JPH04314056A - Original plate for electrophotographic lithographic printing - Google Patents
Original plate for electrophotographic lithographic printingInfo
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- JPH04314056A JPH04314056A JP10651191A JP10651191A JPH04314056A JP H04314056 A JPH04314056 A JP H04314056A JP 10651191 A JP10651191 A JP 10651191A JP 10651191 A JP10651191 A JP 10651191A JP H04314056 A JPH04314056 A JP H04314056A
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Abstract
Description
【0001】0001
【産業上の利用分野】本発明は、電子写真方式で製版さ
れる電子写真式平版印刷用原版に関するものであり、特
に、該平版印刷用原版の光導電層形成用組成物の改良に
関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrophotographic lithographic printing plate made by an electrophotographic method, and more particularly to an improvement in a composition for forming a photoconductive layer of the lithographic printing plate.
【0002】0002
【従来の技術】現在ダイレクト製版用のオフセット原版
には多種のものが提案され且つ実用化されているが、中
でも、導電性支持体上に酸化亜鉛のごとき光導電性粒子
及び結着樹脂を主成分とした光導電層を設けた感光体を
通常の電子写真工程を経て、感光体表面に親油性の高い
トナー画像を形成させ、続いて該表面をエッチ液と言わ
れる不感脂化液で処理し非画像部分を選択的に親水化す
ることによってオフセット原版を得る技術が広く用いら
れている。[Prior Art] Currently, many types of offset original plates for direct plate making have been proposed and put into practical use. A photoreceptor with a photoconductive layer as a component is subjected to a normal electrophotographic process to form a highly oleophilic toner image on the surface of the photoreceptor, and then the surface is treated with a desensitizing liquid called an etchant. A technique for obtaining an offset original plate by selectively making non-image portions hydrophilic is widely used.
【0003】良好な印刷物を得るには、先ずオフセット
原版に、原画が忠実に複写されると共に、感光体表面が
不感脂化処理液となじみ易く、非画像部が充分に親水化
されると同時に耐水性を有し、更に印刷においては画像
を有する表面導電層が離脱しないこと、及び湿し水との
なじみがよく、印刷枚数が多くなっても汚れが発生しな
いように充分に非画像部の親水性が保持されること、等
の性能を有する必要がある。これらの性能には、光導電
層中の結着樹脂の種類によって大きく左右されることが
明らかになっており、特にオフセット原版としては、不
感脂化性を向上させる酸化亜鉛結着用樹脂が種々検討さ
れている。特に、メタクリレート(又はアクリレート)
成分を少なくとも含有する多元共重合体類が挙げられ、
例えば特公昭50−31011号、特開昭53−402
7号、特開昭57−202544号、特開昭58−68
046号等が知られている。In order to obtain good printed matter, first, the original image is faithfully copied onto the offset master plate, and at the same time, the surface of the photoreceptor is easily compatible with the desensitizing treatment liquid, and the non-image areas are made sufficiently hydrophilic. It is water resistant, and the surface conductive layer with the image does not separate during printing, and it is compatible with dampening water, and the non-image area is sufficiently coated to prevent staining even when a large number of sheets are printed. It is necessary to have properties such as maintaining hydrophilicity. It has become clear that these performances are greatly influenced by the type of binder resin in the photoconductive layer.In particular, for offset master plates, various zinc oxide binder resins that improve desensitization properties are being investigated. has been done. In particular, methacrylate (or acrylate)
Examples include multi-component copolymers containing at least the component,
For example, Japanese Patent Publication No. 50-31011, Japanese Patent Publication No. 53-402
No. 7, JP-A-57-202544, JP-A-58-68
No. 046 etc. are known.
【0004】更に、結着樹脂として、分解により親水性
基を生成する官能基を含有する樹脂を用いるものが検討
されており、例えば分解によりヒドロキシル基を生成す
る官能基を含有するもの(特開昭62−195684号
、特開昭62−210475号、特開昭62−2104
76号)や分解によりカルボキシル基を生成する官能基
を含有するもの(特開昭62−21269号)あるいは
、分解によりヒドロキシル基又はカルボキシル基を生成
する官能基を含有するとともに、ポリマー間の橋架けに
より水への溶解性防止と水膨潤性を持たせることで更に
地汚れ防止と耐刷向上を行なうもの(特開平1−191
157号、特開平1−197765号、特開平1−19
1860号、特開平1−185667号、特開平1−1
79052号、特開平1−191158号等)等が知ら
れている。Furthermore, resins containing functional groups that generate hydrophilic groups upon decomposition are being considered as binder resins; for example, resins containing functional groups that generate hydroxyl groups upon decomposition (JP-A 1986-195684, JP-A-62-210475, JP-A-62-2104
No. 76), those containing a functional group that generates a carboxyl group upon decomposition (JP-A No. 62-21269), or those that contain a functional group that generates a hydroxyl group or a carboxyl group upon decomposition, and which also form a bridge between polymers. By preventing solubility in water and providing water swelling properties, it further prevents scumming and improves printing durability (Japanese Patent Application Laid-open No. 1-191
No. 157, JP-A-1-197765, JP-A-1-19
No. 1860, JP-A-1-185667, JP-A-1-1
No. 79052, JP-A No. 1-191158, etc.) are known.
【0005】しかし、上記した不感脂化性向上に効果が
あるとされる樹脂であっても、現実に評価してみると、
地汚れ、耐刷力において未だ満足できるものではなかっ
た。[0005] However, even if the resin is said to be effective in improving desensitization properties as described above, when actually evaluated,
The background smearing and printing durability were still unsatisfactory.
【0006】更に特開平1−232356、同1−26
1657各号公報では、光導電層に親水性基を含有する
樹脂粒子を添加することで保水性の向上に効果があると
記載されている。[0006] Furthermore, JP-A-1-232356 and JP-A-1-26
1657 publications state that adding resin particles containing hydrophilic groups to the photoconductive layer is effective in improving water retention.
【0007】これら、光導電性組成物を改良することで
明らかに保水性は、著しく向上することが確認された。[0007] It has been confirmed that water retention can be significantly improved by improving these photoconductive compositions.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】しかし、平版印刷用原
版として更に詳細に評価してみると、環境変動(高温・
高湿あるいは低温・低湿)時に、電子写真特性(特に暗
中電荷保持性、光感度等)が変動し、安定した良好な複
写画像が得られなくなる場合が生じた。これにより、結
果として、これを印刷用原版として用いた印刷物の印刷
画像の劣化あるいは、地汚れ防止効果の減少となってし
まった。[Problems to be Solved by the Invention] However, when we evaluate it in more detail as a lithographic printing original plate, we find that environmental changes (high temperature,
(high humidity or low temperature/low humidity), the electrophotographic properties (particularly charge retention in the dark, photosensitivity, etc.) fluctuate, making it impossible to obtain stable and good copied images in some cases. This resulted in deterioration of the printed image of printed matter using this as a printing original plate, or a decrease in the scumming prevention effect.
【0009】また、デジタルダイレクト平版印刷用原版
としての電子写真式平版印刷用原版において、半導体レ
ーザー光を用いたスキャニング露光方式を採用した場合
、可視光による全面同時露光方式に比べ時間が長くなり
、また露光強度にも制約があることから、静電特性、特
に暗電荷保持特性、光感度に対して、より高い性能が要
求される。[0009] Furthermore, when a scanning exposure method using semiconductor laser light is adopted in an electrophotographic lithographic printing original plate as a digital direct lithographic printing original plate, it takes a longer time than when the entire surface is simultaneously exposed using visible light. Furthermore, since there are restrictions on the exposure intensity, higher performance is required in terms of electrostatic properties, particularly dark charge retention properties, and photosensitivity.
【0010】これに対し、上記公知の原版では電子写真
特性が劣化し、実際の複写画像も地カブリが発生し易く
なり、且つ細線の飛びや文字のツブレが生じてしまい、
結果として、平版印刷用原版として印刷すると、印刷物
の画質は低下してしまい、結着樹脂の非画像部分の親水
性向上による地汚れ防止の効果がなくなってしまった。On the other hand, with the above-mentioned known original plates, the electrophotographic characteristics deteriorate, and the actual copied images tend to have background fog, as well as skipping of fine lines and blurring of letters.
As a result, when printed as a lithographic printing original plate, the image quality of the printed matter deteriorated, and the effect of preventing scumming by improving the hydrophilicity of the non-image portion of the binder resin was lost.
【0011】本発明は、以上のような従来の電子写真式
平版印刷用原版の有する問題点を改良するものである。The present invention is intended to improve the problems of the conventional electrophotographic lithographic printing original plates as described above.
【0012】すなわち、本発明の目的の1は、静電特性
(特に暗電荷保持性及び光感度)に優れ、原画に対して
忠実な複写画像を再現し、且つオフセット原版として全
面一様な地汚れは勿論、点状の地汚れをも発生させない
、不感脂化性の優れた平版印刷用原版を提供することで
ある。That is, object 1 of the present invention is to reproduce a copy image that is excellent in electrostatic properties (particularly dark charge retention and photosensitivity), is faithful to the original image, and has a uniform surface on the entire surface as an offset original plate. It is an object of the present invention to provide a lithographic printing original plate which does not cause not only stains but also dotted background stains and has excellent desensitization properties.
【0013】本発明の目的の2は、複写画像形成時の環
境が低温低湿あるいと高温高湿のように変動する場合で
も、鮮明で良質な画像を有する平版印刷用原版を提供す
ることである。[0013] A second object of the present invention is to provide a lithographic printing original plate that has a clear and high-quality image even when the environment during copy image formation varies from low temperature and low humidity to high temperature and high humidity. .
【0014】本発明の目的の3は、併用し得る増感色素
の種類による影響を受け難く、半導体レーザー光による
スキャニング露光方式でも静電特性の優れた平版印刷用
原版を提供することである。A third object of the present invention is to provide a lithographic printing original plate that is not easily affected by the types of sensitizing dyes that can be used in combination and has excellent electrostatic properties even when used in a scanning exposure method using semiconductor laser light.
【0015】[0015]
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を、導
電性支持体上に、光導電性酸化亜鉛、分光増感色素及び
結着樹脂とを少なくとも含有してなる光導電層を少なく
とも1層設けてなる電子写真式平版印刷用原版において
、前記光導電層中に該結着樹脂として、下記の樹脂〔A
〕を少なくとも1種含有し、更に該光導電層中に前記光
導電性酸化亜鉛粒子の最大粒子径と同じかそれより小さ
い粒子径を有する下記の非水溶媒系分散樹脂粒子を少な
くとも1種含有することを特徴とする電子写真式平版印
刷用原版によって達成される。[Means for Solving the Problems] The present invention achieves the above object by forming at least one photoconductive layer on a conductive support, the photoconductive layer containing at least photoconductive zinc oxide, a spectral sensitizing dye, and a binder resin. In the electrophotographic lithographic original plate having layers, the following resin [A] is used as the binder resin in the photoconductive layer.
), and further contains in the photoconductive layer at least one of the following non-aqueous solvent-based dispersed resin particles having a particle diameter that is the same as or smaller than the maximum particle diameter of the photoconductive zinc oxide particles. This is achieved by an electrophotographic lithographic printing original plate characterized by the following.
【0016】樹脂〔A〕としては1×103 〜2×1
04 の重量平均分子量を有し、下記一般式(I)で示
される繰り返し単位を重合体成分として30重量%以上
含有し、且つ重合体主鎖末端に、−PO3 H2 ,−
SO3 H,−COOH,−P(=O)(OH)R01
〔R01は炭化水素基又は−OR02(R02は炭化水
素基を表す〕を表す〕〔上記−P(=O)(OH)R0
1は[0016] The resin [A] is 1×103 to 2×1
It has a weight average molecular weight of 04, contains 30% by weight or more of repeating units represented by the following general formula (I) as a polymer component, and has -PO3 H2, - at the end of the polymer main chain.
SO3 H, -COOH, -P(=O)(OH)R01
[R01 represents a hydrocarbon group or -OR02 (R02 represents a hydrocarbon group]] [the above -P(=O)(OH)R0
1 is
【0017】[0017]
【化4】[C4]
【0018】を示す。〕及び環状酸無水物含有基から選
択される少なくとも1種の極生基を結合して成る樹脂で
あり、[0018] is shown. ] and a cyclic acid anhydride-containing group;
【0019】[0019]
【化5】[C5]
【0020】〔ただし上記式(I)において、a1 ,
a2 は各々、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は
炭化水素基を表す。R03は炭化水素基を表す〕非水溶
媒系分散樹脂粒子としては、非水溶媒中において、該非
水溶媒には可溶であるが重合することにより不溶化する
、分解によりチオール基、スルホ基、アミノ基及び−P
(=Z0 )(−Z0 −H)R’ 1 基〔Z0 は
酸素原子又はイオウ原子を表わす。R’ 1 は−Z0
−H、炭化水素又は−Z0 −R’ 2 (R’ 2
は炭化水素基を表わす)を表わす〕のうちの少なくと
も1つの基を生成する官能基を少なくとも1種含有する
一官能性単量体(C)を、ケイ素原子及び/又はフッ素
原子を含有する置換基を含む繰り返し単位を少なくとも
含んでなる、該溶媒に可溶性の分散安定用樹脂の存在下
に分散重合反応させることにより得られる共重合体樹脂
粒子という特徴を有する。[However, in the above formula (I), a1,
a2 each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group or a hydrocarbon group. R03 represents a hydrocarbon group] The non-aqueous solvent-based dispersed resin particles are soluble in the non-aqueous solvent, but become insolubilized by polymerization. group and -P
(=Z0)(-Z0-H)R'1 group [Z0 represents an oxygen atom or a sulfur atom. R' 1 is -Z0
-H, hydrocarbon or -Z0 -R' 2 (R' 2
represents a hydrocarbon group) is substituted with a monofunctional monomer (C) containing at least one functional group that forms at least one group of It is characterized by copolymer resin particles obtained by carrying out a dispersion polymerization reaction in the presence of a dispersion stabilizing resin soluble in the solvent, which comprises at least a repeating unit containing a group.
【0021】更に樹脂〔A〕は、好ましくは、一般式(
I)で示される共重合体成分として下記一般式(Ia)
及び下記一般式(Ib)で示されるアリール基含有のメ
タクリレート成分のうちの少なくとも1つを含有する(
以下樹脂〔A′〕とする)ことが好ましい。Furthermore, the resin [A] preferably has the general formula (
As the copolymer component represented by I), the following general formula (Ia)
and at least one of the aryl group-containing methacrylate components represented by the following general formula (Ib) (
(hereinafter referred to as resin [A']) is preferred.
【0022】[0022]
【化6】[C6]
【0023】〔ただし上記式(Ia)及び(Ib)にお
いて、T1 及びT2 は互いに独立に各々水素原子、
炭素数1〜10の炭化水素基、塩素原子、−COR04
又は−COOR05(R04及びR05は各々炭素数1
〜10の炭化水素基を表す)を表し、L1 及びL2
は各々−COO−とベンゼン環を結合する単結合又は連
結原子数1〜4個の連結基を表す〕また、本発明におい
ては、又上記非水溶媒系分散樹脂粒子が高次の網目構造
を形成しているものであってもよい。[However, in the above formulas (Ia) and (Ib), T1 and T2 each independently represent a hydrogen atom,
Hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, chlorine atom, -COR04
or -COOR05 (R04 and R05 each have 1 carbon number
~10 hydrocarbon groups), L1 and L2
each represents a single bond or a linking group having 1 to 4 linking atoms that connects -COO- and a benzene ring] In addition, in the present invention, the non-aqueous solvent-based dispersed resin particles have a higher-order network structure. It may be formed.
【0024】また、更に、本発明における上記分散安定
用樹脂としては、高分子鎖中に、下記一般式(II)で
示される重合性二重結合基部分を少なくとも1種含有し
ているものが特に好ましいものとして挙げられる。Furthermore, the dispersion stabilizing resin in the present invention contains at least one polymerizable double bond group represented by the following general formula (II) in the polymer chain. These are particularly preferred.
【0025】[0025]
【化7】[C7]
【0026】〔一般式(II)において、V0 は−O
−,−COO−,−OCO−,−(CH2 )p −O
CO−,−(CH2 )p −COO−,SO2 −,
−CONR1 −,−SO2 R1 ,−C6 H4
−(−C6 H4 −は1,2−、1,3−、1,4−
フェニレン基を表わす。
以下同様),−CONHCOO−,又は−CONHCO
NH−を表わし、(但し、pは1〜4の整数を表わし、
R1 は水素原子又は炭素数1〜18の炭化水素基を表
わす)、b1 ,b2 は、互いに同じでも異なっても
よく、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭化水素基
、−COO−R2 又は炭化水素基を介した−COO−
R2 (R2 は水素原子又は置換されてもよい炭化水
素基を表わす)を表わす〕。[In general formula (II), V0 is -O
-, -COO-, -OCO-, -(CH2)p -O
CO-,-(CH2)p-COO-,SO2-,
-CONR1 -, -SO2 R1, -C6 H4
-(-C6 H4 - is 1,2-, 1,3-, 1,4-
Represents a phenylene group. (same below), -CONHCOO-, or -CONHCO
represents NH-, (where p represents an integer of 1 to 4,
R1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms), b1 and b2 may be the same or different from each other, and may be a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a hydrocarbon group, -COO-R2 or a carbide group. -COO- via hydrogen group
R2 (R2 represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group)].
【0027】本発明の平版印刷用原版は最上層である光
導電層中に、光導電性酸化亜鉛、分光増感色素及び結着
樹脂とを少なくとも含有する光導電層の非画像部を不感
脂化液で処理することにより表面を親水化して平版印刷
原版とする方式の印刷用原版である。In the lithographic printing original plate of the present invention, the uppermost photoconductive layer contains at least photoconductive zinc oxide, a spectral sensitizing dye, and a binder resin. This is a printing original plate that is treated with a chemical solution to make the surface hydrophilic and used as a lithographic printing original plate.
【0028】前記の如く、光導電層に親水性樹脂粒子を
含有させる技術及び電子写真感光体の結着樹脂として、
酸性基を側鎖に含有する樹脂を用いる技術はそれぞれ公
知であるが、本発明の如く光導電層に含有させる樹脂粒
子及び結着樹脂として、分解により特定の親水性基を生
成する官能基を含有する成分をケイ素原子及び/又はフ
ッ素原子を含有する置換基を含む分散安定用樹脂の存在
下に重合反応させることにより得られる非水溶媒系分散
樹脂粒子と、極性基を重合体主鎖の片末端に含有する低
分子量の樹脂〔A〕とを用いることにより、驚くべきこ
とにこれらの公知技術のみでは未解決であった上記課題
が解決されること、即ち保水性及び耐刷性などが飛躍的
に向上することが見出された。As mentioned above, the technique of containing hydrophilic resin particles in the photoconductive layer and the binder resin of the electrophotographic photoreceptor,
Techniques for using resins containing acidic groups in their side chains are known, but as in the present invention, functional groups that generate specific hydrophilic groups upon decomposition are used as the resin particles and binder resin to be included in the photoconductive layer. Non-aqueous solvent-based dispersed resin particles obtained by polymerizing the contained components in the presence of a dispersion stabilizing resin containing a substituent containing a silicon atom and/or a fluorine atom, and a polar group in the main chain of the polymer. Surprisingly, by using the low molecular weight resin [A] contained at one end, the above-mentioned problems that were unresolved by these known techniques alone can be solved, that is, water retention and printing durability can be improved. It was found that there was a dramatic improvement.
【0029】本発明の光導電層は、少なくとも光導電性
酸化亜鉛、分光増感色素、特定の共重合体成分から成る
、重合体主鎖の片末端に特定の極性基を結合して成る低
分子量の樹脂〔A〕及び分解により特定の親水性基を含
有する非水溶媒系分散樹脂粒子(以下、樹脂粒子〔L〕
として略記する場合もある)を各々含有することを特徴
とするものである。The photoconductive layer of the present invention comprises at least a photoconductive zinc oxide, a spectral sensitizing dye, and a specific copolymer component, and is a low-resistance polymer formed by bonding a specific polar group to one end of a polymer main chain. Molecular weight resin [A] and non-aqueous solvent-based dispersed resin particles containing specific hydrophilic groups by decomposition (hereinafter referred to as resin particles [L])
(sometimes abbreviated as ).
【0030】本発明に供される樹脂粒子〔L〕は、その
平均粒子径が光導電性酸化亜鉛粒子の最大粒子径と同じ
か、それよりも小さく且つ粒子径の分布が狭く粒子径が
そろっているものである。且つ該樹脂粒子〔L〕は、不
感脂化処理する際に、加水分解及び、レドックス反応、
光分解反応等で、保護されていた前記の親水性基が、化
学反応し、チオール基、スルホ基、アミノ基、−P(=
Z0 )(−Z0 −H)R’1 基を生成し、疎水性
から親水性の性質に変換すること及びフッ素原子及び/
又はケイ素原子を少なくとも1個以上含有する置換基を
含む繰り返し単位を少なくとも含む分散安定用樹脂の存
在下に分散重合することによって、これらフッ素原子及
び/又はケイ素原子含有の分散安定用樹脂としての重合
体が、前記分解により親水性基を生成する官能基を含有
する不溶性成分と物理化学的に吸着して成る又は前記式
(II)で示される重合性二重結合基部分含有の分散安
定用樹脂の場合には、両重合体成分が化学結合して成る
ものと考えられ、これによって該光導電層表面部分に移
行・濃縮現象を生じると考えられる。The resin particles [L] used in the present invention have an average particle size that is the same as or smaller than the maximum particle size of the photoconductive zinc oxide particles, and have a narrow particle size distribution and uniform particle size. It is something that In addition, the resin particles [L] undergo hydrolysis, redox reaction,
The protected hydrophilic groups undergo chemical reactions such as photolysis reactions, resulting in formation of thiol groups, sulfo groups, amino groups, -P(=
Z0 )(-Z0 -H)R'1 group, converting from hydrophobic to hydrophilic, and fluorine atom and/or
Alternatively, by performing dispersion polymerization in the presence of a dispersion stabilizing resin containing at least a repeating unit containing a substituent containing at least one silicon atom, these polymers as a dispersion stabilizing resin containing a fluorine atom and/or a silicon atom can be prepared. A resin for dispersion stabilization that is formed by physicochemically adsorbing an insoluble component containing a functional group that generates a hydrophilic group upon decomposition, or that contains a polymerizable double bond group moiety represented by the formula (II) above. In this case, it is considered that both polymer components are chemically bonded, and this is thought to cause a migration/concentration phenomenon on the surface portion of the photoconductive layer.
【0031】本発明のもう1つ重要要件である結着樹脂
〔A〕は、式(I)で示される特定の重合体成分を含み
且つ前記の特定の極性基を少なくとも重合体主鎖の片末
端に結合してなる低分子量の重合体であることを特徴と
する。[0031] The binder resin [A], which is another important feature of the present invention, contains a specific polymer component represented by formula (I) and has the above-mentioned specific polar group in at least one part of the polymer main chain. It is characterized by being a low molecular weight polymer with terminal bonds.
【0032】本発明の光導電層は、光導電性酸化亜鉛粒
子、分光増感色素、該樹脂粒子〔L〕が結着樹脂として
少なくとも含有される該樹脂〔A〕によって、分散され
ており、更には、樹脂粒子〔L〕は、光導電層形成後、
速やかに、該表面層の表面部分に移行し表面近傍部分に
濃縮して存在しているものである。The photoconductive layer of the present invention includes photoconductive zinc oxide particles, a spectral sensitizing dye, and the resin particles [L] dispersed by the resin [A] containing at least the binder resin, Furthermore, after forming the photoconductive layer, the resin particles [L]
It quickly migrates to the surface portion of the surface layer and is concentrated near the surface.
【0033】即ち、光導電性酸化亜鉛粒子、分光増感色
素、樹脂粒子〔L〕及び樹脂〔A〕が分散された時に、
特定の極性基を特定の位置に結合して成る低分子量の樹
脂〔A〕が光導電性酸化亜鉛の化学量論的な欠陥に吸着
し、且つ酸化亜鉛及び色素の相互作用する状態への被覆
性及び吸着状態が適切に行なわれることで光導電性酸化
亜鉛のトラップを補償すると共に温度特性を飛躍的に向
上させる一方、光導電性酸化亜鉛の分散が充分に行われ
、凝集を抑制することによるものと考えられる。That is, when the photoconductive zinc oxide particles, the spectral sensitizing dye, the resin particles [L] and the resin [A] are dispersed,
A low molecular weight resin [A] formed by bonding a specific polar group to a specific position is adsorbed to the stoichiometric defects of the photoconductive zinc oxide, and the coating is applied to a state where the zinc oxide and the dye interact. Appropriate properties and adsorption conditions compensate for trapping of photoconductive zinc oxide and dramatically improve temperature characteristics, while sufficient dispersion of photoconductive zinc oxide suppresses agglomeration. This is thought to be due to
【0034】特に、従来の結着樹脂では、分光増感色素
の種類が変わった時に、吸着等の相互作用が阻害され、
満足な電子写真特性が得られなくなってしまった。しか
し、本発明の樹脂〔A〕を用いると、特に半導体レーザ
ー光用分光増感に用いる色素でも、著しく優れた電子写
真特性を満足できる様になる。In particular, with conventional binder resins, when the type of spectral sensitizing dye changes, interactions such as adsorption are inhibited.
Satisfactory electrophotographic characteristics could no longer be obtained. However, when the resin [A] of the present invention is used, even dyes used for spectral sensitization for semiconductor laser light can satisfy extremely excellent electrophotographic properties.
【0035】又電子写真式平版印刷システムの原版とし
て、重要なことの他の1つとして非画像部分が不感脂化
処理により充分に親水化され印刷時のインキ付着を生じ
ない高保水性を有することである。本発明の平版印刷用
原版は該光導電層の表面部分に濃縮されて存在する樹脂
粒子〔L〕が不感脂化処理によって、前記の特定の親水
性基を生成し、親水性を発現することで、非画像部分が
充分に親水性に改質され地汚れを発生しない充分な保水
性を発揮する。更には、本発明における非画像部の親水
化は樹脂〔A〕により均一に分散された酸化亜鉛粒子を
公知の方法により不感脂化処理して行なうことも併用で
きる。[0035] As an original plate for an electrophotographic lithographic printing system, another important thing is that the non-image areas are made sufficiently hydrophilic by desensitization treatment and have a high water retention property that does not cause ink adhesion during printing. It is. In the lithographic printing original plate of the present invention, the resin particles [L] concentrated on the surface portion of the photoconductive layer generate the above-mentioned specific hydrophilic groups by desensitization treatment, thereby expressing hydrophilicity. The non-image area is sufficiently modified to be hydrophilic and exhibits sufficient water retention without causing scumming. Furthermore, the hydrophilization of the non-image areas in the present invention can also be carried out by desensitizing zinc oxide particles uniformly dispersed in the resin [A] by a known method.
【0036】即ち、本発明の原版により、優れた電子写
真特性による良好な複写画像の形成及び複写画像形成後
の不感脂化処理後の非画像部の優れた保水性の困難な問
題を解決することができた。That is, the original plate of the present invention solves the difficult problems of forming a good copy image due to excellent electrophotographic properties and excellent water retention in the non-image area after desensitization treatment after forming the copy image. I was able to do that.
【0037】一方本発明の樹脂粒子において、酸化亜鉛
粒子径よりも大きな粒径の該樹脂粒子が存在すると、電
子写真特性が劣化してくる(特に均一な帯電性が得られ
なくなる)結果として、複写画像において画像部の濃度
ムラ、文字・細線の切れ、飛び、あるいは非画像部の地
カブリ等が発生してしまう。On the other hand, in the resin particles of the present invention, if the resin particles have a particle size larger than the zinc oxide particle size, the electrophotographic properties deteriorate (particularly, uniform charging properties cannot be obtained), and as a result, In the copied image, density unevenness in the image area, broken or skipped characters and thin lines, and background fog in the non-image area occur.
【0038】具体的には、本発明の樹脂粒子は最大粒子
の粒子径が2μm以下であり、好ましくは0.5μm以
下である。そして、粒子の平均粒子径は0.8μm以下
であり、好ましくは0.5μm以下である。Specifically, the resin particles of the present invention have a maximum particle diameter of 2 μm or less, preferably 0.5 μm or less. The average particle diameter of the particles is 0.8 μm or less, preferably 0.5 μm or less.
【0039】なお、樹脂粒子は、粒子径が小さい程比表
面積が大きくなり、上記の電子写真特性上良好な作用を
もたらし、コロイド粒子(0.01μm以下)程度でも
充分であるが、余り小さくなり過ぎると分子分散の場合
と類似してしまい、保水力向上への粒子であることの効
果が薄れてくるため、0.001μm以上で用いるのが
好ましい。[0039] The smaller the particle diameter of the resin particles, the larger the specific surface area, which brings about good effects on the above-mentioned electrophotographic properties, and colloidal particles (0.01 μm or less) are sufficient, but if they are too small, If it is too large, it will resemble the case of molecular dispersion, and the effect of particles on improving water retention capacity will be diminished, so it is preferable to use the particle size at 0.001 μm or more.
【0040】また、本発明において樹脂粒子は疎水性の
重合体成分、即ち、分散安定用樹脂が相当する重合体成
分を結合したものであり、この疎水性部分が光導電層の
結着樹脂と相互作用していることから、この部分のアン
カー効果によって印刷時の湿し水で溶出することはなく
、かなり多数枚の印刷を行っても良好な印刷特性を維持
することができる。Further, in the present invention, the resin particles are made of a hydrophobic polymer component, that is, a dispersion stabilizing resin is bonded with a corresponding polymer component, and this hydrophobic portion is bonded to the binder resin of the photoconductive layer. Because of the interaction, the anchor effect of this part prevents it from being eluted by dampening water during printing, and good printing characteristics can be maintained even when printing a large number of sheets.
【0041】更に、該分散安定用樹脂としての重合体成
分の1つとして、熱及び/又は光硬化性基を含有させた
場合には、更に結着樹脂と化学結合することで溶出を更
に抑制することができる。Furthermore, when a heat and/or photocurable group is contained as one of the polymer components as the dispersion stabilizing resin, elution can be further suppressed by further chemically bonding with the binder resin. can do.
【0042】又、本発明において、高次の綱目構造を形
成している樹脂粒子であれば更に水での溶出性が抑えら
れ、他方水膨潤性が発現し、更に保水性が良好になる。
本発明において、上記のような高次の綱目構造を形成し
ていない樹脂粒子又は高次の綱目構造を形成している樹
脂粒子(以下、単に綱目樹脂粒子)は、光導電性酸化亜
鉛100重量部に対して0.05〜30重量%の使用量
で用いることが好ましい。樹脂粒子又は綱目樹脂粒子が
0.05重量%より少ないと非画像部の親水性が充分と
ならず、逆に30重量%より多いと非画像部の親水性の
向上は更に図られるが、厳しい条件下での電子写真特性
が劣化し、複写画像が悪化してしまう。Furthermore, in the present invention, resin particles forming a higher-order mesh structure can further suppress dissolution in water, exhibit water swelling properties, and further improve water retention. In the present invention, the resin particles that do not form a higher-order wire structure as described above or the resin particles that do form a higher-order wire structure (hereinafter simply referred to as "wire resin particles") contain 100% by weight of photoconductive zinc oxide. It is preferably used in an amount of 0.05 to 30% by weight. If the resin particles or mesh resin particles are less than 0.05% by weight, the hydrophilicity of the non-image area will not be sufficient, and if it is more than 30% by weight, the hydrophilicity of the non-image area can be further improved, but it is difficult. The electrophotographic characteristics under these conditions deteriorate, resulting in a deteriorated copy image.
【0043】更には、樹脂粒子はフッ素原子及び/又は
ケイ素原子を含有する重合体成分を含んでおり、これに
より、該粒子は、光導電層の表面部分に移行・濃縮現象
を起し、不感脂化処理により親水性を示すことから、公
知技術の効果と同程度の効果(保水性)を生じさせるの
にその添加量は極く少量で済むことも挙げられる。Furthermore, the resin particles contain a polymer component containing fluorine atoms and/or silicon atoms, and as a result, the particles migrate and concentrate on the surface of the photoconductive layer, making them insensitive. Since it exhibits hydrophilicity through the fat treatment, it can be added in a very small amount to produce the same effect (water retention) as the effect of known techniques.
【0044】次に、本発明の電子写真感光材料の光導電
層について説明する。本発明の光導電層は結着樹脂とし
て、前記の樹脂〔A〕の少なくとも1種を含有すること
を特徴とする。Next, the photoconductive layer of the electrophotographic material of the present invention will be explained. The photoconductive layer of the present invention is characterized in that it contains at least one of the above resins [A] as a binder resin.
【0045】樹脂〔A〕において、重量平均分子量は1
×103 〜2×104 、好ましくは3×103 〜
1×104 であり、樹脂〔A〕のガラス転移点は好ま
しくは−30℃〜110℃、より好ましくは−20℃〜
90℃である。Resin [A] has a weight average molecular weight of 1
×103 to 2×104, preferably 3×103 to
The glass transition point of the resin [A] is preferably -30°C to 110°C, more preferably -20°C to
The temperature is 90°C.
【0046】樹脂〔A〕の分子量が103 より小さく
なると、皮膜形成能が低下し充分な膜強度を保てず、一
方分子量が2×104 より大きくなると本発明の樹脂
であっても、特に近赤外〜赤外分光増感色素を用いた感
光体において、高温・高湿、低温・低湿の苛酷な条件下
での暗減衰保持率及び光感度の変動が多少大きくなり、
安定した複写画像が得られるという本発明の効果が薄れ
てしまう。If the molecular weight of the resin [A] is less than 103, the film-forming ability decreases and sufficient film strength cannot be maintained, while if the molecular weight is more than 2 x 104, even if the resin of the present invention is used, In photoreceptors using infrared to infrared spectral sensitizing dyes, fluctuations in dark decay retention and photosensitivity become somewhat large under harsh conditions of high temperature and high humidity, and low temperature and low humidity.
The effect of the present invention in obtaining stable copied images is diminished.
【0047】樹脂〔A〕の一般式(I) の繰り返し単
位に相当する重合体成分の存在割合は30重量%以上、
好ましくは50〜97重量%、特定の極性基を含有する
重合体成分の存在割合は0.5〜15重量%、好ましく
は1〜10重量%である。The proportion of the polymer component corresponding to the repeating unit of the general formula (I) in the resin [A] is 30% by weight or more,
Preferably, the proportion of the polymer component containing a specific polar group is 50 to 97% by weight, and 0.5 to 15% by weight, preferably 1 to 10% by weight.
【0048】樹脂〔A〕における極性基含有量が0.5
重量%より少ないと、初期電位が低くて充分な画像濃度
を得ることができない。一方該極性基含有量が15重量
%よりも多いと、いかに低分子量体といえども分散性が
低下し、更にオフセットマスターとして用いるときに地
汚れが増大する。[0048] The polar group content in resin [A] is 0.5
If it is less than % by weight, the initial potential will be low and sufficient image density will not be obtained. On the other hand, if the polar group content is more than 15% by weight, the dispersibility decreases no matter how low the molecular weight is, and furthermore, background smudge increases when used as an offset master.
【0049】また低分子量の樹脂〔A〕としては、前記
した一般式(Ia)及び一般式(Ib) で示される、
2位に、及び/又は2位と6位に特定の置換基を有する
ベンゼン環又は無置換のナフタレン環を有する特定の置
換基をもつメタクリレート成分を含有する、樹脂〔A〕
(以降、この低分子量体を樹脂〔A′〕とする)である
ことが好ましい。[0049] As the low molecular weight resin [A], those represented by the general formula (Ia) and general formula (Ib) described above,
Resin [A] containing a methacrylate component having a specific substituent having a benzene ring or an unsubstituted naphthalene ring at the 2-position and/or the 2-position and the 6-position
(Hereinafter, this low molecular weight material will be referred to as resin [A']).
【0050】樹脂〔A′〕における式(Ia) 及び/
又は式(Ib) の繰り返し単位に相当するメタクリレ
ートの共重合成分の存在割合は30重量%以上、好まし
くは50〜97重量%、特定の極性基含有の重合体成分
の存在割合は樹脂〔A′〕100重量部に対して0.5
〜15重量%、好ましくは1〜10重量%である。Formula (Ia) and/or in resin [A']
Or, the proportion of the copolymerized component of the methacrylate corresponding to the repeating unit of formula (Ib) is 30% by weight or more, preferably 50 to 97% by weight, and the proportion of the specific polar group-containing polymer component is the proportion of the resin [A' ]0.5 per 100 parts by weight
-15% by weight, preferably 1-10% by weight.
