出口に夫々取り付けられる２つのガス吸引
装置とを有する。
【００１２】
【作用】上・下流側ヒールがガラス帯に対して高い位置
にある時、起こり得るそれらの下面の目詰まりや付着は
問題にはならない。特に、コーティングの凹凸に帰着す
るようなガス流量の変化もなく、又コーティングがあま
りにも大きい時ガラス上に付けられるような痕跡の形成
もない。
にある時、起こり得るそれらの下面の目詰まりや付着は
問題にはならない。特に、コーティングの凹凸に帰着す
るようなガス流量の変化もなく、又コーティングがあま
りにも大きい時ガラス上に付けられるような痕跡の形成
もない。
【００１３】更に、上・下流側ヒールがガラス帯からか
なりの距離にあるけれども上・下流側方向に対してガス
の飛散はない。何故ならガラス帯上を上・下流側に流れ
る２つのガス流は、上記ガス流と同時に吸引される周辺
ガスの向流によって夫々阻止されるからである。ガラス
は移動するため、ガラスは中央噴射路からのガス流のか
なりの部分を下流側方向に乗せる傾向がある。この流れ
の部分は、上流側を移動する残留した流れよりも高い速
度で流れる。その結果、仮に中央噴射路が上・下流側吸
引路から等距離に置かれるならば、課せられた経路に沿
って上流側に向かうガスの移動時間は、熱いガラス帯上
で熱分解に要求される時間よりも長くなり、これは第１
中央ブロックの長さ部分は無用なものとなるということ
を意味する。逆に、下流側に流れるガス流に対する接触
時間は充分ではなく、この結果コーティングガスの一部
は使用されなくなるであろう。従って、そのような中央
送りノズルは反応ガスの消費や蒸着、及び全長サイズに
関して最適化されない。後者の点はコーティング装置が
有効空間が小さいフロート槽容器内に配置された時、特
に重要になる。
なりの距離にあるけれども上・下流側方向に対してガス
の飛散はない。何故ならガラス帯上を上・下流側に流れ
る２つのガス流は、上記ガス流と同時に吸引される周辺
ガスの向流によって夫々阻止されるからである。ガラス
は移動するため、ガラスは中央噴射路からのガス流のか
なりの部分を下流側方向に乗せる傾向がある。この流れ
の部分は、上流側を移動する残留した流れよりも高い速
度で流れる。その結果、仮に中央噴射路が上・下流側吸
引路から等距離に置かれるならば、課せられた経路に沿
って上流側に向かうガスの移動時間は、熱いガラス帯上
で熱分解に要求される時間よりも長くなり、これは第１
中央ブロックの長さ部分は無用なものとなるということ
を意味する。逆に、下流側に流れるガス流に対する接触
時間は充分ではなく、この結果コーティングガスの一部
は使用されなくなるであろう。従って、そのような中央
送りノズルは反応ガスの消費や蒸着、及び全長サイズに
関して最適化されない。後者の点はコーティング装置が
有効空間が小さいフロート槽容器内に配置された時、特
に重要になる。
【００１４】これらの欠点は中央ブロックの長さを不均
等にした本発明によって解決される。それらは、ガスと
ガラス帯の接触時間が上流側を流れるガス流と下流側を
流れるガス流に関して実質上等しくなるように計算され
る。最適な配分を持つ上記ノズルは比較的コンパクトで
あり、それは浮動ガラス閉じ込め容器内に導入すること
が可能である。それは従来のノズルでは不可能と考えら
れていた蒸着を可能にするほどの蒸着能力を有する。
等にした本発明によって解決される。それらは、ガスと
ガラス帯の接触時間が上流側を流れるガス流と下流側を
流れるガス流に関して実質上等しくなるように計算され
る。最適な配分を持つ上記ノズルは比較的コンパクトで
あり、それは浮動ガラス閉じ込め容器内に導入すること
が可能である。それは従来のノズルでは不可能と考えら
れていた蒸着を可能にするほどの蒸着能力を有する。
【００１５】
【実施例】図１は、例えば図示しない溶解スズ浴を含ん
だ容器の中の溶解スズのような金属浴１２の表面に浮か
ぶガラス帯１０を示している。このガラスは図で左側に
位置することになるガラス溶解炉（図示せず）から浴の
上を流れる。ガラスは帯を形成するべく広がり、帯は浴
からの出口に設けられた引き抜き手段によって矢印ｆ方
向に一定速度で浴から引き抜かれる。
だ容器の中の溶解スズのような金属浴１２の表面に浮か
