JPH043110B2 - - Google Patents

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JPH043110B2
JPH043110B2 JP59229058A JP22905884A JPH043110B2 JP H043110 B2 JPH043110 B2 JP H043110B2 JP 59229058 A JP59229058 A JP 59229058A JP 22905884 A JP22905884 A JP 22905884A JP H043110 B2 JPH043110 B2 JP H043110B2
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circuit
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voltage
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    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05FSYSTEMS FOR REGULATING ELECTRIC OR MAGNETIC VARIABLES
    • G05F3/00Non-retroactive systems for regulating electric variables by using an uncontrolled element, or an uncontrolled combination of elements, such element or such combination having self-regulating properties
    • G05F3/02Regulating voltage or current
    • G05F3/08Regulating voltage or current wherein the variable is DC
    • G05F3/10Regulating voltage or current wherein the variable is DC using uncontrolled devices with non-linear characteristics
    • G05F3/16Regulating voltage or current wherein the variable is DC using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices
    • G05F3/20Regulating voltage or current wherein the variable is DC using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices using diode- transistor combinations
    • G05F3/205Substrate bias-voltage generators

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Radar, Positioning & Navigation (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Dram (AREA)
  • Logic Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はCMOS半導体回路用の基板バイアス
発生器に関するものである。
CMOS回路における基板バイアスはしきい値
を良く制御し、回路の速度を高くし、保持を制御
するために負のグリツチの保護を行なう。
本願発明は、所望の基板バイアス電圧を高精度
で発生させることができ、また動作速度を高速化
し得る基板バイアス発生器を提供することを目的
とする。
本発明の1つの面によれば、第1の回路点と、
基板に対する出力端子と、第1の回路点に接続さ
れ、高い値と低い値との間で変化する第1の発振
信号を受けるための手段と、第1の回路点を出力
端子に接続するための手段と、第1の回路点を基
準レベルにクランプするための、オン状態とオフ
状態とを有する手段であつて、第1の発振信号が
変化しているときは常にオフ状態にある第1の選
択的に動作できる手段と、クランプするために第
1の手段に接続された第2の回路点と、高い値と
低い値との間で変化し、第1の発振信号の位相が
