JPH04317007A - カラーフィルタの製造方法 - Google Patents

カラーフィルタの製造方法

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JPH04317007A
JPH04317007A JP3084255A JP8425591A JPH04317007A JP H04317007 A JPH04317007 A JP H04317007A JP 3084255 A JP3084255 A JP 3084255A JP 8425591 A JP8425591 A JP 8425591A JP H04317007 A JPH04317007 A JP H04317007A
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JP
Japan
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ionizing radiation
resin
transparent substrate
cured
transparent
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JP3084255A
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English (en)
Inventor
▲檀▼上 耕太郎
Kotaro Danjo
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Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はカラーフィルタの製造方
法に係り、特に、例えば液晶ディスプレイ等のフラット
ディスプレイ、CCD等のイメージャー、あるいはカラ
ーセンサ等に用いられるカラーフィルタを高精度で、か
つ効率よく得ることのできるカラーフィルタの製造方法
に関する。
【0002】
【従来の技術】例えば、カラービデオカメラの撮像管に
は、複数色の微細なストライプが透明基板上に形成され
たカラーフィルタが装着されている。また、液晶ディス
プレイ(LCD)においても、近年のカラー化の要請に
対応するために、アクティブマトリックス方式および単
純マトリックス方式のいずれの方式においてもカラーフ
ィルタが用いられている。例えば、薄膜トランジスタ(
TFT)を用いたアクティブマトリックス方式の液晶デ
ィスプレイでは、カラーフィルタは赤(R)、緑(G)
、青(B)の3原色が用いられ、R,G,Bのそれぞれ
の画素に対応する電極をオン、オフさせることで液晶が
シャッタとして作動しR,G,Bのそれぞれの画素を光
が透過してカラー表示が行われる。そして、色混合は2
色以上の画素に対応する液晶シャッタを開き混色して別
の色に見せる加色混合の原理により網膜上で視覚的に行
われる。
【0003】上述のようにして用いられるカラーフィル
タは、従来、染色法、顔料分散法、印刷法、電着法等の
手段を用いて製造されていた。ここで、染色法によるカ
ラーフィルタの製造は、ゼラチン、カゼイン、ポリビニ
ルアルコール等の親水性樹脂に重クロム酸塩等の感光剤
を添加した塗布液を、スピンコート塗布法等により透明
ガラス基板上に塗布し、次いで、所定パターンのマスク
を用いて露光・現像を行い、その後、染料により染色し
て第一着色層を形成する。その後、この第一着色層上に
二度染め防止のために防染層を設けてから第二着色層お
よび第三着色層をそれぞれ第一着色層の形成と同様にし
て形成する。これにより、透明ガラス基板上にR,G,
Bの各着色層を備えたカラーフィルタを得ることができ
る。
【0004】また、顔料分散法を用いたカラーフィルタ
の製造は、透明感光性樹脂に有機顔料、無機顔料等の着
色剤を分散した感光液を透明ガラス基板上に塗布して感
光性樹脂層を形成する。次に、この感光性樹脂層上に所
定形状の開口パターンを有するマスクを載置し、露光・
現像を行い第一着色層を形成する。同様にして第二着色
層、第三着色層を形成してR,G,Bの各着色層を備え
たカラーフィルタを得ることができる。
【0005】また、印刷法を用いたカラーフィルタの製