ぶガラス帯１０を示している。このガラスは図で左側に
位置することになるガラス溶解炉（図示せず）から浴の
上を流れる。ガラスは帯を形成するべく広がり、帯は浴
からの出口に設けられた引き抜き手段によって矢印ｆ方
向に一定速度で浴から引き抜かれる。
【００１６】ガラス帯１０の上方であって寸法的な安定
性を得たフロート浴の領域内には、コーティングガスを
供給するためのノズル１４が設けられている。このノズ
ルはガラス帯に対して横断する方向に配置されており、
この帯の全幅を横切って延びている。それは反転された
Ｕ状の部材１６を有しており、その垂直側壁の端縁は水
平なブラケット１８，２０上に固定される。ブラケット
は両端縁の間に長方形の開口部２２を形成し、開口部は
ガラス帯に対し横断し帯幅に等しい長さを有する。
性を得たフロート浴の領域内には、コーティングガスを
供給するためのノズル１４が設けられている。このノズ
ルはガラス帯に対して横断する方向に配置されており、
この帯の全幅を横切って延びている。それは反転された
Ｕ状の部材１６を有しており、その垂直側壁の端縁は水
平なブラケット１８，２０上に固定される。ブラケット
は両端縁の間に長方形の開口部２２を形成し、開口部は
ガラス帯に対し横断し帯幅に等しい長さを有する。
【００１７】部材より画成されるチャンバ２４内には、
その全長に亙って穴２７が空けられたガス送りダクト２
６が収納される。ガスはチャンバ２４を充満し、ここで
均一な圧力となり開口部２２から流出する。ノズルは、
ガラス帯１０の上方において上流側から下流側の順で配
置された上流側ヒール３０、第１の中央ブロック３２、
第２の中央ブロック３４及び下流側ヒールを有する。
その全長に亙って穴２７が空けられたガス送りダクト２
６が収納される。ガスはチャンバ２４を充満し、ここで
均一な圧力となり開口部２２から流出する。ノズルは、
ガラス帯１０の上方において上流側から下流側の順で配
置された上流側ヒール３０、第１の中央ブロック３２、
第２の中央ブロック３４及び下流側ヒールを有する。
【００１８】通常カーボンから造られるこれらの部品は
、夫々ガラス帯の全幅を横切って延び、それらの間と帯
とで、２つの中央ブロックの隣接する側壁面によって形
成されかつ開口部２２に接続される垂直噴射路３８と、
中央ブロックの下面とガラス帯との間に形成されかつ一
定厚（約３〜６ｍｍ）の水平上流側通路４０及び水平下
流側通路４２と、上流側ヒール３０と第１中央ブロック
３２の間に形成される上流側吸引路４４と、第２中央ブ
ロック３４と下流側ヒール３６との間で形成される下流
側吸引路４６とを有する。
、夫々ガラス帯の全幅を横切って延び、それらの間と帯
とで、２つの中央ブロックの隣接する側壁面によって形
成されかつ開口部２２に接続される垂直噴射路３８と、
中央ブロックの下面とガラス帯との間に形成されかつ一
定厚（約３〜６ｍｍ）の水平上流側通路４０及び水平下
流側通路４２と、上流側ヒール３０と第１中央ブロック
３２の間に形成される上流側吸引路４４と、第２中央ブ
ロック３４と下流側ヒール３６との間で形成される下流
側吸引路４６とを有する。
【００１９】吸引路４４，４６の出口に対しダクト４８
，５０から構成される吸引手段が取り付けられ、ダクト
には穴５２が空けられ装置の全幅に横切って延びる。 これらのダクトは反転Ｕ状部材５４，５６内に収納され
、部材はブラケット５８，６０及び６２，６４によって
各中央ブロック３２，３４と各ヒール３０，３６に固定
される。
，５０から構成される吸引手段が取り付けられ、ダクト
には穴５２が空けられ装置の全幅に横切って延びる。 これらのダクトは反転Ｕ状部材５４，５６内に収納され
、部材はブラケット５８，６０及び６２，６４によって
各中央ブロック３２，３４と各ヒール３０，３６に固定
される。
【００２０】送りダクト２６からのガス流は噴射路３８
を下降し、２つの流れに分かれる。それは水平上流側通
路４０を通ってガラス帯搬送方向とは逆に流れる上流側
流れ６６と水平下流側通路４２を通ってガラス帯搬送方
向と同じように流れる下流側流れ６８である。そして最
終的にはこの上・下流側流れは夫々上・下流側吸引路４
４，４６を介して外へと吸引される。
を下降し、２つの流れに分かれる。それは水平上流側通