シフトされた第2の発振信号を受けとるために第
2の回路点に接続された手段と、定常状態動作で
の第2の回路点における電圧範囲を本質的に正で
ない電圧に制御するための手段とを備えた、負の
電圧を基板に与えるチヤージポンプを有した半導
体回路用の基板バイアス発生器が得られる。
基板バイアス発生器はそれの電荷ポンプになる
べくPチヤネルトランジスタだけを使用する。こ
うすることにより、負電圧へ振れる回路点からの
で電子注入が最少となる。そのような電子注入に
より、たとえば電子注入に感度を有するダイナミ
ツクRAM内に容量的に格納されているデータを
失わせることがある。
本発明の基板バイアス発生器は、負基板で動作
するNチヤネルトランジスタを使用する任意の
CMOS記憶回路またはCMOSマイクロプロセツ
サ回路において使用できる。
本発明の一実施例においては、入力回路と、基
準回路と、それら入力回路と基準回路の間の比較
器と、ヒステリシス回路調整器とを含むCMOS
電荷ポンプのための調整回路が設けられる。第1
次の影響が無くされるようにする回路も設けられ
る。
以下、図面を参照して本発明を詳しく説明す
る。
A 電荷ポンプ 第1図は基板バイアス発生器用の電荷ポンプ
の回路10を示す回路図である。その回路10
はトランジスタを含む。それらのトランジスタ
はPチヤネルのみである。4個の発振入力信号
(それらの入力信号の波形が第2図に示されて
いる)が回路10へ与えられる、回路10はそ
れの出力端子12にVBB信号を生ずるように
構成される。回路10を説明するにあたつては
第2図に示す波形を参照する。
回路10の入力端子14が波形V14を受け
る。この波形はたとえば0ボルトと+5ボルト
(VCC)の間で振動し、デユーテイサイクルが
50%である方形波である。波形V14がコンデ
ンサ16へ与えられ、コンデンサ16の他の端
子側の回路点18における電圧が波形V14に
追従する。回路点18は0ボルトと−VCC(−
5ボルト)の間でなければならない。波形V1
4が5ボルトの時には、回路点18はトランジ
スタ20のソース・ドレイン経路を介してアー
ス電位にクランプされる。そのトランジスタが
導通状態にある時のソース・ドレイン経路の抵
抗値は20オームと低い。
トランジスタ20のゲートは回路点22に結
合される。回路10の回路点24は波形V24
を受け、その波形をコンデンサ26を介して回
路点22へ容量結合する。したがつて、回路点
22における電圧は波形V24を追従する。
波形V24は0ボルトにおいて部分28を含
む。波形V24の部分28の間は回路点22に
おける電圧は−5ボルトに低下させられる。第
2図からわかるように、これが起るのは波形V
14が正レベル30にある時である。波形V2
4のタイミング、とくにそれの部分28のタイ
ミングの結果として、トランジスタ20が導通
状態になつて回路点18をアース電位にクラン
プする。それから、波形V14が+5ボルトか
ら0ボルトになると(部分32)、回路点18
がそれに対応して0ボルトから−5ボルトに低
下させられる。
回路点18は出力端子12に選択的に結合さ
れる。波形V14の間は、回路10の入力端子
34へ与えられる別の波形34も0ボルトに低
下する(部分36)。波形V34はコンデンサ
38を介して回路点40へ結合され、その回路
点はPチヤネルトランジスタ42のゲートに結
合される。そのトランジスタ42のソース・ド
レイン経路は回路点18における−5ボルトを
出力端子12に結合する。基板の容量が非常に
大きいから、出力端子12におけるVBBは非
常に僅かだけ低下する。最終的にはVBBは約
−VCC/2に達する。
ゲートが回路点22における電圧により制御
されるトランジスタ43のクランプ効果の結果
として、回路点40における電圧は−5ボルト
と0ボルトの間の定常状態動作において変化さ
せられることがわかるであろう。波形V24と
V34の位相が異なるために、波形V34が高
レベルの時は回路点40はアース電位にクラン
プされ、波形V34が低レベルの時は回路点4
0は5ボルトの電圧の振れにより電荷ポンプ1
0において示し、先に説明したように、他の回
路点の動作と全く同様にして、負に駆動され
る。
動作時には波形V24はVCCにおいてスタ
ートする。波形V24が0ボルトに低下する
と、回路点22における電圧が負に低下し、そ
のためにトランジスタ20が導通状態にされ
る。この電圧降下の間は波形V14は高レベル
であり、したがつて回路点18は最高電圧にあ
る。したがつて、波形V24が0ボルトへ変化
した結果として、回路点18は接地される。波
形V24が高レベルになると回路点18はアー
ス電位でなくなる。それから間もなく、波形V
14の部分32の結果として波形V14が