造は、平版オフセット印刷、凹版オフセット印刷等のオ
フセット方式、スクリーン印刷方式、フレキソ印刷方式
等の印刷工程のみで着色層を形成するものである。さら
に、電着法を用いたカラーフィルタの製造は、基板に予
め酸化インジウムスズ(ITO)膜をフォトリソグラフ
ィーで形成しておき、電着槽中で電気泳動法により所定
の領域に着色層を形成するものである。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、染色法
においては、色調が豊富で解像性に優れるカラーフィル
タが得られる反面、染色の際に既に着色された部分が二
度染めされないように防染対策を施す必要がある等の点
から工程が煩雑であり製造コストが高くなるという問題
があった。また、被染体に水溶性高分子材料を用いてい
るため耐熱性、耐薬品性、耐光性等が劣るという問題も
あった。
【0007】また、顔料分散法においては、微細なパタ
ーンを形成することが可能である反面、色変えの度にフ
ォトリソグラフィー工程の処理を行う必要があり工程が
煩雑であるとともに、15インチ以上の大型パネルを製
造する場合の設備費がかかり、製造コスト低減が困難で
あるという問題があった。また、印刷法は、低コスト化
と量産化を同時に可能にするとともに、大画面化も可能
なカラーフィルタの製造方法であるが、寸法精度は±1
0μm程度と低く、またピンホール、色ムラが発生し易
くパターン品質が不充分であるという問題があった。
【0008】さらに、電着法は、寸法精度、パターン品
質とも顔料分散法と同レベルにあり、工程数も減少する
が、高価なCrパターンブラックマトリックス形成工程
およびITOパターン形成工程を含み、製造コストが高
くなるという問題があった。また、15インチ以上の大
型パネルを製造する場合、設備費の増大という問題もあ
った。
【0009】本発明は上述のような事情に鑑みてなされ
たものであり、液晶ディスプレイ等のフラットディスプ
レイ、CCD等のイメージャー、あるいはカラーセンサ
等に用いられるカラーフィルタを高精度で、かつ効率よ
く得ることのできるカラーフィルタの製造方法を提供す
ることを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明は複数色の着色パターンからなる着色
層を備えるカラーフィルタの製造方法において、所定の
着色パターン用の溝部が形成された母型の該溝部に着色
顔料を含有する電離放射線硬化樹脂を充填し、電離放射
線を照射して該電離放射線硬化樹脂を硬化状態もしくは
半硬化状態とし、その後、電離放射線硬化透明樹脂を介
して前記溝部内の電離放射線硬化樹脂と密着するように
前記母型に透明基板を重ね、前記透明基板側および前記
母型側の少なくとも一方から電離放射線を照射して前記
電離放射線硬化透明樹脂を硬化させ、この硬化した電離
放射線硬化透明樹脂を介して前記溝部内の電離放射線硬
化樹脂と前記透明基板とを接着させて前記透明基板上に
着色パターンを形成する工程、を必要色数分繰り返して
前記透明基板上に着色層を形成するような構成とした。
【0011】
【作用】着色顔料を含有する電離放射線硬化樹脂は母型
に形成された所定の着色パターン用の溝部に充填され、
電離放射線照射により硬化状態もしくは半硬化状態とさ
れ、その後、電離放射線硬化透明樹脂を介して透明基板
が母型と重ね合され、透明基板側および母型側の少なく
とも一方から電離放射線が照射されて電離放射線硬化透
明樹脂が硬化されると同時に電離放射線硬化透明樹脂を
介して溝部内の電離放射線硬化樹脂が透明基板に接着さ
れて透明基板上に着色パターンが形成され、これを繰り
返すことにより必要とする複数色の着色パターンからな
る着色層を備えるカラーフィルタが得られる。これによ
り、耐熱性、耐光性等を有しパターン寸法精度が良好な
カラーフィルタの製造が可能になるとともに、カラーフ
ィルタの工程の簡略化がなされて製造コストの低減が可
能である。
【0012】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。図1は、本発明により製造されたカラーフ
ィルタを用いたアクティブマトリックス方式による液晶
ディスプレイ(LCD)の一例を示す斜視図であり、図