【0051】次に樹脂〔A〕中に30重量%以上含有さ
れる、前記一般式(I) で示される繰り返し単位を更
に説明する。一般式(I) においてa1 ,a2 は
、好ましくは水素原子、シアノ基、炭素数1〜4のアル
キル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基等)、−COO−R06又は炭化水素基を介した−
COO−R06(R06は、水素原子又は炭素数1〜1
8のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、脂環式
基又はアリール基を表し、これらは置換されていてもよ
く、具体的には、下記R03について説明したものと同
様の内容を表す)を表す。Next, the repeating unit represented by the general formula (I), which is contained in the resin [A] in an amount of 30% by weight or more, will be further explained. In general formula (I), a1 and a2 are preferably a hydrogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, etc.), -COO-R06, or a hydrocarbon group. - through the group
COO-R06 (R06 is a hydrogen atom or a carbon number of 1 to 1
8 represents an alkyl group, alkenyl group, aralkyl group, alicyclic group, or aryl group, which may be substituted, and specifically represents the same content as described for R03 below) .
【0052】上記炭化水素を介した−COO−R06基
における炭化水素としては、メチレン基、エチレン基、
プロピレン基などが挙げられる。R03は、炭素数1〜
18の置換されていてもよいアルキル基(例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘ
キシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、トリデ
シル基、テトラデシル基、2−クロロエチル基、2−ブ
ロモエチル基、2−シアノエチル基、2−ヒドロキシエ
チル基、2−メトキシエチル基、2−エトキシエトキシ
基、3−ヒドロキシプロピル基等)、炭素数2〜18の
置換されていてもよいアルケニル基(例えばビニル基、
アリル基、イソプロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル
基、ヘプテニル基、オクテニル基等)、炭素数7〜12
の置換されていてもよいアラルキル基(炭素数ベンジル
基、フェネチル基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエ
チル基、メトキシベンジル基、エトキシベンジル基、メ
チルベンジル基等)、炭素数5〜8の置換されていても
よいシクロアルキル基(例えばシクロペンチル基、シク
ロヘキシル基、シクロヘプチル基等)、置換されていて
もよいアリール基(例えばフェニル基、トリル基、キシ
リル基、メシチル基、ナフチル基、メトキシフェニル基
、エトキシフェニル基、フロロフェニル基、ジフロロフ
ェニル基、ブロモフェニル基、クロロフェニル基、ジク
ロロフェニル基、ヨードフェニル基、メトキシカルボニ
ルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、シアノ
フェニル基等)等が挙げられる。Hydrocarbons in the -COO-R06 group via the hydrocarbon include methylene group, ethylene group,
Examples include propylene group. R03 has 1 or more carbon atoms
18 optionally substituted alkyl groups (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-hydroxyethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-ethoxyethoxy group, 3-hydroxypropyl group, etc.), optionally substituted alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms (e.g. vinyl group,
allyl group, isopropenyl group, butenyl group, hexenyl group, heptenyl group, octenyl group, etc.), carbon number 7-12
optionally substituted aralkyl group (benzyl group, phenethyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, methoxybenzyl group, ethoxybenzyl group, methylbenzyl group, etc.) having 5 to 8 carbon atoms; optionally substituted cycloalkyl groups (e.g. cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, etc.), optionally substituted aryl groups (e.g. phenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, naphthyl group, methoxyphenyl group, (ethoxyphenyl group, fluorophenyl group, difluorophenyl group, bromophenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, iodophenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, cyanophenyl group, etc.).
【0053】更に好ましくは、一般式(I) の繰り返
し単位に相当する共重合体成分において、一般式(Ia
) 及び/又は一般式(Ib) で示される特定のアリ
ール基を含有するメタクリレート成分で表される共重合
体成分(樹脂〔A′〕)が挙げられる。More preferably, in the copolymer component corresponding to the repeating unit of the general formula (I), the repeating unit of the general formula (Ia
) and/or a copolymer component (resin [A']) represented by a methacrylate component containing a specific aryl group represented by the general formula (Ib).
【0054】式(Ia)において、好ましいT1 及び
T2 として、互いに独立に各々水素原子、塩素原子及
び臭素原子の外に、炭素数1〜10の炭化水素基として
、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基(例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基等)、炭素数7〜
9のアラルキル基(例えばベンジル基、フェネチル基、
3−フェニルプロピル基、クロロベンジル基、ジクロロ
ベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベンジル基、メ
トキシベンジル基、クロロ−メチル−ベンジル基)およ
びアリール基(例えばフェニル基、トリル基、キシリル
基、ブロモフェニル基、メトキシフェニル基、クロロフ
ェニル基、ジクロロフェニル基)、並びに−COR04
及び−COOR05(好ましいR04及びR05として
は上記の炭素数1〜10の好ましい炭化水素基として記
載したものを挙げることができる)を挙げることができ
る。In formula (Ia), T1 and T2 are preferably hydrogen atoms, chlorine atoms and bromine atoms, respectively, and hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms. Alkyl group (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, etc.), carbon number 7 or more
9 aralkyl groups (e.g. benzyl group, phenethyl group,
3-phenylpropyl group, chlorobenzyl group, dichlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, methoxybenzyl group, chloro-methyl-benzyl group) and aryl groups (e.g. phenyl group, tolyl group, xylyl group, bromophenyl group) , methoxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group), and -COR04
and -COOR05 (preferred examples of R04 and R05 include those described above as preferred hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms).
【0055】式(Ia)及び(Ib)において、L1
及びL2 は各々−COO−とベンゼン環を結合する直
接結合又は−(CH2)n1−(n1 は1〜3の整数
を表す)、−CH2 OCO−、−CH2 CH2 O
CO−、−(CH2 O)m1−(m1 は1又は2の
整数を表す)、−CH2 CH2 O−等の如き連結原
子数1〜4個の連結基であり、より好ましくは直接結合
又は結合原子数1〜2個の連結基を挙げることができる
。In formulas (Ia) and (Ib), L1
and L2 are each a direct bond connecting -COO- and a benzene ring, or -(CH2)n1- (n1 represents an integer of 1 to 3), -CH2 OCO-, -CH2 CH2 O
A linking group having 1 to 4 linking atoms such as CO-, -(CH2O)m1- (m1 represents an integer of 1 or 2), -CH2CH2O-, and more preferably a direct bond or bond. A linking group having 1 to 2 atoms can be mentioned.
【0056】本発明の樹脂〔A〕で用いられる式(Ia
)又は(Ib)で示される繰り返し単位に相当する共重
合成分の具体例を以下に挙げる。しかし、本発明の範囲
はこれに限定されるものではない。以下の(a−1)〜
(a−20)において、nは1〜4の整数、mは0又は
1〜3の整数、pは1〜3の整数、R10〜R13はい
ずれも−Cn H2n+1又は−(CH2 )m−C6
H5 (ただし、n,mは上記と同じ)、X1 及び
X2 は同じでも異なってもよく、水素原子、−Cl、
−Br、−Iのいずれかを表す。Formula (Ia) used in the resin [A] of the present invention
) or (Ib) are listed below. However, the scope of the present invention is not limited thereto. (a-1) below
In (a-20), n is an integer of 1 to 4, m is 0 or an integer of 1 to 3, p is an integer of 1 to 3, and R10 to R13 are all -Cn H2n+1 or -(CH2)m-C6
H5 (however, n and m are the same as above), X1 and X2 may be the same or different, and hydrogen atom, -Cl,
Represents either -Br or -I.
【0057】[0057]
【化8】[Chemical formula 8]
【0058】[0058]
【化9】[Chemical formula 9]
【0059】[0059]
【化10】[Chemical formula 10]
【0060】[0060]
【化11】[Chemical formula 11]
【0061】[0061]
【化12】[Chemical formula 12]
【0062】[0062]
【化13】[Chemical formula 13]
【0063】[0063]
【化14】[Chemical formula 14]
【0064】[0064]
【化15】[Chemical formula 15]
【0065】[0065]
【化16】[Chemical formula 16]
【0066】[0066]
【化17】[Chemical formula 17]
【0067】次に低分子量の樹脂〔A〕の重合体主鎖の
片末端に結合した極性基について説明する。該極性基は
、−PO3 H2 、−SO3 H,−COOH、−P
(=O)(OH)R01、環状酸無水物含有基から少な
くとも1種選ばれるものであることが好ましい。Next, the polar group bonded to one end of the polymer main chain of the low molecular weight resin [A] will be explained. The polar group is -PO3 H2, -SO3 H, -COOH, -P
It is preferable that at least one type is selected from (=O)(OH)R01 and a cyclic acid anhydride-containing group.
【0068】−P(=O)(OH)R01基とは、上記
R01が炭化水素基又は−OR02基(R02は炭化水
素基を表す)を表し、具体的にはR01は炭素数1〜2
2の脂肪族基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデ
シル基、オクタデシル基、2−クロロエチル基、2−メ
トキシエチル基、3−エトキシプロピル基、アリル基、
クロトニル基、ブテニル基、シクロヘキシル基、ベンジ
ル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、メチル
ベンジル基、クロロベンジル基、フロロベンジル基、メ
トキシベンジル基等)、又は置換されていてもよいアリ
ール基(例えばフェニル基、トリル基、エチルフェニル
基、プロピルフェニル基、クロロフェニル基、フロロフ
ェニル基、ブロモフェニル基、クロロ−メチル−フェニ
ル基、ジクロロフェニル基、メトキシフェニル基、シア
ノフェニル基、アセトアミドフェニル基、アセチルフェ
ニル基、ブトキシフェニル基等)等であり、R02はR
01と同一の内容である。-P(=O)(OH)R01 group means that R01 above represents a hydrocarbon group or -OR02 group (R02 represents a hydrocarbon group), specifically, R01 has 1 to 2 carbon atoms.
2 aliphatic groups (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-methoxyethyl group, 3-ethoxypropyl group) , allyl group,
crotonyl group, butenyl group, cyclohexyl group, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, methylbenzyl group, chlorobenzyl group, fluorobenzyl group, methoxybenzyl group, etc.), or an optionally substituted aryl group (e.g. Phenyl group, tolyl group, ethylphenyl group, propylphenyl group, chlorophenyl group, fluorophenyl group, bromophenyl group, chloro-methyl-phenyl group, dichlorophenyl group, methoxyphenyl group, cyanophenyl group, acetamidophenyl group, acetylphenyl group , butoxyphenyl group, etc.), and R02 is R
The content is the same as 01.
【0069】また、環状酸無水物含有基とは、少なくと
も1つの環状酸無水物を含有する基であり、含有される
環状酸無水物としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳
香族ジカルボン酸無水物が挙げられる。Further, the cyclic acid anhydride-containing group is a group containing at least one cyclic acid anhydride, and examples of the cyclic acid anhydride include aliphatic dicarboxylic anhydride, aromatic dicarboxylic anhydride, Things can be mentioned.
【0070】脂肪族ジカルボン酸無水物の例としては、
コハク酸無水物環、グルタコン酸無水物環、マレイン酸
無水物環、シクロペンタン−1,2−ジカルボン酸無水
物環、シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物環
、シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物環、2
,3−ビシクロ〔2,2,2〕オクタジカルボン酸無水
物環等が挙げられ、これらの環は、例えば塩素原子、臭
素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、ブチル
基、ヘキシル基等のアルキル基等が置換されていてもよ
い。Examples of aliphatic dicarboxylic acid anhydrides include:
Succinic anhydride ring, glutaconic anhydride ring, maleic anhydride ring, cyclopentane-1,2-dicarboxylic anhydride ring, cyclohexane-1,2-dicarboxylic anhydride ring, cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride ring acid anhydride ring, 2
, 3-bicyclo[2,2,2]octadicarboxylic acid anhydride rings, etc., and these rings include, for example, halogen atoms such as chlorine atoms and bromine atoms, methyl groups, ethyl groups, butyl groups, hexyl groups, etc. The alkyl group, etc. may be substituted.
【0071】また、芳香族ジカルボン酸無水物の例とし
ては、フタル酸無水物環、ナフタレン−ジカルボン酸無
水物環、ピリジン−ジカルボン酸無水物環、チオフェン
−ジカルボン酸無水物環等が挙げられ、これらの環は、
例えば塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル基
、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、ヒ
ドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカルボ
ニル基(アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エ
トキシ基等)等が置換されていてもよい。Examples of aromatic dicarboxylic anhydrides include phthalic anhydride ring, naphthalene-dicarboxylic anhydride ring, pyridine-dicarboxylic anhydride ring, thiophene-dicarboxylic anhydride ring, etc. These rings are
For example, halogen atoms such as chlorine atom and bromine atom, alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hydroxyl group, cyano group, nitro group, alkoxycarbonyl group (alkoxy groups include, for example, methoxy group, ethoxy groups) etc. may be substituted.
【0072】これらの極性基は、重合体主鎖の末端に直
接結合してもよいし、連結基を介して結合してもよい。
連結基としては、いずれの結合する基でもよいが、例え
ば具体的に挙げるとすれば、−〔C(d1 )(d2
)〕−(d1 、d2 は同じでも異なってもよく、各
々水素原子、ハロゲン原子(塩素原子、臭素原子等)、
OH基、シアノ基、アルキル基、(メチル基、エチル基
、2−クロロエチル基、2−ヒドロキシエチル基、プロ
ピル基、ブチル基、ヘキシル基等)、アラルキル基(ベ
ンジル基、フェネチル基等)、フェニル基等を表す)、
−(CH(d3 )−CH(d4 )〕−(d3 、d
4 はd1 、d2と同一の内容を表す)、−C6 H
10−、−C6 H5 −、−O−、−S−、−N(d
5 )−〔d5は、水素原子又は炭化水素基を表す(炭
化水素基、として具体的には炭素数1〜12の炭化水素
基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、2
−メトキシエチル基、2−クロロエチル基、2−シアノ
エチル基、ベンジル基、メチルベンジル基、フェネチル
基、フェニル基、トリル基、クロロフェル基、メトキシ
フェニル基、ブチルフェニル基等)が挙げられる)〕、
−CO−、−COO−、−OCO−、−(d5 )CO
N−、−SO2 N(d5 )−、−SO2 −、−N
HCONH−、−NHCOO−、−NHSO2 −、−
CONHCOO−、−CONHCONH−、複素環(ヘ
テロ原子として、O、S、N等を少なくとも1種含有す
る5〜6員環又はこれらの縮合環であればいずれでもよ
い:例えばチオフェン環、ピリジン環、フラン環、イミ
ダゾール環、ピペリジン環、モルホリン環等が挙げられ
る)又は−Si(d6 )(d7 )−(d6 、d7
は同じでも異なってもよく、炭化水素基又は−Od8
(d8 は炭化水素基)を表す。これらの炭化水素基
としては、d5 で挙げたものと同一のものを挙げるこ
とができる)等の結合基の単独又は、これらの組合わせ
による構成された連結基等が挙げられる。[0072] These polar groups may be bonded directly to the terminal end of the polymer main chain, or may be bonded via a linking group. The linking group may be any bonding group, but specific examples include -[C(d1)(d2
)] - (d1 and d2 may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, a halogen atom (chlorine atom, bromine atom, etc.),
OH group, cyano group, alkyl group (methyl group, ethyl group, 2-chloroethyl group, 2-hydroxyethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, etc.), aralkyl group (benzyl group, phenethyl group, etc.), phenyl (representing a group, etc.),
-(CH(d3)-CH(d4))]-(d3, d
4 represents the same content as d1 and d2), -C6 H
10-, -C6 H5-, -O-, -S-, -N(d
5)-[d5 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group (specifically, a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group) , octyl group, decyl group, dodecyl group, 2
-methoxyethyl group, 2-chloroethyl group, 2-cyanoethyl group, benzyl group, methylbenzyl group, phenethyl group, phenyl group, tolyl group, chlorofer group, methoxyphenyl group, butylphenyl group)],
-CO-, -COO-, -OCO-, -(d5)CO
N-, -SO2 N(d5)-, -SO2 -, -N
HCONH-, -NHCOO-, -NHSO2 -, -
CONHCOO-, -CONHCONH-, heterocycle (any 5- to 6-membered ring containing at least one type of O, S, N, etc. as a hetero atom, or a condensed ring thereof; for example, a thiophene ring, a pyridine ring, (furan ring, imidazole ring, piperidine ring, morpholine ring, etc.) or -Si(d6)(d7)-(d6, d7
may be the same or different, and may be a hydrocarbon group or -Od8
(d8 is a hydrocarbon group). Examples of these hydrocarbon groups include the same ones listed for d5) alone or in combination.
【0073】更に、好ましくは結着樹脂〔A〕では、上
記一般式(I)で示される共重合成分〔一般式(Ia)
又は(Ib)で示されるものも含む〕とともに、これと
共重合する重合体成分として、−PO3 H2 、−S
O3 H、−COOH、−P(=O)(OH)R01及
び環状酸無水物含有基から選択される少なくとも1種の
極性基を含有する共重合成分を0.05〜10重量%含
有することが、より静電特性を向上する上で好ましい。Furthermore, preferably, the binder resin [A] is a copolymer component represented by the above general formula (I) [general formula (Ia)
or (Ib)], and as polymer components copolymerized therewith, -PO3 H2, -S
Contains 0.05 to 10% by weight of a copolymerization component containing at least one polar group selected from O3H, -COOH, -P(=O)(OH)R01, and a cyclic acid anhydride-containing group. is preferable in terms of further improving electrostatic properties.
【0074】これら特定の極性基は、前記した重合体主
鎖の片末端に結合してなる極性基と同一の内容を表す。
樹脂〔A〕において、共重合体成分として含有される極
性基と、重合体主鎖の片末端に結合された極性基の存在
割合は、本発明の光導電層を構成する他の結着樹脂、樹
脂粒子、分光増感色素、化学増感剤あるいはそれ以外の
添加剤の種類・量によって異なり、その割合は任意に調
節することが好ましい。重要なことは、両者の極性基の
総量が0.5〜15重量%の範囲の内で使用されること
である。These specific polar groups represent the same content as the polar group bonded to one end of the polymer main chain described above. In the resin [A], the proportion of the polar groups contained as copolymer components and the polar groups bonded to one end of the polymer main chain is different from that of other binder resins constituting the photoconductive layer of the present invention. , resin particles, spectral sensitizing dye, chemical sensitizer, or other additives, and it is preferable to adjust the ratio arbitrarily. What is important is that the total amount of both polar groups is used within the range of 0.5 to 15% by weight.
【0075】これらの極性基を含有する共重合成分は、
例えば一般式(I)〔一般式(Ia),(Ib)も含む
〕で示される繰り返し単位に相当する単量体と共重合し
得る該極性基を含有するビニル系化合物であればいずれ
でもよく、例えば、高分子学会編「高分子データ・ハン
ドブック〔基礎編〕」培風館(1986年刊)等に記載
されている。具体的には、アクリル酸、α及び/又はβ
置換アクリル酸(例えばα−アセトキシ体、α−アセト
キシメチル体、α−(2−アミノ)メチル体、α−クロ
ロ体、α−ブロモ体、α−フロロ体、α−トリブチルシ
リル体、α−シアノ体、β−クロロ体、β−ブロモ体、
α−クロロ−β−メトキシ体、α,β−ジクロロ体等)
、メタクリル酸、イタコン酸、イタコン酸半エステル類
、イタコン酸半アミド類、クロトン酸、2−アルケニル
カルボン酸類(例えば2−ペンテン酸、2−メチル−2
−ヘキセン酸、2−オクテン酸、4−メチル−2−ヘキ
セン酸、4−エチル−2−オクテン酸等)、マレイン酸
、マレイン酸半エステル類、マレイン酸半アミド類、ビ
ニルベンゼンカルボン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、
ビニルスルホン酸、ビニルホスホン酸、ジカルボン酸類
のビニル基又はアリル基の半エステル誘導体、及びこれ
らのカルボン又はスルホン酸のエステル誘電体、アミド
誘導体の置換基中に該極性基を含有する化合物等が挙げ
られる。The copolymer components containing these polar groups are:
For example, any vinyl compound containing a polar group that can be copolymerized with a monomer corresponding to a repeating unit represented by general formula (I) [including general formulas (Ia) and (Ib)] may be used. For example, it is described in "Polymer Data Handbook [Basic Edition]" edited by the Society of Polymer Science and Technology, Baifukan (published in 1986). Specifically, acrylic acid, α and/or β
Substituted acrylic acid (e.g. α-acetoxy form, α-acetoxymethyl form, α-(2-amino)methyl form, α-chloro form, α-bromo form, α-fluoro form, α-tributylsilyl form, α-cyano form) body, β-chloro body, β-bromo body,
α-chloro-β-methoxy form, α,β-dichloro form, etc.)
, methacrylic acid, itaconic acid, itaconic acid half esters, itaconic acid half amides, crotonic acid, 2-alkenylcarboxylic acids (e.g. 2-pentenoic acid, 2-methyl-2
-hexenoic acid, 2-octenoic acid, 4-methyl-2-hexenoic acid, 4-ethyl-2-octenoic acid, etc.), maleic acid, maleic acid half esters, maleic acid half amides, vinylbenzenecarboxylic acid, vinyl benzenesulfonic acid,
Vinyl sulfonic acid, vinyl phosphonic acid, half ester derivatives of vinyl or allyl groups of dicarboxylic acids, and ester dielectrics and amide derivatives of these carboxylic acids or sulfonic acids, compounds containing the polar group in the substituent, etc. It will be done.
【0076】以下に極性基含有の共重合成分について例
示する。ここで、e1 はH又はCH3 を示し、e2
はH、CH3 又はCH2COOCH3 を示し、R
14は炭素数1〜4のアルキル基を示し、R15は炭素
数1〜6のアルキル基、ベンジル基又はフェニル基を示
し、cは1〜3の整数を示し、dは2〜11の整数を示
し、eは1〜11の整数を示し、fは2〜4の整数を示
し、gは2〜10の整数を示す。Examples of copolymerizable components containing polar groups are shown below. Here, e1 represents H or CH3, and e2
represents H, CH3 or CH2COOCH3, R
14 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R15 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a benzyl group, or a phenyl group, c represents an integer of 1 to 3, and d represents an integer of 2 to 11. , e represents an integer of 1 to 11, f represents an integer of 2 to 4, and g represents an integer of 2 to 10.
【0077】[0077]
【化18】[Chemical formula 18]
【0078】[0078]
【化19】[Chemical formula 19]
【0079】[0079]
【化20】[C20]
【0080】[0080]
【化21】[C21]
【0081】[0081]
【化22】[C22]
【0082】[0082]
【化23】[C23]
【0083】[0083]
【化24】[C24]
【0084】[0084]
【化25】[C25]
【0085】[0085]
【化26】[C26]
【0086】[0086]
【化27】[C27]
【0087】[0087]
【化28】[C28]
【0088】[0088]
【化29】[C29]
【0089】[0089]
【化30】[C30]
【0090】[0090]
【化31】[Chemical formula 31]
【0091】[0091]
【化32】[C32]
【0092】[0092]
【化33】[Chemical formula 33]
【0093】[0093]
【化34】[C34]
【0094】[0094]
【化35】[C35]
【0095】[0095]
【化36】[C36]
【0096】[0096]
【化37】[C37]
【0097】[0097]
【化38】[C38]
【0098】[0098]
【化39】[C39]
【0099】0099
【化40】[C40]
【0100】[0100]
【化41】[C41]
【0101】[0101]
【化42】[C42]
【0102】[0102]
【化43】[C43]
【0103】更に、本発明の低分子量樹脂〔A〕(〔A
′〕を含む)は、前記した一般式(I),(Ia)及び
/又は(Ib)の単量体及び該極性基を含有した単量体
とともに、これら以外の他の単量体を共重合成分として
含有してもよい。Furthermore, the low molecular weight resin [A] of the present invention ([A
']) refers to the monomers of general formulas (I), (Ia) and/or (Ib) described above and the monomers containing the polar group, as well as other monomers other than these. It may be contained as a polymerization component.
【0104】このような他の共重合成分としては、例え
ば一般式(I)で説明した以外の置換基を含有するメタ
クリル酸エステル類、アクリル酸エステル類、クロトン
酸エステル類に加え、α−オレフィン類、カルボン酸ビ
ニル又はアクリル酸エステル類(例えばカルボン酸とし
て、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、安息香酸、ナ
フタレンカルボン酸等) 、アクリロニトリル、メタク
リロニトリル、ビニルエーテル類、イタコン酸エステル
類(例えばジメチルエステル、ジエチルエステル等)
、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、スチレン類
(例えばスチレン、ビニルトルエン、クロロスチレン、
ヒドロキシスチレン、N,N−ジメチルアミノメチルス
チレン、メトキシカルボニルスチレン、メタンスルホニ
ルオキシスチレン、ビニルナフタレン等)、ビニルスル
ホン含有化合物、ビニルケトン含有化合物、複素環ビニ
ル類(例えばビニルピロリドン、ビニルピリジン、ビニ
ルイミダゾール、ビニルチオフェン、ビニルイミダゾリ
ン、ビニルピラゾール、ビニルジオキサン、ビニルキノ
リン、ビニルテトラゾール、ビニルオキサジン等)等が
挙げられる。Examples of such other copolymerization components include, for example, methacrylic esters, acrylic esters, and crotonic esters containing substituents other than those described in general formula (I), as well as α-olefins. vinyl carboxylates or acrylic esters (e.g. carboxylic acids such as acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, benzoic acid, naphthalenecarboxylic acid, etc.), acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl ethers, itaconic esters (e.g. dimethyl ester, diethyl ester, etc.)
, acrylamides, methacrylamides, styrenes (e.g. styrene, vinyltoluene, chlorostyrene,
hydroxystyrene, N,N-dimethylaminomethylstyrene, methoxycarbonylstyrene, methanesulfonyloxystyrene, vinylnaphthalene, etc.), vinyl sulfone-containing compounds, vinyl ketone-containing compounds, heterocyclic vinyls (e.g. vinylpyrrolidone, vinylpyridine, vinylimidazole, vinylthiophene, vinylimidazoline, vinylpyrazole, vinyldioxane, vinylquinoline, vinyltetrazole, vinyloxazine, etc.).
【0105】これら他の単量体は樹脂〔A〕中30重量
%を越えないことが望ましい。樹脂〔A〕において、重
合体主鎖の片末端に該極性基を結合する方法としては、
従来公知のアニオン重合あるいはカチオン重合によって
得られるリビングポリマー末端に種々の試薬を反応させ
る方法(イオン重合法による方法)、分子中に特定の極
性基を含有した重合開始剤及び/又は連鎖移動剤を用い
てラジカル重合させる方法(ラジカル重合法による方法
)、あるいは以上の如きイオン重合法もしくはラジカル
重合法によって得られた末端に反応性基(例えばアミノ
基、ハロゲン原子、エポキシ基、酸ハライド等)含有の
重合体を高分子反応によって本発明の特定の極性基に変
換する方法等の合成法によって容易に製造することがで
きる。It is desirable that the amount of these other monomers does not exceed 30% by weight in the resin [A]. In resin [A], the method of bonding the polar group to one end of the polymer main chain is as follows:
A method of reacting various reagents with the ends of living polymers obtained by conventionally known anionic polymerization or cationic polymerization (method using ionic polymerization method), a method of reacting a polymerization initiator and/or a chain transfer agent containing a specific polar group in the molecule, etc. A reactive group (e.g., an amino group, a halogen atom, an epoxy group, an acid halide, etc.) is obtained at the end by a method of radical polymerization (method using a radical polymerization method), or by an ionic polymerization method or a radical polymerization method as described above. It can be easily produced by a synthetic method such as a method in which a polymer is converted into the specific polar group of the present invention by a polymer reaction.
【0106】具体的には、P.Dreyfuss,R.
P.Quirk,Encycl.Polym,Sci.
Eng,7、551(1987)、中条善樹、山下雄也
「染料と薬品」、30、232(1985)、上田明、
永井進「科学と工業」60、57(1986)等の総説
及びそれに引用の文献等に記載の方法によって製造する
ことができる。Specifically, P. Dreyfuss, R.
P. Quirk, Encycle. Polym, Sci.
Eng, 7, 551 (1987), Yoshiki Nakajo, Yuya Yamashita "Dye and Medicine", 30, 232 (1985), Akira Ueda,
It can be produced by the method described in the review article of Susumu Nagai, "Science and Industry" 60, 57 (1986) and the literature cited therein.
【0107】具体的には、用いる連鎖移動剤としては、
例えば、該極性基あるいは、上記反応性基(即ち該極性
基に誘導しうる基)を含有するメルカプト化合物(例え
ばチオグリコール酸、チオリンゴ酸、チオサリチル酸、
2−メルカプトプロピオン酸、3−メルカプトプロピオ
ン酸、3−メルカプト酪酸、N−(2−メルカプトプロ
ピオニル)グリシン、2−メルカプトニコチン酸、3−
〔N−(2−メルカプトエチル)カルバモイル〕プロピ
オン酸、3−〔N−(2−メルカプトエチル)アミノ〕
プロピオン酸、N−(3−メルカプトプロピオニル)ア
ラニン、2−メルカプトエタンスルホン酸、3−ブタン
スルホン酸、2−メルカプトエタノール、3−メルカプ
ト−1,2−プロパンジオール、1−メルカプト−2−
プロパノール、3−メルカプト−2−ブタノール、メル
カプトフェノール、2−メルカプトエチルアミン、2−
メルカプトイミダゾール、2−メルカプト−3−ピリジ
ノール、4−(2−メエチルオキシカルボニル)フタル
酸無水物、2−メルカプトエチルホスホノ酸無水物、2
−メルカプトエチルホスホノ酸無水物モノメチルエステ
ル、あるいは上記極性基又は置換基を含有するヨード化
アルキル化合物(例えばヨード酢酸、ヨードプロピオン
酸、2−ヨードエタノール、2−ヨードエタンスルホン
酸、3−ヨードプロパンスルホン酸等)が挙げられる。Specifically, the chain transfer agent used is:
For example, mercapto compounds (such as thioglycolic acid, thiomalic acid, thiosalicylic acid,
2-mercaptopropionic acid, 3-mercaptopropionic acid, 3-mercaptobutyric acid, N-(2-mercaptopropionyl)glycine, 2-mercaptonicotinic acid, 3-
[N-(2-mercaptoethyl)carbamoyl]propionic acid, 3-[N-(2-mercaptoethyl)amino]
Propionic acid, N-(3-mercaptopropionyl)alanine, 2-mercaptoethanesulfonic acid, 3-butanesulfonic acid, 2-mercaptoethanol, 3-mercapto-1,2-propanediol, 1-mercapto-2-
Propanol, 3-mercapto-2-butanol, mercaptophenol, 2-mercaptoethylamine, 2-
Mercaptoimidazole, 2-mercapto-3-pyridinol, 4-(2-methyloxycarbonyl)phthalic anhydride, 2-mercaptoethylphosphonoic anhydride, 2
-Mercaptoethylphosphonoic anhydride monomethyl ester, or iodized alkyl compounds containing the above polar groups or substituents (e.g. iodoacetic acid, iodopropionic acid, 2-iodoethanol, 2-iodoethanesulfonic acid, 3-iodopropane) sulfonic acid, etc.).
【0108】該極性基、あるいは、特定の反応性基を含
有する重合開始剤としては、具体的には、4,4′−ア
ゾビス(4−シアノ吉草酸)、4,4′−アゾビス(4
−シアノ吉草酸クロライド)、2,2′−アゾビス(2
−シアノプロパノール)、2,2′−アゾビス(2−シ
アノペンタノール)、2,2′−アゾビス〔2−メチル
−N−(2−ヒドロキシエチル)−プロピオアミド〕、
2,2′−アゾビス{2−メチル−N−1,1−ビス(
ヒドロキシメチル)−2−ヒドロキシエチル〕プロピオ
アミド}、2,2′−アゾビス{2−〔1−(2−ヒド
ロキシエチル)−2−イミダゾリン−2−イル〕プロパ
ン}、2,2′−アゾビス〔2−(2−イミダゾリン−
2−イル)プロパン〕、2,2′−アゾビス〔2−(4
,5,6,7−テトラヒドロ−1H−1,3−ジアゾピ
ン−2−イル)プロパン〕等が挙げられる。Specific examples of the polymerization initiator containing the polar group or a specific reactive group include 4,4'-azobis(4-cyanovaleric acid), 4,4'-azobis(4-cyanovaleric acid), and 4,4'-azobis(4-cyanovaleric acid).
-cyanovaleric acid chloride), 2,2'-azobis(2
-cyanopropanol), 2,2'-azobis(2-cyanopentanol), 2,2'-azobis[2-methyl-N-(2-hydroxyethyl)-propioamide],
2,2'-azobis{2-methyl-N-1,1-bis(
hydroxymethyl)-2-hydroxyethyl]propioamide}, 2,2'-azobis{2-[1-(2-hydroxyethyl)-2-imidazolin-2-yl]propane}, 2,2'-azobis[2 -(2-imidazoline-
2-yl)propane], 2,2'-azobis[2-(4
, 5,6,7-tetrahydro-1H-1,3-diazopin-2-yl)propane] and the like.
【0109】これらの連鎖移動剤あるいは重合開始剤は
、各々全単量体100重量部に対して、0.5〜15重
量部であり、好ましくは2〜10重量部である。以上の
如き低分子量の樹脂〔A〕(〔A′〕も含む)は、従来
の光導電性亜鉛用の公知の樹脂と併用することが好まし
い。低分子量体の樹脂〔A〕と他の樹脂との使用割合は
5〜50/95〜50(重量比)が好ましい。The amount of these chain transfer agents or polymerization initiators is 0.5 to 15 parts by weight, preferably 2 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total monomers. The low molecular weight resins [A] (including [A']) as described above are preferably used in combination with known resins for conventional photoconductive zinc. The ratio of the low molecular weight resin [A] to other resins is preferably 5-50/95-50 (weight ratio).
【0110】また、本発明において、光導電性酸化亜鉛
、樹脂(全結着樹脂)と樹脂粒子〔L〕の使用割合は1
00/10〜100/0.1〜10(重量比)が好まし
い。また、樹脂〔A〕は全結着樹脂10〜100の中の
5〜50重量%であることが好ましい。In the present invention, the ratio of photoconductive zinc oxide, resin (total binder resin) and resin particles [L] is 1
00/10 to 100/0.1 to 10 (weight ratio) is preferable. Further, it is preferable that the resin [A] accounts for 5 to 50% by weight of the total binder resin of 10 to 100%.
【0111】併用する他の樹脂としては、重量平均分子
量3×104 〜1〜106 、好ましくは5×104
〜5×105 の中〜高分子量体である。また、併用
する樹脂のガラス転移点は−10℃〜120℃、好まし
くは0℃〜90℃である。[0111] Other resins used in combination have a weight average molecular weight of 3 x 104 to 1 to 106, preferably 5 x 104.
It is a medium to high molecular weight substance of ~5x105. Further, the glass transition point of the resin used in combination is -10°C to 120°C, preferably 0°C to 90°C.
【0112】例えば、柴田隆治・石渡次郎,高分子,第
17巻,第278頁(1968年)、宮本晴視,武井英
彦,イメージング,1973(No.8)第9頁、中村
孝一編,「記録材料用バインダーの実際技術」第10章
、C.H.C.出版(1985年刊)、D.Tatt,
S.C.Heidecker,Tappi,49(No
.10),439(1966)、E.S.Baltaz
zi R.G.Blanclotte etal,
Photo.Sci.Eng.,16(No.5),3
54(1972),グエン・チャン・ケー,清水 勇
,井上英一,電子写真学会誌18(No.2),22(
1980)、特公昭50−51011、特開昭53−5
4027、同54−20735、同57−202544
各号公報等に開示の材料が挙げられる。For example, Ryuji Shibata and Jiro Ishiwata, Kobunshi, Vol. 17, p. 278 (1968), Harumi Miyamoto, Hidehiko Takei, Imaging, 1973 (No. 8) p. 9, edited by Koichi Nakamura, ""Practical Technology of Binders for Recording Materials" Chapter 10, C. H. C. Publishing (1985), D. Tatt,
S. C. Heidecker, Tappi, 49 (No.
.. 10), 439 (1966), E. S. Baltaz
ziR. G. Blanclotte etal,
Photo. Sci. Eng. , 16 (No. 5), 3
54 (1972), Nguyen Tran Khe, Isamu Shimizu, Eiichi Inoue, Journal of the Electrophotography Society 18 (No. 2), 22 (
1980), JP 50-51011, JP 53-5
4027, 54-20735, 57-202544
Materials disclosed in each publication are listed.