VCCから0ボルトへ低下する。そのために回
路点18が−VCCに駆動される。次に、この
負電圧は波形V34の部分36の結果として出
力端子12に結合される。したがつて波形V1
4,V24,V34が回路10に与えられて、
出力端子12に負電圧を生ずる。
波形V14に遷移が起きた時にトランジスタ
20と42が非導通状態になることが当業者に
はわかるであろう。また、回路点18が低レベ
ルの時は、信号がトランジスタ42をゲート制
御して回路点18を出力端子12に結合するこ
ともわかるであろう。この実施例においては、
波形V34の低レベルへ向かう部分がこのため
に有利に用いられるが、他の回路で置き換える
こともできる。更に、回路点18が高レベルの
時にアース電位にクランプするために信号が用
いられる。とくに、これは波形V24の低レベ
ルへ向かう部分であるが、他の回路で置き換え
ることもできる。
回路10は待機機能または初期化機能を行な
う第1図に示す素子も含む。波形VBBがある
レベルになると、回路10すなわち電荷ポンプ
10はポンプ動作を停止する。波形VBBが変
化すると、待機回路45が回路10を待機させ
る。これは、回路点18,22をアース電位に
することにより行なわれる。待機回路45は入
力端子46に波形V46を受ける。この波形V
46は0ボルトの部分47を含む。待機回路4
5はコンデンサ48も含む。このコンデンサは
入力端子46を回路点50に結合する。電源投
入中に発振がスタートすると、トランジスタ5
2がコンデンサ48をPチヤネルしきい値電圧
にクランプする。その電源投入中は、クランプ
Pチヤネルしきい値電圧になければならず、電
源投入後はクランプをアース電位にできる。
電源投入後は、回路点50はトランジスタ5
3のソース・ドレイン経路により選択的に接地
される。そのトランジスタ53のゲートは回路
点22における信号により制御される。入力端
子24,46にそれぞれ与えられる信号V24
とV46の間には位相差が存在し、その位相差
はある時にトランジスタ53に回路点50をア
ース電位にクランプさせる。その後で、部分4
7のタイミングのために、クランプ(トランジ
スタ53)が解放された後で回路点50におけ
る電圧が負に駆動される。
回路点22が高レベルになつている場合のあ
る時に回路点50の電圧が負に低下し、そのた
めに回路点50にゲートが結合されているトラ
ンジスタ54が導通状態になる。その結果、回
路点22は先に説明したようにしてアース電位
にクランプされ、それにより回路点22におけ
る電圧範囲が、たとえば−3ボルト〜+2ボル
トの代りに0ボルトと−5ボルトとなる(その
理由は、回路点22における電圧が正電位にな
ると、その電位がトランジスタ54のソース・
ドレイン経路により接地されるからである。同
様に、トランジスタ53の作用により回路点5
0の電圧が0〜−5ボルトにクランプされる。
トランジスタ57のソース・ドレイン経路が
回路点22を接地することを述べておく。トラ
ンジスタ57のゲートは接地される。電源投入
中に、波形V14で示される発振が始まると、
トランジスタ57はコンデンサ26を大きさが
VTPの正の移行にクランプする。それは約1.5
ボルトのPチヤネルしきい値である。
第1図の回路10はコンデンサCL1と抵抗
RL1も有する。それらは基板を表す。
電荷ポンプの全ての回路点はN型井戸の内部
に設けられ、基板またはNチヤネルトランジス
タには接続されない。したがつて、それらの回
路点は電子を基板中に注入できない。これによ
り、容量により充電される回路点から信号が失
われることが阻止される。
コンデンサ16,26,38,48はPチヤ
ネル素子とすることができるが、なるべくNチ
ヤネルデプリーシヨン型にする。こうすること
により、基板が井戸電圧でバウンスすることを
阻止する利点が得られる。第1図に示す回路1
0においてN拡散が負とならないから、ここで
はNチヤネル素子の使用は受け容れられる。
B 入力信号発生器 波形V14,V24,V34,V46は第4
図に示す回路により発生される。第4図は回路
図の集りを示すものである。第4図に示す回路
の基本的な素子が第4A図に示され、リング発
振器70を含む。このリング発振器は、直列接
続されて9個の回路点74,76,78,8
0,82,84,86,88,90を形成する
8段インバータ72を有する。そのような回路
は当業者には周知のものであるから、リング発
振器70の構成にこれ以上の詳しい説明は不要
である。ただ、リング発振器70の隣接する回
路点の間の電圧は周期的であつて、位相差があ
ることを述べるだけで十分である。
回路点78と、たいていは回路点80の間に