路４０を通ってガラス帯搬送方向とは逆に流れる上流側
流れ６６と水平下流側通路４２を通ってガラス帯搬送方
向と同じように流れる下流側流れ６８である。そして最
終的にはこの上・下流側流れは夫々上・下流側吸引路４
４，４６を介して外へと吸引される。
【００２１】本発明によれば、上・下流側ヒール３０，
３６のどんな汚損をも防ぎガス流を妨害しないように、
これらのヒールの下面７０，７２はガラス帯１０に対し
て、例えば３〜５０ｍｍのような充分な距離、好ましく
は１０〜３０ｍｍや１０〜２０ｍｍのような距離を以て
上方に位置せしめられることが好ましい。しかしながら
、この距離を増加してもヒール下方からコーティングガ
スが飛散したり漏出することはない。何故なら、吸引路
４４，４６の吸引によって発生する負圧のために、周囲
ガスの向流７４，７６がヒール下方に発生し、それらは
上・下流側流れ６６，６８に反対方向に流れることでど
んなガス飛散をも阻止する。
３６のどんな汚損をも防ぎガス流を妨害しないように、
これらのヒールの下面７０，７２はガラス帯１０に対し
て、例えば３〜５０ｍｍのような充分な距離、好ましく
は１０〜３０ｍｍや１０〜２０ｍｍのような距離を以て
上方に位置せしめられることが好ましい。しかしながら
、この距離を増加してもヒール下方からコーティングガ
スが飛散したり漏出することはない。何故なら、吸引路
４４，４６の吸引によって発生する負圧のために、周囲
ガスの向流７４，７６がヒール下方に発生し、それらは
上・下流側流れ６６，６８に反対方向に流れることでど
んなガス飛散をも阻止する。
【００２２】前述したように、反応ガスの消費という点
からのコストやノズル全体のサイズを最適化するために
は、コーティングガスとガラス帯１０との接触時間が上
流側流れ６６と下流側流れ６８に対して互いに等しくな
るように中央ブロック３２，３４の寸法が決められる。 以下の定義を用いる。
からのコストやノズル全体のサイズを最適化するために
は、コーティングガスとガラス帯１０との接触時間が上
流側流れ６６と下流側流れ６８に対して互いに等しくな
るように中央ブロック３２，３４の寸法が決められる。 以下の定義を用いる。
【００２３】
Ｌ１ ：中央ブロック３２の長さ
Ｌ２ ：中央ブロック３４の長さ
Ｖ１ ：上流側通路４０を通って上流側に流れるガスの
流速 Ｖ２ ：下流側通路４２を通って下流側に流れるガスの
流速 ｖ ：ガラス帯の搬送速度 ΔＰ１ ：ヘッドの上流側損失 ΔＰ２ ：ヘッドの下流側損失 ΔＰ１ ＝ＫＬ１ （Ｖ２ ＋ｖ／２）ΔＰ２ ＝ＫＬ
２ （Ｖ２ −ｖ／２）上・下流側ガラス帯とのガラス
の接触時間の等式は以下の式で表せる。
流速 Ｖ２ ：下流側通路４２を通って下流側に流れるガスの
流速 ｖ ：ガラス帯の搬送速度 ΔＰ１ ：ヘッドの上流側損失 ΔＰ２ ：ヘッドの下流側損失 ΔＰ１ ＝ＫＬ１ （Ｖ２ ＋ｖ／２）ΔＰ２ ＝ＫＬ
２ （Ｖ２ −ｖ／２）上・下流側ガラス帯とのガラス
の接触時間の等式は以下の式で表せる。
【００２４】
Ｌ１ ／Ｖ１ ＝Ｌ２ ／Ｖ２
（１）ヘッドの上・下流側損失の実際の等式は以下のよ
うに書ける。 Ｌ１ （Ｖ１ ＋ｖ／２）＝Ｌ２ （Ｖ２ −ｖ／２）
（２）ここで、 Ｖ１ ＋Ｖ２ ＝Ｖ
（３）（但し、Ｖ：ガスの噴射速度） ノズル幅１ｍ当たりの流量をＱとし、中央ブロックとガ
ラス帯間のガス帯の厚さをｅとすると、Ｖ＝Ｑ／ｅの関
係が知られている。
（１）ヘッドの上・下流側損失の実際の等式は以下のよ
うに書ける。 Ｌ１ （Ｖ１ ＋ｖ／２）＝Ｌ２ （Ｖ２ −ｖ／２）
（２）ここで、 Ｖ１ ＋Ｖ２ ＝Ｖ
（３）（但し、Ｖ：ガスの噴射速度） ノズル幅１ｍ当たりの流量をＱとし、中央ブロックとガ
ラス帯間のガス帯の厚さをｅとすると、Ｖ＝Ｑ／ｅの関
係が知られている。
【００２５】式（１），（２）から
Ｖ１ （Ｖ１ ＋ｖ／２）＝Ｖ２ （Ｖ２ −ｖ／２）
となり、この式のＶ２ を式（３）によって得られた値
Ｖ−Ｖ１ で置き換えると、下式が得られる。 Ｖ１ ＝（Ｖ−ｖ／２）
（４）Ｖ２ ＝（Ｖ＋ｖ／２）
（５）故に、 Ｌ１ ／Ｌ２ ＝（Ｖ−ｖ／２）／（Ｖ＋ｖ／２）
（６）が得られる。ここで数値を適用し、 ｖ＝０．２ ｍ／ｓ Ｖ＝０．４ ｍ／ｓ Ｌ１ ＋Ｌ２ ＝４００ ｍｍ