【0113】具体的には、オレフィン重合体及び共重合
体、塩化ビニル共重合体、塩化ビニリデン共重合体、ア
ルカン酸ビニル重合体及び共重合体、アルカン酸アリル
重合体及び共重合体、スチレン及びその誘導体、重合体
及び共重合体、ブタジエン−スチレン共重合体、イソプ
レン−スチレン共重合体、ブタジエン−不飽和カルボン
酸エステル共重合体、アクリロニトリル共重合体、メタ
クリロニトリル共重合体、アルキルビニルエーテル共重
合体、アクリル酸エステル重合体及び共重合体、メタク
リル酸エステル重合体及び共重合体、スチレン−アクリ
ル酸エステル共重合体、スチレン−メタクリル酸エステ
ル共重合体、イタコン酸ジエステル重合体及び共重合体
、無水マレイン酸共重合体、アクリルアミド共重合体、
メタクリルアミド共重合体、水酸基変性シリコン樹脂、
ポリカーボネート樹脂、ケトン樹脂、アミド樹脂、水酸
基及びカルボキシル基変性ポリエステル樹脂、ブチラー
ル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、環化ゴム−メタク
リル酸エステル共重合体、環化ゴム−アクリル酸エステ
ル共重合体、窒素原子を含有しない複素環を含有する共
重合体(複素環として例えば、フラン環、テトラヒドロ
フラン環、チオフェン環、ジオキサン環、ジオキソフラ
ン環、ラクトン環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン
環、1,3−ジオキセタン環等)、エポキシ樹脂等が挙
げられる。Specifically, olefin polymers and copolymers, vinyl chloride copolymers, vinylidene chloride copolymers, vinyl alkanoate polymers and copolymers, allyl alkanoate polymers and copolymers, styrene and Derivatives, polymers and copolymers thereof, butadiene-styrene copolymers, isoprene-styrene copolymers, butadiene-unsaturated carboxylic acid ester copolymers, acrylonitrile copolymers, methacrylonitrile copolymers, alkyl vinyl ether copolymers Polymers, acrylic ester polymers and copolymers, methacrylic ester polymers and copolymers, styrene-acrylic ester copolymers, styrene-methacrylic ester copolymers, itaconic diester polymers and copolymers , maleic anhydride copolymer, acrylamide copolymer,
Methacrylamide copolymer, hydroxyl-modified silicone resin,
Polycarbonate resin, ketone resin, amide resin, hydroxyl and carboxyl group-modified polyester resin, butyral resin, polyvinyl acetal resin, cyclized rubber-methacrylic ester copolymer, cyclized rubber-acrylic ester copolymer, containing nitrogen atoms Copolymers containing heterocycles (e.g., furan ring, tetrahydrofuran ring, thiophene ring, dioxane ring, dioxofuran ring, lactone ring, benzofuran ring, benzothiophene ring, 1,3-dioxetane ring, etc.), epoxy Examples include resin.
【0114】更に併用する中〜高分子量体の樹脂として
、前記した物性を満たし、好ましくは下記一般式(II
I)で示される繰り返し単位の重合体成分を30重量部
以上含有する重合体が挙げられる。Further, a medium to high molecular weight resin to be used in combination satisfies the above-mentioned physical properties and is preferably of the following general formula (II
Examples include polymers containing 30 parts by weight or more of the repeating unit polymer component represented by I).
【0115】[0115]
【化44】[C44]
【0116】〔式(III)中、Vは−COO−、−O
CO−、−(CH2)h −OCO−、−(CH2 )
h −COO−、−O−または−SO2 −を表す。但
しhは1〜4の整数を表す〕一般式(III)において
、f3 及びf4 は式(I) 中のa1 ,a2 と
同一の内容を表す。[In formula (III), V is -COO-, -O
CO-, -(CH2)h -OCO-, -(CH2)
h represents -COO-, -O- or -SO2-. However, h represents an integer of 1 to 4] In general formula (III), f3 and f4 represent the same content as a1 and a2 in formula (I).
【0117】R07は式(I)中のR03と同一の内容
を表す。一般式(III)で示される重合体成分を含有
する中〜高分子量の結着樹脂(以降、樹脂〔B〕と称す
る) としては、例えば式(III)で示される重合体
成分含有のランダム共重合体の樹脂(特開昭63−49
817、同63−220149、同63−220148
各号公報等)、該ランダム共重合体と架橋性樹脂との併
用樹脂(特開平1−102573号等)、式(III)
で示される重合体成分を含有し予め部分架橋されている
共重合体(特開平2−34860、同2−40660各
号公報等)特定の繰り返し単位の重合体成分からなる一
官能性マクロモノマーと式(V)で示される成分に相当
する単量体との重合によるグラフト型ブロック共重合体
(特願昭63−203933、同63−207317各
号公報、特願平1−163796、同1−212994
、同1−229379、同1−189245各号として
本発明者等がすでに出願中の明細書)等が挙げられる。R07 represents the same content as R03 in formula (I). As the medium to high molecular weight binder resin (hereinafter referred to as resin [B]) containing the polymer component represented by the general formula (III), for example, a random binder resin containing the polymer component represented by the formula (III) can be used. Polymer resin (Japanese Patent Application Laid-open No. 63-49
817, 63-220149, 63-220148
Publications, etc.), combined resins of the random copolymer and crosslinkable resin (JP-A-1-102573, etc.), formula (III)
A copolymer containing a polymer component represented by the formula and partially crosslinked in advance (JP-A-2-34860, JP-A-2-40660, etc.) and a monofunctional macromonomer consisting of a polymer component of a specific repeating unit. Graft-type block copolymers obtained by polymerization with monomers corresponding to the components represented by formula (V) (Japanese Patent Applications No. 1983-203933 and No. 63-207317, Japanese Patent Application No. 163796 and No. 1-1999) 212994
, 1-229379, and 1-189245, which the present inventors have already filed.
【0118】本発明では、樹脂〔A〕が特定の置換基を
もつメタクリレート共重合成分と特定の極性基を重合体
主鎖の片末端に結合した低分子量の共重合体であり、該
極性基が光導電層の光導電体の化学量論的な欠陥に吸着
し、且つ低分子量体であることから、光導電体の表面の
被覆性を向上させることで光導電体のトラップを補償す
ると共に温度特性を飛躍的に向上させる一方、光導電体
の分散が充分に行われ、凝集を抑制することが判った。In the present invention, the resin [A] is a low molecular weight copolymer in which a methacrylate copolymer component having a specific substituent and a specific polar group are bonded to one end of the polymer main chain; Because it adsorbs to the stoichiometric defects of the photoconductor in the photoconductive layer and has a low molecular weight, it improves the coverage of the photoconductor surface and compensates for the trapping of the photoconductor. It was found that while the temperature characteristics were dramatically improved, the photoconductor was sufficiently dispersed and agglomeration was suppressed.
【0119】そのことにより、電子写真感光体としての
電子写真特性が優れたものとなり、特に、半導体レーザ
ー光用の分光増感色素を用いた場合でも、極めて優れた
性能を発揮することが見い出された。[0119] As a result, it has been found that it has excellent electrophotographic properties as an electrophotographic photoreceptor, and in particular, it exhibits extremely excellent performance even when a spectral sensitizing dye for semiconductor laser light is used. Ta.
【0120】そして中〜高分子量の樹脂〔B〕を併用す
れば、樹脂〔A〕を用いたことによる電子写真特性の高
性能を全く阻害せずに、樹脂〔A〕のみの場合より光導
電層の機械的強度を充分に向上できるものと判った。即
ち、光導電体と結着樹脂の吸着・被覆の相互作用が適切
に行われ、且つ被覆導電層の膜強度が保持されるもので
ある。[0120] If a medium to high molecular weight resin [B] is used in combination, the photoconductivity will be higher than that of the resin [A] alone, without impairing the high performance electrophotographic properties obtained by using the resin [A]. It was found that the mechanical strength of the layer could be sufficiently improved. That is, the adsorption and coating interaction between the photoconductor and the binder resin is properly performed, and the film strength of the coated conductive layer is maintained.
【0121】これは、本発明にかかる結着樹脂の下記の
ような作用によるものと考えられる。即ち、本発明にお
いては結着樹脂として樹脂〔A〕と樹脂〔B〕を併用し
、各々の樹脂の重量平均分子量及び樹脂中の極性基の含
有量を特定することで、光導電体と樹脂との相互作用の
強さを変えることができる。これにより相互作用のより
強い樹脂〔A〕が選択的に且つ適切に光導電体に吸着し
、樹脂〔A〕に比べ相互作用の弱い樹脂〔B〕は、樹脂
中の重合体主鎖に対して、特定の位置に結合した極性基
が電子写真特性を阻害しない程度に光導電体とゆるやか
に相互作用し且つ長い分子鎖長及びグラフト分子鎖長を
有する樹脂〔B〕同士の分子鎖同士の相互作用をもする
ことで、上記した如く電子写真特性及び膜の機械的強度
を共に著しく向上させることができたと考えられる。This is considered to be due to the following action of the binder resin according to the present invention. That is, in the present invention, resin [A] and resin [B] are used together as binder resins, and by specifying the weight average molecular weight of each resin and the content of polar groups in the resin, the photoconductor and the resin are combined. You can change the strength of the interaction. As a result, the resin [A], which has a stronger interaction, is selectively and appropriately adsorbed to the photoconductor, and the resin [B], which has a weaker interaction than the resin [A], is attached to the main chain of the polymer in the resin. Therefore, the polar groups bonded to specific positions interact gently with the photoconductor to the extent that the electrophotographic properties are not inhibited, and the molecular chains of resins [B] having long molecular chain lengths and graft molecular chain lengths are It is thought that the interaction was able to significantly improve both the electrophotographic properties and the mechanical strength of the film as described above.
【0122】以下に本発明で用いられる非水溶媒系分散
樹脂粒子(以下に樹脂粒子〔L〕と称することもある)
について詳細に説明する。本発明の樹脂粒子は、いわゆ
る非水系分散重合によって製造されたものである。
本発明の非水溶媒系分散樹脂粒子は、分解によりチオー
ル基、スルホ基、アミノ基及び−P(=Z0 )(−Z
0 −H)R’ 1 基〔Z0 は酸素原子又はイオウ
原子を表わす。R’ 1 は−Z0 −H、炭化水素又
は−Z0 −R’ 2 (R’ 2 は炭化水素基を表
わす)を表わす〕のうちの少なくとも1つの基を生成す
る官能基を少なくとも1種含有し重合後には該非水溶媒
には不溶となる一官能性単量体(C)からなる重合体成
分〔重合体成分(C)と略記する〕を、フッ素原子及び
/又はケイ素原子を少なくとも置換基として含有する繰
り返し単位を含み重合後にも該非水溶媒に可溶性となる
分散安定用樹脂の存在下に重合反応させることにより得
られるものである。[0122] Non-aqueous solvent-based dispersed resin particles (hereinafter sometimes referred to as resin particles [L]) used in the present invention will be described below.
will be explained in detail. The resin particles of the present invention are produced by so-called non-aqueous dispersion polymerization.
The non-aqueous solvent-based dispersed resin particles of the present invention have thiol groups, sulfo groups, amino groups and -P(=Z0)(-Z
0 -H)R' 1 group [Z0 represents an oxygen atom or a sulfur atom. R'1 represents -Z0-H, a hydrocarbon, or -Z0-R'2 (R'2 represents a hydrocarbon group). A polymer component [abbreviated as polymer component (C)] consisting of a monofunctional monomer (C) that becomes insoluble in the non-aqueous solvent after polymerization is treated with at least a fluorine atom and/or a silicon atom as a substituent. It is obtained by carrying out a polymerization reaction in the presence of a dispersion stabilizing resin that contains repeating units and becomes soluble in the non-aqueous solvent even after polymerization.
【0123】本発明に供される樹脂粒子は、その平均粒
子径が光導電性酸化亜鉛粒子の最大粒子径と同じか、そ
れよりも小さく且つ粒子径の分布が狭く粒子径がそろっ
ているものである。[0123] The resin particles used in the present invention have an average particle size equal to or smaller than the maximum particle size of the photoconductive zinc oxide particles, and have a narrow particle size distribution and uniform particle size. It is.
【0124】具体的には、本発明の樹脂粒子は最大粒子
の粒子径が2μm以下であり、好ましくは0.5μm以
下である。そして、粒子の平均粒子径は0.8μm以下
であり、好ましくは0.5μm以下である。Specifically, the resin particles of the present invention have a maximum particle diameter of 2 μm or less, preferably 0.5 μm or less. The average particle diameter of the particles is 0.8 μm or less, preferably 0.5 μm or less.
【0125】なお、樹脂粒子は、粒子径が小さい程比表
面積が大きくなり、上記の電子写真特性上良好な作用を
もたらし、コロイド粒子(0.01μm以下)程度でも
充分であるが、余り小さくなり過ぎると分子分散の場合
と類似してしまい、保水力向上への粒子であることの効
果が薄れてくるため、0.001μm以上で用いるのが
好ましい。[0125] Note that the smaller the particle diameter of the resin particles, the larger the specific surface area, which brings about good effects on the electrophotographic properties mentioned above, and colloidal particles (0.01 μm or less) are sufficient, but if they are too small, If it is too large, it will resemble the case of molecular dispersion, and the effect of particles on improving water retention capacity will be diminished, so it is preferable to use the particle size at 0.001 μm or more.
【0126】本発明において、上記のような高次の綱目
構造を形成していない樹脂粒子又は高次の綱目構造を形
成している樹脂粒子(以下、単に綱目樹脂粒子)は、光
導電性酸化亜鉛100重量部に対して0.01〜10重
量%の使用量で用いることが好ましい。樹脂粒子又は綱
目樹脂粒子が0.01重量%より少ないと非画像部の親
水性が充分とならず、逆に10重量%より多いと非画像
部の親水性の向上は更に図られるが、厳しい条件下での
電子写真特性が劣化し、複写画像が悪化してしまう。[0126] In the present invention, resin particles that do not form a higher-order mesh structure as described above or resin particles that do form a higher-order mesh structure (hereinafter simply referred to as "wire resin particles") are photoconductive oxidized resin particles. It is preferably used in an amount of 0.01 to 10% by weight based on 100 parts by weight of zinc. If the resin particles or mesh resin particles are less than 0.01% by weight, the hydrophilicity of the non-image area will not be sufficient, and if it is more than 10% by weight, the hydrophilicity of the non-image area can be further improved, but it is difficult. The electrophotographic characteristics under these conditions deteriorate, resulting in a deteriorated copy image.
【0127】分散樹脂粒子の分子量は104 〜106
、好ましくは104 〜5×105 である。該樹脂
粒子中の重合成分として、単量体(C)の存在割合は、
30重量%以上好ましくは50重量%以上であり、特に
好ましくは、該樹脂は単量体(C)と分散安定用樹脂の
みで構成されているものである。[0127] The molecular weight of the dispersed resin particles is 104 to 106
, preferably 104 to 5×105. As a polymerization component in the resin particles, the proportion of monomer (C) present is as follows:
The amount is 30% by weight or more, preferably 50% by weight or more, and particularly preferably, the resin is composed only of the monomer (C) and the dispersion stabilizing resin.
【0128】本発明の分散安定用樹脂の、該非水溶媒へ
の溶解性は、具体的には該溶媒100重量部に対し、温
度25℃において少なくとも5重量%溶解するものであ
ればよい。[0128] Specifically, the solubility of the dispersion stabilizing resin of the present invention in the non-aqueous solvent is such that it dissolves at least 5% by weight in 100 parts by weight of the solvent at a temperature of 25°C.
【0129】また、該分散安定用樹脂の重量平均分子量
は1×103 〜1×105 であり好ましくは2×1
03 〜5×104 、特に好ましくは3×103 〜
2×104である。[0129] The weight average molecular weight of the dispersion stabilizing resin is 1 x 103 to 1 x 105, preferably 2 x 1
03 to 5×104, particularly preferably 3×103 to
It is 2×104.
【0130】分散安定用樹脂の重量平均分子量が1×1
03 未満になると、生成した分散樹脂粒子の凝集が発
生し、平均粒径が揃った微粒子が得られなくなってしま
う。一方1×105 を越えると、表面層中に添加した
時に電子写真特性を満足しつつ保水性が向上するという
本発明の効果が薄れてしまう。[0130] The weight average molecular weight of the dispersion stabilizing resin is 1×1
If it is less than 0.03, the produced dispersed resin particles will aggregate, making it impossible to obtain fine particles with a uniform average particle size. On the other hand, if it exceeds 1×10 5 , the effect of the present invention, which improves water retention while satisfying electrophotographic properties when added to the surface layer, will be diminished.
【0131】本発明の分散安定用樹脂の繰り返し単位の
総和において、フッ素原子又は/及びケイ素原子を含有
する置換基を有する繰り返し単位は、全体の30重量%
以上含有されていることが好ましく、より好ましくは5
0重量%以上である。[0131] In the total number of repeating units in the dispersion stabilizing resin of the present invention, repeating units having a substituent containing a fluorine atom and/or a silicon atom account for 30% by weight of the total.
It is preferable that the content is 5 or more, more preferably 5
It is 0% by weight or more.
【0132】本発明の上記成分が全体の30重量%未満
になると、樹脂粒子が表面層に分散された時に表面部分
への濃縮効果が低下し、結果として、印刷原版としての
保水性向上の効果が薄れてしまう。[0132] When the above-mentioned components of the present invention are less than 30% by weight of the total, the effect of concentrating the resin particles on the surface layer when dispersed in the surface layer decreases, and as a result, the effect of improving water retention as a printing original plate decreases. fades away.
【0133】前記のように不溶化する単量体(C)に対
して、好ましくは分散安定用樹脂を1〜50重量%、さ
らに好ましくは5〜25重量%使用する。〔B〕は、樹
脂中の重合体主鎖に対して、特定の位置に結合した極性
基が電子写真特性を阻害しない程度に光導電体とゆるや
かに相互作用し、且つ長い分子鎖長及びグラフト分子鎖
長を有する樹脂〔B〕同士の分子鎖同士の相互作用をも
することで、上記した如く電子写真特性及び膜の機械的
強度を共に著しく向上させることができたと考えられる
。The dispersion stabilizing resin is preferably used in an amount of 1 to 50% by weight, more preferably 5 to 25% by weight, based on the monomer (C) to be insolubilized as described above. [B] has polar groups bonded to specific positions in the polymer main chain in the resin that interact gently with the photoconductor to the extent that they do not inhibit electrophotographic properties, and that have long molecular chain lengths and grafts. It is thought that the interaction between the molecular chains of the resins [B] having the same molecular chain length made it possible to significantly improve both the electrophotographic properties and the mechanical strength of the film as described above.
【0134】次に本発明の樹脂粒子〔L〕について詳し
く説明する。本発明において用いられる分解して少なく
とも1個のチオール基、スルホ基、アミノ基、−P(=
Z0 )(−Z0 −H)R’ 1基の少なくとも1つ
の親水性基を生成する官能基(以下単に、親水性基生成
官能基と称することもある)について詳しく説明する。Next, the resin particles [L] of the present invention will be explained in detail. At least one thiol group, sulfo group, amino group, -P(=
The functional group that generates at least one hydrophilic group (hereinafter sometimes simply referred to as a hydrophilic group-generating functional group) of one Z0 ) (-Z0 -H)R' group will be explained in detail.
【0135】本発明の親水性基生成官能基は分解によっ
て少なくとも1つの親水性基を生成するが、1つの官能
基から生成する親水性基は1個でも2個以上でもよい。
以下、分解により少なくとも1個のチオール基を生成す
る官能基(チオール基生成官能基)について詳述する。The hydrophilic group-forming functional group of the present invention generates at least one hydrophilic group by decomposition, and the number of hydrophilic groups generated from one functional group may be one or two or more. The functional group that generates at least one thiol group upon decomposition (thiol group-generating functional group) will be described in detail below.
【0136】本発明の1つの好ましい態様によれば、チ
オール基生成官能基含有樹脂は、例えば下記一般式(C
−I)〔−S−LA 〕で示される官能基を少なくとも
1種含有する樹脂である。According to one preferred embodiment of the present invention, the thiol group-forming functional group-containing resin has, for example, the following general formula (C
-I) A resin containing at least one functional group represented by [-S-LA].
【0137】一般式(C−I):〔−S−LA 〕式中
、LA は、−Si(RA 1 )(RA 2 )(R
A 3 )、−CO−RA 4、−CO−RA 5 、
−CO−O−RA 6 、−CS−O−RA 7 、−
S−RA 8 、−CS−N(RA 9 )(RA 1
0)又はGeneral formula (C-I): [-S-LA] In the formula, LA is -Si(RA 1 )(RA 2 )(R
A3), -CO-RA4, -CO-RA5,
-CO-O-RA 6 , -CS-O-RA 7 , -
S-RA8, -CS-N(RA9)(RA1
0) or
【0138】[0138]
【化45】[C45]
【0139】を表わす。但し、RA 1 ,RA 2
及びRA 3 は互いに同じでも異なってもよく、各々
炭化水素基又は−O−RA ′(RA ′は炭化水素基
を示す)を表わし、RA 4 、RA 5 、RA 6
、RA 7 、RA 8 、RA 9 、RA 10
、RA 11、RA 12及びRA 13は各々独立に
炭化水素基を表わし、Y1 は酸素原子又はイオウ原子
を表わす。represents [0139]. However, RA 1 , RA 2
and RA 3 may be the same or different, and each represents a hydrocarbon group or -O-RA'(RA' represents a hydrocarbon group), and RA 4 , RA 5 , RA 6
, RA 7 , RA 8 , RA 9 , RA 10
, RA 11 , RA 12 and RA 13 each independently represent a hydrocarbon group, and Y1 represents an oxygen atom or a sulfur atom.
【0140】上記一般式〔−S−LA 〕の官能基は、
分解によって、チオール基を生成するものであり、以下
更に詳しく説明する。LA が−Si(RA 1 )(
RA 2 )(RA 3 )を表わす場合において、R
A 1 、RA 2 及びRA 3 は互いに同じでも
異なっていてもよく、好ましくは水素原子、置換されて
もよい炭素数1〜18の直鎖状又は分岐状アルキル基(
例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘ
キシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタ
デシル基、クロロエチル基、メトキシエチル基、メトキ
シプロピル基等)、置換されてもよい脂環式基(例えば
シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、置換されて
もよい炭素数7〜12のアラルキル基(例えばベンジル
基、フェネチル基、クロロベンジル基、メトキシベンジ
ル基等)又は置換されてもよい芳香族基(例えばフェニ
ル基、ナフチル基、クロロフェニル基、トリル基、メト
キシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、ジク
ロロフェニル基等)又は−O−RA ′(RA ′は炭
化水素基を表わし、具体的には上記RA 1 、RA
2 、RA 3 の炭化水素基の置換基類を例として挙
げることができる)を表わす。[0140] The functional group of the above general formula [-S-LA] is
Thiol groups are produced by decomposition, and will be explained in more detail below. LA is −Si(RA 1 )(
RA 2 )(RA 3 ), when R
A 1 , RA 2 and RA 3 may be the same or different, preferably a hydrogen atom, an optionally substituted linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (
For example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, octadecyl group, chloroethyl group, methoxyethyl group, methoxypropyl group, etc.), optionally substituted alicyclic group (e.g., cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (e.g., benzyl group, phenethyl group, chlorobenzyl group, methoxybenzyl group, etc.), or optionally substituted aromatic group ( For example, a phenyl group, a naphthyl group, a chlorophenyl group, a tolyl group, a methoxyphenyl group, a methoxycarbonylphenyl group, a dichlorophenyl group, etc.) or -O-RA'(RA' represents a hydrocarbon group, specifically the above-mentioned RA1, R.A.
2 and RA 3 ).
【0141】LA が−CO−RA 4 、−CO−R
A 5 、−CO−O−RA 6 、−CS−O−RA
7 、又は−S−RA 8 を表わす場合において、
RA 4 、RA 5 、RA 6 、RA 7 、R
A 8 は各々好ましくは置換されていてもよい炭素数
1〜12の直鎖状又は分岐状アルキル基(例えばメチル
基、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基、メト
キシメチル基、エチル基、,プロピル基、n−ブチル基
、ヘキシル基、3−クロロプロピル基、フェノキシメチ
ル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、t−ブチル
基、ヘキシルフルオロ−i−プロピル基、オクチル基、
デシル基等)、置換されていてもよい炭素数7〜9のア
ラルキル基(例えばベンジル基、フェネチル基、メチル
ベンジル基、トリメチルベンジル基、ヘプタメチルベン
ジル基、メトキシベンジル基等)、置換されていてもよ
い炭素数6〜12のアリール基(例えばフェニル基、ニ
トロフェニル基、シアノフェニル基、メタンスルホニル
フェニル基、メトキシフェニル基、ブトキシフェニル基
、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、トリフルオ
ロメチルフェニル基等)を表わす。LA is -CO-RA 4 , -CO-R
A5, -CO-O-RA6, -CS-O-RA
7 or -S-RA 8 ,
RA 4 , RA 5 , RA 6 , RA 7 , R
Each of A 8 is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted (e.g. methyl group, trichloromethyl group, trifluoromethyl group, methoxymethyl group, ethyl group, propyl group). , n-butyl group, hexyl group, 3-chloropropyl group, phenoxymethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, t-butyl group, hexylfluoro-i-propyl group, octyl group,
decyl group, etc.), optionally substituted aralkyl groups having 7 to 9 carbon atoms (e.g., benzyl group, phenethyl group, methylbenzyl group, trimethylbenzyl group, heptamethylbenzyl group, methoxybenzyl group, etc.), substituted Aryl groups having 6 to 12 carbon atoms (e.g. phenyl group, nitrophenyl group, cyanophenyl group, methanesulfonylphenyl group, methoxyphenyl group, butoxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, trifluoromethylphenyl group, etc.) represent.
【0142】LA が−CS−N(RA 9 )(RA
10)を表わす場合において、RA 9 及びRA
10は各々同じでも異なっていてもよく、好ましい例と
しては前記RA 4 〜RA 8 で好ましいとした置
換基を表わす。LA is -CS-N(RA 9 )(RA
10), RA 9 and RA
Each of 10 may be the same or different, and preferred examples represent the substituents preferred in RA 4 to RA 8 above.
【0143】LA が[0143] LA is
【0144】[0144]
【化46】[C46]
【0145】を表わす場合において、Y1 は酸素原子
又はイオウ原子を表わす。RA 11、RA 12、R
A 13は互いに同じでも異なっていてもよく、好まし
くは水素原子、置換されてもよい炭素数1〜12の直鎖
状又は分岐状アルキル基を表わす。In the case where Y1 represents an oxygen atom or a sulfur atom. RA 11, RA 12, R
A 13 may be the same or different, and preferably represents a hydrogen atom or an optionally substituted linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
【0146】好ましい例としては前記RA 4 〜RA
8 と同じ内容を表わす。pは5又は6の整数を表わ
す。本発明の他の好ましいチオール基生成官能基含有樹
脂は、一般式(C−II)又は一般式(C−III)で
示されるチイラン環を少なくとも1種含有する樹脂であ
る。[0146] As a preferable example, the above-mentioned RA 4 to RA
8 represents the same content. p represents an integer of 5 or 6. Another preferred thiol group-forming functional group-containing resin of the present invention is a resin containing at least one thiirane ring represented by general formula (C-II) or general formula (C-III).
【0147】[0147]
【化47】[C47]
【0148】式(C−II)において、RA 14及び
RA 15は互いに同じでも異なってもよく、各々水素
原子又は炭化水素基を表わす。好ましくは、水素原子又
は前記RA 4 〜RA 8 で好ましいとした置換基
を表わす。In formula (C-II), RA 14 and RA 15 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. Preferably, it represents a hydrogen atom or a substituent selected as preferred for RA 4 to RA 8 above.
【0149】式(C−III)において、XA は水素
原子又は脂肪族基を表わす。脂肪族基として好ましくは
、炭素数1〜6のアルキル基(例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基等)を表わす。In formula (C-III), XA represents a hydrogen atom or an aliphatic group. Preferably, the aliphatic group represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, etc.).
【0150】本発明の更に他の好ましいチオール基生成
官能基含有樹脂は、一般式(C−IV)で示されるイオ
ウ原子含有のヘテロ環基を少なくとも1種含有する樹脂
である。Still another preferred thiol group-forming functional group-containing resin of the present invention is a resin containing at least one sulfur atom-containing heterocyclic group represented by the general formula (C-IV).
【0151】[0151]
【化48】[C48]
【0152】式(C−IV)において、YA は酸素原
子又は−NH−基を表わす。RA 16、RA 17、
及びRA 18は同じでも異なっていてもよく、各々水
素原子又は炭化水素基を表わす。好ましくは、水素原子
又は前記RA 4 〜RA 8 で好ましいとした置換
基を表わす。In formula (C-IV), YA represents an oxygen atom or an -NH- group. RA 16, RA 17,
and RA 18 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. Preferably, it represents a hydrogen atom or a substituent selected as preferred for RA 4 to RA 8 above.
【0153】RA 19及びRA 20は同じでも異な
っていてもよく、水素原子、炭化水素基又は−O−RA
″(RA ″は炭化水素基を表わす)を表わす。好ま
しくは、前記RA 1 〜RA 3 で好ましいとした
置換基を表わす。RA 19 and RA 20 may be the same or different and represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group, or -O-RA
''(RA'' represents a hydrocarbon group). Preferably, it represents the preferred substituent among the above RA 1 to RA 3 .
【0154】本発明の更にもう一つの好ましい態様によ
れば、チオール基生成官能基含有樹脂は、互いに立体的
に近い位置にある少なくとも2つのチオール基を1つの
保護基で同時に保護した形で有する官能基を少なくとも
1種含有する樹脂である。According to yet another preferred embodiment of the present invention, the thiol group-generating functional group-containing resin has at least two thiol groups that are sterically close to each other and are simultaneously protected with one protecting group. It is a resin containing at least one functional group.
【0155】互いに立体的に近い位置にある少なくとも
2つのチオール基を1つの保護基で同時に保護した形で
有する官能基としては、例えば下記一般式(C−V)、
(C−VI)及び(C−VII)で表わされるものを挙
げることができる。Examples of functional groups having at least two thiol groups that are sterically close to each other and simultaneously protected with one protecting group include the following general formula (C-V),
Those represented by (C-VI) and (C-VII) can be mentioned.
【0156】[0156]
【化49】[C49]
【0157】式(C−V)及び式(C−VI)において
、ZA はヘテロ原子を介してもよい炭素−炭素結合又
はC−S結合同志を直接連結する化学結合を表わす(但
し、イオウ原子間の原子数は4個以内である)。更に一
方の−(ZA ・・・C)−結合が単なる結合のみを表
わし、例えば下記の様になっていてもよい。[0157] In formulas (C-V) and (C-VI), ZA represents a carbon-carbon bond or a chemical bond that directly connects C-S bonds, which may be via a heteroatom (provided that a sulfur atom The number of atoms in between is within 4). Furthermore, one of the -(ZA...C)- bonds may represent only a simple bond, for example, as shown below.
【0158】[0158]
【化50】[C50]
【0159】式(C−VI)において、RA 21、R
A 22は同じでも異なっていてもよく、水素原子、炭
化水素基又は−O−RA ″(RA ″は炭化水素基を
示す)を表わす。式(C−VI)において、RA 21
及びRA 22は好ましくは互いに同じでも異なってい
てもよく、水素原子、炭素数1〜12の置換されてもよ
いアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基、ヘキシル基、2−メトキシエチル基、オク
チル基等)、炭素数7〜9の置換されてもよいアラルキ
ル基(例えばベンジル基、フェネチル基、メチルベンジ
ル基、メトキシベンジル基、クロロベンジル基等)、炭
素数5〜7の脂環式基(例えばシクロペンチル基、シク
ロヘキシル基)又は置換されてもよいアリール基(例え
ばフェニル基、クロロフェニル基、メトキシフェニル基
、メチルフェニル基、シアノフェニル基等)又は−O−
RA ″(RA ″はRA 21、RA 22における
炭化水素基と同義である)を表わす。In formula (C-VI), RA 21, R
A22 may be the same or different and represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group, or -O-RA''(RA'' represents a hydrocarbon group). In formula (C-VI), RA 21
and RA 22 may preferably be the same or different and are hydrogen atoms, optionally substituted alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, 2- methoxyethyl group, octyl group, etc.), optionally substituted aralkyl groups having 7 to 9 carbon atoms (e.g. benzyl group, phenethyl group, methylbenzyl group, methoxybenzyl group, chlorobenzyl group, etc.), carbon atoms having 5 to 7 carbon atoms Alicyclic group (e.g. cyclopentyl group, cyclohexyl group) or optionally substituted aryl group (e.g. phenyl group, chlorophenyl group, methoxyphenyl group, methylphenyl group, cyanophenyl group, etc.) or -O-
RA''(RA'' has the same meaning as the hydrocarbon group in RA 21 and RA 22).
【0160】式(C−VII)において、RA 23、
RA 24、RA 25、RA 26は互いに同じでも
異なっていてもよく、各々水素原子又は炭化水素基を表
わす。好ましくは、水素原子又は上記RA 21、RA
22において好ましいとした炭化水素基と同義の内容
を表わす。In formula (C-VII), RA 23,
RA 24, RA 25, and RA 26 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. Preferably, a hydrogen atom or the above RA 21, RA
It represents the same meaning as the hydrocarbon group preferred in No. 22.
【0161】本発明に用いられる一般式(C−I)〜(
C−VII)で示される官能基を少なくとも1種含有す
る単量体(C)は、例えば岩倉義男・栗田恵輔著「反応
性高分子」230頁〜237頁(講談社:1977年刊
)、日本化学会編「新実験化学講座第14巻、有機化合
物の合成と反応〔III〕」第8章、第1700頁〜1
713頁(丸善株式会社、1978年刊)、J.F.W
.McOmie「Protective Group
s in Organic Chemistry
」第7章(Plenum Press.1973年刊
)、S.Patai「The Chemistry
of the thiol group P
art2」第12章、第14章(John Wile
y & Sons,1974年刊)等に記載の方法
等を適用することができる。General formulas (C-I) to (C-I) used in the present invention
The monomer (C) containing at least one functional group represented by C-VII) can be used, for example, in "Reactive Polymers" by Yoshio Iwakura and Keisuke Kurita, pp. 230-237 (Kodansha: published in 1977), published by Nippon Kagaku. “New Experimental Chemistry Course Volume 14, Synthesis and Reactions of Organic Compounds [III]” Chapter 8, pp. 1700-1
713 pages (Maruzen Co., Ltd., published in 1978), J. F. W
.. McOmie “Protective Group
s in Organic Chemistry
” Chapter 7 (Plenum Press. 1973), S. Patai “The Chemistry”
of the thiol group P
art2” Chapters 12 and 14 (John Wile
y & Sons, 1974), etc. can be applied.
【0162】更に具体的には、一般式(C−I)〜(C
−VII)の官能基を含有する単量体として、例えば以
下の様な化合物を挙げることができる。More specifically, general formulas (C-I) to (C
Examples of the monomer containing the functional group -VII) include the following compounds.
【0163】[0163]
【化51】[C51]
【0164】[0164]
【化52】[C52]
【0165】[0165]
【化53】[C53]
【0166】[0166]
【化54】[C54]
【0167】[0167]
【化55】[C55]
【0168】[0168]
【化56】[C56]
【0169】[0169]
【化57】[C57]
【0170】[0170]
【化58】[C58]
【0171】[0171]
【化59】[C59]
【0172】[0172]
【化60】[C60]
【0173】[0173]
【化61】[C61]
【0174】次に、分解により少なくとも1個の−P(
=Z0 )(−Z0 −H)R’ 1 基、例えば下記
一般式(C−VIII)又は(C−IX)の基を生成す
る官能基について詳しく説明する。Next, at least one -P(
=Z0)(-Z0-H)R'1 group, for example, a functional group that generates a group of the following general formula (C-VIII) or (C-IX) will be explained in detail.