2は同じく概略断面図である。図1および図2において
、LCD1はカラーフィルタ10と透明ガラス基板20
とをシール材30を介して対向させ、その間に捩れネマ
ティック(TN)液晶からなる厚さ約5〜10μm程度
の液晶層40を形成し、さらに、カラーフィルタ10と
透明ガラス基板20の外側に偏光板50,51が配設さ
れて構成されている。
【0013】図3はカラーフィルタ10の拡大部分断面
図であり、カラーフィルタ10は透明基板12と、この
透明基板12上に第1透明樹脂層13aを介して形成さ
れた赤色パターン14R、第2透明樹脂層13bを介し
て形成された緑色パターン14G、第3透明樹脂層13
cを介して形成された青色パターン14Bとからなる着
色層14,および第4透明樹脂層13dを介して形成さ
れたブラックマトリックス16と、この着色層14およ
びブラックマトリックス16とを覆うように設けられた
保護層18と透明共通電極19とを備えている。このカ
ラーフィルタ10は透明共通電極19が液晶層40側に
位置するように配設されている。そして、着色層14を
構成する赤色パターン14R、緑色パターン14G、青
色パターン14Bの各着色パターンの配列は、図1に示
されるようにモザイク配列となっている。尚、着色パタ
ーンの配列はこれに限定されるものではなく、三角配列
、ストライプ配列等としてもよい。
【0014】また、透明ガラス基板20上には表示電極
22が各着色パターン16R、16G、16Bに対応す
るように設けられ、各表示電極22は薄膜トランジスタ
(TFT)24を有している。また、各表示電極22間
にはブラックマトリックス13に対応するように走査線
(ゲート電極母線)26aとデータ線26bが配設され
ている。
【0015】このようなLCD1では、各着色パターン
14R、14G、14Bが画素を構成し、偏光板51側
から照明光を照射した状態で各画素に対応する表示電極
をオン、オフさせることで液晶層40がシャッタとして
作動し、着色パターン14R、14G、14Bのそれぞ
れの画素を光が透過してカラー表示が行われる。ここで
、本発明によるカラーフィルタ製造の一例を図4および
図5を参照して説明する。先ず、母型4Rの赤色パター
ン用の溝部6Rが形成された面に、赤色顔料を含有する
電離放射線硬化樹脂を滴下し、ドクターにて余分な電離
放射線硬化樹脂を除去して溝部6Rにのみ電離放射線硬
化樹脂8Rを充填し、母型4Rの溝部6R側から電離放
射線を照射してする(図4(A))。これにより、電離
放射線硬化樹脂8Rは硬化する。次に、母型4R上に電
離放射線硬化透明樹脂13aを滴下し、透明基板12を
母型4R上に重ねることにより電離放射線硬化透明樹脂
13aを介して溝部6Rに充填されている電離放射線硬
化樹脂8Rと透明基板12とを密着させ、この状態で透
明基板12側から電離放射線を照射する(図4(B))
。これにより電離放射線硬化透明樹脂13aは硬化して
第1透明樹脂層13aになるとともに、この第1透明樹
脂層13aを介して電離放射線硬化樹脂8Rが透明基板
12に接着され、母型4Rと透明基板12とを分離する
ことにより赤色パターン14Rが形成された透明基板1
2が得られる(図4(C))。次に、緑色パターン用の
溝部6Gが形成された母型4Gに、緑色顔料を含有する
電離放射線硬化樹脂を滴下し、ドクターにて余分な電離
放射線硬化樹脂を除去して溝部6Gにのみ電離放射線硬
化樹脂8Gを充填し、母型4Gの溝部6G側から電離放
射線を照射して電離放射線硬化樹脂8Gを硬化する(図
4(D))。次に、母型4G上に電離放射線硬化透明樹
脂13bを滴下し、溝部6Gに充填された電離放射線硬
化樹脂8Gが透明基板12上の赤色パターン14Rが形
成されていない所定領域と密着するように透明基板12
と母型4Gとを重ね、透明基板12側から電離放射線を
照射する(図4(E))。これにより電離放射線硬化透
明樹脂13bは硬化して第2透明樹脂層13bになると
ともに、この第2透明樹脂層13bを介して電離放射線
硬化樹脂8Gが透明基板12に接着され、母型4Gと透
明基板12とを分離することにより緑色パターン14G
が形成された透明基板12が得られる(図4(F))。 同様に、青色パターン用の溝部6Bが形成された母型4
Bを用い、この溝部に充填された青色顔料を含有する電