別の回路92が設けられている。けれども、1
つのゲートが回路点82に結合されている。こ
の回路92は、バイアス発生器がポンプ作用を
行なわない時、すなわち、ポンプ動作可能化信
号PEが0の時に、周波数を低くするために用
いられる。この技術はこの分野で知られている
から、これ以上の説明は不要である。PE信号
は後で説明する調整器回路において発生され
る。
入力端子14,24,34,46にそれぞれ
結合される波形V14,V24,V34,V4
6は第4B,4C,4D,4E図に示す回路に
おいて発生される。それらの回路は全てナンド
回路であつて、ポンプ動作可能化信号PEと、
回路70の回路点に結合される。それらのナン
ド回路により、これまで有していた浮動回路点
を避けられる。
第4図から、ポンプ動作可能化信号がオフ状
態(0ボルト)の時に波形V14とV34が
VCCにおいて安定であり、波形V24とV4
6は第2図に示すように振動することがわかる
であろう。
C 調整回路 ポンプ動作可能化信号PEは調整回路110
(第5図)により発生される。この調整回路は
差動増幅器の両側に一対の回路点を有すること
がわかるであろう。その差動増幅器はヒステリ
シス回路を含むように変更されている。調整回
路110は基板電圧VBBを約−2.5ボルトであ
る−VCC/2に調整する。
調整回路110の回路図の左側らスタートし
て、この調整回路は入力端子112に基板電圧
VBBを受ける。その入力端子112はトラン
ジスタ114に結合される。トランジスタ11
4のソースとトランジスタ118のドレインの
結合点に回路点116が形成される。トランジ
スタ118のゲートは接地される。トランジス
タ114と118および調整回路110のほと
んどのトランジスタはPチヤネルトランジスタ
である。回路点116の電圧は自然にVCC/
2になるから、トランジスタ114と118の
バイアスは等しい。回路点116の電圧が
VCC/2の時は、トランジスタ114と11
8のドレイン−ソース間電圧が−VCC/2で、
それらのトランジスタのゲート−ソース間電圧
が−VCCであるから、トランジスタ114と
118は共に導通状態になる。電圧VBBが一
層負になるにつれて、トランジスタ114のゲ
ート−ソース間電圧が高くなり、回路点116
の電圧がアース電位へ向かつて動く。電圧
VBBを検出するこの方法によつては基板から
電流はとり出されない。
調整回路110の回路図の右側にはトランジ
スタ120と122が示されている。それらの
トランジスタのソース−ドレイン経路が直列接
続されて電圧VCCを接地する。トランジスタ
120と122が共に導通状態の時は各トラン
ジスタのドレイン−ソース電圧は−VCC/2
であり、かつゲート−ソース電圧も−VCC/
2である。したがつて、負である電圧VBBに
依存する回路点116とは異なり、トランジス
タ120と122の間の回路点124の電圧は
電圧VBBに依存する。したがつて、回路点1
24の電圧は常にVCC/2である。
調整回路110の回路図の中央部分は比較部
であつて、回路点116の電圧を回路点124
の電圧と比較して、その比較の結果としてポン
プ動作可能化信号PEを発生する。電圧VBBが
電圧−VCC/2より大きい時は、回路点11
6の電圧は回路点124の電圧より高い。一
方、電圧VBBが電圧−VCC/2より低い時
は、回路点116の電圧は回路点124の電圧
より低い(正の)電圧である。調整回路110
の回路図の中央部分には回路点116と124
の間にCMOS差動増幅器が形成される。この
差動増幅器はトランジスタ126,128,1
30,132,134を含む。トランジスタ1
32と134はNチヤネルトランジスタであ
り、残りのトランジスタはPチヤネルトランジ
スタである。トランジスタ130のゲートは回
路点124に結合される。その回路点124は
常にVCC/2すなわちほぼ+2.5ボルトである。
したがつて、トランジスタ130を流れる電流
は全体として一定である。トランジスタ132
を流れる電流とトランジスタ134を流れる電
流の和はトランジスタ130を流れる電流に常
に等しくなければならない。トランジスタ13
2を流れる電流は、電圧VBBの関数であるト
ランジスタ126の電圧により影響を受ける。
同様に、トランジスタ134を流れる電流はト
ランジスタ128の電圧により影響を受ける。
その電圧は一般的に電圧VBBの関数ではない。
差動増幅器のために、回路点116と124
の間の小さな電圧差がトランジスタ126を流
れる電流とトランジスタ128を流れる電流の
差を大きくする。その電流変化により回路点1
36の電圧が変化させられる。直列接続されて
いる一対のインバータ138,140が回路点