【0175】[0175]
【化62】[C62]
【0176】式(C−VIII)において、RB は炭
化水素基又は−ZB 2 −RB ′(ここでRB ′
は炭化水素を示し、ZB 2 は酸素原子又はイオウ原
子を示す)を表わす。In formula (C-VIII), RB is a hydrocarbon group or -ZB 2 -RB' (where RB'
represents a hydrocarbon, and ZB 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom).
【0177】QB 1 は酸素原子又はイオウ原子を表
わす。ZB 1 は酸素原子又はイオウ原子を表わす。
式(IX)において、QB 2 、ZB 3 及びZB
4 は各々独立に酸素原子又はイオウ原子を表わす。QB 1 represents an oxygen atom or a sulfur atom. ZB 1 represents an oxygen atom or a sulfur atom. In formula (IX), QB 2 , ZB 3 and ZB
Each of 4 independently represents an oxygen atom or a sulfur atom.
【0178】好ましくは、RB は置換されてもよい炭
素数1〜4のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基)又は−ZB 2 −RB ′(
ここでZB 2 は酸素原子又はイオウ原子を表わす。Preferably, RB is an optionally substituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group,
propyl group, butyl group) or -ZB2-RB'(
Here, ZB 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom.
【0179】RB ′は、RB と同一の内容を表わす
。QB 1 、QB 2 、ZB 1 、ZB 3 、
ZB 4 は各々独立に酸素原子又はイオウ原子を表わ
す。RB' represents the same content as RB. QB 1 , QB 2 , ZB 1 , ZB 3 ,
Each ZB 4 independently represents an oxygen atom or a sulfur atom.
【0180】以上の如き分解により式(C−VIII)
又は(C−IX)で示されるホスホ基を生成する官能基
としては、一般式(X)及び/又は(XI)で示される
官能基が挙げられる。By the above decomposition, formula (C-VIII) is obtained.
Examples of the functional group that generates a phospho group represented by (C-IX) include functional groups represented by general formulas (X) and/or (XI).
【0181】[0181]
【化63】[C63]
【0182】式(C−X)及び(C−XI)において、
QB 1 、QB 2 、ZB 1 、ZB 3 、Z
B 4 及びRB はそれぞれ式(C−VIII)及び
(C−IX)で定義した通りの内容を表わす。In formulas (C-X) and (C-XI),
QB 1 , QB 2 , ZB 1 , ZB 3 , Z
B 4 and RB represent the contents as defined in formulas (C-VIII) and (C-IX), respectively.
【0183】LB 1 、LB 2 及びLB 3 は
互いに独立にそれぞれ−〔C(RB 1 )(RB 2
)〕n −XB 1 、LB 1 , LB 2 and LB 3 are each independently -[C(RB 1 )(RB 2
)]n −XB 1 ,
【0184】[0184]
【化64】[C64]
【0185】−Si(RB 3 )(RB 4 )(R
B 5 )、−CO−RB 6 、−CS−RB 7
、−CO−O−RB 8 、−CS−O−RB 9 、
−S−RB 10、-Si(RB 3 )(RB 4 )(R
B5), -CO-RB6, -CS-RB7
, -CO-O-RB8, -CS-O-RB9,
-S-RB 10,
【0186】[0186]
【化65】
を表わす。LB 1 〜LB 3 が−〔C(RB 1
)(RB 2 )〕n −XB 1 又はRepresents [Chemical 65]. LB 1 to LB 3 are −[C(RB 1
)(RB2)]n-XB1 or
【0187
】0187
]
【化66】[C66]
【0188】を表わす場合において、RB 1 、RB
2 は互いに同じでも異なってもよく、水素原子、ハ
ロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子等
)又はメチル基を表わす。XB 1 及びXB 2 は
電子吸引性基(ここで、電子吸引性基とは、ハメットの
置換基定数が正値を示す置換基であり、例えばハロゲン
原子、−COO−、−CO−、−SO2 −、−CN−
、−NO2 等が挙げられる)を表し、好ましくはハロ
ゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子等)
、−CN−、−CONH2 、−NO2 又は−SO2
RB ″(RB ″はメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘキシル基、ベンジル基、フェニル基、
トリル基、キシリル基、メシチル基等の如き炭化水素基
を表す)を表す。nは1又は2を表わす。更に、XB
1 がメチル基の場合には、RB 1 及びRB 2
がメチル基でn=1を表わす。In the case where RB 1 , RB
2 may be the same or different and represent a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom, etc.) or a methyl group. XB 1 and XB 2 are electron-withdrawing groups (here, the electron-withdrawing group is a substituent whose Hammett's substituent constant shows a positive value, such as a halogen atom, -COO-, -CO-, -SO2 -, -CN-
, -NO2, etc.), preferably a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom, etc.)
, -CN-, -CONH2, -NO2 or -SO2
RB''(RB'' is a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, a benzyl group, a phenyl group,
represents a hydrocarbon group such as tolyl group, xylyl group, mesityl group, etc. n represents 1 or 2. Furthermore, XB
When 1 is a methyl group, RB 1 and RB 2
represents a methyl group and n=1.
【0189】LB 1 〜LB 3 が−Si(RB
3 )(RB 4 )(RB 5 )を表わす場合にお
いて、RB 3 、RB 4 及びRB 5 は互いに
同じでも異なっていてもよく、好ましくは水素原子、置
換されてもよい炭素数1〜18の直鎖状又は分岐状アル
キル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基
、オクタデシル基、クロロエチル基、メトキシエチル基
、メトキシプロピル基等)、置換されてもよい脂環式基
(例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、置
換されてもよい炭素数7〜12のアラルキル基(例えば
ベンジル基、フェネチル基、クロロベンジル基、メトキ
シベンジル基等)、置換されてもよい芳香族基(例えば
フェニル基、ナフチル基、クロロフェニル基、トリル基
、メトキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基
、ジクロロフェニル基等)又は−O−RB ’’’ (
RB ’’’ は炭化水素基を表わし、具体的には、上
記RB 3 、RB 4 、RB 5 の置換基類を例
として挙げることができる)を表わす。LB 1 to LB 3 are -Si(RB
3) (RB 4 )(RB 5 ), RB 3 , RB 4 and RB 5 may be the same or different, preferably a hydrogen atom, an optionally substituted straight atom having 1 to 18 carbon atoms; Chain or branched alkyl group (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, octadecyl group, chloroethyl group, methoxyethyl group, methoxypropyl group, etc.), substitution alicyclic groups that may be substituted (e.g., cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), aralkyl groups having 7 to 12 carbon atoms that may be substituted (e.g., benzyl group, phenethyl group, chlorobenzyl group, methoxybenzyl group, etc.), substituted aromatic groups (e.g. phenyl group, naphthyl group, chlorophenyl group, tolyl group, methoxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, dichlorophenyl group, etc.) or -O-RB''' (
RB'' represents a hydrocarbon group, and specifically represents the substituents of RB 3 , RB 4 and RB 5 described above.
【0190】LB 1 〜LB 3 が−CO−RB
6 、−CS−RB 7 、−CO−O−RB 8 、
−CS−O−RB 9 、又は−S−RB 10を表わ
す場合において、RB 6 、RB 7 、RB 8
、RB 9 及びRB 10は各々独立に炭化水素基を
表わす。好ましくは置換されていてもよい炭素数1〜6
の直鎖状又は分岐状アルキル基(例えばメチル基、トリ
クロロメチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチ
ル基、フェノキシメチル基、2,2,2−トリフルオロ
エチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、t−ブ
チル基、ヘキサフルオロ−i−プロピル基等)、置換さ
れてもよい炭素数7〜9のアラルキル基(例えばベンジ
ル基、フェネチル基、メチルベンジル基、トリメチルベ
ンジル基、ヘプタメチルベンジル基、メトキシベンジル
基等)、置換されてもよい炭素数6〜12のアリール基
(例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ニトロフ
ェニル基、シアノフェニル基、メタンスルホニルフェニ
ル基、メトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、クロ
ロフェニル基、ジクロロフェニル基、トリフルオロメチ
ルフェニル基等)を表わす。LB 1 to LB 3 are -CO-RB
6, -CS-RB7, -CO-O-RB8,
When representing -CS-O-RB9 or -S-RB10, RB6, RB7, RB8
, RB 9 and RB 10 each independently represent a hydrocarbon group. Preferably an optionally substituted carbon number of 1 to 6
linear or branched alkyl groups (e.g. methyl group, trichloromethyl group, trifluoromethyl group, methoxymethyl group, phenoxymethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, ethyl group, propyl group, hexyl group) , t-butyl group, hexafluoro-i-propyl group, etc.), optionally substituted aralkyl groups having 7 to 9 carbon atoms (e.g. benzyl group, phenethyl group, methylbenzyl group, trimethylbenzyl group, heptamethylbenzyl group, methoxybenzyl group, etc.), an optionally substituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms (e.g. phenyl group, tolyl group, xylyl group, nitrophenyl group, cyanophenyl group, methanesulfonylphenyl group, methoxyphenyl group, butoxyphenyl group) , chlorophenyl group, dichlorophenyl group, trifluoromethylphenyl group, etc.).
【0191】更にLB 1 〜LB 3 が[0191] Furthermore, LB 1 to LB 3
【0192
】0192
]
【化67】[C67]
【0193】を表わす場合において、YB 1 及びY
B2 は酸素原子又はイオウ原子を表わす。本発明に用
いられる官能基を少なくとも1種含有する単量体(C)
は、従来公知の方法に従がい、保護基を導入することで
合成することができる。保護基を導入する方法としては
、同様の合成反応を用いることができる。具体的には、
J.F.W.McOmie「Protective
groups in Organic Chem
istry」第6章(Plenum Press,1
973年刊)に記載の方法、あるいは日本化学会編「新
実験化学講座第14巻、有機化合物の合成と反応〔V〕
」第2497頁(丸善株式会社刊、1978年)等に記
載のヒドロキシル基への保護基導入の方法と同様の合成
反応、あるいはS.Patai「The Chemi
stry of the Triol Gro
upPart 2」第13章、第14章(Wiley
−Interscience1974年刊)、T.W.
Greene「Protective groups
in Organic Synthesis」第6
章(Wiley−Interscience 198
1年刊)等に記載のチオール基への保護基導入の方法と
同様の合成反応により製造できる。In the case where YB 1 and Y
B2 represents an oxygen atom or a sulfur atom. Monomer (C) containing at least one functional group used in the present invention
can be synthesized by introducing a protecting group according to a conventionally known method. A similar synthetic reaction can be used to introduce the protecting group. in particular,
J. F. W. McOmie “Protective
groups in Organic Chem
istry” Chapter 6 (Plenum Press, 1
973) or the method described in "New Experimental Chemistry Course Volume 14, Synthesis and Reactions of Organic Compounds [V]" edited by the Chemical Society of Japan.
”, page 2497 (published by Maruzen Co., Ltd., 1978), etc., a synthetic reaction similar to the method for introducing a protecting group into a hydroxyl group, or a method of introducing a protecting group into a hydroxyl group, or a method of introducing a protecting group into a hydroxyl group, or a method of introducing a protecting group into a hydroxyl group, as described in S. Patai “The Chemi”
Try of the Triol Gro
upPart 2” Chapters 13 and 14 (Wiley
-Interscience (published in 1974), T. W.
Greene “Protective groups
in Organic Synthesis” No. 6
Chapter (Wiley-Interscience 198
It can be produced by a synthetic reaction similar to the method for introducing a protecting group into a thiol group as described in 1999).
【0194】保護基に用いられる一般式(C−X)及び
/又は(C−XI)の官能基を含有する重合成分の繰り
返し単位となり得る具体的な化合物例として以下の様な
例を挙げることができる。[0194] The following examples are given as specific examples of compounds that can serve as repeating units of polymeric components containing functional groups of the general formula (C-X) and/or (C-XI) used as protective groups. Can be done.
【0195】[0195]
【化68】[C68]
【0196】[0196]
【化69】[C69]
【0197】[0197]
【化70】[C70]
【0198】[0198]
【化71】[C71]
【0199】次に、分解によりアミノ基、例えば−NH
2 基及び/又は−NHRc 基を生成する官能基とし
ては、例えば下記一般式(C−XII)〜(C−XIV
)で表わされる基を挙げることができる。Next, amino groups, such as -NH
Examples of functional groups that generate 2 groups and/or -NHRc groups include the following general formulas (C-XII) to (C-XIV
) can be mentioned.
【0200】[0200]
【化72】[C72]
【0201】式(C−XII)及び式(C−XIV)中
、Rc 0 は各々水素原子、炭素数1〜12の置換さ
れてもよいアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル
基、ドデシル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチ
ル基、3−クロロプロピル基、2−シアノエチル基、2
−メトキシエチル基、2−エトキシエチル基、2−メト
キシカルボニルエチル基、3−メトキシプロピル基、6
−クロロヘキシル基等)、炭素数5〜8の脂環式基(例
えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、炭素数
7〜12の置換されてもよいアラルキル基(例えばベン
ジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、1−
フェニルプロピル基、クロロベンジル基、メトキシベン
ジル基、ブロモベンジル基、メチルベンジル基等)、炭
素数6〜12の置換されてもよいアリール基(例えばフ
ェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ト
リル基、キシリル基、メシチル基、クロロメチル基、ク
ロロフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニ
ル基、クロロメトキシフェニル基等)等を表わす。In formula (C-XII) and formula (C-XIV), Rc 0 is a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group). group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 3-chloropropyl group, 2-cyanoethyl group, 2
-methoxyethyl group, 2-ethoxyethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 3-methoxypropyl group, 6
-chlorohexyl group, etc.), alicyclic groups having 5 to 8 carbon atoms (e.g. cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), optionally substituted aralkyl groups having 7 to 12 carbon atoms (e.g. benzyl group, phenethyl group, 3- Phenylpropyl group, 1-
phenylpropyl group, chlorobenzyl group, methoxybenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, etc.), optionally substituted aryl groups having 6 to 12 carbon atoms (e.g. phenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, tolyl group, xylyl group) group, mesityl group, chloromethyl group, chlorophenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, chloromethoxyphenyl group, etc.).
【0202】好ましくはRc 0 が該炭化水素基を表
わす場合は、炭素数1〜8の炭化水素基類が挙げられる
。式(C−XII)で表わされる官能基において、Rc
1 は炭素数2〜12の置換されてもよい脂肪族基を
表わし、更に具体的にはRc 1 は下記式(C−XV
)で示される基を表わす。Preferably, when Rc 0 represents the hydrocarbon group, hydrocarbon groups having 1 to 8 carbon atoms are mentioned. In the functional group represented by formula (C-XII), Rc
1 represents an optionally substituted aliphatic group having 2 to 12 carbon atoms, and more specifically Rc 1 represents the following formula (C-XV
) represents a group represented by
【0203】[0203]
【化73】[C73]
【0204】式(C−XV)中、A1 ,A2 は各々
水素原子、ハロゲン原子(例えば弗素原子、塩素原子等
)又は炭素数1〜12の置換されてもよい炭化水素基(
例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘ
キシル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、2−
メトキシエチル基、2−クロロエチル基、3−ブロモプ
ロピル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、クロロベン
ジル基、メトキシベンジル基、メチルベンジル基、フェ
ネチル基、3−フェニルプロピル基、フェニル基、トリ
ル基、キシリル基、メシチル基、クロロフェニル基、メ
トキシフェニル基、ジクロロフェニル基、クロロメチル
フェニル基、ナフチル基等)を表わし、Yc は水素原
子、ハロゲン原子(例えば弗素原子、塩素原子等)、シ
アノ基、炭素数1〜4のアルキル基(例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基等)、置換基を含有し
てもよい芳香族基(例えばフェニル基、トリル基、シア
ノフェニル基、2,6−ジメチルフェニル基、2,4,
6−トリメチルフェニル基、ヘプタメチルフェニル基、
2,6−ジメトキシフェニル基、2,4,6−トリメト
キシフェニル基、2−プロピルフェニル基、2−ブチル
フェニル基、2−クロロ−6−メチルフェニル基、フラ
ニル基等)又は−SO2 −Rc 6 (Rc 6 は
Yc の炭化水素基と同様の内容を表わす)等を表わす
。nは1又は2を表わす。In formula (C-XV), A1 and A2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, etc.), or an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms (
For example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, methoxymethyl group, ethoxymethyl group, 2-
Methoxyethyl group, 2-chloroethyl group, 3-bromopropyl group, cyclohexyl group, benzyl group, chlorobenzyl group, methoxybenzyl group, methylbenzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, phenyl group, tolyl group, xylyl group , mesityl group, chlorophenyl group, methoxyphenyl group, dichlorophenyl group, chloromethylphenyl group, naphthyl group, etc.), and Yc represents a hydrogen atom, a halogen atom (e.g., a fluorine atom, a chlorine atom, etc.), a cyano group, or a group having 1 to 1 carbon atoms. 4 alkyl group (e.g. methyl group,
ethyl group, propyl group, butyl group), aromatic groups that may contain substituents (e.g. phenyl group, tolyl group, cyanophenyl group, 2,6-dimethylphenyl group, 2,4,
6-trimethylphenyl group, heptamethylphenyl group,
2,6-dimethoxyphenyl group, 2,4,6-trimethoxyphenyl group, 2-propylphenyl group, 2-butylphenyl group, 2-chloro-6-methylphenyl group, furanyl group, etc.) or -SO2 -Rc 6 (Rc 6 represents the same content as the hydrocarbon group of Yc), etc. n represents 1 or 2.
【0205】より好ましくは、Yc が水素原子又はア
ルキル基の場合には、ウレタン結合の酸素原子に隣接す
る炭素上のa1 及びa2 は水素原子以外の置換基を
表わす。Yc が水素原子又はアルキル基でない場合に
は、A1 及びA2 は上記内容のいずれの基でもよい
。More preferably, when Yc is a hydrogen atom or an alkyl group, a1 and a2 on the carbon adjacent to the oxygen atom of the urethane bond represent a substituent other than a hydrogen atom. When Yc is not a hydrogen atom or an alkyl group, A1 and A2 may be any of the groups listed above.
【0206】即ち、−〔C(A1 )(A2 )〕n
−Yc において、少なくとも1つ以上の電子吸引性基
を含有する基を形成する場合あるいはウレタン結合の酸
素原子に隣接する炭素が立体的にかさ高い基を形成する
場合が好ましい例であることを示すものである。That is, −[C(A1)(A2)]n
In -Yc, preferred examples include the case where a group containing at least one electron-withdrawing group is formed or the case where the carbon adjacent to the oxygen atom of the urethane bond forms a sterically bulky group. It is something.
【0207】又、Rc 1 は脂環式基{例えば単環式
炭化水素基(シクロプロピル基、シクロブチル基、シク
ロペンチル基、シクロヘキシル基、1−メチル−シクロ
ヘキシル基、1−メチルシクロブチル基等)又は架橋環
式炭化水素基(ビシクロオクタン基、ビシクロオクテン
基、ビシクロノナン基、トリシクロヘプタン基等)等}
を表わす。Rc 1 is an alicyclic group {for example, a monocyclic hydrocarbon group (cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, 1-methyl-cyclohexyl group, 1-methylcyclobutyl group, etc.) or Crosslinked cyclic hydrocarbon groups (bicyclooctane group, bicyclooctene group, bicyclononane group, tricycloheptane group, etc.)}
represents.
【0208】一般式(C−XIII)において、Rc
2 及びRc 3 は同じでも異なっていてもよく、各
々炭素数1〜12の炭化水素基を表わし、具体的には、
式(C−XII)のYc における脂肪族基又は芳香族
基と同様の内容を表わす。In the general formula (C-XIII), Rc
2 and Rc 3 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, specifically,
It represents the same content as the aliphatic group or aromatic group in Yc of formula (C-XII).
【0209】一般式(C−XIV)において、Xc 1
及びXc 2 は同じでも異なっていてもよく、各々
酸素原子又はイオウ原子を表わす。Rc 4 、Rc
5 は同じでも異なっていてもよく、各々炭素数1〜8
の炭化水素基を表わし、具体的には式(C−XII)の
Yc における脂肪族基又は芳香族基を表わす。In the general formula (C-XIV), Xc 1
and Xc 2 may be the same or different and each represents an oxygen atom or a sulfur atom. Rc4, Rc
5 may be the same or different, each having 1 to 8 carbon atoms
represents a hydrocarbon group, specifically represents an aliphatic group or an aromatic group in Yc of formula (C-XII).
【0210】式(C−XII)〜(C−XIV)の官能
基の具体例を以下に示す。Specific examples of the functional groups of formulas (C-XII) to (C-XIV) are shown below.
【0211】[0211]
【化74】[C74]
【0212】[0212]
【化75】[C75]
【0213】[0213]
【化76】[C76]
【0214】[0214]
【化77】[C77]
【0215】[0215]
【化78】[C78]
【0216】本発明に用いられる分解によりアミノ基(
例えば−NH2基及び/又は−NHR基)を生成する官
能基、例えば上記一般式(C−XII)〜(C−XIV
)の群から選択される官能基を少なくとも1種含有する
単量体(C)は、例えば日本化学編「新実験化学講座第
14巻、有機化合物の合成と反応〔V〕」第2555頁
(丸善株式会社刊)、J.F.W.McOmie P
rotective groups in Or
ganic Chemistry」第2章(Plen
um Press 1973年刊)、「Prote
ctive groups in Organi
c Sinthesis」第7章(John Wi
ley &Sons、1981年刊)等に記載の方法
によって製造することができる。The amino group (
For example, a functional group that generates -NH2 group and/or -NHR group), for example, the above general formulas (C-XII) to (C-XIV
The monomer (C) containing at least one functional group selected from the group of Published by Maruzen Co., Ltd.), J. F. W. McOmie P
protective groups in or
ganic Chemistry” Chapter 2 (Plen
um Press 1973), “Prote
active groups in Organi
c Synthesis Chapter 7 (John Wi.
ley & Sons, 1981).
【0217】更に又、分解により少なくとも1つのスル
ホ基を生成する官能基としては、例えば一般式(C−X
VI)又は(C−XVII)で表わされる官能基が挙げ
られる。Furthermore, examples of the functional group that generates at least one sulfo group upon decomposition include the general formula (C-X
VI) or (C-XVII).
【0218】
一般式(C−XVI) −SO2 −O
−RD 1 一般式(C−XVII) −S
O2 −S−RD 2 式(C−XVI)中RD 1
は−〔C(RD 3 )(RD 4 )〕n −YD
、General formula (C-XVI) -SO2 -O
-RD 1 General formula (C-XVII) -S
O2 -S-RD 2 RD 1 in formula (C-XVI)
is-[C(RD3)(RD4)]n-YD
,
【0219】[0219]
【化79】[C79]
【0220】又は−NHCORD 7 を表わす。式(
C−XVII)中、RD 2 は、炭素数1〜18の置
換されてもよい脂肪族基、又は炭素数6〜22の置換基
を有してもよいアリール基を表わす。or represents -NHCORD 7 . formula(
In C-XVII), RD 2 represents an optionally substituted aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms or an aryl group having 6 to 22 carbon atoms which may have a substituent.
【0221】上記一般式(C−XVI)、(C−XVI
I)の官能基は分解によって、スルホ基を生成するもの
であり、以下に更に詳しく説明する。RD 1 が−〔
C(RD 3 )(RD 4 )−YD を表わす場合
において、RD 3 、RD 4 は同じでも異なって
もよく、水素原子、ハロゲン原子(例えば弗素原子、塩
素原子、臭素原子等)又は炭素数1〜6のアルキル基(
例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペ
ンチル基、ヘキシル基)を表わす。YD は炭素数1〜
18の置換されてもよいアルキル基(例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシ
ル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシ
ル基、トリフロロメチル基、メタンスルホニルメチル基
、シアノメチル基、2−メトキシエチル基、エトキシメ
チル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロ
ロメチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−プ
ロポキシカルボニルエチル基、メチルチオメチル基、エ
チルチオメチル基等)、炭素数2〜18の置換されても
よいアルケニル基(例えばビニル基、アリル基等)、炭
素数6〜12の置換基を含有してもよいアリール基(例
えばフェニル基、ナフチル基、ニトロフェニル基、ジニ
トロフェニル基、シアノフェニル基、トリフロロメチル
フェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、ブトキシ
カルボニルフェニル基、メタンスルホニルフェニル基、
ベンゼンスルホニルフェニル基、トリル基、キシリル基
、アセトキシフェニル基、ニトロナフチル基等)又は−
CO−RD 8 (RD 8 は脂肪族基又は芳香族基
を表わし、具体的には上記YD の置換基の内容と同一
のものを表わす)を表わす。
nは0、1又は2を表わす。より好ましくは、置換基:
−〔C(RD 3 )(RD 4 )〕n −YD に
おいて、少なくとも1つの電子吸引性基を含有する官能
基が挙げられる。具体的には、nが0で、YD が置換
基として電子吸引性基を含有しない炭化水素基の場合、
−〔C(RD 3 )(RD 4 )〕n −において
、少なくとも1ケ以上のハロゲン原子を含有する。又n
が0、1又は2で、YD が電子吸引性基を少なくとも
1つ含有する。更には、n=1又は2で、−CO−RD
8 や−〔C(RD 3 )(RD 4 )〕−CO
−RD 8 等が挙げられる。[0221] The above general formula (C-XVI), (C-XVI
The functional group I) generates a sulfo group upon decomposition, and will be explained in more detail below. RD 1 is - [
When representing C(RD3)(RD4)-YD, RD3 and RD4 may be the same or different, and each has a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), or a carbon number of 1 ~6 alkyl groups (
For example, it represents a methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group). YD has 1 or more carbon atoms
18 optionally substituted alkyl groups (e.g. methyl group,
Ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, trifluoromethyl group, methanesulfonylmethyl group, cyanomethyl group, 2-methoxyethyl group, ethoxymethyl group, chloromethyl group, dichloromethyl group, trichloromethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-propoxycarbonylethyl group, methylthiomethyl group, ethylthiomethyl group, etc.), optionally substituted alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms (e.g. vinyl group, allyl group, etc.), aryl group which may contain a substituent having 6 to 12 carbon atoms (e.g. phenyl group, naphthyl group, nitrophenyl group, dinitrophenyl group, cyanophenyl group, trifluoromethylphenyl group) group, methoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, methanesulfonylphenyl group,
benzenesulfonylphenyl group, tolyl group, xylyl group, acetoxyphenyl group, nitronaphthyl group, etc.) or -
CO-RD 8 (RD 8 represents an aliphatic group or an aromatic group, and specifically represents the same substituent as the above YD). n represents 0, 1 or 2. More preferably, substituents:
-[C(RD3)(RD4)]n-YD includes a functional group containing at least one electron-withdrawing group. Specifically, when n is 0 and YD is a hydrocarbon group that does not contain an electron-withdrawing group as a substituent,
-[C(RD3)(RD4)]n- contains at least one halogen atom. Also n
is 0, 1 or 2, and YD contains at least one electron-withdrawing group. Furthermore, when n=1 or 2, -CO-RD
8 Ya-[C(RD3)(RD4)]-CO
-RD 8 and the like.
【0222】もう1つの好ましい置換基として、−SO
2 −O−RD において酸素原子に隣接する炭素原子
に少なくとも2つの炭化水素基が置換するかあるいは、
n=0又は1で、YD がアリール基の場合に、アリー
ル基の2−位及び6−位に置換基を有する場合が挙げら
れる。Another preferred substituent is -SO
At least two hydrocarbon groups are substituted on the carbon atom adjacent to the oxygen atom in 2-O-RD, or
When n=0 or 1 and YD is an aryl group, examples include cases where the aryl group has substituents at the 2-position and the 6-position.
【0223】RD 1 が[0223] RD 1 is
【0224】[0224]
【化80】[C80]
【0225】を表わす場合において、ZD は、環状イ
ミド基を形成する有機残基を表わす。好ましくは、一般
式(C−XVIII)又は(C−XIX)で示される有
機残基を表わす。In the case where ZD represents an organic residue forming a cyclic imide group. Preferably, it represents an organic residue represented by the general formula (C-XVIII) or (C-XIX).
【0226】[0226]
【化81】[Chemical formula 81]
【0227】式(C−XVIII)中、RD 9 、R
D 10は各々同じでも異なってもよく、各々水素原子
、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子等)、炭素
数1〜18の置換されてもよいアルキル基(例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、
オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、
オクタデシル基、2−クロロエチル基、2−メトキシエ
チル基、2−シアノエチル基、3−クロロプロピル基、
2−(メタンスルホニル)エチル基、2−(エトキシオ
キシ)エチル基等)、炭素数7〜12の置換されてもよ
いアラルキル基(例えばベンジル基、フェネチル基、3
−フェニルプロピル基、メチルベンジル基、ジメチルベ
ンジル基、メトキシベンジル基、クロロベンジル基、ブ
ロモベンジル基等)、炭素数3〜18の置換されてもよ
いアルケニル基(例えばアリル基、3−メチル−2−プ
ロペニル基等)、RD 1 が−N=C(RD 5 )
(RD 6 )を表わす場合において、RD 5 、R
D 6 は各々水素原子、脂肪族基(具体的にはRD
3 、RD 4 のそれと同一の内容を表わす)又はア
リール基(具体的にはRD 3 、RD 4 のそれと
同一の内容を表わす)を表わす。但し、RD 5 及び
RD 6 がともに水素原子を表わすことはない。In formula (C-XVIII), RD 9 , R
D10 may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, a halogen atom (e.g. chlorine atom, bromine atom, etc.), an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group). , butyl group, hexyl group,
Octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group,
Octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-cyanoethyl group, 3-chloropropyl group,
2-(methanesulfonyl)ethyl group, 2-(ethoxyoxy)ethyl group, etc.), an optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (e.g. benzyl group, phenethyl group, 3
-phenylpropyl group, methylbenzyl group, dimethylbenzyl group, methoxybenzyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, etc.), optionally substituted alkenyl groups having 3 to 18 carbon atoms (e.g. allyl group, 3-methyl-2 -propenyl group, etc.), RD 1 is -N=C (RD 5 )
(RD 6 ), RD 5 , R
D 6 is a hydrogen atom, an aliphatic group (specifically RD
3 , RD 4 ) or an aryl group (specifically, RD 3 , RD 4 ). However, both RD 5 and RD 6 do not represent hydrogen atoms.
【0228】RD 1 が−NHCORD 7 を表わ
す場合において、RD 7 は脂肪族基又はアリール基
を表わし、具体的にはRD 3 、RD 4 のそれと
同一の内容を各々表わす。式(C−XVII)中、RD
2 は炭素数1〜18の置換されてもよい脂肪族基又
は炭素数6〜22の置換基を有してもよいアリール基を
表わす。When RD 1 represents -NHCORD 7 , RD 7 represents an aliphatic group or an aryl group, and specifically represents the same content as that of RD 3 and RD 4 . In formula (C-XVII), RD
2 represents an optionally substituted aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms or an aryl group having 6 to 22 carbon atoms which may have a substituent.
【0229】更に具体的には前記した式(C−XVI)
で表わされるYDにおける脂肪族基又はアリール基と同
様の内容を表わす。本発明に用いられる一般式〔−SO
2 −O−RD 1 〕又は〔−SO2 −O−RD
2 〕群から選択される官能基を少なくとも1種含有す
る単量体(C)は、従来公知の有機反応の知見に基づい
て合成する事ができる。More specifically, the above formula (C-XVI)
It represents the same content as the aliphatic group or aryl group in YD represented by. General formula used in the present invention [-SO
2 -O-RD 1 ] or [-SO2 -O-RD
Monomer (C) containing at least one functional group selected from group 2] can be synthesized based on knowledge of conventionally known organic reactions.
【0230】例えば、J.F.W.McOmie,「P
rotective groupsin Orga
nic Chemistry」;Prenum P
ress(1973年刊)、T.W.Greene,「
Protective groupsin Org
anic Synthesis」 John W
iley & Sons(1980年刊)等のカル
ボキシル基の保護反応と同様にして合成できる。For example, J. F. W. McOmie, “P.
protective groupsin Orga
nic Chemistry”; Prenum P
ress (published in 1973), T. W. Greene, “
Protective groupsin Org
anic Synthesis” John W.
It can be synthesized in the same manner as the carboxyl group protection reaction of Iley & Sons (published in 1980).
【0231】更に具体的に一般式(C−XVI)−SO
2 −O−RD 1 又は一般式(C−XVII)−S
O2 −O−RD 2 の官能基として以下の様な例を
挙げることができるが、本発明の範囲はこれらに限定さ
れるものではない。More specifically, general formula (C-XVI)-SO
2 -O-RD 1 or general formula (C-XVII)-S
The following examples can be given as the functional group of O2-O-RD2, but the scope of the present invention is not limited thereto.
【0232】[0232]
【化82】[C82]
【0233】[0233]
【化83】[Chemical formula 83]
【0234】[0234]
【化84】[Chemical formula 84]
【0235】[0235]
【化85】[Chemical formula 85]
【0236】[0236]
【化86】[C86]
【0237】本発明の樹脂粒子〔L〕は、単量体〔C〕
とともに他の単量体を共存下に重合されてもよい。他の
単量体は、単量体〔C〕と共重合しうること及び共重合
体が該非水溶媒に不溶性重合体となるものであればいず
れでもよい。[0237] The resin particles [L] of the present invention are monomers [C]
It may also be polymerized in the coexistence of other monomers. Any other monomer may be used as long as it can be copolymerized with monomer [C] and the copolymer becomes a polymer insoluble in the non-aqueous solvent.
【0238】これらの単量体と共重合しうる他の単量体
としては、例えば酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪
酸ビニル、酢酸アリル、プロピオン酸アリル等の如き脂
肪族カルボン酸ビニルあるいはアリルエステル類、アク
リル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレ
イン酸、フマール酸等の如き不飽和カルボン酸のエステ
ル類又はアミド類、スチレン、ビニルトルエン、α−メ
チルスチレンの如きスチレン誘導体、α−オレフィン類
、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、N−ビニル
ピロリドンの如きビニル基置換のヘテロ環化合物等が挙
げられる。Other monomers that can be copolymerized with these monomers include vinyl aliphatic carboxylates or allyl esters such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, allyl acetate, allyl propionate, etc. , esters or amides of unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, etc., styrene derivatives such as styrene, vinyltoluene, α-methylstyrene, α-olefins , acrylonitrile, methacrylonitrile, and vinyl group-substituted heterocyclic compounds such as N-vinylpyrrolidone.
【0239】これら他の単量体は、不溶化する全重合体
成分100重量部中60重量部以下であり、好ましくは
50重量部以下である。他の単量体が60重量部を越え
ると、オフセット印刷用原版としての保水性向上効果が
低下する。The amount of these other monomers is 60 parts by weight or less, preferably 50 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the total polymer components to be insolubilized. When the amount of other monomers exceeds 60 parts by weight, the effect of improving water retention as an original plate for offset printing decreases.
【0240】次に本発明の非水溶媒系分散樹脂粒子にお
いて、該非水溶媒系で樹脂粒子を分散安定化する、可溶
性の分散安定用樹脂について説明する。本発明に供せら
れる分散安定用樹脂は、フッ素原子及び/又はケイ素原
子を含有した置換基を重合体中に含有することを特徴と
する。Next, in the non-aqueous solvent-based dispersed resin particles of the present invention, the soluble dispersion-stabilizing resin that stabilizes the dispersion of the resin particles in the non-aqueous solvent will be described. The dispersion stabilizing resin used in the present invention is characterized by containing a substituent containing a fluorine atom and/or a silicon atom in the polymer.
【0241】これらフッ素原子及び/又はケイ素原子を
含有した置換基を有する繰り返し単位について説明する
。繰り返し単位の化学構造としては、ラジカル付加重合
性単量体から得られるもの、ポリエステル構造から成る
ものあるいはポリエーテル構造から成るもの等が挙げら
れ、これら重合体構造の繰り返し単位中の側鎖に、フッ
素原子及び/又はケイ素原子が含有されるものであれば
いずれでもよい。[0241] These repeating units having a substituent containing a fluorine atom and/or a silicon atom will be explained. Examples of the chemical structure of the repeating unit include those obtained from radical addition polymerizable monomers, those consisting of a polyester structure, or those consisting of a polyether structure, and the side chains in the repeating units of these polymer structures, Any material may be used as long as it contains a fluorine atom and/or a silicon atom.