離放射線硬化樹脂8Bに、母型4Bの溝部6B側から電
離放射線を照射して電離放射線硬化樹脂8Bを硬化する
(図5(A))。次に、透明基板12上の赤色パターン
14Rおよび緑色パターン14Gが形成されていない所
定領域に溝部6B内の電離放射線硬化樹脂8Bが位置す
るように電離放射線硬化透明樹脂13cを介して透明基
板12と母型6Bとを重ねる(図5(B))。そして、
透明基板12側から電離放射線を照射することにより電
離放射線硬化透明樹脂13cは硬化して第3透明樹脂層
13cになるとともに、この第3透明樹脂層13cを介
して電離放射線硬化樹脂8Bが透明基板12に接着され
、母型と透明基板12とを分離することにより青色パタ
ーン14Bが形成された透明基板12が得られる(図5
(C))。このようにして、透明基板12上には第1透
明樹脂層13a、第2透明樹脂層13bおよび第3透明
樹脂層13cを介して赤色パターン14R、緑色パター
ン14Gおよび青色パターン14Bからなる着色層14
が形成される。この着色層14の各着色パターン間には
所定の間隙が残されており、次に、この間隙部分にブラ
ックマトリックスが形成される。すなわち、ブラックマ
トリックス用の溝部6BMが形成された母型4BMを用
い、光非透過性物質を含有する電離放射線硬化樹脂8B
Mをこの溝部6BMに充填し、母型4BMの溝部6BM
側から電離放射線を照射して電離放射線硬化樹脂8BM
を硬化する(図5(D))。次に、母型4BM上に電離
放射線硬化透明樹脂13dを滴下し、溝部6BMに充填
された電離放射線硬化樹脂8BMが透明基板12上の着
色層14の各着色パターン間隙に位置するように透明基
板12と母型4BMとを重ねる。 そして、透明基板12側から電離放射線を照射した後、
母型4BMと透明基板12とを分離することにより透明
基板12上に第4透明樹脂層13dを介してブラックマ
トリックス16が形成される(図5(E))。
【0016】上述の例では着色層14の各着色パターン
間に残された間隙部分にブラックマトリックス16が形
成されるが、間隙を残すことなく着色層14を形成し、
ブラックマトリックス16を各着色パターンの境界上に
形成するようにしてもよい。また、ブラックマトリック
ス形成工程を削除することにより、ブラックマトリック
スのないカラーフィルタを製造することができる。
【0017】また、母型の溝部への電離放射線硬化樹脂
の充填は、上述のようにドクターにより余分の電離放射
線硬化樹脂を除去する1回の操作で行ってもよく、また
、このようにして一度充填を行った後、電離放射線を照
射して硬化させ、その後、再度充填操作を行って溝部へ
の充填率を向上させてもよい。本発明にて使用すること
のできる母型の大きさ、溝部形状は、目的とするカラー
フィルタに対応して適宜決定される。例えばスーパーツ
イストネマティック(STN)単純マトリックス方式用
のカラーフィルタに対応する場合、着色パターン用母型
は幅110μm、深さ3μm、長さ200mm程度の溝
が390μmピッチで480本並んだものとすることが
できる。また、ブラックマトリックス用母型は幅20μ
m、深さ3μm、長さ200mm程度の溝が130μm
ピッチで1441本並んだものとすることができる。 そして、着色パターン用母型を用いて図4に示されるよ
うに透明基板上に幅110μmの赤色パターン14R、
緑色パターン14Gおよび青色パターン14B(計14
40本)を20μm間隔で順に形成し、ブラックマトリ
ックス用母型を用いて各着色パターン間にブラックマト
リックスを形成することができる。
【0018】また、母型の溝部の断面形状は、図6(A
)に示されるように底部に対して側面が垂直であるよう
な矩形状、図6(B)に示されるように底部に対して側
面がテーパーθを有する形状、図6(C)に示されるよ
うに側面が階段状であるもの等とすることがでいる。特
に、溝部の断面形状を図6(B),(C)に示される断
面形状とすることにより、母型と電離放射線硬化樹脂と
の剥離性が向上する。この場合、テーパーθは90°〜
10°、好ましくは60°〜40°程度である。 また、溝部の底部の平面性および溝部の深さ精度は、そ
れぞれ±10μm以内であることが好ましい。母型の材
料は、寸法安定性、低熱膨脹率、耐面内変形性に優れ、
電離放射線に対する耐性および電離放射線硬化樹脂に対