（７）とすると、 Ｖ１ ＝０．１５ ｍ／ｓ Ｖ２ ＝０．２５ ｍ／ｓ が得られる。式（６），（７）の装置の解は、Ｌ１ ＝
１５０ ｍｍ Ｌ２ ＝２５０ ｍｍ 最適化された配分になるこの種のノズルは高い収量を有
し、従来ノズルでは不可能と考えられていた蒸着を可能
にする。
となり、この式のＶ２ を式（３）によって得られた値
Ｖ−Ｖ１ で置き換えると、下式が得られる。 Ｖ１ ＝（Ｖ−ｖ／２）
（４）Ｖ２ ＝（Ｖ＋ｖ／２）
（５）故に、 Ｌ１ ／Ｌ２ ＝（Ｖ−ｖ／２）／（Ｖ＋ｖ／２）
（６）が得られる。ここで数値を適用し、 ｖ＝０．２ ｍ／ｓ Ｖ＝０．４ ｍ／ｓ Ｌ１ ＋Ｌ２ ＝４００ ｍｍ
（７）とすると、 Ｖ１ ＝０．１５ ｍ／ｓ Ｖ２ ＝０．２５ ｍ／ｓ が得られる。式（６），（７）の装置の解は、Ｌ１ ＝
１５０ ｍｍ Ｌ２ ＝２５０ ｍｍ 最適化された配分になるこの種のノズルは高い収量を有
し、従来ノズルでは不可能と考えられていた蒸着を可能
にする。
【００２６】このようなノズルは前述したような浮動容
器内部に取り付けても良いが、外部にも取り付け可能で
ある。更に、特にヒールの一方（例えば、上流側ヒール
）が、高くないヒールと同じ側で高くない時、補助吸引
手段を本ノズルの上流側及び／又は下流側に装着しても
良い。
器内部に取り付けても良いが、外部にも取り付け可能で
ある。更に、特にヒールの一方（例えば、上流側ヒール
）が、高くないヒールと同じ側で高くない時、補助吸引
手段を本ノズルの上流側及び／又は下流側に装着しても
良い。
【図１】本発明によるノズルの概略的断面図である。
１０…ガラス帯
１２…浮動浴
１４…ノズル
３０…上流側ヒール
３２…第１の中央ブロック
３４…第２の中央ブロック
３６…下流側ヒール
３８…中央噴射路
４０，４２…通路
４４…上流側吸引路
４６…下流側吸引路
６６，６８…層流
７０，７２…下面
Claims (8)
- 【請求項１】 層流様式でガス混合物の熱分解により
ガラス帯の上にコーティング膜を形成するノズルであっ
て、ガラス帯（１０）に対して横断する中央噴射路（３
８）をその間に形成する第１及び第２中央ブロック（３
２，３４）であって、これらの中央ブロックはガラス帯
と共に一定厚の２つの通路（４０，４２）を形成し、中
央噴射路（３８）からのガスは上記２つの通路の間で、
ガラス帯に平行でかつ一方は上流側へ流れ他方は下流側
に流れる２つの層流（６６，６８）に分割されるような
、第１及び第２中央ブロック及び、第１中央ブロック（
３２） の上流側と第２中央ブロック（３４）の下流側
に夫々取り付けられ、これらのブロックと共に上流側吸
引路（４４）と下流側吸引路（４６）を形成する上流側
ヒール（３０）と下流側ヒール（３６）であって、これ
ら上・下流側ヒールの少なくとも一方の下面（７０，７
２）は、ガラス帯よりも高いような、上・下流側ヒール
、を有することを特徴とするノズル。 - 【請求項２】 上流側ヒール（３０）又は下流側ヒー
ル（３６）の下面（７０，７２）はガラス帯から３〜５
０ｍｍの距離を隔てた位置にあることを特徴とする請求
項１に記載のノズル。 - 【請求項３】 各中央ブロック（３２，３４）の各長
さ（Ｌ１ とＬ２ ）は互いに等しくないことを特徴と
する前出請求項のいずれか１つの記載のノズル。 - 【請求項４】 層流様式でガス混合物の熱分解により
ガラス上にコーティング膜を形成するノズルであって、
ガラス帯（１０）に対して横断する中央噴射路（３８）
をその間に形成する第１及び第２中央ブロック（３２，
３４）を有し、これらの中央ブロックはガラス帯と共に
２つの通路（４０，４２）を形成し、中央噴射路（３８
）からのガスは上記２つの通路の間で、ガラス帯に平行
でかつ一方は上流側へ流れ他方は下流側に流れる２つの
層流（６６，６８）に分割され、第１及び第２中央ブロ
ック（３２，３４）の各長さ（Ｌ１ とＬ２ ）は互い
に等しくないことを特徴とするノズル。 - 【請求項５】 上記中央ブロック（３２，３４）の長
さ（Ｌ１ とＬ２ ）は、ガスとガラス帯（１０）との
接触時間が、上流側に流れるガス流（６６）と下流側に
流れるガス流（６８）とで実質上等しくなるように設計
されることを特徴とする、請求項３又は４に記載のノズ