【0242】フッ素原子含有の置換基としては、例えば
−C h F 2h+1(hは1〜12の整数を表わす
)、−(CF 2 ) j CF2 H (jは1〜1
1の整数を表わす)、−C 6 Hl F l’〔(l
、l’は各々1〜5の整数、但し、l+l’=5)又
は(l =5−l’、l’は1〜5の整数)〕等が挙げ
られる。Examples of the fluorine atom-containing substituent include -C h F 2h+1 (h represents an integer of 1 to 12), -(CF 2 ) j CF2 H (j is 1 to 1)
), -C 6 Hl F l' [(l
, l' are each an integer of 1 to 5, provided that l+l'=5) or (l=5-l', l' is an integer of 1 to 5).
【0243】ケイ素原子含有の置換基としては例えば、
−Si(R3 )(R 4 )(R 5 ) 、−(S
i(R 6 )(R 7 )O) k −R8 (kは
1〜20の整数を表わす)、ポリシロキサン構造等が挙
げられる。[0243] Examples of silicon atom-containing substituents include:
-Si(R3)(R4)(R5), -(S
Examples include i(R 6 )(R 7 )O) k −R8 (k represents an integer of 1 to 20), a polysiloxane structure, and the like.
【0244】但し、R 3 , R 4 , R 5
は、同じでも異なってもよく、置換されていてもよい炭
化水素基又は−OR9 基(R 9 は、R 3 の炭
化水素基と同一の内容を表わす)を表わす。[0244] However, R 3 , R 4 , R 5
represent a hydrocarbon group or an -OR9 group (R9 represents the same content as the hydrocarbon group of R3), which may be the same or different and may be substituted.
【0245】R 3 は、炭素数1〜18の置換されて
もよいアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、
ドデシル基、ヘキサデシル基、2−クロロエチル基、2
−ブロモエチル基、2,2,2−トリフロロエチル基、
2−シアノエチル基、3,3,3−トリフロロプロピル
基、2−メトキシエチル基、3−ブロモプロピル基、2
−メトキシカルボニルエチル基、2,2,2,2′,2
′,2′−ヘキサフロロイソプロピル基、等)、炭素数
4〜18の置換されてもよいアルケニル基(例えば、2
−メチル−1−プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペ
ンテニル基、3−メチル−2−ペンテニル基、1−ペン
テニル基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4−
メチル−2−ヘキセニル基等)、炭素数7〜12の置換
されていてもよいアラルキル基(例えば、ベンジル基、
フェネチル基、3−フェニルプロピル基、ナフチルメチ
ル基、2−ナフチルエチル基、クロロベンジル基、ブロ
モベンジル基、メチルベンジル基、エチルベンジル基、
メトキシベンジル基、ジメチルベンジル基、ジメトキシ
ベンジル基等)、炭素数5〜8の置換されていてもよい
脂環式基(例えば、シクロヘキシル基、2−シクロヘキ
シル基、2−シクロペンチルエチル基等)又は炭素数6
〜12の置換されていてもよい芳香族基(例えば、フェ
ニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、プロピル
フェニル基、ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、
ドデシルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフ
ェニル基、ブトキシフェニル基、デシルオキシフェニル
基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフ
ェニル基、シアノフェニル基、アセチルフェニル基、メ
トキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェ
ニル基、ブトキシカルボニルフェニル基、アセトアミド
フェニル基、プロピルアミドフェニル基、ドデシロイル
アミドフェニル基等)があげられる。R 3 is an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group,
Dodecyl group, hexadecyl group, 2-chloroethyl group, 2
-bromoethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group,
2-cyanoethyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, 2-methoxyethyl group, 3-bromopropyl group, 2
-methoxycarbonylethyl group, 2,2,2,2',2
',2'-hexafluoroisopropyl group, etc.), an optionally substituted alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms (for example, 2
-Methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-
methyl-2-hexenyl group, etc.), an optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (e.g., benzyl group,
phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group,
methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.), an optionally substituted alicyclic group having 5 to 8 carbon atoms (e.g., cyclohexyl group, 2-cyclohexyl group, 2-cyclopentylethyl group, etc.), or carbon Number 6
~12 optionally substituted aromatic groups (e.g., phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, propylphenyl group, butylphenyl group, octylphenyl group,
Dodecylphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, butoxy (carbonylphenyl group, acetamidophenyl group, propylamidophenyl group, dodecoylamidophenyl group, etc.).
【0246】−OR9 基において、R 9 は、上記
R 3 の炭化水素基と同一の内容を表わす。R 6
, R 7 , R 8 は同じでも異なってもよく、
R 3 , R 4, R 5 と同一の記号の内容を
表わす。In the -OR9 group, R 9 represents the same content as the hydrocarbon group of R 3 above. R 6
, R 7 , R 8 may be the same or different,
Represents the same symbol content as R 3 , R 4 , R 5 .
【0247】次に、以上の様なフッ素原子及び/又はケ
イ素原子を含有した置換基を有する繰り返し単位の具体
例を以下に示す。ここで、aはH又はCH3を示し、R
fは−CH 2 C h C 2h+1 −(CH 2
) 2 −(CF2 ) j CF2 H を示し、
R 1 ′, R 2 ′, R 3 ′はC 1 〜
12のアルキル基を示し、R″は−Si(CH3 )
3 を示し、hは1〜12の整数を示し、jは1〜11
の整数を示し、pは1〜3の整数を示し、lは1〜5の
整数を示し、qは1〜20の整数を示し、rは30〜1
50の整数を示し、およびtは2〜12の整数を示す。
しかし、本発明の範囲がこれらに限定されるものではな
い。[0247] Next, specific examples of the repeating unit having a substituent containing a fluorine atom and/or a silicon atom as described above are shown below. Here, a represents H or CH3, and R
f is −CH 2 Ch C 2h+1 −(CH 2
) 2 −(CF2 ) j CF2 H ,
R 1 ′, R 2 ′, R 3 ′ are C 1 -
12 alkyl group, R'' is -Si(CH3)
3, h is an integer from 1 to 12, and j is from 1 to 11.
p represents an integer of 1 to 3, l represents an integer of 1 to 5, q represents an integer of 1 to 20, r represents an integer of 30 to 1
represents an integer of 50, and t represents an integer of 2 to 12. However, the scope of the present invention is not limited thereto.
【0248】[0248]
【化87】[Chemical formula 87]
【0249】[0249]
【化88】[Chemical formula 88]
【0250】0250]
【化89】[Chemical formula 89]
【0251】[0251]
【化90】[C90]
【0252】0252]
【化91】[Chemical formula 91]
【0253】0253]
【化92】[C92]
【0254】0254]
【化93】[C93]
【0255】0255]
【化94】[C94]
【0256】0256]
【化95】[C95]
【0257】0257]
【化96】[C96]
【0258】[0258]
【化97】[C97]
【0259】0259]
【化98】[C98]
【0260】0260]
【化99】[C99]
【0261】[0261]
【化100】[Chemical formula 100]
【0262】0262]
【化101】[Chemical formula 101]
【0263】また、分散安定用樹脂において、フッ素原
子及び/又はケイ素原子含有の成分とともに他の成分を
含有してもよい。他の共重合される成分としては、この
相当する重合体と共重合するものであればいずれでもよ
く、相当する単量体としては、例えばα−オレフィン類
、スチレン類、アクリロニトリル、メタクリロニトリル
、ビニル含有複素環類(複素環としては例えばピラン環
、ピラドリン環、イミダゾール環、ピリジン環等)、ビ
ニル基含有のカルボン酸類及びそのエステル類(例えば
アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、
マレイン酸及びそのエステル等)、ビニル基含有のカル
ボキシアミド類(例えばアクリルアミド、メタクリルア
ミド、クロトン酸アミド、イタコン酸アミド、イタコン
酸半アミド、イタコン酸ジアミド等)等が挙げられる。Further, the dispersion stabilizing resin may contain other components together with the fluorine atom- and/or silicon atom-containing component. Other copolymerized components may be any components that copolymerize with the corresponding polymer, and examples of the corresponding monomers include α-olefins, styrenes, acrylonitrile, methacrylonitrile, Vinyl-containing heterocycles (heterocycles include, for example, pyran ring, pyradoline ring, imidazole ring, pyridine ring, etc.), vinyl group-containing carboxylic acids and their esters (for example, acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, itaconic acid,
(maleic acid and its esters, etc.), vinyl group-containing carboxamides (eg, acrylamide, methacrylamide, crotonic acid amide, itaconic acid amide, itaconic acid half amide, itaconic acid diamide, etc.).
【0264】本発明の分散安定用樹脂において、フッ素
原子及び/又はケイ素原子含有の重合体成分は、該樹脂
の全重合体100重量部中30重量部以上、好ましくは
50重量部以上である。In the dispersion stabilizing resin of the present invention, the fluorine atom and/or silicon atom-containing polymer component is at least 30 parts by weight, preferably at least 50 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total polymer of the resin.
【0265】又、本発明の分散安定用樹脂おいて、光及
び/又は熱硬化性官能基を該樹脂の全重合体100重量
部中30重量部以、好ましくは20重量部以下の範囲で
含有してもよい。含有される光及び/又は熱硬化性官能
基としては、重合性官能基以外のものが挙げられ、具体
的に後述する粒子の架橋構造形成の官能基があげられる
。[0265] Furthermore, the dispersion stabilizing resin of the present invention contains photo- and/or thermosetting functional groups in an amount of 30 parts by weight or more, preferably 20 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the total polymer of the resin. You may. Examples of the photo- and/or thermosetting functional groups contained include those other than polymerizable functional groups, and specific examples include functional groups for forming crosslinked structures of particles, which will be described later.
【0266】更には、本発明の分散安定用樹脂が高分子
鎖中に前記した一般式(II)で示される重合性二重結
合基部分を少なくとも一種含有して成ることが好ましい
。以下に重合性二重結合基成分について以下に説明する
。Furthermore, it is preferable that the dispersion stabilizing resin of the present invention contains at least one polymerizable double bond group moiety represented by the above-mentioned general formula (II) in the polymer chain. The polymerizable double bond group component will be explained below.
【0267】0267]
【化102】[Chemical formula 102]
【0268】一般式(II)において、V 0 は−O
−、−COO −、−OCO −、−CH2 OCO
−、−CH2 COO −、−SO2 −、−CON
R1 −、−SO2 NR1 −又は−C 6 H 4
−を表わす。In the general formula (II), V 0 is -O
-, -COO -, -OCO -, -CH2 OCO
-, -CH2 COO -, -SO2 -, -CON
R1 -, -SO2 NR1 - or -C 6 H 4
- represents.
【0269】ここでR 1 は水素原子のほか、好まし
い炭化水素基としては、炭素数1〜18の置換されても
よいアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基
、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシ
ル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−
シアノエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2
−メトキシエチル基、3−ブロモプロピル基等)、炭素
数4〜18の置換されてもよいアルケニル基(例えば2
−メチル−1−プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペ
ンテニル基、3−メチル−2−ペンテニル基、1−ペン
テニル基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4−
メチル−2−ヘキセニル基、等)、炭素数7〜12の置
換されていてもよいアラルキル基(例えば、ベンジル基
、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、ナフチルメ
チル基、2−ナフチルエチル基、クロロベンジル基、ブ
ロモベンジル基、メチルベンジル基、エチルベンジル基
、メトキシベンジル基、ジメチルベンジル基、ジメトキ
シベンジル基等)、炭素数5〜8の置換されていてもよ
い脂環式基(例えば、シクロヘキシル基、2−シクロヘ
キシルエチル基、2−シクロペンチルエチル基、等)、
又は、炭素数6〜12の置換されていてもよい芳香族基
(例えばフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル
基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、オクチル
フェニル基、ドデシルフェニル基、メトキシフェニル基
、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、デシルオ
キシフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル
基、ブロモフェニル基、シアノフェニル基、アセチルフ
ェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカ
ルボニルフェニル基、ブトキシカルボニルフェニル基、
アセトアミドフェニル基、プロピオアミドフェニル基、
ドデシロイルアミドフェニル基等)が挙げられる。In addition to a hydrogen atom, R 1 is preferably a hydrocarbon group such as an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a heptyl group). , hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-
Cyanoethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2
-methoxyethyl group, 3-bromopropyl group, etc.), optionally substituted alkenyl groups having 4 to 18 carbon atoms (e.g. 2-bromopropyl group, etc.),
-Methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-
methyl-2-hexenyl group, etc.), optionally substituted aralkyl groups having 7 to 12 carbon atoms (e.g., benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chloro benzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.), optionally substituted alicyclic groups having 5 to 8 carbon atoms (for example, cyclohexyl group) , 2-cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, etc.),
Or, an optionally substituted aromatic group having 6 to 12 carbon atoms (e.g., phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, propylphenyl group, butylphenyl group, octylphenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl group) , ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group,
acetamidophenyl group, propioamidophenyl group,
dodecoylamidophenyl group, etc.).
【0270】V0 が−C 6 H 4 −を表わす場
合、ベンゼン環は、置換基を有してもよい。置換基とし
ては、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子等)、
アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基、クロロメチル基、メトキシメチル基、等)
、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、プロ
ピオキシ基、ブトキシ基等)等が挙げられる。When V0 represents -C 6 H 4 -, the benzene ring may have a substituent. Examples of substituents include halogen atoms (e.g. chlorine atom, bromine atom, etc.),
Alkyl groups (e.g. methyl, ethyl, propyl, butyl, chloromethyl, methoxymethyl, etc.)
, alkoxy groups (eg, methoxy group, ethoxy group, propioxy group, butoxy group, etc.).
【0271】b 1 及びb 2 は、互いに同じでも
異なっていてもよく、好ましくは水素原子、ハロゲン原
子(例えば塩素原子、臭素原子等)、シアノ基、炭素数
1〜4のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基等)−COO−R 2 又は炭化水
素を介したCOOR2 (R 2 は、水素原子又は炭
素数1〜18のアルキル基、アルケニル基、アラルキル
基、脂環式基又はアリール基を表わし、これらは置換さ
れていてもよく、具体的には、上記R 1 について説
明したものと同様の内容を表わす)を表す。b 1 and b 2 may be the same or different, and are preferably a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), a cyano group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (for example, (methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, etc.) -COO-R 2 or COOR2 via a hydrocarbon (R 2 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group, an aralkyl group, an alicyclic group) represents a formula group or an aryl group, which may be substituted, and specifically represents the same content as described for R 1 above.
【0272】上記炭化水素を介した−COO−R 2
基における炭化水素としては、メチレン基、エチレン基
、プロピレン基等が挙げられる。更に好ましくは、一般
式(II)において、V 0 は、−COO −、−O
CO −、−CH2 OCO −、−CH2 COO
−、−O −、−CONH−、−SO2 NH−又は−
C 6 H 4 −を表わし、b 1 , b 2 は
互いに同じでも異なってもよく、水素原子、メチル基、
−COOR2 または−CH2 COOR2 を表し、
(R 2 は、水素原子または炭素数1〜6のアルキル
基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
、ヘキシル基等を表わす)を表わす。更により好ましく
はb 1 , b 2 においていずれか一方が必ず水
素原子を表わす。-COO-R 2 via the above hydrocarbon
Examples of the hydrocarbon group include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, and the like. More preferably, in general formula (II), V 0 is -COO-, -O
CO -, -CH2 OCO -, -CH2 COO
-, -O -, -CONH-, -SO2 NH- or -
Represents C 6 H 4 -, b 1 and b 2 may be the same or different, and represent a hydrogen atom, a methyl group,
-COOR2 or -CH2 COOR2,
(R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, etc.). Still more preferably, any one of b 1 and b 2 One or the other always represents a hydrogen atom.
【0273】即ち、一般式(II)で表わされる重合性
二重結合基成分として、具体的には、CH2 =CH−
CO−O− 、CH2 =C(CH 3 )−CO−O
− 、C(CH3 )H=CH−CO−O− 、CH2
=C(CH 2 COOCH 3 )−CO−O−
、CH2 =C(CH 2 COOH)−CO−O−
、CH2 =CH−CONH− 、CH2 =C(CH
3 )−CONH− 、C(CH3 )H=CH−C
ONH− 、CH2 =CH−O−CO− 、CH2
=CH−CH2 −O−CO−、CH2 =CH−O−
、CH2 =C(COOH)−CH 2 −CO−O−
、CH2 =C(COOCH3 )−CH2 −CO−
O−、CH2 =CH−C 6 H 4− 等が挙げら
れる。Specifically, as the polymerizable double bond group component represented by the general formula (II), CH2 = CH-
CO-O-, CH2=C(CH3)-CO-O
-, C(CH3)H=CH-CO-O-, CH2
=C(CH2COOCH3)-CO-O-
, CH2=C(CH2COOH)-CO-O-
, CH2=CH-CONH-, CH2=C(CH
3)-CONH-, C(CH3)H=CH-C
ONH-, CH2=CH-O-CO-, CH2
=CH-CH2-O-CO-, CH2=CH-O-
, CH2=C(COOH)-CH2-CO-O-
, CH2=C(COOCH3)-CH2-CO-
O-, CH2=CH-C6H4-, etc. are mentioned.
【0274】これら前記した一般式(II)で示される
重合性二重結合基部分は、フッ素原子及び/又はケイ素
原子を含有する置換基を有する繰り返し単位を少なくと
も含む重合体の主鎖の片末端とが直接結合されるか又は
任意の連結基で結合されたものである。連結する基とし
て具体的には二価の有機残基であって、−O−、−S−
、−Nq1 −、−SO−、−SO2 −、−COO
−、−OCO −、−CONHCO−、−NHCONH
−、−CONq2 −、−SO2 Nq3 −及び−S
i(q4 )(q 5 ) −から選ばれた結合基を介
在させてもよい、二価の脂肪族基もしくは二価の芳香族
基、又はこれらの二価の残基の組合せにより構成された
有機残基を表わす。ここで、q1 〜q5 は式(II
)におけるR 1 と同一の内容を表わす。[0274] The polymerizable double bond group moiety represented by the above-mentioned general formula (II) is located at one end of the main chain of a polymer containing at least a repeating unit having a substituent containing a fluorine atom and/or a silicon atom. and are bonded directly or via any linking group. Specifically, the connecting group is a divalent organic residue, -O-, -S-
, -Nq1 -, -SO-, -SO2 -, -COO
-, -OCO-, -CONHCO-, -NHCONH
-, -CONq2 -, -SO2 Nq3 - and -S
composed of a divalent aliphatic group or a divalent aromatic group, or a combination of these divalent residues, which may include a bonding group selected from i(q4)(q5)- Represents an organic residue. Here, q1 to q5 are expressed by the formula (II
) represents the same content as R 1 in ).
【0275】二価の脂肪族基として、例えば− C(q
6 )(q 7) −、− C(q6 ) =C(q
7 ) −、−(C≡C)−、−C 6 H 10−、As a divalent aliphatic group, for example, -C(q
6 ) (q 7) −, − C (q6 ) = C (q
7) −, −(C≡C)−, −C 6 H 10−,
【0276】0276]
【化103】[Chemical formula 103]
【0277】が挙げられる{q6 及びq7 は、互い
に同じでも異なってもよく、各々水素原子、ハロゲン原
子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子等)又は炭
素数1〜12のアルキル基(例えばメチル基、エチル基
、プロピル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ブチ
ル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等
)を表わす。Qは−O−、−S−又は−NR10−を表
わし、R 10は炭素数1〜4のアルキル基、−CH2
Cl又は−CH2 Brを表わす}。{q6 and q7 may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.) or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (for example, a methyl group, ethyl group, propyl group, chloromethyl group, bromomethyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, etc.). Q represents -O-, -S- or -NR10-, R10 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, -CH2
Cl or -CH2Br}.
【0278】二価の芳香族基としては、例えばベンゼン
環基、ナフタレン環基及び5又は6員の複素環基(複素
環を構成するヘテロ原子として、酸素原子、イオウ原子
、窒素原子から選ばれたヘテロ原子を少なくとも1種含
有する)が挙げられる。これらの芳香族基は置換基を有
していてもよく、例えばハロゲン原子(例えばフッ素原
子、塩素原子、臭素原子等)、炭素数1〜8のアルキル
基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
、ヘキシル基、オクチル基等)、炭素数1〜6のアルコ
キシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピオキシ
基、ブトキシ基等)が置換基の例として挙げられる。[0278] Examples of divalent aromatic groups include benzene ring groups, naphthalene ring groups, and 5- or 6-membered heterocyclic groups (the hetero atoms constituting the heterocycle are selected from oxygen atoms, sulfur atoms, and nitrogen atoms). containing at least one type of heteroatom). These aromatic groups may have a substituent, such as a halogen atom (e.g. fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.), an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group). , butyl group, hexyl group, octyl group, etc.), and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (eg, methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, etc.) as examples of the substituent.
【0279】複素環基としては、例えばフラン環、チオ
フェン環、ピリジン環、ピラジン環、ピペラジン環、テ
トラヒドロフラン環、ピロール環、テトラヒドロピラン
環、1,3−オキサゾリン環等が挙げられる。Examples of the heterocyclic group include a furan ring, a thiophene ring, a pyridine ring, a pyrazine ring, a piperazine ring, a tetrahydrofuran ring, a pyrrole ring, a tetrahydropyran ring, and a 1,3-oxazoline ring.
【0280】以上のような重合性二重結合基含有部分は
、具体的には高分子鎖中にのみ結合されている、又は高
分子鎖の主鎖の片末端にのみ重合性二重合結合基含有部
分が結合された重合体(以下、一官能性重合体〔M〕と
略記する)が挙げられる。上記一官能性重合体〔M〕の
一般式(II)で示される重合性二重結合基成分と、こ
れに連結する有機残基で構成される部分の具体例として
各々次のものが挙げられるが、これらに限定されるもの
ではない。但し、以下の各例において、P 1 は−H
、−CH3 、−CH2 COOCH 3 、−Cl、
−Br又は−CNを示し、P 2 は−H又は−CH3
を示し、Xは−Cl又は−Brを示し、nは2〜12
の整数を示し、mは1〜4の整数を示す。[0280] Specifically, the above polymerizable double bond group-containing moiety is bonded only in the polymer chain, or has a polymerizable double bond group only at one end of the main chain of the polymer chain. A polymer to which a containing moiety is bonded (hereinafter abbreviated as a monofunctional polymer [M]) can be mentioned. Specific examples of the portion composed of the polymerizable double bond group component represented by the general formula (II) of the monofunctional polymer [M] and an organic residue linked thereto include the following. However, it is not limited to these. However, in each example below, P 1 is -H
, -CH3, -CH2COOCH3, -Cl,
-Br or -CN, P2 is -H or -CH3
, X represents -Cl or -Br, and n is 2 to 12
represents an integer of 1 to 4, and m represents an integer of 1 to 4.
【0281】0281]
【化104】[Chemical formula 104]
【0282】0282]
【化105】[Chemical formula 105]
【0283】0283
【化106】[Chemical formula 106]
【0284】0284
【化107】[Chemical formula 107]
【0285】0285]
【化108】[Chemical formula 108]
【0286】0286]
【化109】[Chemical formula 109]
【0287】本発明の一官能性重合体〔M〕は、従来公
知の合成方法によって製造することができる。例えば、
■アニオン重合あるいはカチオン重合によって得られる
リビングポリマーの末端に種々の試薬を反応させて一官
能性重合体〔M〕を得る、イオン重合法による方法、■
分子中に、カルボキシル基、ヒドロキシ基、アミノ基等
の反応性基を含有した重合開始剤及び/又は連鎖移動剤
を用いて、ラジカル重合して得られる末端反応性基結合
の重合体と種々の試薬を反応させて一官能性重合体〔M
〕を得るラジカル重合法による方法、■重付加あるいは
重縮合反応により得られた重合体に上記ラジカル重合方
法と同様にして、重合性二重結合基を導入する重付加縮
合法による方法等が挙げられる。The monofunctional polymer [M] of the present invention can be produced by conventionally known synthesis methods. for example,
■ A method using an ionic polymerization method in which a monofunctional polymer [M] is obtained by reacting various reagents with the ends of a living polymer obtained by anionic or cationic polymerization, ■
Polymers with terminal reactive groups bonded by radical polymerization using a polymerization initiator and/or chain transfer agent containing reactive groups such as carboxyl groups, hydroxyl groups, and amino groups in the molecule and various A monofunctional polymer [M
], and (2) a method using a polyaddition condensation method in which a polymerizable double bond group is introduced into a polymer obtained by a polyaddition or polycondensation reaction in the same manner as the above radical polymerization method. It will be done.
【0288】具体的には、P.Dreyfuss &
R.P.Quirk, Encycl.Polym.S
ci.Eng.,7,551(1987)、P.F.R
empp, E.Franta, Adv.Polym
.Sci.,58,1(1984) 、V.Perce
c, Appl.Poly.Sci., 285, 9
5(1984) 、R.Asami, M.Takar
i, Makromol.Chem.Suppl.,1
2, 163(1985) 、P.Rempp.et
al, Makromol.Chem.Suppl.,
8,3(1984) 、川上雄資,化学工業,38,5
6(1987)、山下雄也,高分子、31,988(1
982) 、小林四郎,高分子、30,625(198
1) 、東村敏延、日本接着協会誌、18,536(1
982) 、伊藤浩一、高分子加工、35,262(1
986) 、東貴四郎, 津田隆、機能材料、1987
,No.10,5等の総説及びそれに引例の文献・特許
等に記載の方法に従って合成することができる。Specifically, P. Dreyfuss &
R. P. Quirk, Encycle. Polym. S
ci. Eng. , 7, 551 (1987), P. F. R
empp, E. Franta, Adv. Polym
.. Sci. , 58, 1 (1984), V. Perce
c, Appl. Poly. Sci. , 285, 9
5 (1984), R. Asami, M. Takar
i, Makromol. Chem. Suppl. ,1
2, 163 (1985), P. Rempp. et
al, Makromol. Chem. Suppl. ,
8, 3 (1984), Yuji Kawakami, Chemical Industry, 38, 5
6 (1987), Yuya Yamashita, Kobunshi, 31,988 (1
982), Shiro Kobayashi, Polymers, 30,625 (198
1), Toshinobu Higashimura, Japan Adhesive Association Journal, 18,536 (1)
982), Koichi Ito, Polymer Processing, 35,262 (1
986), Kishiro Higashi, Takashi Tsuda, Functional Materials, 1987
, No. It can be synthesized according to the methods described in reviews such as 10, 5 and the literature/patents cited therein.
【0289】更に、本発明の分散樹脂粒子が綱目構造を
有する場合は、前記したように極性基含有一官能性単量
体(C)を重合体成分として成る重合体(C)の分子間
が橋架けされており、高次の綱目構造を形成して、水に
対して難溶もしくは不溶性となっている。Furthermore, when the dispersed resin particles of the present invention have a wire structure, as described above, the intermolecular bonding of the polymer (C) comprising the polar group-containing monofunctional monomer (C) as a polymer component It is bridged and forms a high-order mesh structure, making it sparingly soluble or insoluble in water.
【0290】本発明の架橋は、従来公知の架橋方法によ
って行うことができる。即ち、■該重合体成分(C)を
含有する重合体を種々の架橋剤あるいは硬化剤によって
架橋する方法、■該重合体成分(C)に相当する単量体
を少なくとも含有させて重合反応を行う際に、重合性官
能基を2個以上含有する多官能性単量体あるいは多官能
性オリゴマーを共存させることにより分子間に綱目構造
を形成する方法、及び■該重合体成分(C)と反応性基
を含有する成分を含む重合体類とを重合反応あるいは高
分子反応によって架橋させる方法等の方法によて行うこ
とができる。[0290] The crosslinking of the present invention can be carried out by conventionally known crosslinking methods. That is, (1) a method of crosslinking a polymer containing the polymer component (C) with various crosslinking agents or curing agents; (2) a method of carrying out a polymerization reaction by containing at least a monomer corresponding to the polymer component (C); a method of forming a wire structure between molecules by coexisting a polyfunctional monomer or a polyfunctional oligomer containing two or more polymerizable functional groups, and This can be carried out by a method such as a method in which a polymer containing a component containing a reactive group is crosslinked by a polymerization reaction or a polymer reaction.
【0291】上記■の方法の架橋剤としては、通常架橋
剤として用いられる化合物を挙げることができる。具体
的には、山下晋三、金子東助編「架橋剤ハンドブック」
大成社刊(1981年),高分子学会編「高分子データ
ハンドブック基礎編」培風館(1986年)等に記載さ
れている化合物を用いることができる。[0291] As the crosslinking agent in the above method (2), compounds which are commonly used as crosslinking agents can be mentioned. Specifically, "Crosslinking Agent Handbook" edited by Shinzo Yamashita and Tosuke Kaneko.
Compounds described in "Polymer Data Handbook Basic Edition" edited by the Society of Polymer Science, Baifukan (1986), published by Taiseisha (1981), etc. can be used.
【0292】例えば、有機シラン系化合物(例えば、ビ
ニルトリメトキシシラン、ビニルトリブトキシシラン、
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メ
ルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン等のシランカップリング剤等)
、ポリイソシアナート系化合物(例えば、トルイレンジ
イソシアナート、o−トルイレンジイソシアナート、ジ
フェニルメタンジイソシアナート、トリフェニルメタン
トリイソシアナート、ポリメチレンポリフェニルイソシ
アナート、ヘキサメチレンジイソシアナート、イソホロ
ンジイソシアナート、高分子ポリイソシアナート等)、
ポリオール系化合物(例えば、1,4−ブタンジオール
、ポリオキシプロピレングリコール、ポリオキシアルキ
レングリコール、1,1,1−トリメチロールプロパン
等)、ポリアミン系化合物(例えば、エチレンジアミン
、γ−ヒドロキシプロピル化エチレンジアミン、フェニ
レンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、N−アミノエ
チルピペラジン、変性脂肪族ポリアミン類等)、ポリエ
ポキシ基含有化合物及びエポキシ樹脂(例えば、垣内弘
編著「新エポキシ樹脂」昭晃堂(1985年刊)、橋本
邦之編著「エポキシ樹脂」日刊工業新聞社(1969年
刊)等に記載された化合物類)、メラミン樹脂(例えば
、三輪一郎、松永英夫編著「ユリア・メラミン樹脂」日
刊工業新聞社(1969年刊)等に記載された化合物類
)、ポリ(メタ)アクリレート系化合物(例えば、大河
原信、三枝武夫、東村敏延編「オリゴマー」講談社(1
976年刊)、大森英三「機能性アクリル系樹脂」テク
ノシステム(1985年刊)等に記載された化合物類が
挙げられ、具体的には、ポリエチレングリコールジアク
リレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、1
,6−ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールポ
リアクリレート、ビスフェノールA−ジグリシジルエー
テルジアクリレート、オリゴエステルアクリレート及び
これらのメタクリレート体等がある。For example, organic silane compounds (such as vinyltrimethoxysilane, vinyltributoxysilane,
Silane coupling agents such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, etc.)
, polyisocyanate compounds (e.g. toluylene diisocyanate, o-toluylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, polymethylene polyphenylisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate) , polymeric polyisocyanate, etc.),
Polyol compounds (e.g. 1,4-butanediol, polyoxypropylene glycol, polyoxyalkylene glycol, 1,1,1-trimethylolpropane, etc.), polyamine compounds (e.g. ethylenediamine, γ-hydroxypropylated ethylenediamine, phenylene diamine, hexamethylene diamine, N-aminoethyl piperazine, modified aliphatic polyamines, etc.), polyepoxy group-containing compounds and epoxy resins (for example, "New Epoxy Resins" edited by Hiroshi Kakiuchi, Shokodo (published in 1985), Kuniyuki Hashimoto Compounds described in "Epoxy Resin" edited by Nikkan Kogyo Shinbunsha (1969), etc.), melamine resin (for example, described in "Uria Melamine Resin" edited by Ichiro Miwa and Hideo Matsunaga, Nikkan Kogyo Shinbunsha (1969), etc.) poly(meth)acrylate compounds (e.g., "Oligomer" edited by Makoto Okawara, Takeo Saegusa, and Toshinobu Higashimura, Kodansha (1)
(published in 1976), Eizo Omori "Functional Acrylic Resin" Technosystem (published in 1985), etc. Specific examples include polyethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1
, 6-hexanediol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol polyacrylate, bisphenol A-diglycidyl ether diacrylate, oligoester acrylate, and methacrylates thereof.
【0293】又、上記■の方法で共存させる重合性官能
基を2個以上含有する多官能性単量体〔多官能性単量体
(D)とも称する〕あるいは多官能性オリゴマーの重合
性官能基としては、具体的にはCH2 =CH−CH2
−、CH2 =CO−O 、CH2 =CH −、C
H2 =C(CH 3 )−CO−O−、C(CH3
)H=CH−CO−O−、CH2 =CH−CONH−
、CH2 =C(CH3 )−CONH−、CH(CH
3 )=CH−CONH −、CH2 =CH−O−
CO−、CH2 =C(CH 3 )−O−CO−、C
H2 =CH−CH2 −O−CO −、CH2 =C
H−NHCO−、CH2 =CH−CH2 −NHCO
−、CH2 =CH−SO2 −、CH2 =CH−
CO−、CH2 =CH−O −、CH2 =CH−S
−等を挙げることができる。これらの重合性官能基の
同一のものあるいは異なったものを2個以上有した単量
体あるいはオリゴマーであればよい。[0293] In addition, a polyfunctional monomer containing two or more polymerizable functional groups (also referred to as polyfunctional monomer (D)) or a polymerizable functional group of a polyfunctional oligomer that is caused to coexist in the method (2) above can be used. Specifically, the group is CH2=CH-CH2
-, CH2 = CO-O, CH2 = CH -, C
H2 = C(CH3)-CO-O-, C(CH3
)H=CH-CO-O-, CH2=CH-CONH-
, CH2=C(CH3)-CONH-, CH(CH
3)=CH-CONH-, CH2=CH-O-
CO-, CH2=C(CH3)-O-CO-, C
H2=CH-CH2-O-CO-, CH2=C
H-NHCO-, CH2=CH-CH2-NHCO
-, CH2 = CH-SO2 -, CH2 = CH-
CO-, CH2=CH-O-, CH2=CH-S
- and so on. Any monomer or oligomer having two or more of the same or different polymerizable functional groups may be used.
【0294】重合性官能基を2個以上有した単量体の具
体例は、例えば同一の重合性官能基を有する単量体ある
いはオリゴマーとして、ジビニルベンゼン、トリビニル
ベンゼン等のスチレン誘導体:多価アルコール(例えば
、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエ
チレングリコール、ポリエチレングリコール#200、
#400、#600、1,3−ブチレングリコール、ネ
オペンチルグリコール、ジプロピレングリコール、ポリ
プロピレングリコール、トリメチロールプロパン、トリ
メチロールエタン、ペンタエリスリトールなど)、又は
ポリヒドロキシフェノール(例えばヒドロキノン、レゾ
ルシン、カテコールおよびそれらの誘導体)のメタクリ
ル酸、アクリル酸又はクロトン酸のエステル類、ビニル
エーテル類又はアリルエーテル類:二塩基酸(例えばマ
ロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン
酸、マレイン酸、フタル酸、イタコン酸等)のビニルエ
ステル類、アリルエステル類、ビニルアミド類又はアリ
ルアミド類;ポリアミン(例えばエチレンジアミン、1
,3−プロピレンジアミン、1,4−ブチレンジアミン
等)とビニル基を含有するカルボン酸(例えば、メタク
リル酸、アクリル酸、クロトン酸、アリル酢酸等)との
縮合体などが挙げられる。Specific examples of monomers having two or more polymerizable functional groups include styrene derivatives such as divinylbenzene and trivinylbenzene: polyvalent monomers or oligomers having the same polymerizable functional group. Alcohol (e.g. ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol #200,
#400, #600, 1,3-butylene glycol, neopentyl glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, trimethylolpropane, trimethylolethane, pentaerythritol, etc.), or polyhydroxyphenol (such as hydroquinone, resorcinol, catechol, etc.) esters, vinyl ethers or allyl ethers of methacrylic acid, acrylic acid or crotonic acid (derivatives of methacrylic acid, acrylic acid or crotonic acid); dibasic acids (e.g. malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, maleic acid, phthalic acid, itacon) vinyl esters, allyl esters, vinylamides or allylamides of polyamines (e.g. ethylene diamine,
, 3-propylene diamine, 1,4-butylene diamine, etc.) and a vinyl group-containing carboxylic acid (for example, methacrylic acid, acrylic acid, crotonic acid, allyl acetic acid, etc.).