する耐性を有するとともに、余分な電離放射線硬化樹脂
をドクター等により除去する際の耐磨耗性を有すること
が要求される。このような材料としては、無アルカリガ
ラス、アルカリガラス、表面研磨ガラス、低熱膨脹ガラ
ス等のガラス、セラミックス;  アルミニウム、クロ
ム、銅、ニッケル等の金属あるいは金属化合物;塩化ビ
ニル酢酸ビニル共重合体、ポリエステル系樹脂、ポリオ
レフィン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂
、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、シリコーン系
樹脂、フッ素系樹脂等の樹脂あるいはフィラー含有樹脂
等;あるいは上記の複合体等を用いることができる。 また、母型と電離放射線硬化樹脂との剥離性を向上させ
るために、シリコーンオイル散布、金属表面のクロマイ
ト処理等の表面処理、樹脂中への離型成分の導入、離型
剤の添加等を行ってもよい。
【0019】上述のような材料を用いた母型形成は、機
械切削、ウエットエッチング、ドライエッチング、放射
線加工(レーザー、電子ビーム等)、薄膜形成、メッキ
等の一般的加工方法に従って行うことができる。また、
母型は図7(A)に示されるように溝部6を画定する凸
部4aと基部4bとが同一材料で一体的に形成されたも
の、あるいは図7(B)に示されるように溝部6を画定
する凸部4aと基部4bとを別の材料で形成されたもの
であってよい。さらに、図7(C)に示されるように溝
部6を画定する凸部4aと基部4bとを同一材料で一体
的に形成し、凸部4a上に金属層4cを形成して耐磨耗
性を向上したもの、図7(D)に示されるように溝部6
を画定する凸部4aと基部4bとを別の材料で形成し、
凸部4a上に金属層4cを形成して耐磨耗性を向上した
もの等とすることができる。
【0020】また、母型側から電離放射線を照射する場
合は、母型の材料を透明なものとする必要がある。カラ
ーフィルタ10の透明基板12としては、石英ガラス、
パイレックスガラス、合成石英板等の柔軟性のないリジ
ット材、あるいは透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の
柔軟性を有するフレキシブル材等を用いることができる
。このなかで、特にコーニング社製7059ガラスは、
熱膨脹率の小さい素材であり寸法安定性および高温加熱
処理における作業性に優れ、また、ガラス中にアルカリ
成分を含まない無アルカリガラスであるため、アクティ
ブマトリックス方式によるLCD用のカラーフィルタに
適している。
【0021】電離放射線硬化樹脂および電離放射線硬化
透明樹脂は公知のものを用いることができ、例えば、エ
ポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエス
テルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、シリコ
ンアクリレート、メラミンアクリレート、不飽和ポリエ
ステル、ポリエン/チオール等の光重合性オリゴマー、
単官能アクリレート、多官能アクリレート等の光重合性
モノマー、ベンゾイン系、アセトフェノン系、チオキサ
ンリン系、パーオキシド系等の光重合開始剤、アミン系
、キノン系等の光重合開始助剤等からなるものを用いる
ことができる。また、電離放射線硬化樹脂には充填材、
接着付与剤、可塑剤、非反応性ポリマー、およびユリア
樹脂、アミド樹脂、フェノール/ホルマリン樹脂等の樹
脂を添加してもよい。特に、このような電離放射線硬化
樹脂は後述するような着色顔料を含有するため、照射さ
れた電離放射線が深く浸透するようにアセトフェノン構
造の光重合開始剤に比べて感応波長が長いチオキサンリ
ン構造の光重合開始剤を用いることが好ましい。また、
アリレートと混合した場合に、長波長増感効果のあるα
−アミノアセトフェノン等の光重合開始剤の使用が好ま
しい。また、電離放射線硬化樹脂は電離放射線照射によ
り硬化した際の収縮率が小さいものが好ましい。
【0022】このような電離放射線硬化樹脂に含有され
る着色顔料は、有機顔料、無機顔料いずれでもよく、要