136に結合される。インバータ140の出力
はポンプ動作可能化信号PEである。したがつ
て、これまで説明してきた素子に関しては、電
圧VBBが−VCC/2より高い時は、ポンプ動
作可能化信号PEは高レベルとなる。
調整回路110はヒステリシスを加え合わせ
るように構成されているトランジスタ142,
144,146,148も含む。ポンプ動作可
能化信号PEをターンオンすためには電圧VBB
の一層大きな変化を必要とする。したがつて、
回路点116における電圧が高く、対応する回
路点150における電圧が回路点136におけ
る電圧より低い時は、トランジスタ148は導
通状態になる。トランジスタ146は常に導通
状態となつているから、トランジスタ148が
導通状態になると、それは回路点136が回路
点150に対して高い状態を保つことを助け
る。これとは逆の状況においては、回路点15
0の電圧が高くなり、回路点136における電
圧が低くなる。しかし、回路点136における
電圧が回路点150の電圧より低くなるまでは
トランジスタ148が回路点136の電圧を保
持する。
以上の説明から、このCMOS基板バイアス
発生器は+5ボルトの電源から−2.5ボルトの
オンチツプ電圧を与えることがわかる。この好
適な実施例の回路は9段リング発振器と、論理
ゲートと、電荷ポンプと、電圧調整器とを含
み、低いトランジスタカウントで効率的に基板
バイアスを発生する。
負電圧へ振れる回路点から電子注入が行なわ
れないように電荷ポンプにはPチヤネルトラン
ジスタのみを使用していることがわかるであろ
う。また、電源は出力電圧を徐々に上昇するか
ら、Pチヤネルしきい値の2倍に近い値に
VCCのレベルが達した時にこの回路はポンピ
ングを開始する。従来はCMOS回路は、Nチ
ヤネル基板を接地することにより、制御されつ
つ保持されていた。Nチヤネル基板の接地は回
路の動作速度に悪影響を及ぼす。本発明の好適
な実施例の回路にはそのような欠点はない。
以上説明した調整回路は、プロセスパラメータ
への第1次の依存を無くすようにして基板バイア
スをほぼ−VCC/2に保つ。CMOS回路を用い
ない基板バイアス発生器はしきい値の変動に追従
する電圧を発生していた。この実施例において
は、調整回路はどのVtnまたはその他のプロセス
パラメータとも独立に、基板を−VCC/2のレ
ベルにセツトする。これにより一層良い結果が得
られる。
ここで説明した回路は、N井戸CMOS設計に
おいてはP基板を負にバイアスし、P井戸
CMOS設計においてはN基板を負にバイアスす
るために有利に使用できる。この回路に用いるN
型とP型の素子を交換することにより、この発生
器を、PN井戸CMOS設計においてはN基板を正
にバイアスし、またはNP井戸CMOS設計におい
てはN基板を正にバイアスするために使用でき
る。
以上説明した実施例は、本発明の要旨範囲内で
種々変更できることがわかるであろう。たとえ
ば、タイミングを調整できる。ここで説明した実
施例は波形V14に50%のデユーテイサイクルを
用いているが、トランジスタ20または42が導
通状態にされる時刻を一層遅らせるために、リン
グ発振器の段数を増すことによりそれとは異なる
デユーテイサイクルを使用できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のCMOS電荷ポンプの回路図、
第2図は第1図の回路により受けられる信号の波
形図、第3図は第1図の回路の動作を説明するた
めの波形図、第4図A〜Eは第1図の電荷ポンプ
へ与える入力信号を発生するための1組の回路を
示すブロツク回路図、第5図は第1図に示す電荷
ポンプに組合わせて使用するための調整回路の回
路図である。 10……電荷ポンプ、45……待機回路、70
……リング発振器、110……調整回路。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 第1の回路点18、及び基板に対する出力端
    子12と、 前記第1の回路点18に接続され、高い値と低
    い値との間で変化する第1の発振信号V14を受
    けるための手段(16)と、 前記第1の回路点を前記出力端子に接続するた
    めの手段(42)と、 前記第1の回路点を基準レベルにクランプする
    ための、オン状態とオフ状態とを有する手段であ
    つて、前記第1の発振信号が変化しているときは
    常にオフ状態にある第1の選択的に動作できる手
    段(20)と、 クランプするために前記第1の手段に接続され
    た第2の回路点22と、 高い値と低い値との間で変化し、前記第1の発
    振信号の位相がシフトされた第2の発振信号V2