【0295】又、異なる重合性官能基を有する単量体あ
るいはオリゴマーとしては、例えば、ビニル基を含有す
るカルボン酸(例えばメタクリル酸、アクリル酸、メタ
クリロイル酢酸、アクリロイル酢酸、メタクリロイルプ
ロピオン酸、アルリロイルプロピオン酸、イタコニロイ
ル酢酸、イタコニロイルプロピオン酸、カルボン酸無水
物等)とアルコール又はアミンの反応体(例えはアリル
オキシカルボニルプロピオン酸、アリルオキシカルボニ
ル酢酸、2−アリルオキシカルボニル安息香酸、アリル
アミノカルボニルプロピオン酸等)等のビニル基を含有
したエステル誘導体又はアミド誘導体(例えばメタクリ
ル酸ビニル、アクリル酸ビニル、イタコン酸ビニル、メ
タクリル酸アリル、アクリル酸アリル、イタコン酸アリ
ル、メタクリロイル酢酸ビニル、メタクリロイルプロピ
オン酸ビニル、メタクリロイルプロピオン酸アリル、メ
タクリル酸ビニルオキシカルボニルメチルエステル、ア
クリル酸ビニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニ
ルエチレンエステル、N−アリルアクリルアミド、N−
アリルメタクリルアミド、N−アリルイタコン酸アミド
、メタクリロイルプロピオン酸アリルアミド等)又はア
ミノアルコール類(例えばアミノエタノール、1−アミ
ノプロパノール、1−アミノブタノール、1−アミノヘ
キサノール、2−アミノブタノール等)とビニル基を含
有したカルボン酸との縮合体などが挙げられる。Monomers or oligomers having different polymerizable functional groups include, for example, carboxylic acids containing vinyl groups (such as methacrylic acid, acrylic acid, methacryloyl acetic acid, acryloyl acetic acid, methacryloylpropionic acid, aryloyl Reactants of alcohols or amines (e.g., allyloxycarbonylpropionic acid, allyloxycarbonylacetic acid, 2-allyloxycarbonylbenzoic acid, allyl aminocarbonyl ester derivatives or amide derivatives containing vinyl groups such as propionic acid (e.g. vinyl methacrylate, vinyl acrylate, vinyl itaconate, allyl methacrylate, allyl acrylate, allyl itaconate, vinyl methacryloyl acetate, vinyl methacryloyl propionate) , allyl methacryloylpropionate, vinyloxycarbonyl methyl methacrylate, vinyloxycarbonyl acrylate methyloxycarbonyl ethylene ester, N-allylacrylamide, N-
allyl methacrylamide, N-allyl itaconic acid amide, methacryloyl propionic acid allyl amide, etc.) or amino alcohols (e.g. aminoethanol, 1-aminopropanol, 1-aminobutanol, 1-aminohexanol, 2-aminobutanol, etc.) and a vinyl group. Examples include condensates with carboxylic acids containing .
【0296】本発明に用いられる2個以上の重合性官能
基を有する単量体あるいはオリゴマーは、単量体(C)
及び(C)と共存する他の単量体との総量に対して10
モル%以下、好ましくは5モル%以下用いて重合し、樹
脂を形成する。The monomer or oligomer having two or more polymerizable functional groups used in the present invention is monomer (C)
and 10 relative to the total amount of other monomers coexisting with (C)
Polymerization is performed using mol % or less, preferably 5 mol % or less, to form a resin.
【0297】更には、上記■の方法の高分子間の反応性
基同志の反応により化学結合を形成し高分子間の橋架け
を行う場合には、通常の有機低分子化合物の反応と同様
に行うことができる。具体的には、岩倉義男、栗田恵輔
、「反応性高分子」講談社(1977年刊)、小田良平
、「高分子ファインケミカル」講談社(1976年刊)
等の成書に詳細に記載されている。例えば、下表のA群
(親水性基重合体成分)の官能基とB群(反応性基を含
有する成分を含む重合体類)の官能基の組合わせによる
高分子反応が通常よく知られた方法として挙げられる。
なお表1のR21,R22は炭化水素基で、前出の式(
II)中のR1 の炭化水素と同一の内容を表す。Furthermore, in the case of forming chemical bonds and bridging between polymers by the reaction of the reactive groups between the polymers in the above method It can be carried out. Specifically, Yoshio Iwakura, Keisuke Kurita, "Reactive Polymers" Kodansha (published in 1977), Ryohei Oda, "Polymer Fine Chemicals" Kodansha (published in 1976)
It is described in detail in books such as . For example, polymer reactions involving combinations of functional groups in Group A (hydrophilic group polymer components) and Group B (polymers containing components containing reactive groups) in the table below are usually well known. This is one of the methods. Note that R21 and R22 in Table 1 are hydrocarbon groups, and are represented by the above formula (
It represents the same content as the hydrocarbon of R1 in II).
【0298】0298
【表1】[Table 1]
【0299】以上の如く、本発明の綱目分散樹脂粒子は
、極性基を含有する重合体成分(C)とフッ素原子及び
/又はケイ素原子含有置換基を有する繰り返し単位を含
む重合体成分〔M〕とを含有し、且つ分子鎖間が高次に
橋架けされた構造を有する重合体の粒子である。As described above, the mesh-dispersed resin particles of the present invention consist of a polymer component (C) containing a polar group and a polymer component [M] containing a repeating unit having a substituent containing a fluorine atom and/or a silicon atom. It is a particle of a polymer containing the following and having a structure in which the molecular chains are highly cross-linked.
【0300】分散重合において、粒子の粒径が揃った単
分散性の粒子が得られること及び0.5μm以下の微小
粒子が得られ易いこと等から、綱目構造形成の方法とし
ては、多官能性単量体を用いる■の方法が好ましい。[0300] In dispersion polymerization, monodisperse particles with a uniform particle size can be obtained, and microparticles of 0.5 μm or less can be easily obtained. Method (2) using a monomer is preferred.
【0301】非水溶媒系分散樹脂粒子の製造に用いられ
る非水溶媒としては、沸点200℃以下の有機溶媒であ
ればいずれでもよく、それは単独であるいは2種以上を
混合して使用してもよい。[0301] As the non-aqueous solvent used for producing the non-aqueous solvent-based dispersed resin particles, any organic solvent with a boiling point of 200°C or less may be used, and it may be used alone or in a mixture of two or more. good.
【0302】この有機溶媒の具体例は、メタノール、エ
タノール、プロパノール、ブタノール、フッ化アルコー
ル、ベンジルアルコール等のアルコール類、アセトン、
メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ジエチルケト
ン等のケトン類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル等のカルボン酸エ
ステル類、ヘキサン、オクタン、デカン、ドデカン、ト
リデカン、シクロヘキサン、シクロオクタン等の炭素数
6〜14の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キ
シレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、メチレ
ンクロリド、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、ク
ロロホルム、メチルクロロホルム、ジクロロプロパン、
トリクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類等が挙げら
れる。ただし、以上述べた化合物例に限定されるもので
はない。Specific examples of the organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, fluorinated alcohol, benzyl alcohol, acetone,
Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, diethyl ketone, ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, carboxylic acid esters such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl propionate, hexane, octane, decane, dodecane, tridecane , C6-14 aliphatic hydrocarbons such as cyclohexane and cyclooctane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene, methylene chloride, dichloroethane, tetrachloroethane, chloroform, methylchloroform, dichloropropane,
Examples include halogenated hydrocarbons such as trichloroethane. However, it is not limited to the compound examples described above.
【0303】これらの非水溶媒系で分散樹脂粒子を分散
重合法で合成することにより、樹脂粒子の平均粒子径は
容易に1μm以下となり、しかも粒子径の分布が非常に
狭く且つ単分散の粒子とすることができる。[0303] By synthesizing dispersed resin particles using a dispersion polymerization method in these non-aqueous solvent systems, the average particle size of the resin particles can easily be 1 μm or less, and the particle size distribution is very narrow and monodisperse particles can be obtained. It can be done.
【0304】具体的には、K.E.J.Barrett
「Dispersion Polymerizati
on in Organic Media」John
Wiley(1975年)、村田耕一郎、高分子加工、
23、20(1974)、松本恒隆・丹下豊吉、日本接
着協会誌9、183(1973) 、丹下豊吉、日本接
着協会誌23、26(1987)、D.J.Walbr
idge 、NATO.Adv.study.Inst
.Ser.E. No.67、40(1983)、英国
特許第893429、同934038各号明細書、米国
特許第1122397、同3900412、同4606
989各号明細書、特開昭60−179751、同60
−185963各号公報等にその方法が開示されている
。Specifically, K. E. J. Barrett
“Dispersion Polymerizati
on in Organic Media”John
Wiley (1975), Koichiro Murata, Polymer Processing,
23, 20 (1974), Tsunetaka Matsumoto and Toyokichi Tange, Journal of Japan Adhesive Association 9, 183 (1973), Toyokichi Tange, Journal of Japan Adhesive Association 23, 26 (1987), D. J. Walbr
idge, NATO. Adv. study. Inst
.. Ser. E. No. 67, 40 (1983), British Patent Nos. 893429 and 934038, U.S. Patent Nos. 1122397, 3900412, and 4606
989 specifications, JP-A-60-179751, JP-A-60
The method is disclosed in publications such as No.-185963.
【0305】本発明の分散樹脂は、単量体(C)と一官
能性重合体〔M〕の少なくとも各々1種以上から成り、
綱目構造を形成する場合には必要に応じて多官能性単量
体(D)を共存させて成り、いずれにしても重要な事は
、これら単量体から合成された樹脂が該非水溶媒に不溶
であれば、所望の分散樹脂を得ることができる。[0305] The dispersion resin of the present invention consists of at least one of each of the monomer (C) and the monofunctional polymer [M],
When forming a wire structure, polyfunctional monomers (D) are allowed to coexist as necessary; in any case, the important thing is that the resin synthesized from these monomers does not dissolve in the non-aqueous solvent. If it is insoluble, a desired dispersed resin can be obtained.
【0306】以上の如き本発明で用いられる分散樹脂粒
子を製造するには、一般に、単量体(C)、一官能性重
合体〔M〕更には、多官能性単量体(D)とを非水溶媒
中で過酸化ベンゾイル、アゾビスイソブチロニトリル、
ブチルリチウム等の重合開始剤の存在下に加熱重合させ
ればよい。具体的には、■単量体(C)及び一官能性重
合体〔M〕、多官能性単量体(D)の混合溶液中に重合
開始剤を添加する方法、■非水溶媒中に、上記重合性化
合物及び重合開始剤の混合物を滴下又は任意に添加する
方法等があり、これらに限定されずいかなる方法を用い
ても製造することができる。[0306] In order to produce the dispersed resin particles used in the present invention as described above, the monomer (C), the monofunctional polymer [M], and the polyfunctional monomer (D) are generally used. benzoyl peroxide, azobisisobutyronitrile, in a non-aqueous solvent,
The polymerization may be carried out by heating in the presence of a polymerization initiator such as butyllithium. Specifically, the methods include: (1) adding a polymerization initiator to a mixed solution of monomer (C), monofunctional polymer [M], and polyfunctional monomer (D); (2) adding a polymerization initiator to a nonaqueous solvent; , a method in which a mixture of the above-mentioned polymerizable compound and a polymerization initiator is added dropwise or arbitrarily, and the method is not limited to these methods, and any method can be used for production.
【0307】重合性化合物の総量は非水溶媒100重量
部に対して5〜80重量部程度であり、好ましくは10
〜50重量部である。[0307] The total amount of the polymerizable compound is about 5 to 80 parts by weight, preferably 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the nonaqueous solvent.
~50 parts by weight.
【0308】重合開始剤の量は、重合性化合物の総量の
0.1〜5重量%である。又、重合温度は50〜180
℃程度であり、好ましくは60〜120℃である。反応
時間は1〜15時間が好ましい。[0308] The amount of polymerization initiator is 0.1 to 5% by weight based on the total amount of polymerizable compounds. Also, the polymerization temperature is 50 to 180
℃, preferably 60 to 120℃. The reaction time is preferably 1 to 15 hours.
【0309】以上の如くして本発明により製造された非
水系分散樹脂は、微細でかつ粒度分布が均一な粒子とな
る。[0309] The non-aqueous dispersion resin produced according to the present invention as described above becomes fine particles with a uniform particle size distribution.
【0310】更に、その他の分散安定用樹脂を併用して
もよい。その他の分散安定用樹脂を併用する場合は、全
分散安定用樹脂100重量部に対して50重量部以下が
好ましい。その他の分散安定用樹脂が50重量部を越え
ると表面濃縮性が低下し、保水性が悪化してしまう。Furthermore, other dispersion stabilizing resins may be used in combination. When other dispersion stabilizing resins are used in combination, the amount is preferably 50 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the total dispersion stabilizing resin. If the amount of other dispersion stabilizing resin exceeds 50 parts by weight, the surface concentration property will be lowered and the water retention property will be deteriorated.
【0311】本発明に使用する無機光導電材料は、光導
電性酸化亜鉛である。さらに他の無機光導電体として酸
化チタン、硫化亜鉛、硫化カドミウム、炭酸カドミウム
、セレン化亜鉛、セレン化カドミウム、セレン化テルル
、硫化鉛等を併用してもよい。The inorganic photoconductive material used in the present invention is photoconductive zinc oxide. Furthermore, other inorganic photoconductors such as titanium oxide, zinc sulfide, cadmium sulfide, cadmium carbonate, zinc selenide, cadmium selenide, tellurium selenide, lead sulfide, etc. may be used in combination.
【0312】しかし、これら他の光導電材料は、光導電
性酸化亜鉛の60重量%以下であり、好ましくは40重
量%以下である。However, these other photoconductive materials account for less than 60% by weight of the photoconductive zinc oxide, preferably less than 40% by weight.
【0313】他の光導電材料が60重量%を越えると、
平版印刷用原版としての非画像部の親水性向上の効果が
薄れてしまう。本発明に係る光導電性酸化亜鉛としては
、この種の技術分野で従来公知のものを使用すればよく
、いわゆる酸化亜鉛のみならず、酸化亜鉛を酸処理した
もの、色素と前処理したもの、練り込み後再度粉砕した
もの(いわゆるプレス処理)等のいずれでもよく、特に
限定されるところはない。[0313] When the amount of other photoconductive materials exceeds 60% by weight,
The effect of improving the hydrophilicity of the non-image area as a lithographic printing original plate is weakened. As the photoconductive zinc oxide according to the present invention, those conventionally known in this type of technical field may be used, including not only so-called zinc oxide, but also zinc oxide treated with an acid, zinc oxide pretreated with a dye, etc. It may be kneaded and then ground again (so-called press treatment), and there is no particular limitation.
【0314】本発明の平版印刷用原版は光導電性酸化亜
鉛に対して用いる結着樹脂の総量は、光導電性酸化亜鉛
100重量部に対して、結着樹脂を10〜100重量部
なる割合、好ましくは15〜50重量部なる割合で使用
する。[0314] In the lithographic printing original plate of the present invention, the total amount of binder resin used for photoconductive zinc oxide is such that the ratio of binder resin to 100 parts by weight of photoconductive zinc oxide is 10 to 100 parts by weight. , preferably in a proportion of 15 to 50 parts by weight.
【0315】光導電層に供せられる結着樹脂において、
樹脂〔A〕と他の結着樹脂との使用割合は、全結着樹脂
100重量部に対して、5〜90/95〜5重量比で、
好ましくは10〜60/90〜40重量比である。[0315] In the binder resin provided to the photoconductive layer,
The proportion of resin [A] and other binder resins is 5 to 90/95 to 5 by weight based on 100 parts by weight of the total binder resin.
Preferably the weight ratio is 10-60/90-40.
【0316】樹脂〔A〕の使用割合が5重量部以下とな
ると、電子写真特性の低下が起こり特に半導体レーザー
光用分光増感色素と組み合せた場合、その効果の低下が
顕著となる。又90重量部以上になると、光導電層の膜
強度が劣化し、オフセット印刷用原版として用いると、
耐刷性の低下を生じる。If the proportion of resin [A] used is less than 5 parts by weight, the electrophotographic properties will deteriorate, and especially when combined with a spectral sensitizing dye for semiconductor laser light, the effect will be significantly reduced. If the amount exceeds 90 parts by weight, the film strength of the photoconductive layer deteriorates, and when used as an original plate for offset printing,
This results in a decrease in printing durability.
【0317】本発明の樹脂粒子〔L〕の使用量は、全結
着樹脂総量100重量部に対して、0.1〜30重量が
好ましい。樹脂粒子〔L〕の使用割合が0.1重量部以
下では、保水性の向上効果が薄れてしまう。30重量部
以上では、電子写真特性の低下を生じる場合が生じ、特
に半導体レーザー光用の場合に懸念として生じる。[0317] The amount of resin particles [L] used in the present invention is preferably 0.1 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of all the binder resins. If the proportion of resin particles [L] used is less than 0.1 part by weight, the effect of improving water retention will be diminished. If the amount exceeds 30 parts by weight, the electrophotographic properties may deteriorate, which is particularly a concern when used for semiconductor laser light.
【0318】本発明の光導電層において用いられる分光
増感色素は従来公知のいずれの色素でもよくこれらを単
独あるいは組合せて使用することができる。例えば、宮
本晴視,武井英彦:イメージング1973(No.8)
第12頁、C.J.Young等:RCA Revi
ew 15,469頁(1954)、清田航平等:電
気通信学会論文誌 J63−C(No.2)97頁(
1980)、原崎勇次等、工業化学雑誌66,78及び
188頁(1963)、谷忠昭、日本写真学会誌35、
208頁(1972)等の総説引例のカーボニウム系色
素、ジフェニルメタン色素、トリフェニルメタン色素、
キサンテン系色素、フタレイン系色素、ポリメチン色素
(例えば、オキソノール色素、メロシアニン色素、シア
ニン色素、ロダシアニン色素、シチリル色素等)、フタ
ロシアニン色素(金属を含有してもよい)等が挙げられ
る。The spectral sensitizing dye used in the photoconductive layer of the present invention may be any conventionally known dye and these may be used alone or in combination. For example, Harumi Miyamoto, Hidehiko Takei: Imaging 1973 (No. 8)
Page 12, C. J. Young et al.: RCA Revi
ew 15, 469 pages (1954), Wataru Kiyota: Journal of the Institute of Electrical Communication, J63-C (No. 2), 97 pages (
1980), Yuji Harasaki et al., Industrial Chemistry Journal pp. 66, 78 and 188 (1963), Tadaaki Tani, Journal of the Photographic Society of Japan 35,
Carbonium dyes, diphenylmethane dyes, triphenylmethane dyes, cited in reviews such as p. 208 (1972),
Examples include xanthene dyes, phthalein dyes, polymethine dyes (for example, oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes, rhodacyanine dyes, sityryl dyes, etc.), phthalocyanine dyes (which may contain metals), and the like.
【0319】更に具体的には、カーボニウム系色素、ト
リフェニルメタン系色素、キサンテン系色素、フタレイ
ン系色素を中心に用いたものとしては、特公昭51−4
52、特開昭50−90334、同50−114227
、同53−39130、同53−82353各号公報、
米国特許第3052540、同第4054450各号明
細書、特開昭57−16456号公報等に記載のものが
挙げられる。More specifically, as carbonium dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, and phthalein dyes, there are
52, JP-A No. 50-90334, No. 50-114227
, 53-39130, 53-82353 publications,
Examples include those described in U.S. Pat. No. 3,052,540, U.S. Pat.
【0320】オキソノール色素、メロシアニン色素、シ
アニン色素、ロダシアニン色素等のポリメチン色素とし
ては、F.M.Harmmer 「The Cya
nineDyes and Related C
ompounds」等に記載の色素類が使用可能であり
、更に具体的には、米国特許第3047384、同31
10591、同3121008、同3125447、同
3128179、同3132942、同3622317
各号明細書、英国特許第1226892、同13092
74、同1405898各号明細書、特公昭48−78
14、同55−18892各号公報等に記載の色素が挙
げられる。Polymethine dyes such as oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes, and rhodacyanine dyes include F. M. Hammer “The Cya”
nine Dyes and Related C
It is possible to use pigments described in US Pat. No. 3,047,384 and US Pat.
10591, 3121008, 3125447, 3128179, 3132942, 3622317
Specifications of each issue, British Patent No. 1226892, British Patent No. 13092
74, 1405898 specifications, Japanese Patent Publication No. 1978-1978
14, No. 55-18892, and the like.
【0321】更に、700nm以上の長波長の近赤外〜
赤外光域を分光増感するポリメチン色素として、特開昭
47−840、同47−44180、特公昭51−41
061、特開昭49−5034、同49−45122、
同57−46245、同56−35141、同57−1
57254、同61−26044、同61−27551
各号公報、米国特許第361954、同4175956
各号明細書、「Research Disclosu
re」1982年、216、第117〜118頁等に記
載のものが挙げられる。本発明の感光体は種々の増感色
素を併用させても、その性能が増感色素により変動しに
くい点においても優れている。[0321] Furthermore, near-infrared light with a long wavelength of 700 nm or more
As a polymethine dye that spectrally sensitizes the infrared light region, JP-A-47-840, JP-A-47-44180, and JP-A-51-41
061, JP-A No. 49-5034, JP-A No. 49-45122,
57-46245, 56-35141, 57-1
57254, 61-26044, 61-27551
Publications, U.S. Patent No. 361954, U.S. Patent No. 4175956
Specifications of each issue, “Research Disclosure
re'', 1982, 216, pp. 117-118. The photoreceptor of the present invention is also excellent in that its performance does not easily vary depending on the sensitizing dye, even when various sensitizing dyes are used together.
【0322】更には、必要に応じて、化学増感剤等の従
来知られている電子写真感光層用各種添加剤を併用する
こともできる。例えば前記した総説:イメージング19
73(No.8)第12頁等の総説引例の電子受容性化
合物(例えば、ハロゲン、ベンゾキノン、クロラニル、
酸無水物、有機カルボン酸等)、小門宏等、「最近の光
導電材料と感光体の開発・実用化」第4章〜第6章:日
本科学情報(株)出版部(1986年)の総説引例のポ
リアリールアルカン化合物、ヒンダートフェノール化合
物、p−フェニレンジアミン化合物等が挙げられる。Furthermore, if necessary, various conventionally known additives for electrophotographic photosensitive layers such as chemical sensitizers can be used in combination. For example, the review mentioned above: Imaging 19
73 (No. 8), page 12, etc., electron-accepting compounds (e.g., halogens, benzoquinone, chloranil,
Acid anhydrides, organic carboxylic acids, etc.), Hiroshi Komon et al., “Recent development and practical application of photoconductive materials and photoreceptors” Chapters 4 to 6: Nihon Kagaku Information Co., Ltd. Publishing Department (1986) Examples include polyarylalkane compounds, hindered phenol compounds, and p-phenylenediamine compounds cited in the review.
【0323】これら各種添加剤の添加量は、特に限定的
ではないが、通常光導電体100重量部に対して0.0
01〜2.0重量部である。[0323] The amount of these various additives added is not particularly limited, but is usually 0.0 parts by weight per 100 parts by weight of the photoconductor.
01 to 2.0 parts by weight.
【0324】光導電層の厚さは1〜100μ、特には1
0〜50μが好適である。[0324] The thickness of the photoconductive layer is 1 to 100μ, especially 1
0 to 50μ is suitable.
【0325】また、電荷発生層と電荷輸送層の積層型感
光体の電荷発生層として光導電層を使用する場合は電荷
発生層の厚さは0.01〜1μ、特には、0.05〜0
.5μが好適である。[0325] When a photoconductive layer is used as the charge generation layer of a photoreceptor with a stacked charge generation layer and a charge transport layer, the thickness of the charge generation layer is 0.01 to 1μ, particularly 0.05 to 1μ. 0
.. 5μ is suitable.
【0326】積層型感光体の電荷輸送材料としてはポリ
ビニルカルバゾール、オキサゾール系色素、ピラゾリン
系色素、トリフェニルメタン系色素などがある。電荷輸
送層の厚さとしては5〜40μ、特には10〜30μが
好適である。Charge transport materials for the laminated photoreceptor include polyvinylcarbazole, oxazole dyes, pyrazoline dyes, triphenylmethane dyes, and the like. The thickness of the charge transport layer is preferably 5 to 40 microns, particularly 10 to 30 microns.
【0327】電荷輸送層の形成に用いる樹脂としては、
代表的なものは、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂
、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、塩化ビニル樹脂
、酢酸ビニル樹脂、塩ビー酸ビ共重合体樹脂、ポリアク
リル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、ポリエ
ステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、シリコン樹
脂の熱可塑性樹脂及び硬化性樹脂が適宜用いられる。[0327] As the resin used for forming the charge transport layer,
Typical examples are polystyrene resin, polyester resin, cellulose resin, polyether resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, vinyl chloride acid copolymer resin, polyacrylic resin, polyolefin resin, urethane resin, polyester resin, and epoxy. Thermoplastic resins and curable resins such as resins, melamine resins, and silicone resins are used as appropriate.
【0328】本発明による光導電層は、従来公知の支持
体上に設けることができる。一般に云って電子写真感光
層の支持体は、導電性であることが好ましく、導電性支
持体としては、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プ
ラスチックシート等の基体に低抵抗性物質を含浸させる
などして導電処理したもの、基体の裏面(感光層を設け
る面と反対面)に導電性を付与し、さらにはカール防止
を図る等の目的で少なくとも1層以上をコートしたもの
、前記支持体の表面に耐水性接着層を設けたもの、前記
支持体の表面層に必要に応じて少なくとも1層以上のプ
レコート層を設けたもの、Al等を蒸着した基体導電化
プラスチックを紙にラミネートしたもの等が使用できる
。The photoconductive layer according to the present invention can be provided on a conventionally known support. Generally speaking, the support for the electrophotographic photosensitive layer is preferably electrically conductive.As the electrically conductive support, for example, a base material such as metal, paper, or plastic sheet impregnated with a low-resistance substance is used in the same manner as in the past. The substrate is coated with at least one layer for the purpose of imparting conductivity to the back surface (the surface opposite to the surface on which the photosensitive layer is provided) and preventing curling, etc.; Those with a water-resistant adhesive layer on the surface of the body, those with at least one pre-coat layer provided as necessary on the surface layer of the support, and those with a conductive plastic substrate on which Al or the like is vapor-deposited and laminated with paper. Things can be used.
【0329】具体的に、導電性基体あるいは導電化材料
の例としては、坂本幸男、電子写真、14、(No.1
)、p2〜11(1975)、森賀弘之,「入門特殊紙
の科学」高分子刊行会(1975)、M.F.Hoov
er,J.Macromol.Sci.Chem.A−
4(6),第1327〜1417頁(1970)等に記
載されているもの等を用いる。[0329] Specifically, as an example of a conductive substrate or a conductive material, see Yukio Sakamoto, Electrophotography, 14, (No. 1
), p2-11 (1975), Hiroyuki Moriga, "Introduction to the Science of Special Paper", Kobunshi Publishing Association (1975), M. F. Hoov
er, J. Macromol. Sci. Chem. A-
4(6), pp. 1327-1417 (1970), etc. are used.
【0330】本発明の電子写真式印刷用原版を用いた印
刷物の作成は、上記した構成から成る電子写真用原版に
常法により複写画像を形成後、非画像部を不感脂化処理
することで作成される。[0330] In order to produce printed matter using the electrophotographic printing original plate of the present invention, a copy image is formed on the electrophotographic printing original plate having the above-mentioned structure by a conventional method, and then the non-image area is desensitized. Created.
【0331】本発明に供される不感脂化処理は、本発明
の樹脂粒子を、処理液を通すことで加水分解する方法、
レドックス反応で分解する方法あるいは光照射処理して
分解する方法等によりヒドロキシル基を生成する方法あ
るいは、樹脂粒子の親水化処理とともに酸化亜鉛を不感
脂化処理液で不感脂化するという方法が挙げられる。[0331] The desensitization treatment provided in the present invention includes a method in which the resin particles of the present invention are hydrolyzed by passing through a treatment liquid;
Examples include a method in which hydroxyl groups are generated by decomposition by redox reaction or light irradiation, or a method in which resin particles are hydrophilized and zinc oxide is desensitized with a desensitization treatment liquid. .
【0332】後者の場合は、1.酸化亜鉛粒子と樹脂粒
子とを同時に不感脂化反応を行なう、2.酸化亜鉛粒子
を不感脂化後、樹脂粒子に分解処理を行なう、3.樹脂
粒子を分解処理後、酸化亜鉛粒子の不感脂化反応を行な
う等いずれの手順でも行なうことができる。In the latter case, 1. 2. Desensitizing zinc oxide particles and resin particles at the same time; After desensitizing the zinc oxide particles, decomposition treatment is performed on the resin particles; 3. Any procedure can be used, such as decomposing the resin particles and then subjecting the zinc oxide particles to a desensitization reaction.
【0333】酸化亜鉛の不感脂化方法としては、従来公
知の処理液のいずれをも用いることができる。例えば、
フェロシアン系化合物を不感脂化の主剤として用いた、
特開昭62−239158、同62−292492、同
63−99993、同63−9994、特公昭40−7
334、同45−33683、特開昭57−10788
9、特公昭46−21244、同44−9045、同4
7−32681、同55−9315、特開昭52−10
1102各号公報等が挙げられる。しかし、該処理液の
安全性の点から以下の処理液が好ましい。[0333] As a method for desensitizing zinc oxide, any conventionally known treatment liquid can be used. for example,
Using a ferrocyanic compound as the main desensitizing agent,
JP 62-239158, JP 62-292492, JP 63-99993, JP 63-9994, JP 40-7
334, 45-33683, JP-A-57-10788
9, Special Publication No. 46-21244, No. 44-9045, No. 4
7-32681, 55-9315, Japanese Patent Application Publication No. 52-10
1102 publications, etc. However, from the viewpoint of the safety of the treatment liquid, the following treatment liquids are preferred.
【0334】例えば、フィチン酸系化合物を主剤として
用いた、特公昭43−28408、同45−24609
、特開昭51−103501、同54−10003号、
同53−83805、同53−83806、同53−1
27002、同54−44901、同56−2189、
同57−2796、同57−20394、同59−20
7290各号公報に記載のもの、金属キレート形成可能
な水溶性ポリマーを主剤として用いた、特公昭38−9
665、同39−22263、同40−763、同43
−28404、同47−29642、特開昭52−12
6302、同52−134501、同53−49506
、同53−59502、同53−104302各号公報
等に記載のもの、金属錯体系化合物を主剤として用いた
、特開昭53−104301、特公昭55−15313
、同54−41924各号公報等に記載のもの、あるい
は無機及び有機酸系化合物を主剤として用いた、特公昭
39−13702、同40−10308、同46−26
124、特開昭51−118501、同56−1116
95各号公報等に記載されたもの等が挙げられる。For example, Japanese Patent Publications No. 43-28408 and No. 45-24609 using a phytic acid compound as the main ingredient
, JP-A-51-103501, JP-A No. 54-10003,
53-83805, 53-83806, 53-1
27002, 54-44901, 56-2189,
57-2796, 57-20394, 59-20
7290, which uses a water-soluble polymer capable of forming a metal chelate as the main ingredient,
665, 39-22263, 40-763, 43
-28404, 47-29642, JP-A-52-12
6302, 52-134501, 53-49506
, No. 53-59502, No. 53-104302, etc., JP-A No. 53-104301, No. 55-15313 using a metal complex compound as the main ingredient.
, No. 54-41924, etc., or Japanese Patent Publications No. 39-13702, No. 40-10308, No. 46-26 using inorganic and organic acid compounds as main ingredients.
124, JP-A-51-118501, JP-A No. 56-1116
Examples include those described in each No. 95 publication.
【0335】樹脂粒子の不感脂化方法、即ち、保護され
た親水性基を分解する方法としては、保護された親水性
基の分解反応性により任意に選択される。その1つとし
てpH1〜6の酸性条件、pH8〜12のアルカリ性条
件の水溶液で加水分解する方法が挙げられる。これらの
pHの調整は、公知の化合物によって、容易に調整する
ことができる。あるいは、還元性又は酸化性の水溶性化
合物によるレドックス反応による方法も可能であり、こ
れらの化合物としては公知の化合物を用いることができ
例えば包水ヒドラジン、亜鉛酸塩、リポ酸、ハイドロキ
ノン類、ギ酸、チオ硫酸塩、過酸化水素、過硫酸塩、キ
ノン類等が挙げられる。[0335] The method for desensitizing the resin particles, ie, the method for decomposing the protected hydrophilic groups, is arbitrarily selected depending on the decomposition reactivity of the protected hydrophilic groups. One such method is a method of hydrolyzing with an aqueous solution under acidic conditions of pH 1 to 6 or alkaline conditions of pH 8 to 12. These pH values can be easily adjusted using known compounds. Alternatively, a method using a redox reaction using a reducing or oxidizing water-soluble compound is also possible, and known compounds can be used as these compounds, such as hydrazine hydrate, zincate, lipoic acid, hydroquinones, formic acid, etc. , thiosulfate, hydrogen peroxide, persulfate, quinones, and the like.
【0336】該処理液は、反応促進あるいは処理液の保
存安定性を改良するために他の化合物を含有してもよい
。例えば水に可溶性の有機溶媒を水100重量部中に1
〜50重量部含有してもよい。このような水に可溶性の
有機溶媒としては、例えばアルコール類(メタノール、
エタノール、プロパノール、プロパルギルアルコール、
ベンジルアルコール、フェネチルアルコール等)、ケト
ン類(アセトン、メチルエチルケトン、アセトフェノン
等)、エーテル類(ジオキサン、トリオキサン、テトラ
ヒドロフラン、エチレングリコール、プロピレングリコ
ール、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピ
レングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロピラ
ン等)、アミド類(ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド等)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル
、ギ酸エチル等)等が挙げられ、これらは単独又は2種
以上を混合して用いてもよい。[0336] The processing solution may contain other compounds in order to promote the reaction or improve the storage stability of the processing solution. For example, add 1 part by weight of a water-soluble organic solvent to 100 parts by weight of water.
It may contain up to 50 parts by weight. Examples of such water-soluble organic solvents include alcohols (methanol,
ethanol, propanol, propargyl alcohol,
benzyl alcohol, phenethyl alcohol, etc.), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, acetophenone, etc.), ethers (dioxane, trioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol, propylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, tetrahydropyran, etc.), amides (dimethylformamide, dimethylacetamide, etc.), esters (methyl acetate, ethyl acetate, ethyl formate, etc.), and these may be used alone or in combination of two or more.
【0337】また、界面活性剤を水100重量部中に0
.1〜20重量部含有してもよい。界面活性剤としては
、従来公知のアニオン性、カチオン性あるいはノニオン
性の各界面活性剤が挙げられる。例えば、堀口博「新界
面活性剤」三共出版(株)、(1975年刊)、小田良
平、寺村一広「界面活性剤の合成とその応用」槇書店(
1980年刊)等に記載される化合物を用いることがで
きる。[0337] In addition, 0 parts of surfactant was added to 100 parts by weight of water.
.. It may be contained in an amount of 1 to 20 parts by weight. Examples of the surfactant include conventionally known anionic, cationic, and nonionic surfactants. For example, Hiroshi Horiguchi, “New Surfactants,” Sankyo Publishing Co., Ltd. (published in 1975), Ryohei Oda, Kazuhiro Teramura, “Synthesis of Surfactants and Their Applications,” Maki Shoten (
(1980), etc. can be used.
【0338】本発明の範囲は、上記した具体的化合物例
に限定されるものではない。処理の条件は、温度15℃
〜60℃で浸漬時間は10秒〜5分間が好ましい。[0338] The scope of the present invention is not limited to the above-mentioned specific compound examples. The processing conditions are a temperature of 15°C.