求される分光特性に応じて種々選定することができる。 有機顔料としては、アゾレーキ顔料、不溶性アゾ顔料、
縮合アゾ顔料、銅フタロシアニン顔料、無金属フタロシ
アニン顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン、ペノリ
ン、ジオキサジン等の縮合多環顔料、および酸性または
塩基性染料のレーキ、あるいはこれらの混合物等を用い
ることができる。また、無機顔料としては、チタン白等
の白色顔料、炭酸カルシウム等の体質顔料、カーボンブ
ラック等の黒色顔料、カドミウムレッド等の赤色顔料、
チタンイエロー等の黄色顔料、チタンコバルトグリーン
等の緑色顔料、コバルトブルー等の青色顔料、マンガン
バイオレット等の紫色顔料等を用いることができる。特
に、変色温度が150℃以上、好ましくは250℃以上
であるような耐熱性の高い顔料が好ましい。また、ブラ
ックマトリックス用の光不透過物質としては、カーボン
ブラック、グラファイト、黒色酸化鉄、鉄黒、銅酸化物
、マンガン酸化物等の金属酸化物等を用いることができ
る。このような顔料の平均粒子径は数μm以下が好まし
く、特に5μm以上の粒子を含まない顔料が好ましい。
【0023】上記の顔料に対して表面処理を行うことに
より耐熱性等を向上させることができる。表面処理とし
ては、ロジン変性処理、アミン・カチオン活性剤処理、
脂肪酸・アニオン活性剤処理、ノニオン活性剤処理、ポ
リマー樹脂処理、顔料誘導体による処理、部分酸化等の
トポケミカルな方法による処理、溶剤処理等、あるいは
これらの併用が可能である。また、耐熱性を向上させる
ために、顔料結晶にわずかに異なった構造の誘導体を組
み込むことも好適であり、例えば銅フタロシアニン顔料
に部分塩素化銅フタロシアニンやフタルイミドメチル銅
フタロシアニン等を少量併用することで変色温度の上昇
がみられる。さらに、顔料成分にカルバモイル基(−C
ONH2 )、カルボキシル基(−COOH)を導入す
ることによっても変色温度の上昇がみられる。
【0024】尚、無機顔料は有機顔料に比べて紫外線を
透過し難いため、無機顔料を使用する場合は光重合開始
剤の含有率を5〜20重量%に高めるか、あるいは顔料
の表面処理を行う必要がある。但し、電離放射線として
電子線を用いる場合は、このような対応をとる必要はな
い。着色顔料を含有した電離放射線硬化樹脂の粘度は、
10000cps以下が好ましく、特に、表面平坦性お
よび気泡混入防止に点から500cps以下が好ましい
【0025】電離放射線の照射源としては、低圧水銀ラ
ンプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハラ
イドランプ、パルスキセノンランプ、無電極放電ランプ
等の紫外線照射装置を用いることができ、照射量は10
〜500W/cm程度が好ましい。また、コールドミラ
ーを用いて赤外光を取り除き、被照射物の昇温を防止す
るようにしてもよい。尚、平板状の母型を用いる場合、
透明基板と母型とで電離放射線硬化樹脂を挟んだ際に電
離放射線硬化樹脂のうち酸素に触れる部分の硬化不良が
発生し易いため、窒素雰囲気中で硬化を行うことが好ま
しい。また、電離放射線の照射源として線状フィラメン
ト型、走査型等の電子線発生装置を用いることもできる
。この場合、照射エネルギーは100〜500kVで1
〜10Mrad程度が好ましい。
【0026】カラーフィルタ10の着色層16を覆うよ
うに設けられる保護層18は、カラーフィルタ10の表
面平滑化、信頼性の向上、および液晶層40への汚染防
止等を目的とするものであり、アクリル系樹脂、エポキ
シ系樹脂、ポリイミド系樹脂等の透明樹脂、あるいは二
酸化ケイ素(SiO2 )等の透明無機化合物等を用い
て形成することができる。保護層の厚さは0.5〜50
μm程度が好ましい。
【0027】透明共通電極19としては、酸化インジウ
ムスズ(ITO)膜を用いることができる。ITO膜は
蒸着法、スパッタ法等の公知の方法により形成すること
ができ、厚さは200〜2000Å程度が好ましい。次
に、実験例を示して本発明を更に詳細に説明する。 (実験例1)表面研磨した無アルカリガラス(厚さ2m
m)を4枚準備し、スパッタリング法により各ガラスの
表面に厚さ30000Åのクロム(Cr)膜を形成し、
このCr膜上にフォトレジストを厚さ2μmで塗布した