ル。 - 【請求項６】 上記中央ブロック（３２，３４）の長
さ（Ｌ１ とＬ２ ）は、夫々上流側と下流側とで、Ｌ
１ ／Ｌ２ ＝（Ｖ−ｖ／２）／（Ｖ＋ｖ／２）但し、
Ｖ：コーティングガスの噴射速度ｖ：ガラス帯の搬送速
度 の関係を満たすことを特徴とする、請求項３，４又は５
のいずれか１つの記載のノズル。 - 【請求項７】 更に、中央噴射路（３８）への入り口
に取り付けられるガス噴射装置（２６）と、夫々上記上
・下流側吸引路（４４，４６）からの各出口に取り付け
られる２つのガス吸引装置（４８，５０）を有すること
を特徴とする、前出請求項のいずれか１つに記載のノズ
ル。 - 【請求項８】 浮動ガラス製造容器内に取り付けられ
ることを特徴とする、前出請求項のいずれか１つに記載
のノズル。
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| JP3256258B2 JP3256258B2 (ja) | 2002-02-12 |
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| FR2724923B1 (fr) * | 1994-09-27 | 1996-12-20 | Saint Gobain Vitrage | Technique de depot de revetements par pyrolyse de composition de gaz precurseur(s) |
| FR2736632B1 (fr) * | 1995-07-12 | 1997-10-24 | Saint Gobain Vitrage | Vitrage muni d'une couche conductrice et/ou bas-emissive |
| US6103015A (en) * | 1998-01-19 | 2000-08-15 | Libbey-Owens-Ford Co. | Symmetrical CVD coater with lower upstream exhaust toe |
| US8470718B2 (en) * | 2008-08-13 | 2013-06-25 | Synos Technology, Inc. | Vapor deposition reactor for forming thin film |
| US20100037820A1 (en) * | 2008-08-13 | 2010-02-18 | Synos Technology, Inc. | Vapor Deposition Reactor |
| US20100037824A1 (en) * | 2008-08-13 | 2010-02-18 | Synos Technology, Inc. | Plasma Reactor Having Injector |
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| US8851012B2 (en) * | 2008-09-17 | 2014-10-07 | Veeco Ald Inc. | Vapor deposition reactor using plasma and method for forming thin film using the same |
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| US8758512B2 (en) * | 2009-06-08 | 2014-06-24 | Veeco Ald Inc. | Vapor deposition reactor and method for forming thin film |
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| GB8824102D0 (en) * | 1988-10-14 | 1988-11-23 | Pilkington Plc | Apparatus for coating glass |
-
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