The immersion time is preferably 10 seconds to 5 minutes at ~60°C.
【0339】更には、特定の官能基を光照射で分解する
方法としては、製版におけるトナー画像を得た後のいず
れかの間で「化学的活性光線」で光照射する行程を入れ
る様にすればよい。即ち、電子写真現像後、トナー画像
の定着時に定着を兼ねて光照射を行ってもよいし、或い
は従来公知の他の定着法、例えば加熱定着、圧力定着、
溶剤定着などにより定着した後、光照射を行うものであ
る。Furthermore, as a method for decomposing specific functional groups by light irradiation, it is possible to add a step of light irradiation with "chemically active light" sometime after obtaining a toner image during plate making. Bye. That is, after electrophotographic development, light irradiation may be performed during fixing of the toner image, or other conventionally known fixing methods such as heat fixing, pressure fixing,
After fixing by solvent fixing or the like, light irradiation is performed.
【0340】本発明に用いられる「化学的活性光線」と
しては、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、X線、
γ線、α線などいずれでもよいが、好ましくは紫外線が
挙げられる。より好ましくは波長310nmから波長5
00nmの範囲での光線を発しうるものが好ましく、一
般には高圧あるいは超高圧の水銀ランプ等が用いられる
。光照射の処理は通常5cm〜50cmの距離から10
秒〜10秒間の照射で充分に行うことができる。[0340] Examples of the "chemically active light" used in the present invention include visible light, ultraviolet rays, far ultraviolet rays, electron beams, X-rays,
Any radiation such as γ rays or α rays may be used, but ultraviolet rays are preferred. More preferably wavelength 310 nm to wavelength 5
It is preferable to use one that can emit light in the 00 nm range, and generally a high-pressure or ultra-high pressure mercury lamp or the like is used. Light irradiation treatment is usually performed from a distance of 5cm to 50cm.
Irradiation for 1 to 10 seconds is sufficient.
【0341】0341]
【実施例】以下に本発明の実施例を例示するが、本発明
の内容がこれらに限定されるものではない。
樹脂〔A〕の合成例1:〔A−1〕
ベンジルメタクリレート96g、チオサリチル酸4g及
びトルエン200gの混合溶液を窒素気流下に温度75
℃に加温した。2,2’−アゾビスイソブチロニトリル
(略称A.I.B.N.)を1.0gを加え4時間反応
した。更にA.I.B.N.を0.4g加え2時間、そ
の後更にA.I.B.N.を0.2g加え3時間攪拌し
た。得られた共重合体〔A−1〕は下記の構造を有し、
その重量平均分子量は6.8×103 であった。[Examples] Examples of the present invention are illustrated below, but the content of the present invention is not limited thereto. Synthesis Example 1 of Resin [A]: [A-1] A mixed solution of 96 g of benzyl methacrylate, 4 g of thiosalicylic acid, and 200 g of toluene was heated to a temperature of 75% under a nitrogen stream.
Warmed to ℃. 1.0 g of 2,2'-azobisisobutyronitrile (abbreviated as A.I.B.N.) was added and reacted for 4 hours. Furthermore, A. I. B. N. Add 0.4g of A. for 2 hours, then add A. I. B. N. 0.2g of was added and stirred for 3 hours. The obtained copolymer [A-1] has the following structure,
Its weight average molecular weight was 6.8 x 103.
【0342】0342]
【化110】[Chemical formula 110]
【0343】樹脂〔A〕の合成例2〜13:〔A−2〕
〜〔A−13〕
樹脂〔A〕の合成例1において、ベンジルメタクリレー
ト96gに代えて、下記表−2の単量体を用いて、その
他は合成例1と同様に操作して各樹脂〔A−2〕〜〔A
−13〕を合成した。各樹脂の重量平均分子量は6.0
×103 〜8×103 であった。Synthesis Examples 2 to 13 of Resin [A]: [A-2]
~ [A-13] In Synthesis Example 1 of Resin [A], each resin [A] was prepared in the same manner as in Synthesis Example 1, except that the monomers shown in Table 2 below were used in place of 96 g of benzyl methacrylate. -2] ~ [A
-13] was synthesized. The weight average molecular weight of each resin is 6.0
×103 to 8×103.
【0344】0344
【表2】[Table 2]
【0345】0345]
【表3】[Table 3]
【0346】0346]
【表4】[Table 4]
【0347】樹脂〔A〕の合成例14〜24:〔A−1
4〕〜〔A−24〕
樹脂〔A〕の合成例1において、ベンジルメタクリレー
ト96g、チオサリチル酸4gに代えて、下記表−3に
示すメタクリレート、メルカプト化合物を用い、またト
ルエン200gに代えてトルエン150g及びイソプロ
パノール50gとした外は、合成例1と同様に反応して
各樹脂〔A−14〕〜〔A−24〕を合成した。得られ
た各共重合体の重量平均分子量は6.8×103 であ
った。Synthesis Examples 14 to 24 of Resin [A]: [A-1
4] to [A-24] In Synthesis Example 1 of resin [A], 96 g of benzyl methacrylate and 4 g of thiosalicylic acid were replaced with methacrylates and mercapto compounds shown in Table 3 below, and 200 g of toluene was replaced with 150 g of toluene. Resins [A-14] to [A-24] were synthesized in the same manner as in Synthesis Example 1, except that 50 g of isopropanol was used. The weight average molecular weight of each copolymer obtained was 6.8 x 103.
【0348】0348
【表5】[Table 5]
【0349】0349]
【表6】[Table 6]
【0350】0350]
【表7】[Table 7]
【0351】樹脂〔A〕の合成例25:〔A−25〕1
−ナフチルメタクリレート95.5g、メタクリル酸0
.5g、トルエン150g及びイソプロパノール50g
の混合溶液を窒素気流下に温度80℃に加温した。
4,4′−アゾビス(4−シアノ)吉草酸(略称A.C
.V.)5.0gを加え5時間攪拌した。更にA.C.
V.を1g加え2時間、その後更にA.C.V.を1g
加え3時間攪拌した。得られた重合体の重量平均分子量
は7.5×103 であった。Synthesis example 25 of resin [A]: [A-25] 1
-Naphthyl methacrylate 95.5g, methacrylic acid 0
.. 5g, toluene 150g and isopropanol 50g
The mixed solution was heated to 80° C. under a nitrogen stream. 4,4'-Azobis(4-cyano)valeric acid (abbreviated as A.C.
.. V. ) and stirred for 5 hours. Furthermore, A. C.
V. Add 1g of A. for 2 hours, then add A. C. V. 1g of
The mixture was added and stirred for 3 hours. The weight average molecular weight of the obtained polymer was 7.5 x 103.
【0352】0352]
【化111】[Chemical formula 111]
【0353】樹脂〔A〕の合成例26:〔A−26〕メ
チルメタクリレート50g及び塩化メチレン150gの
混合溶液を窒素気流下−20℃に冷却した。直前に調整
した10%1,1−ジフェニルヘキシルリチウムヘキサ
ン溶液を1.0g加え、5時間攪拌した。これに二酸化
炭素を流量10ml/ccで10分間攪拌下に流した後
、冷却をやめて、反応混合物が室温になるまで攪拌放置
した。次にこの反応混合物を、1N塩酸50ccをメタ
ノール1リットル中に溶かした溶液中に再沈し、白色粉
末を濾集した。この粉末を中性になるまで水洗した後、
減圧乾燥した。収量18gで、重量平均分子量6.5×
103 であった。Synthesis Example 26 of Resin [A]: [A-26] A mixed solution of 50 g of methyl methacrylate and 150 g of methylene chloride was cooled to -20° C. under a nitrogen stream. 1.0 g of the 10% 1,1-diphenylhexyllithium hexane solution prepared just before was added and stirred for 5 hours. After stirring carbon dioxide at a flow rate of 10 ml/cc for 10 minutes, cooling was stopped and the reaction mixture was left stirring until it reached room temperature. Next, this reaction mixture was reprecipitated into a solution of 50 cc of 1N hydrochloric acid dissolved in 1 liter of methanol, and a white powder was collected by filtration. After washing this powder with water until it becomes neutral,
Dry under reduced pressure. Yield 18g, weight average molecular weight 6.5x
It was 103.
【0354】0354]
【化112】[Chemical formula 112]
【0355】樹脂〔A〕の合成例27:〔A−27〕ベ
ンジルメタクリレート95g、チオグリコール酸4g及
びトルエン200gの混合溶液を窒素気流下に温度75
℃に加温した。Synthesis Example 27 of Resin [A]: [A-27] A mixed solution of 95 g of benzyl methacrylate, 4 g of thioglycolic acid, and 200 g of toluene was heated at a temperature of 75 g under a nitrogen stream.
Warmed to ℃.
【0356】A.C.V.を1.0g加え、6時間反応
した後、更にA.C.V.を0.4g加え3時間反応し
た。得られた共重合体の重量平均分子量は7.8×10
3 であった。0356 A. C. V. After adding 1.0 g of A. and reacting for 6 hours, further A. C. V. 0.4g of was added and reacted for 3 hours. The weight average molecular weight of the obtained copolymer was 7.8×10
It was 3.
【0357】0357]
【化113】[Chemical formula 113]
【0358】次に樹脂粒子用の分散安定用樹脂(一官能
性重合体)及び樹脂粒子の製造例を具体的に例示する。[0358] Next, specific examples of the production of dispersion stabilizing resin (monofunctional polymer) for resin particles and resin particles will be illustrated.
【0359】分散安定用樹脂(一官能性重合体)の製造
例1:〔M−1〕
2,2,2,2′,2′,2′−ヘキサフロロイソプロ
ピルメタクリレート95g、チオグリコール酸5g及び
トルエン200gの混合溶液を、窒素気流下攪拌しなが
ら、温度70℃に加温した。アゾビスイソブチロニトリ
ル(略称A.I.B.N.)1.0gを加え、8時間反
応した。次にこの反応溶液にグリシジルメタクリレート
8g、N,N−ジメチルドデシルアミン1.0g及びt
−ブチルハイドロキノン0.5gを加え、温度100℃
にて、12時間攪拌した。冷却後この反応溶液をメタノ
ール2リットル中に再沈し、白色粉末を82g得た。重
合体〔M−1〕の重量平均分子量は4000であった。Production example 1 of dispersion stabilizing resin (monofunctional polymer): [M-1] 95 g of 2,2,2,2',2',2'-hexafluoroisopropyl methacrylate, 5 g of thioglycolic acid, and A mixed solution of 200 g of toluene was heated to 70° C. while stirring under a nitrogen stream. 1.0 g of azobisisobutyronitrile (abbreviated as A.I.B.N.) was added and reacted for 8 hours. Next, 8 g of glycidyl methacrylate, 1.0 g of N,N-dimethyldodecylamine and t
-Add 0.5g of butylhydroquinone, temperature 100℃
The mixture was stirred for 12 hours. After cooling, this reaction solution was reprecipitated into 2 liters of methanol to obtain 82 g of white powder. The weight average molecular weight of the polymer [M-1] was 4,000.
【0360】0360]
【化114】[Chemical formula 114]
【0361】分散安定用樹脂(一官能性重合体)の製造
例2:〔M−2〕
下記構造の単量体(MA−1)96g、β−メルカプト
プロピオン酸4g、トルエン200gの混合溶液を、窒
素気流下温度70℃に加温した。A.I.B.N.
1.0gを加え、8時間反応した。次にこの反応溶液を
水浴中で冷却して、温度25℃とし、これに2−ヒドロ
キシエチルメタクリレート10gを加えた。ジシクロヘ
キシルカルボンアミド(略称D.C.C.)15g、4
−(N,N−ジメチルアミノ)ピリジン0.2g及び塩
化メチレン50gの混合溶液を30分間で攪拌下に滴下
し、更に4時間攪拌した。次に、ギ酸5gを加え1時間
攪拌後、析出した不溶物を濾別し、濾液をn−ヘキサン
1リットル中に再沈した。沈殿した粘稠物をデカンテー
ションで捕集し、テトラヒドロフラン100mlに溶解
し、再び不溶物を濾別後n−ヘキサン1リットル中に再
沈した。沈殿した粘稠物を乾燥して得られた重合体は収
量60gで重量平均分子量5.2×103であった。Production example 2 of dispersion stabilizing resin (monofunctional polymer): [M-2] A mixed solution of 96 g of monomer (MA-1) having the following structure, 4 g of β-mercaptopropionic acid, and 200 g of toluene was added. , and heated to a temperature of 70° C. under a nitrogen stream. A. I. B. N.
1.0 g was added and reacted for 8 hours. The reaction solution was then cooled in a water bath to a temperature of 25°C, and 10 g of 2-hydroxyethyl methacrylate was added thereto. Dicyclohexylcarbonamide (abbreviation D.C.C.) 15g, 4
A mixed solution of 0.2 g of -(N,N-dimethylamino)pyridine and 50 g of methylene chloride was added dropwise with stirring over 30 minutes, and the mixture was further stirred for 4 hours. Next, 5 g of formic acid was added and after stirring for 1 hour, the precipitated insoluble matter was filtered off, and the filtrate was reprecipitated into 1 liter of n-hexane. The precipitated viscous substance was collected by decantation, dissolved in 100 ml of tetrahydrofuran, and after filtering off the insoluble matter again, it was reprecipitated in 1 liter of n-hexane. The polymer obtained by drying the precipitated viscous material had a yield of 60 g and a weight average molecular weight of 5.2 x 103.
【0362】0362]
【化115】[Chemical formula 115]
【0363】0363]
【化116】[Chemical formula 116]
【0364】分散安定用樹脂(一官能性重合体)の製造
例3:〔M−3〕
下記構造の単量体〔MA−2〕95g、ベンゾトリフロ
リド150g、エタノール50gの混合溶液を窒素気流
下、攪拌しながら温度75℃に加温した。4,4′−ア
ゾビス(4−シアノ吉草酸)(略称A.C.V.)2g
を加え8時間反応した。冷却後メタノール1リットル中
に再沈し得られた重合体を乾燥した。次にこの重合体5
0g及び2−ヒドロキシエチルメタクリレート11g、
ベンゾトリフロリド150gに溶解し、温度25℃とし
た。この混合物に攪拌下、D.C.C.15g、4−(
N,N−ジメチルアミノピリジン)0.1g及び塩化メ
チレン30gの混合溶液を30分間で滴下し、そのまま
更に4時間攪拌した。後、ギ酸3gを加え1時間攪拌し
た後、析出した不溶物を濾別し、濾液をメタノール80
0ml中に再沈した。沈殿物を捕集し、ベンゾトリフロ
リド150gに溶解し、再び再沈操作を行ない、粘稠物
30gを得た。重合体〔M−3〕の重量平均分子量は3
.3×104 であった。Production example 3 of dispersion stabilizing resin (monofunctional polymer): [M-3] A mixed solution of 95 g of monomer [MA-2] having the following structure, 150 g of benzotrifluoride, and 50 g of ethanol was heated with nitrogen. The mixture was heated to a temperature of 75° C. with stirring under a stream of air. 2 g of 4,4'-azobis(4-cyanovaleric acid) (abbreviation A.C.V.)
was added and reacted for 8 hours. After cooling, the resulting polymer was reprecipitated into 1 liter of methanol and dried. Next, this polymer 5
0 g and 11 g of 2-hydroxyethyl methacrylate,
It was dissolved in 150 g of benzotrifluoride, and the temperature was set to 25°C. Add D. to this mixture under stirring. C. C. 15g, 4-(
A mixed solution of 0.1 g of N,N-dimethylaminopyridine) and 30 g of methylene chloride was added dropwise over 30 minutes, and the mixture was further stirred for 4 hours. After that, 3 g of formic acid was added and stirred for 1 hour. The precipitated insoluble matter was filtered off, and the filtrate was diluted with 80% methanol.
It was reprecipitated in 0 ml. The precipitate was collected, dissolved in 150 g of benzotrifluoride, and reprecipitated again to obtain 30 g of a viscous substance. The weight average molecular weight of polymer [M-3] is 3
.. It was 3×104.
【0365】0365]
【化117】[Chemical formula 117]
【0366】0366]
【化118】[Chemical formula 118]
【0367】分散安定用樹脂(一官能性重合体)の製造
例4〜22:〔M−4〕〜〔M−22〕製造例2におい
て単量体(MA−1)の代わりに他の単量体(表−4に
記された重合体成分に相当する単量体)に代えた他は、
製造例2と同様にして、各分散安定用樹脂〔M〕を製造
した。各重量平均分子量は4×103 〜6×108
であった。Production Examples 4 to 22 of dispersion stabilizing resin (monofunctional polymer): [M-4] to [M-22] In Production Example 2, other monomers were used instead of monomer (MA-1). mer (monomer corresponding to the polymer component listed in Table 4).
Each dispersion stabilizing resin [M] was produced in the same manner as in Production Example 2. Each weight average molecular weight is 4 x 103 ~ 6 x 108
Met.
【0368】0368
【表8】[Table 8]
【0369】0369]
【表9】[Table 9]
【0370】0370]
【表10】[Table 10]
【0371】0371]
【表11】[Table 11]
【0372】分散安定用樹脂(一官能性重合体)の製造
例23〜30:〔M−23〕〜〔M−30〕分散安定用
樹脂の製造例2において、単量体(MA−1)及び2−
ヒドロキシエチルメタクリレートを各々、下記表−5の
重合体の各々に相当する化合物に代えて、他は同様の方
法により、各分散安定用樹脂〔M〕を製造した。各重量
平均分子量は5×103 〜6×103 であった。[0372] Production examples 23 to 30 of dispersion stabilizing resin (monofunctional polymer): [M-23] to [M-30] In production example 2 of dispersion stabilizing resin, monomer (MA-1) and 2-
Each dispersion stabilizing resin [M] was produced in the same manner except that hydroxyethyl methacrylate was replaced with a compound corresponding to each of the polymers in Table 5 below. Each weight average molecular weight was 5 x 103 to 6 x 103.
【0373】0373]
【表12】[Table 12]
【0374】0374]
【表13】[Table 13]
【0375】0375]
【表14】[Table 14]
【0376】分散安定用樹脂の製造例31:〔M−31
〕
オクチルメタクリレート30g、下記構造の単量体(M
A−3)70gグリシジルメタクリレート3g及びベン
ゾトリフルオリド200gの混合溶液を、窒素気流下攪
拌しながら、温度75℃に加温した。2,2′−アゾビ
スイソブチロニトリル(A.I.B.N)1.0gを加
え4時間反応し、更にA.I.B.N.0.5gを加え
4時間反応した。次にこの反応混合物にメタアクリル酸
5gN,N−ジメチルドデシルアミン1.0g、t−ブ
チルハイドロキノン0.5gを加え、温度110℃にて
8時間攪拌した。冷却後、メタノール2リットル中に再
沈し、やや褐色気味の油状物を捕集後、乾燥した。収量
73gで重量平均分子量3.6×104 であった。[0376] Production example 31 of resin for dispersion stabilization: [M-31
] 30 g of octyl methacrylate, a monomer with the following structure (M
A-3) A mixed solution of 70 g of 3 g of glycidyl methacrylate and 200 g of benzotrifluoride was heated to a temperature of 75° C. while stirring under a nitrogen stream. 1.0 g of 2,2'-azobisisobutyronitrile (A.I.B.N.) was added and reacted for 4 hours, and then A.I.B.N. I. B. N. 0.5 g was added and reacted for 4 hours. Next, 5 g of methacrylic acid, 1.0 g of N,N-dimethyldodecylamine, and 0.5 g of t-butylhydroquinone were added to this reaction mixture, and the mixture was stirred at a temperature of 110° C. for 8 hours. After cooling, it was reprecipitated into 2 liters of methanol, and a slightly brownish oil was collected and dried. The yield was 73 g, and the weight average molecular weight was 3.6 x 104.
【0377】0377]
【化119】[Chemical formula 119]
【0378】分散安定用樹脂の製造例32:M−32下
記の単量体MA−4 80g、グリシジルメタクリレ
ート 20g、2−メルカプトエタノール2g及びテ
トラヒドロフラン 300gの混合溶液を、窒素気流
下攪拌しながら温度60℃に加温した。これに2,2′
−マゾビス(イソバレロニトリル)(略称:A.I.V
.N.)0.8gを加え4時間反応し、更にA.I.V
.N. 0.4gを加えて4時間反応した。この反応
物を温度25℃に冷却した後、メタクリル酸4gを加え
、攪拌下にD.C.C.6g、4−(N,N−ジメチル
アミノ)ピリジン 0.1g及び塩化メチレン 1
5gの混合溶液を1時間で滴下し、そのまま更に3時間
攪拌した。次に、水10gを加え、1時間攪拌し析出し
た不溶物を濾別後、濾液をメタノール1リットル中に再
沈し油状物を補集した。更にこの油状物を、ベンゼン
150gに溶解し不溶物を濾別後、再びメタノール1
リットル中に再沈し油状物を補集し乾燥した。収量は5
6gで重量平均分子量8×103 であった。Production Example 32 of Dispersion Stabilizing Resin: M-32 A mixed solution of 80 g of the following monomer MA-4, 20 g of glycidyl methacrylate, 2 g of 2-mercaptoethanol, and 300 g of tetrahydrofuran was heated at a temperature of 60°C while stirring under a nitrogen stream. Warmed to ℃. 2,2' to this
-Mazobis(isovaleronitrile) (abbreviation: A.I.V.
.. N. ) was added and reacted for 4 hours, and further A. I. V
.. N. 0.4 g was added and reacted for 4 hours. After cooling the reaction mixture to a temperature of 25° C., 4 g of methacrylic acid was added and D. C. C. 6g, 4-(N,N-dimethylamino)pyridine 0.1g and methylene chloride 1
5 g of the mixed solution was added dropwise over 1 hour, and the mixture was stirred for an additional 3 hours. Next, 10 g of water was added, and the mixture was stirred for 1 hour. After filtering off the precipitated insoluble matter, the filtrate was reprecipitated in 1 liter of methanol to collect the oily matter. Furthermore, this oil is mixed with benzene.
After dissolving in 150 g and filtering off insoluble matter, add 1 ml of methanol again.
The oil was collected and dried. Yield is 5
The weight average molecular weight was 8 x 103 at 6 g.
【0379】0379]
【化120】[Chemical formula 120]
【0380】分散安定用樹脂の製造例33〜39:M−
33〜M39
製造例32に示した様な反応を行なうことで下記表−6
の分散安定用樹脂を各々合成した。各樹脂の重量平均分
子量は6×103 〜9×103 の範囲であった。[0380] Production examples 33 to 39 of resin for dispersion stabilization: M-
33-M39 By performing the reaction shown in Production Example 32, the following Table-6
Each of these dispersion stabilizing resins was synthesized. The weight average molecular weight of each resin was in the range of 6 x 103 to 9 x 103.
【0381】0381]
【表15】[Table 15]
【0382】0382
【表16】[Table 16]
【0383】0383
【表17】[Table 17]
【0384】樹脂粒子の製造例1:〔L−1〕分散安定
用樹脂〔M−32〕10g及びメチルエチルケトン20
0gの混合溶液を窒素気流下攪拌しながら温度60℃に
加温した。これに、下記単量体〔C−1〕40g、エチ
レングリコールジメタクリレート10g、A.I.V.
N.0.5g及びメチルエチルケトン240gの混合溶
液を2時間で滴下し、そのまま2時間反応した。更にA
.I.V.N.0.5gを加え2時間反応した。冷却後
、200メッシュのナイロン布を通して白色分散物を得
た。平均粒径0.20μmのラテックスであった。(:
CAPA−500(堀場製作所(株)製で粒径測定)Production Example 1 of Resin Particles: [L-1] 10 g of dispersion stabilizing resin [M-32] and 20 g of methyl ethyl ketone
0 g of the mixed solution was heated to 60° C. with stirring under a nitrogen stream. To this, 40 g of the following monomer [C-1], 10 g of ethylene glycol dimethacrylate, A. I. V.
N. A mixed solution of 0.5 g and 240 g of methyl ethyl ketone was added dropwise over 2 hours, and the reaction was continued for 2 hours. Further A
.. I. V. N. 0.5 g was added and reacted for 2 hours. After cooling, a white dispersion was obtained through a 200 mesh nylon cloth. The latex had an average particle size of 0.20 μm. (:
CAPA-500 (particle size measurement made by Horiba, Ltd.)
【0385】0385]
【化121】[Chemical formula 121]
【0386】樹脂粒子の製造例2〜11:〔L−2〕〜
〔L−11〕
樹脂粒子の製造例1において、樹脂〔M−32〕及び単
量体〔C−1〕の代わりに下記表−7の各単量体に代え
た他は、製造例1と同様にして樹脂粒子を製造した。各
粒子の平均粒径は0.15〜0.30μmの範囲内であ
った。[0386] Production examples 2 to 11 of resin particles: [L-2] to
[L-11] In Production Example 1 of resin particles, each monomer in Table 7 below was used instead of resin [M-32] and monomer [C-1]. Resin particles were produced in the same manner. The average particle size of each particle was within the range of 0.15 to 0.30 μm.
【0387】0387]
【表18】[Table 18]
【0388】0388
【表19】[Table 19]
【0389】0389]
【表20】[Table 20]
【0390】樹脂粒子の製造例13〜23:〔L−13
〕〜〔L−23〕
樹脂粒子の製造例1において、エチレングリコールジア
クリレート2.5gに代えて、下記表−8の多官能性化
合物を用いた他は製造例1と同様にして樹脂粒子〔L−
13〕〜〔L−23〕を製造した。各粒子とも重合率は
95〜98%で平均粒径は0.15〜0.25μmであ
った。[0390] Production examples 13 to 23 of resin particles: [L-13
] ~ [L-23] Resin particles were produced in the same manner as in Production Example 1 of Resin Particles, except that in place of 2.5 g of ethylene glycol diacrylate, a polyfunctional compound shown in Table 8 below was used. L-
13] to [L-23] were produced. The polymerization rate of each particle was 95 to 98%, and the average particle size was 0.15 to 0.25 μm.
【0391】0391
【表21】[Table 21]
【0392】樹脂粒子の製造例24:〔L−24〕分散
安定用樹脂〔M−35〕8g及びメチルエチルケトン1
30gの混合溶液を窒素気流下攪拌しながら60℃に加
温した。これに、下記単量体〔C−13〕45g、ジエ
チレングリコールジメタクリレート5g、A.I.V.
N.0.5g及びメチルエチルケトン150gの混合溶
液を1時間で滴下し更にA.I.V.N.0.25gを
加えて2時間反応した。冷却後、200メッシュのナイ
ロン布を通して得られた分散物の平均粒径は0.25μ
mであった。Production example 24 of resin particles: [L-24] 8 g of dispersion stabilizing resin [M-35] and 1 methyl ethyl ketone
30 g of the mixed solution was heated to 60° C. with stirring under a nitrogen stream. To this, 45 g of the following monomer [C-13], 5 g of diethylene glycol dimethacrylate, A. I. V.
N. A mixed solution of 0.5 g and 150 g of methyl ethyl ketone was added dropwise over 1 hour. I. V. N. 0.25g was added and reacted for 2 hours. After cooling, the average particle size of the obtained dispersion was 0.25μ through a 200 mesh nylon cloth.
It was m.
【0393】0393
【化122】[Chemical formula 122]
【0394】樹脂粒子の製造例25:〔L−25〕分散
安定用樹脂〔M−26〕7.5g及びメチルエチルケト
ン230gの混合溶液を窒素気流下、攪拌しながら60
℃に加温した。これに単量体〔C−12〕22g、アク
リルアミド15g、A.I.V.N.0.5g及びメチ
ルエチルケトン200gの混合溶液を2時間で滴下し、
更にそのまま1時間反応した。更に、A.I.V.N.
0.25gを加え、2時間反応した後、冷却し200メ
ッシュナイロン布を通して得られた分散物の平均粒径は
0.25μmであった。
樹脂粒子の製造例26:〔L−26〕
下記の単量体〔C−14〕42g、エチレングリコール
ジアクリレート8g、分散安定用樹脂〔M−27〕8g
及びジプロピルケトン230gを窒素気流下温度60℃
に加温したジプロピルケトン200gの溶液中に攪拌し
ながら2時間で滴下した。そのまま1時間反応後、更に
A.I.V.N0.3gを加え2時間反応した。冷却後
200メッシュナイロン布を通して得られた分散物の平
均粒径は0.20μmであった。Production Example 25 of Resin Particles: [L-25] A mixed solution of 7.5 g of dispersion stabilizing resin [M-26] and 230 g of methyl ethyl ketone was heated for 60 hours with stirring under a nitrogen stream.
Warmed to ℃. To this, 22 g of monomer [C-12], 15 g of acrylamide, A. I. V. N. A mixed solution of 0.5 g and 200 g of methyl ethyl ketone was added dropwise over 2 hours,
The reaction was further continued for 1 hour. Furthermore, A. I. V. N.
After adding 0.25 g and reacting for 2 hours, the resulting dispersion was cooled and passed through a 200 mesh nylon cloth, and the average particle size of the obtained dispersion was 0.25 μm. Production example 26 of resin particles: [L-26] 42 g of the following monomer [C-14], 8 g of ethylene glycol diacrylate, 8 g of dispersion stabilizing resin [M-27]
and 230 g of dipropyl ketone under a nitrogen stream at a temperature of 60°C.
The solution was added dropwise over 2 hours to a solution of 200 g of dipropyl ketone heated to 2 hours with stirring. After reacting for 1 hour, A. I. V. 0.3 g of N was added and reacted for 2 hours. After cooling, the resulting dispersion was passed through a 200 mesh nylon cloth, and the average particle size of the resulting dispersion was 0.20 μm.
【0395】0395]
【化123】[Chemical formula 123]
【0396】樹脂粒子の製造例27〜36:〔L−27
〕〜〔L−36〕
樹脂粒子の製造例26において、分散安定用樹脂〔M−
27〕の代わりに下記表−9の各分散安定用樹脂を用い
た他は製造例12と同様にして各粒子を製造した。各粒
子の平均粒径は0.20〜0.25の範囲であった。[0396] Production examples 27 to 36 of resin particles: [L-27
] ~ [L-36] In Production Example 26 of resin particles, dispersion stabilizing resin [M-
Particles were produced in the same manner as in Production Example 12, except that each dispersion stabilizing resin shown in Table 9 below was used instead of [27]. The average particle size of each particle was in the range of 0.20 to 0.25.
【0397】0397]
【表22】[Table 22]
【0398】樹脂粒子の製造例37〜42:〔L−37
〕〜〔L−42〕
樹脂粒子の製造例25において、単量体〔C−12〕、
アクリルアミド及び反応溶媒:メチルエチルケトンの代
わりに下記表−10の各々の化合物を用いた他は、製造
例13と同様にして各粒子を製造した。各粒子の平均粒
径は0.15〜0.30の範囲であった。[0398] Production examples 37 to 42 of resin particles: [L-37
] ~ [L-42] In Production Example 25 of resin particles, monomer [C-12],
Acrylamide and reaction solvent: Particles were produced in the same manner as in Production Example 13, except that the compounds shown in Table 10 below were used instead of methyl ethyl ketone. The average particle size of each particle was in the range of 0.15 to 0.30.
【0399】0399]
【表23】[Table 23]
【0400】0400]
【表24】[Table 24]
【0401】実施例1及び比較例A〜B実施例1
樹脂〔A−4〕6g(固形分量として)、下記構造の樹
脂〔B−1〕33g(固形分量として)、光導電性酸化
亜鉛200g下記構造のメチン色素〔I〕0.018g
、サリチル酸0.15g及びトルエン300gの混合物
を、ホモジナイザー(日本精機(株)製)中で、7×1
03 r.p.m.の回転数で10分間分散した。これ
に分散樹脂粒子〔L−1〕1.0g(固形分量として)
、無水フタル酸0.01gを加えて、回転数1×103
r.p.m.で1分間分散した。この感光層形成用分
散物を導電処理した紙に乾燥付着量が25g/m2 と
なるようにワイヤーバーで塗布し、100℃で30秒間
乾燥し、更に120℃で1時間加熱した。ついで暗所で
20℃、65%RHの条件下で24時間放置することに
より、電子写真感光材料を作製した。Example 1 and Comparative Examples A to B Example 1 6 g (as solid content) of resin [A-4], 33 g (as solid content) of resin [B-1] having the following structure, 200 g of photoconductive zinc oxide Methine dye [I] with the following structure 0.018g
, 0.15 g of salicylic acid, and 300 g of toluene in a 7×1 homogenizer (manufactured by Nippon Seiki Co., Ltd.).
03 r. p. m. Dispersion was carried out for 10 minutes at a rotation speed of . Dispersed resin particles [L-1] 1.0g (as solid content)
, add 0.01 g of phthalic anhydride, and rotate at 1×103
r. p. m. Dispersion was performed for 1 minute. This dispersion for forming a photosensitive layer was applied to conductively treated paper using a wire bar so that the dry adhesion amount was 25 g/m2, dried at 100°C for 30 seconds, and further heated at 120°C for 1 hour. Then, an electrophotographic light-sensitive material was prepared by leaving it in a dark place for 24 hours at 20° C. and 65% RH.
【0402】0402]
【化124】[Chemical formula 124]
【0403】0403]
【化125】[Chemical formula 125]
【0404】比較例A
実施例1において、樹脂〔A−4〕6g及び樹脂〔B−
1〕33gの代わりに樹脂〔B−1〕のみ39gを用い
た他は実施例1と同様に操作して電子写真感光材料を作
製した。
比較例B
比較用分散樹脂粒子:LR−1
樹脂粒子の製造例1:L−1において、分散安定用樹脂
〔M−32〕10gの代わりに、下記構造の樹脂を用い
た他は、製造例1と同様にして合成した。得られたラテ
ックスの平均粒径は0.17μmであった。Comparative Example A In Example 1, 6 g of resin [A-4] and resin [B-
1] An electrophotographic light-sensitive material was prepared in the same manner as in Example 1, except that 39 g of resin [B-1] was used instead of 33 g. Comparative Example B Comparative Dispersed Resin Particles: LR-1 Manufacturing Example 1 of Resin Particles: In L-1, a resin having the following structure was used instead of 10 g of the dispersion stabilizing resin [M-32]. It was synthesized in the same manner as in 1. The average particle size of the obtained latex was 0.17 μm.
【0405】0405]
【化126】[Chemical formula 126]
【0406】比較用感光体
実施例1において、樹脂粒子〔L−1〕1.0gの代わ
りに、樹脂粒子〔LR−1〕1.0g(固形分量として
)を用いた他は、実施例1と同様にして電子写真感光材
料を作製した。これらの感光材料の皮膜性(表面の平滑
度)、静電特性、光導電層の不感脂化性(不感脂化処理
後の光導電層の水との接触角で表わす)及び印刷性を調
べた。印刷性は、全自動製版機ELP404V(富士写
真フィルム(株)製)に現像剤ELP−Tを用いて、露
光・現像処理して画像を形成し、不感脂化処理をして得
られた平版印刷板を用いて調べた。(なお印刷機にはハ
マダスター(株)製ハマダスター800SX型を用いた
)以上の結果をまとめて、表−11に示す。Comparative photoreceptor Example 1 was used except that 1.0 g (as solid content) of resin particles [LR-1] was used instead of 1.0 g of resin particles [L-1] in Example 1. An electrophotographic light-sensitive material was produced in the same manner as described above. The film properties (surface smoothness), electrostatic properties, desensitization of the photoconductive layer (represented by the contact angle with water of the photoconductive layer after desensitization treatment), and printability of these photosensitive materials were investigated. Ta. Printability was determined using a fully automatic plate making machine ELP404V (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) using developer ELP-T to form an image through exposure and development, followed by desensitization. It was investigated using a printing board. (The printing machine used was Hamada Star 800SX manufactured by Hamada Star Co., Ltd.) The above results are summarized in Table 11.