    4を受けとるために前記第2の回路点に接続され
    た手段(24)と、 定常状態動作での前記第2の回路点における電
    圧範囲を本質的に正でない電圧に制御するための
    手段とを備えたことを特徴とする、負の電圧
    VBBを前記基板に与えるチヤージポンプを有し
    た半導体回路用の基板バイアス発生器。 2 前記第2の回路点における電圧範囲を制御す
    るための手段は、 前記第2の回路点22を前記基準レベルにクラ
    ンプするための第2の選択的に動作できる手段
    (54)と、 第3の回路点50と、 前記第1の発振信号と同位相の第3の発振信号
    V46を受けとるために前記3の回路点に接続さ
    れた手段(46)とを有し、 クランプするための前記第2の手段(54)は、
    応答するように前記第3の回路点に接続されてい
    ることを特徴とする請求項1記載の基板バイアス
    発生器。 3 前記制御手段は、 前記第2の回路点に応答するように接続されて
    おり、前記第3の回路点50を前記基準レベルに
    クランプするための第3の選択的に動作できる手
    段をさらに備えることを特徴とする請求項2記載
    の基板バイアス発生器。 4 クランプするための前記手段は、前記第2及
    び第3の発振信号を受けとるための前記手段に接
    続されたPチヤネルMOSトランジスタを有する
    ことを特徴とする請求項3記載の基板バイアス発
    生器。 5 前記第1の回路点を前記出力端子に接続する
    ための前記手段は、 第4の回路点40と、 前記第4の回路点に応答するように接続され、
    前記第1の回路点を前記出力端子に接続するため
    に選択的に動作できる手段(42)と、 前記第1の発振信号と同位相の第4の発振信号
    V34を受けとるために前記第4の回路点に接続
    された手段(34)とを有することを特徴とする請
    求項2記載の基板バイアス発生器。 6 前記基準レベルに前記第4の回路点をクラン
    プするための第4の選択的に動作できる手段
    (43)をさらに有し、 この第4の手段は、前記第2の回路点22に応
    答するように接続されていることを特徴とする請
    求項5記載の基板バイアス発生器。 7 クランプするための前記第1の手段は、Nチ
    ヤネルMOS装置を含まないことを特徴とする請
    求項1、又は3ないし6のいずれかに記載の基板
    バイアス発生器。 8 クランプするための前記第1の手段及び前記
    第2の手段は、PチヤネルMOS装置を含むこと
    を特徴とする請求項2記載の基板バイアス発生
    器。 9 前記発振信号を発生するための発生器をさら
    に備え、 前記発生器は、 リング発振器70と、 このリング発振器に接続され、第1のデユーテ
    イサイクルを有する周期的信号を発生するための
    第1の論理手段と、 前記リング発振器に接続され、位相が異なる周
    期的信号をそのリング発振器から受け、前記第1
    の周期的信号よりも長いデユーテイサイクルを有
    する前記第2の発振信号を発生するための第2の
    論理手段とを有し、 前記第1の周期的信号は前記第1の発振信号を
    構成し、前記第1の発振信号が低レベルにあると
    きは、前記第2の発振信号は高レベルにあり、前
    記第1の発振信号が高レベルにあるときは、前記
    第2の発振信号は選択された時期において低レベ
    ルにあることを特徴とする請求項1ないし8記載
    の基板バイアス発生器。 10 位相が異なる周期的信号を前記リング発振
    器から受けるために前記リング発振器に接続さ
    れ、実質的に0ボルトと電源電圧VCCとの間の
    電圧レベルを有し、 前記第1の発振信号のデユーテイサイクルより
    も長いデユーテイサイクルを有する第3の発振信
    号を発生するための第3の論理手段を有し、 前記第1の発振信号が高レベルにあるときは、
    選択された時期において前記第3の発振信号は高
    レベルにあり、前記第1の発振信号が低レベルに
    あるときは、選択された時期において前記第3の
    発振信号は低レベルにあることを特徴とする請求
    項9記載の基板バイアス発生器。 11 前記第2の発振信号と第3の発振信号は等
    しいデユーテイサイクルを有し、かつ相互間の位
    相差が180度であることを特徴とする請求項10
    記載の基板バイアス発生器。
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