【0407】0407]
【表25】[Table 25]
【0408】表−11に記した評価項目の実施の態様は
以下の通りである。
注1) 光導電層の平滑性:得られた感光材料を、ベ
ック平滑度試験機(熊谷理工(株)製)を用い、空気容
量1ccの条件にて、その平滑度(sec/cc)を測
定した。
注2) 静電特性:温度20℃、65%RHの暗室中
(:環境条件〔I〕)で、各感光材料にペーパーアナラ
イザー(川口電機(株)製ペーパーアナライザー−SP
−428型)を用いて−6kVで20秒間コロナ放電さ
せた後、10秒間放置し、この時の表面電位V10を測
定した。次いでそのまま暗中で120秒間静置させた後
の電位V130 を測定し、120秒間暗減衰させた後
の電位の保持性、即ち、暗減衰保持率〔D.R.R.(
%)〕を〔(V130 /V10)×100(%)〕で
求めた。[0408] The implementation of the evaluation items listed in Table 11 is as follows. Note 1) Smoothness of photoconductive layer: The smoothness (sec/cc) of the obtained photosensitive material was measured using a Beck smoothness tester (manufactured by Kumagai Riko Co., Ltd.) under the condition of an air volume of 1 cc. It was measured. Note 2) Electrostatic properties: In a dark room at a temperature of 20°C and 65% RH (environmental conditions [I]), each photosensitive material was tested with a paper analyzer (Paper Analyzer-SP manufactured by Kawaguchi Electric Co., Ltd.).
-428 type) for 20 seconds at -6 kV, and then allowed to stand for 10 seconds, and the surface potential V10 at this time was measured. Next, the potential V130 was measured after being allowed to stand still in the dark for 120 seconds, and the retention of the potential after dark decay for 120 seconds, that is, the dark decay retention rate [D. R. R. (
%)] was calculated as [(V130/V10)×100(%)].
【0409】また、コロナ放電により光導電層表面を−
500Vに帯電させた後、波長780nmの単色光で照
射し、表面電位V10が1/10に減衰するまでの時間
を求め、これから露光量E1/10(erg/cm2
)を算出する。[0409] Furthermore, corona discharge can cause the surface of the photoconductive layer to -
After charging to 500V, irradiate it with monochromatic light with a wavelength of 780nm, calculate the time until the surface potential V10 attenuates to 1/10, and calculate the exposure amount E1/10 (erg/cm2).
) is calculated.
【0410】同様に温度30℃、65%RHの条件下で
同様の測定を行った。(:環境条件〔II〕)注3)
撮像性:各感光材料を環境条件I又はIIで1昼夜放
置した。次に−5kVで帯電し、光源として2.8mW
出力のガリウム−アルミニウム−ヒ素半導体レーザー(
発振波長780nm)を用いて、感光材料表面上で、5
0erg/cm3 の照射量下、ピッチ25μm及びス
キャニング速度330m/secのスピード露光後、液
体現像剤として、ELP−T(富士写真フイルム(株)
製)を用いて現像し、定着することで得られた複写画像
につき、カブリ、画像の画質を目視評価した。
注4) 生版保水性:感光材料を印刷用原版として用
いる際の不感脂化処理による親水化の程度を、下記の強
制条件で処理して調べた。[0410] Similar measurements were carried out under the conditions of a temperature of 30°C and a RH of 65%. (: Environmental conditions [II]) Note 3)
Imaging properties: Each photosensitive material was left for one day and night under environmental conditions I or II. Next, it is charged with -5kV and used as a light source with 2.8mW.
Output gallium-aluminum-arsenic semiconductor laser (
5 on the surface of the photosensitive material using an oscillation wavelength of 780 nm).
After exposure at a irradiation dose of 0 erg/cm3, a pitch of 25 μm, and a scanning speed of 330 m/sec, ELP-T (Fuji Photo Film Co., Ltd.) was used as a liquid developer.
Copied images obtained by developing and fixing the images were visually evaluated for fogging and image quality. Note 4) Water retention of raw plate: The degree of hydrophilicity due to desensitization treatment when a photosensitive material is used as a printing original plate was investigated under the following forced conditions.
【0411】各感光材料そのものを(製版しない原版:
即ち、生版と略称)富士写真フィルム(株)製不感脂化
処理液ELP−EXを蒸留水で5倍に希釈した水溶液を
用いて、エッチングマシーンを1回通した。更にこれを
下記処方の処理液:E−1中に温度35℃で3分間浸せ
きした。次に、これらの版をハマダスター(株)製ハマ
ダスター8005X型を用いて印刷し、刷り出しから5
0枚目の印刷物の地汚れの有無を目視で評価した。
不感脂化処理液:E−1
モノエタノールアミン
60g
ネオソープ(松本油脂(株)製)
8g
ベンゾルアルコール
100g を蒸留水で希釈
し全量を1.0リットルにした後、水酸化カリウムでp
H10.5に調整した。
注5) 印刷物の地汚れ:各感光材料を上記注3)と
同一の操作で製版した後、ELP−EXを用いて、エッ
チングマシーンを1回通した後、注4)のモノエタノー
ルアミン含有水溶液に3分間浸した後水洗した。これら
のオフセットマスター用原版を、湿し水として上記モノ
エタノールアミン含有液を5倍に希釈した溶液を用いて
印刷し、印刷物の地汚れが目視で判別できるまでの印刷
枚数を調べた。[0411] Each photosensitive material itself (original plate without plate making:
That is, an aqueous solution prepared by diluting a desensitizing treatment liquid ELP-EX (produced by Fuji Photo Film Co., Ltd.) five times with distilled water was passed through an etching machine once. Further, this was immersed in a treatment solution E-1 having the following formulation at a temperature of 35° C. for 3 minutes. Next, these plates were printed using Hamada Star 8005X model manufactured by Hamada Star Co., Ltd., and 5
The presence or absence of scumming on the 0th printed sheet was visually evaluated. Desensitizing treatment liquid: E-1 Monoethanolamine
60g
Neosoap (manufactured by Matsumoto Yushi Co., Ltd.)
8g
benzol alcohol
Dilute 100g with distilled water to make a total volume of 1.0 liters, and then dilute with potassium hydroxide.
Adjusted to H10.5. Note 5) Scratching of printed matter: After each photosensitive material was plate-made in the same manner as in Note 3) above, it was passed through an etching machine once using ELP-EX, and then the monoethanolamine-containing aqueous solution of Note 4) was applied. After soaking for 3 minutes, it was washed with water. These original plates for offset masters were printed using a 5-fold dilution of the monoethanolamine-containing liquid as a dampening solution, and the number of prints until background smear on the printed matter could be visually determined was determined.
【0412】表−11に示すように、本発明及び比較例
Bの感光材料は光導電層の平滑性及び静電特性が良好で
実際の複写画像も地カブリがなく、複写画質も鮮明であ
った。As shown in Table 11, the photosensitive materials of the present invention and Comparative Example B had good smoothness and electrostatic properties of the photoconductive layer, and the actual copied images had no background fog and the quality of the copied images was clear. Ta.
【0413】次にオフセットマスター原版として用いた
場合、製版しない感光材料を不感脂化処理液を希釈して
、厳しい条件下で不感脂化処理して実際に印刷して保水
性を調べたところ、本発明のものは刷り出しから地汚れ
のない良好な保水性を示し、更に実際に製版した原版を
用いても地汚れのない鮮明な印刷物が5千枚得られた。
これに対し、表面濃縮作用をもたない公知の比較用樹脂
粒子LR−1が添加されている比較例Bは保水性が不充
分で、印刷物の地汚れが刷り出しから発生し、刷り込ん
でも解消されることはなかった。[0413] Next, when used as an offset master original plate, a photosensitive material that was not made into a plate was desensitized by diluting the desensitization treatment solution under severe conditions, and the water retention was examined by actually printing. The product of the present invention showed good water retention without scumming from the beginning of printing, and even when the original plate actually made was used, 5,000 clear prints without scumming were obtained. On the other hand, in Comparative Example B, in which known comparative resin particles LR-1, which does not have a surface concentration effect, were added, the water retention was insufficient, and background stains on printed matter occurred from the beginning of printing and disappeared even after printing. It was never done.
【0414】比較例Aは静電特性が著しく低下し、実際
の撮像性において満足な複写画像が得られなかった。一
方、オフセット原版としての保水性は、ほぼ良好なもの
となった。しかし、実際に製版して得た印刷物は、製版
時の非画像部の地汚れあるいは画像部の画質の劣化(細
線、細文字等の欠落)のため、印刷物の画質は、刷り出
しから満足なものが得られなかった。[0414] In Comparative Example A, the electrostatic properties were significantly deteriorated, and a copy image that was satisfactory in terms of actual imaging performance could not be obtained. On the other hand, the water retention property as an offset master plate was almost good. However, the image quality of printed matter obtained from actual plate making is not satisfactory from the start of printing due to background stains in non-image areas during plate making or deterioration of image quality in image areas (missing thin lines, fine letters, etc.). I couldn't get anything.
【0415】以上のことより、本発明の樹脂〔A〕及び
樹脂粒子〔L〕の両者を用いた場合にのみ、静電特性及
び印刷特性を満足する電子写真感光体が得られることが
判る。
実施例2
樹脂〔A−25〕5.5g(固形分量として)、下記構
造の樹脂〔B−2〕32.5g、樹脂粒子〔L−24〕
2g(固形分量として)、下記構造のメチン色素〔II
〕0.02gの他は実施例1と同様に操作して電子写真
感光材料を作成した。From the above, it can be seen that an electrophotographic photoreceptor that satisfies the electrostatic properties and printing properties can be obtained only when both the resin [A] and the resin particles [L] of the present invention are used. Example 2 Resin [A-25] 5.5 g (as solid content), resin [B-2] having the following structure 32.5 g, resin particles [L-24]
2g (as solid content), methine dye [II
] An electrophotographic light-sensitive material was prepared in the same manner as in Example 1 except for 0.02 g.
【0416】0416]
【化127】[Chemical formula 127]
【0417】0417]
【化128】[Chemical formula 128]
【0418】得られた感光材料の電子写真特性及び印刷
適性について実施例1と同様にして測定し、下記の結果
を得た。
静電特性(30℃、80%RH)
V10 : −620VD.R.R.
: 83%
E1/10 : 28erg/cm2 撮
像性 I(20℃、65%RH): 良好II
(30℃、80%RH): 良好保水性 :
◎ 良好
耐刷性 : 5千枚
以上の如く、静電特性、印刷適性共に良好なものであっ
た。
実施例3〜22
下記表−12の樹脂〔A〕各5g(固形分量として)、
樹脂粒子〔L〕2g(固形分量として)、下記構造の樹
脂〔B−3〕33g及びメチン色素〔III〕0.01
8gの他は樹脂1と同様にして各感光材料を作成した。The electrophotographic properties and printing suitability of the obtained photosensitive material were measured in the same manner as in Example 1, and the following results were obtained. Electrostatic characteristics (30℃, 80%RH) V10: -620VD. R. R.
: 83% E1/10 : 28erg/cm2 Imaging performance I (20°C, 65%RH): Good II
(30℃, 80%RH): Good water retention:
◎ Good printing durability: Both electrostatic properties and printability were good, as it was printed over 5,000 sheets. Examples 3 to 22 5 g each (as solid content) of resin [A] shown in Table 12 below,
2 g of resin particles [L] (as solid content), 33 g of resin [B-3] with the following structure, and 0.01 g of methine dye [III]
Each photosensitive material was prepared in the same manner as Resin 1 except for 8 g.
【0419】0419]
【化129】[Chemical formula 129]
【0420】0420]
【化130】[Chemical formula 130]
【0421】0421]
【表26】[Table 26]
【0422】静電特性、撮像性及び印刷特性を実施例1
と同様に操作して評価した。但し、印刷特性の評価にお
いて、実施例1の樹脂粒子の不感脂化処理液E−1に代
えて、下記処方より成る処理液E−2を用いた。[0422] Electrostatic properties, imaging properties, and printing properties are shown in Example 1.
The evaluation was performed in the same manner as above. However, in evaluating the printing characteristics, instead of the resin particle desensitization treatment liquid E-1 of Example 1, a treatment liquid E-2 having the following formulation was used.
【0423】
不感脂化処理液:E−2
ジエタノールアミン
60g
ネオソープ(松本油脂(株)製)
10g
メチルエチルケトン
70gを蒸留水に溶
解して全量を1リットルとし、水酸化カリウムでpH1
0.5に調整した。[0423] Desensitizing treatment liquid: E-2 diethanolamine
60g
Neosoap (manufactured by Matsumoto Yushi Co., Ltd.)
10g
Methyl ethyl ketone
Dissolve 70g in distilled water to make a total volume of 1 liter, and adjust to pH 1 with potassium hydroxide.
It was adjusted to 0.5.
【0424】各感光材料とも、静電特性、撮像性、印刷
特性ともに、実施例1とほぼ同等の特性を示し、非常に
良好な結果であった。
実施例23及び比較例C
樹脂〔A−1〕5g、下記構造の樹脂〔B−4〕34g
、樹脂粒子〔L−6〕1.2g、酸化亜鉛200g、ウ
ラニン0.02g、ローズベンガル0.04g、ブロム
フェノールブルー0.03g、無水フタル酸0.20g
及びトルエン300gの混合物をホモジナイザー中で、
回転数1×104 r.p.m.で5分間分散して感光
層形成物を調製し、これを導電処理した紙に、乾燥付着
量が22g/m2 となるようにワイヤーバーで塗布し
、110℃で1分間乾燥した。次いで暗所で20℃、6
5%RHの条件下で24時間放置することにより下記表
−13に示す電子写真感光体を作製した。[0424] Each of the photosensitive materials showed almost the same properties as Example 1 in terms of electrostatic properties, imaging properties, and printing properties, giving very good results. Example 23 and Comparative Example C 5 g of resin [A-1], 34 g of resin [B-4] with the following structure
, resin particles [L-6] 1.2g, zinc oxide 200g, uranine 0.02g, rose bengal 0.04g, bromophenol blue 0.03g, phthalic anhydride 0.20g
and 300 g of toluene in a homogenizer,
Rotation speed 1×104 r. p. m. Dispersion was carried out for 5 minutes to prepare a photosensitive layer-forming product, which was coated on electrically conductive treated paper using a wire bar so that the dry adhesion amount was 22 g/m 2 and dried at 110° C. for 1 minute. Then, in the dark at 20℃, 6
The electrophotographic photoreceptor shown in Table 13 below was prepared by leaving it for 24 hours under the condition of 5% RH.
【0425】0425]
【化131】[Chemical formula 131]
【0426】比較例C
実施例23において樹脂〔A−1〕5g及び樹脂〔B−
4〕34gの代わりに樹脂〔B−4〕のみ40gを用い
又、樹脂粒子〔L−6〕を除いた他は、実施例23と同
様にして電子写真感光体を作製した。Comparative Example C In Example 23, 5 g of resin [A-1] and resin [B-
4] An electrophotographic photoreceptor was produced in the same manner as in Example 23, except that 40 g of resin [B-4] was used instead of 34 g, and resin particles [L-6] were omitted.
【0427】各感光体を実施例1と同様にして各特性を
調べその結果を表−13に記した。The characteristics of each photoreceptor were examined in the same manner as in Example 1, and the results are listed in Table 13.
【0428】0428]
【表27】[Table 27]
【0429】上記の測定において、静電特性及び撮像性
については下記の操作に従った他は、実施例1と同様の
操作で行った。
注7) 静電特性のE1/10の測定方法:コロナ放
電により光導電層表面を−400Vに帯電させた後、該
光導電層表面を照度2.0ルックスの可視光で照射し、
表面電位(V10)が1/10に減衰するまでの時間を
求め、これから露光量E1/10(ルックス・秒)を算
出する。
注8) 撮像性:各感光材料を以下の環境条件で1昼
夜放置した後、全自動製版機ELP−404V(富士写
真フィルム(株)製)でELP−Tをトナーとして用い
て製版して得られた複写画像につき、カブリ、画像の画
質を目視評価した。撮像時の環境条件は20℃、65%
RH(I)と、30℃、80%RH(II)で実施した
。[0429] In the above measurements, the electrostatic properties and imaging properties were carried out in the same manner as in Example 1, except that the following operations were followed. Note 7) Method for measuring E1/10 of electrostatic properties: After the surface of the photoconductive layer is charged to -400 V by corona discharge, the surface of the photoconductive layer is irradiated with visible light at an illuminance of 2.0 lux,
The time required for the surface potential (V10) to attenuate to 1/10 is determined, and the exposure amount E1/10 (lux/second) is calculated from this. Note 8) Imaging properties: After each photosensitive material was left for one day and night under the following environmental conditions, it was plate-made using a fully automatic plate-making machine ELP-404V (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) using ELP-T as a toner. The copied images were visually evaluated for fogging and image quality. Environmental conditions during imaging were 20°C and 65%
RH(I) and 30°C, 80% RH(II).
【0430】表−13に示した如く、本発明の感光材料
は良好な静電特性及び撮像性を示した。しかし、樹脂〔
A〕を用いない比較例Cは、静電特性としては大きな差
は見られなかったが、実際に撮像して複写画像を評価し
てみると、特に高温高湿で、画質の低下(濃度低下、細
線・文字の欠落)が微かに発生した。As shown in Table 13, the photosensitive material of the present invention exhibited good electrostatic properties and imaging properties. However, resin [
In Comparative Example C, which does not use A], there was no significant difference in electrostatic properties, but when we actually captured and evaluated the copied images, we found that there was a decrease in image quality (decreased density), especially in high temperature and high humidity. , thin lines/missing characters) slightly occurred.
【0431】またオフセットマスター原版として用いた
場合、本発明は保水性は良好で、耐刷性は5千枚まで可
能であった。しかし、樹脂粒子を除いた比較例Cは強制
条件である親水化を行なった保水性が充分でなく、又実
際に通常の条件で不感脂化し印刷してみた所、非画像部
の地汚れが見られない印刷物は得られなかった。[0431] When used as an offset master original plate, the present invention had good water retention and printing durability of up to 5,000 sheets. However, Comparative Example C, which did not contain resin particles, did not have sufficient water retention under forced hydrophilic conditions, and when it was actually desensitized and printed under normal conditions, background smudges occurred in non-image areas. No visible prints were obtained.
【0432】以上のことより、本発明の感光材料のみが
、静電特性、印刷特性ともに優れた性能で維持できるも
のであった。
実施例24〜31
実施例23において、下記表−14の樹脂〔A〕5g(
固形分量として)、樹脂粒子〔L〕1g(固形分量とし
て)、樹脂〔B〕34gの他は実施例23と同様に操作
して、各感光材料を作成した。From the above, only the photosensitive material of the present invention was able to maintain excellent performance in both electrostatic properties and printing properties. Examples 24 to 31 In Example 23, 5 g of resin [A] shown in Table 14 below (
Each photosensitive material was prepared in the same manner as in Example 23 except that the resin particles [L] were 1 g (as solid content), the resin [B] was 34 g.
【0433】0433]
【表28】[Table 28]
【0434】本発明の感光材料はいずれも帯電性、暗電
荷保持率、光感度に優れ、実際の複写画像も高温高湿(
30℃、80%RH)の過酷な条件においても地カブリ
の発生や細線飛びの発生等のない鮮明な画像を与えた。[0434] All of the photosensitive materials of the present invention have excellent chargeability, dark charge retention, and photosensitivity, and actual copied images are
Even under harsh conditions (30°C, 80% RH), it provided clear images without background fog or skipped fine lines.
【0435】更にオフセットマスター原版として印刷し
たところ、5千枚印刷しても地汚れの発生のない鮮明な
画質の印刷物が得られた。
実施例32
樹脂〔A−10〕6g、下記構造の樹脂〔B−5〕29
.2g、樹脂〔B−6〕4g、光導電性酸化亜鉛200
g、下記構造の色素〔III〕0.020g、サリチル
酸0.18g及びトルエン300gの混合物を、ホモジ
ナイザー中、回転数6×103 r.p.m.で10分
間分散した。この分散物に樹脂粒子〔L−10〕0.9
g(固形分量として)、3,3′,5,5′−ベンゾフ
ェノンテトラカルボン酸ジ無水物0.01g及びo−ク
ロロフェノール0.005gを加えて、回転数1×10
3 r.p.m.で1分間分散した。この感光層形成用
分散物を、導電処理した紙に乾燥付着量が25g/m2
となる様にワイヤーバーで塗布し100℃で30秒間乾
燥し、更に120℃で1時間加熱した。ついで暗所で2
0℃、65%RHの条件下で24時間放置することによ
り電子写真感光材料を作製した。[0435] Further, when printing was performed as an offset master original plate, a printed matter with clear image quality and no scumming was obtained even after printing 5,000 sheets. Example 32 Resin [A-10] 6g, resin [B-5] 29 with the following structure
.. 2g, resin [B-6] 4g, photoconductive zinc oxide 200
g, a mixture of 0.020 g of dye [III] having the following structure, 0.18 g of salicylic acid, and 300 g of toluene was heated in a homogenizer at a rotation speed of 6×10 3 r.g. p. m. The mixture was dispersed for 10 minutes. Add 0.9 resin particles [L-10] to this dispersion.
g (as solid content), 0.01 g of 3,3',5,5'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride and 0.005 g of o-chlorophenol were added, and the number of revolutions was 1 x 10.
3 r. p. m. Dispersion was performed for 1 minute. The dry adhesion amount of this dispersion for forming a photosensitive layer was 25 g/m2 on electrically conductive treated paper.
It was coated with a wire bar so that Then in the dark 2
An electrophotographic light-sensitive material was prepared by leaving it for 24 hours under conditions of 0° C. and 65% RH.
【0436】0436]
【化132】[Chemical formula 132]
【0437】0437]
【化133】[Chemical formula 133]
【0438】0438]
【化134】[Chemical formula 134]
【0439】この感光材料をELP−FX(富士写真フ
ィルム(株)製)を用いてエッチングプロセッサー中を
1回通した後下記処方で調製した不感脂化処理液(E−
3)に5分間浸して不感脂化処理した。[0439] This photosensitive material was passed once through an etching processor using ELP-FX (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.), and then a desensitizing treatment liquid (E-
3) for 5 minutes for desensitization treatment.
【0440】
不感脂化処理液(E−3)
ジエタノールアミン
52g
ニューコールB4SN(日本乳化剤(株)
製) 10g メチルエチルケト
ン
80gこれらを蒸留水に溶解し水酸化ナトリウ
ムでpH10.5に調整し全量1.0リットルとした。[0440] Desensitizing treatment liquid (E-3) Diethanolamine
52g
Nucor B4SN (Nippon Nyukazai Co., Ltd.)
) 10g methyl ethyl ketone
80g of these were dissolved in distilled water and adjusted to pH 10.5 with sodium hydroxide to make a total volume of 1.0 liters.
【0441】これに蒸留水2μリットルの水滴を乗せ、
形成された水との接触角をゴニオメーターで測定したと
ころ10°以下であった。尚、不感脂化処理前の接触角
は106°であり、明らかに、本感光材料の表面層が非
常に良好に親水化されたことを示す。[0441] Place a drop of 2 μl of distilled water on this,
The formed contact angle with water was measured with a goniometer and was found to be 10° or less. The contact angle before the desensitization treatment was 106°, clearly indicating that the surface layer of the photosensitive material was made very well hydrophilic.
【0442】一方、この電子写真感光材料をELP−T
を現像剤を用いて全自動製版機ELP404V(富士写
真フイルム(株)製)で製版して、トナー画像を形成し
、上記と同条件で不感脂化処理しこれをオフセットマス
ターとして湿し水として上記E−3を水で50倍に希釈
した溶液を用いて、オフセット印刷機(桜井製作所(株
)製、52型)にかけ上質紙上に印刷した。[0442] On the other hand, this electrophotographic light-sensitive material was
was made into a plate using a fully automatic plate making machine ELP404V (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) using a developer to form a toner image, which was desensitized under the same conditions as above and used as an offset master and as a dampening solution. A solution obtained by diluting the above E-3 50 times with water was used to print on high-quality paper using an offset printing machine (Model 52, manufactured by Sakurai Seisakusho Co., Ltd.).
【0443】印刷物の非画像部の地汚れ及び画像部の画
質に問題を生じないで印刷できる枚数は、5,000枚
であった。更に、この感光材料を(45℃、75%RH
)の環境条件下に3週間放置した後全く同様の処理を行
なったが、経時前と全く変わらなかった。
実施例33
実施例1において、樹脂粒子〔L−1〕1.0gの代わ
りに樹脂粒子〔L−12〕2.0g(固形分量として)
を用いた他は実施例1と同様にして電子写真感光材料を
作製した。[0443] The number of prints that could be printed without causing problems with scumming in the non-image areas and image quality in the image areas was 5,000. Furthermore, this photosensitive material was heated at (45°C, 75%RH)
) After being left under the environmental conditions for 3 weeks, the same treatment was performed, but there was no difference at all from before. Example 33 In Example 1, 2.0 g of resin particles [L-12] (as solid content) was used instead of 1.0 g of resin particles [L-1].
An electrophotographic light-sensitive material was produced in the same manner as in Example 1 except that .
【0444】次に実施例1と同様に、ELP−Tの現像
剤を用いてELP−404Vで製版した。この版を40
0Wの高圧水銀灯を光源として、10cmの距離から5
分間光照射した。更に、ELP−EXを水で2倍に希釈
した不感脂化処理液を用いて、エッチングプロセッサー
を1回通した。この様に不感脂化処理した各印刷用原版
の非画像部は、水との接触角は10°以下と充分に親水
化されていた。更に、実施例1と同様にして印刷した所
、いずれも5千枚目でも印刷物は、地汚れもなく鮮明な
画質のものが得られた。
実施例34〜37
実施例32において、樹脂〔B−5〕の29.2gを2
5gとし、又、樹脂粒子〔L−10〕0.8gの代わり
に、下記表−15の各樹脂粒子〔L〕を5g(固形分量
として)とした他は、実施例32と同様にして各電子写
真感光材料を作製した。Next, in the same manner as in Example 1, a plate was made using ELP-404V using ELP-T developer. This version is 40
Using a 0W high-pressure mercury lamp as a light source, 5
It was irradiated with light for a minute. Furthermore, using a desensitizing treatment solution prepared by diluting ELP-EX twice with water, it was passed through an etching processor once. The non-image area of each printing master plate subjected to the desensitization treatment in this manner was sufficiently hydrophilized with a contact angle with water of 10° or less. Furthermore, when printing was carried out in the same manner as in Example 1, even on the 5,000th print, the printed matter had clear image quality without background smearing. Examples 34 to 37 In Example 32, 29.2 g of resin [B-5] was
5 g, and each resin particle [L] in Table 15 below was changed to 5 g (as solid content) instead of 0.8 g of the resin particle [L-10]. An electrophotographic light-sensitive material was produced.
【0445】0445]
【表29】[Table 29]
【0446】これらを実施例1と同様に、全自動製版機
ELP404VでアイソパーH(エッソスタンダード社
)1リットル中にポリメチルメタクリレート粒子(粒子
サイズ0.3μm)5gをトナー粒子として分散し、荷
電調節剤として大豆油レシチン0.01gを添加して作
製した液体現像剤を用いて製版したところ、得られたオ
フセット印刷用のマスター用原版の濃度は1.0以上で
画質は鮮明であった。[0446] In the same manner as in Example 1, 5 g of polymethyl methacrylate particles (particle size 0.3 μm) were dispersed as toner particles in 1 liter of Isopar H (Esso Standard) using a fully automatic plate making machine ELP404V, and the charge was adjusted. When a plate was made using a liquid developer prepared by adding 0.01 g of soybean oil lecithin as an agent, the density of the obtained master original plate for offset printing was 1.0 or more and the image quality was clear.
【0447】更に、下記処方で調製した不感脂化処理液
(E−4)中にこの製版後のマスター用原版を30秒間
浸した後水洗して、不感脂化処理をした。
不感脂化処理液(E−4)
ホウ酸
55g ネオソープ(松本油脂(
株)製) 8g
ベンジルアルコール
80gこれらを蒸
留水に溶解し、全量で1.0リットルとして更に水酸化
ナトリウムでこの液がpH11.0となる様に調製した
。非画像部の蒸留水での接触角は10°以下で充分に親
水化されていた。これらのオフセット印刷用原版を印刷
機で印刷したところ、5千枚印刷後の印刷物は、非画像
部のカブリがなく、画像も鮮明であった。[0447] Further, the master original plate after plate making was immersed for 30 seconds in a desensitizing liquid (E-4) prepared according to the following formulation, and then washed with water to perform a desensitizing process. Desensitizing treatment liquid (E-4) Boric acid
55g Neo Soap (Matsumoto Yushi (
Co., Ltd.) 8g
benzyl alcohol
80g of these were dissolved in distilled water to make a total volume of 1.0 liters, and the solution was adjusted to pH 11.0 with sodium hydroxide. The contact angle of the non-image area with distilled water was 10° or less, indicating that it was sufficiently hydrophilized. When these original plates for offset printing were printed using a printing machine, the printed matter after printing 5,000 copies had no fog in the non-image area and the image was clear.
【0448】0448]
【発明の効果】本発明によれば、苛酷な条件下において
も、優れた印刷画像と高耐刷性を有する電子写真式平版
印刷用原版を得ることができる。また、本発明の平版印
刷用原版は、半導体レーザー光を用いたスキャニング露
光方式に有効である。According to the present invention, it is possible to obtain an original plate for electrophotographic lithographic printing which has excellent printed images and high printing durability even under severe conditions. Further, the lithographic printing original plate of the present invention is effective in a scanning exposure method using semiconductor laser light.
Claims (4)
、分光増感色素及び結着樹脂とを少なくとも含有してな
る光導電層を少なくとも1層設けてなる電子写真式平版
印刷用原版において、前記光導電層中に該結着樹脂とし
て、下記の樹脂〔A〕を少なくとも1種含有し、更に該
光導電層中に前記光導電性酸化亜鉛粒子の最大粒子径と
同じかそれより小さい粒子径を有する下記の非水溶媒系
分散樹脂粒子を少なくとも1種含有することを特徴とす
る電子写真式平版印刷用原版。 樹脂〔A〕:1×103 〜2×104 の重量平均分
子量を有し、下記一般式(I)で示される繰り返し単位
を重合体成分として30重量%以上含有し、且つ重合体
主鎖の片末端に、−PO3 H2 ,−SO3 H,−
COOH,−P(=O)(OH)R01〔R01は炭化
水素基又は−OR02(R02は炭化水素基を表す)を
表す〕及び環状酸無水物含有基から選択される少なくと
も1種の極性基を結合して成る樹脂。 【化1】 〔ただし上記式(I)において、a1 ,a2 は各々
、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を
表す。R03は炭化水素基を表す〕 非水溶媒系分散樹脂粒子:非水溶媒中において、該非水
溶媒には可溶であるが重合することにより不溶化する、
分解によりチオール基、スルホ基、アミノ基及び−P(
=Z0 )(−Z0 −H)R’ 1 基〔Z0 は酸
素原子又はイオウ原子を表わす。R’ 1 は−Z0
−H、炭化水素又は−Z0 −R’ 2 (R’2 は
炭化水素基を表わす)を表わす〕のうちの少なくとも1
つの基を生成する官能基を少なくとも1種含有する一官
能性単量体(C)を、ケイ素原子及び/又はフッ素原子
を含有する置換基を含む繰り返し単位を少なくとも含ん
でなる、該溶媒に可溶性の分散安定用樹脂の存在下に分
散重合反応させることにより得られる共重合体樹脂粒子
。1. An original plate for electrophotographic lithography, comprising at least one photoconductive layer containing at least photoconductive zinc oxide, a spectral sensitizing dye, and a binder resin on a conductive support. The photoconductive layer contains at least one of the following resins [A] as the binder resin, and the photoconductive layer further contains at least one of the following resins [A] with a maximum particle diameter of the photoconductive zinc oxide particles or larger. An original plate for electrophotographic lithographic printing, characterized in that it contains at least one type of non-aqueous solvent-based dispersed resin particles having a small particle size as described below. Resin [A]: has a weight average molecular weight of 1 x 103 to 2 x 104, contains 30% by weight or more of repeating units represented by the following general formula (I) as a polymer component, and has a polymer main chain fragment. At the end, -PO3 H2, -SO3 H, -
At least one polar group selected from COOH, -P(=O)(OH)R01 [R01 represents a hydrocarbon group or -OR02 (R02 represents a hydrocarbon group]] and a cyclic acid anhydride-containing group A resin made by combining [In formula (I) above, a1 and a2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, or a hydrocarbon group. R03 represents a hydrocarbon group] Non-aqueous solvent-based dispersed resin particles: in a non-aqueous solvent, they are soluble in the non-aqueous solvent but become insolubilized by polymerization;
Thiol groups, sulfo groups, amino groups and -P(
=Z0)(-Z0-H)R'1 group [Z0 represents an oxygen atom or a sulfur atom. R' 1 is -Z0
-H, hydrocarbon, or -Z0 -R' 2 (R'2 represents a hydrocarbon group)]
The monofunctional monomer (C) containing at least one functional group that forms one group is soluble in the solvent, and contains at least a repeating unit containing a substituent containing a silicon atom and/or a fluorine atom. Copolymer resin particles obtained by carrying out a dispersion polymerization reaction in the presence of a dispersion stabilizing resin.
される共重合体成分として下記一般式(Ia)及び下記
一般式(Ib)で示されるアリール基含有のメタクリレ
ート成分のうちの少なくとも1つを含有することを特徴
とする請求項1記載の電子写真式平版印刷用原版。 【化2】 〔ただし上記式(Ia)及び(Ib)において、T1
及びT2 は互いに独立に各々水素原子、炭素数1〜1
0の炭化水素基、塩素原子、−COR04又は−COO
R05(R04及びR05は各々炭素数1〜10の炭化
水素基を表す)を表し、L1 及びL2 は各々−CO
O−とベンゼン環を結合する単結合又は連結原子数1〜
4個の連結基を表す〕2. The resin [A] is one of the aryl group-containing methacrylate components represented by the following general formula (Ia) and the following general formula (Ib) as the copolymer component represented by the general formula (I). The electrophotographic lithographic printing original plate according to claim 1, characterized in that it contains at least one of the following. [Formula (Ia) and (Ib) above, T1
and T2 are each independently a hydrogen atom and a carbon number of 1 to 1
0 hydrocarbon group, chlorine atom, -COR04 or -COO
R05 (R04 and R05 each represent a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms), and L1 and L2 each represent -CO
The number of single bonds or connected atoms connecting O- and the benzene ring is 1 or more
Represents 4 linking groups]
網目構造を形成していることを特徴とする請求項1及び
2記載の電子写真式平版印刷用原版。3. The electrophotographic lithographic printing original plate according to claim 1, wherein the non-aqueous solvent-based dispersed resin particles form a high-order network structure.
、下記一般式(II)で示される重合性二重結合基部分
を少なくとも1種含有していることを特徴とする請求項
1〜3のいずれかに記載の電子写真式平版印刷用原版。 【化3】 〔一般式(II)において、V0 は−O−,−COO
−,−OCO−,−(CH2 )p −OCO−,−(
CH2 )p −COO−,−SO2 −,−CONR
1 −,−SO2 NR1 −,−C6 H4 −,−
CONHCOO−,又は−CONHCONH−を表わし
(但し、pは1〜4の整数を表わし、R1 は水素原子
又は炭素数1〜18の炭化水素基を表わす)、b1 ,
b2 は、互いに同じでも異なってもよく、水素原子、
ハロゲン原子、シアノ基、炭化水素基、−COO−R2
又は炭化水素基を介した−COO−R2 (R2 は
水素原子又は置換されてもよい炭化水素基を示す)を表
わす〕4. Claim 1, wherein the dispersion stabilizing resin contains at least one kind of polymerizable double bond group moiety represented by the following general formula (II) in the polymer chain. The original plate for electrophotographic planographic printing according to any one of items 1 to 3. [In general formula (II), V0 is -O-, -COO
-, -OCO-, -(CH2)p -OCO-, -(
CH2 ) p -COO-, -SO2 -, -CONR
1 -, -SO2 NR1 -, -C6 H4 -, -
CONHCOO-, or -CONHCONH- (where p represents an integer of 1 to 4, R1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms), b1,
b2 may be the same or different, and may be a hydrogen atom,
Halogen atom, cyano group, hydrocarbon group, -COO-R2
or -COO-R2 (R2 represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group) via a hydrocarbon group]
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Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3112176B2 (en) |
-
1991
- 1991-04-12 JP JP03106511A patent/JP3112176B2/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3112176B2 (en) | 2000-11-27 |
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