。次に、幅110μm、長さ200mmの開口部分が3
90μmピッチで480本並んだストライプ状のフォト
マスク(ネガタイプ)No.1〜3と、幅20μm、長
さ200mmの開口部分が130μmピッチで1440
本並んだストライプ状のフォトマスク(ネガタイプ)N
o.4とを準備した。そして、これらのフォトマスクを
用いて上記の各ガラスのCr膜側から露光・現像エッチ
ングを行った。これにより、フォトマスクNo.1〜3
を用いたガラスは、それぞれ幅110μm、深さ3μm
、長さ200mmの溝が390μmピッチで480本並
んだ母型No.1〜3とされ、また、フォトマスクNo
.4を用いたガラスは、幅20μm、深さ3μm、長さ
200mmの溝が130μmピッチで1441本並んだ
ブラックマトリックス用の母型No.4とされた。
【0028】次に、下記の青色顔料、緑色顔料、赤色顔
料および紫外線硬化樹脂を準備し、各着色顔料をシラン
カップリング処理した後、紫外線硬化樹脂100重量部
に対して青色顔料は12重量部、緑色顔料は20重量部
、赤色顔料は20重量部を、それぞれ混合分散して青色
、緑色、赤色の各着色紫外線硬化樹脂とした。 (青色顔料)   ・リオノールブルーES  東洋インキ製造(株)
製          C.I.Pigment  B
lue15.6        …9重量部  ・リオ
ノゲンバイオレットRL  東洋インキ製造(株)製 
         C.I.Pigment  Vio
let23        …3重量部(緑色顔料)   ・リオノールグリーン2YS  東洋インキ製造(
株)製          C.I.Pigment 
 Green36          …15重量部 
 ・セイカファーストイエロー2700  大日精化工
業(株)製          C.I.Pigmen
t  Yellow83        …4重量部(
赤色顔料)   ・リオトゲンレッドGD  東洋インキ製造(株)
製          C.I.Pigment  R
ed168            …23重量部  
・リオノーゲンレッドRL  東洋インキ製造(株)製
          C.I.Pigment  Or
enge36        …8重量部(紫外線硬化
樹脂)   ・オリゴエステルアクリレート               (M−7100,東亜合
成(株)製)          …50重量部  ・
ノニルフェノキシポリエチレングリコールアクリレート
              (M−111,東亜合成
(株)製)            …20重量部  
・N−ビニル−2−ピロリドン(粘度2cps)   
         …20重量部  ・光重合開始剤 
 1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン   
           (日本チバガイギー製イルガキ
ュア184)    …3重量部さらに、カーボンブラ
ック5重量部を上記の紫外線硬化樹脂100重量部に混
合分散して、ブラックマトリックス用の黒色紫外線硬化
樹脂とした。
【0029】また、表面研磨しシランカップリング処理
した無アルカリガラス(コーニング7059、厚さ1.
1mm)を透明基板として準備した。つぎに、母型No
.1の全面に青色紫外線硬化樹脂を流し、母型No.1
上にドクターを摺動させることにより余分な青色紫外線
硬化樹脂を除去して母型No.1の溝部にのみ青色紫外
線硬化樹脂を充填した。同様にして、母型No.2の溝
部に緑色紫外線硬化樹脂を充填し、母型No.3の溝部
に赤色紫外線硬化樹脂を充填し、母型No.4の溝部に
ブラックマトリックス用の黒色紫外線硬化樹脂を充填し
た。そして、各母型に紫外線を照射(照射量は200m
J/cm2 )して、それぞれ溝部内の着色紫外線硬化
樹脂を硬化させた。その後、上記の紫外線硬化樹脂を母
型No.1上に滴下し、透明基板を母型No.1上に重
ねた。これにより、紫外線硬化樹脂(膜厚約3μm)を
介して透明基板と母型No.1とが積層された状態とし
た。この状態で透明基板側から紫外線を照射した。照射
量は200mJ/cm2 とした。この紫外線照射によ
り、紫外線硬化樹脂は硬化して透明な紫外線硬化樹脂層
が形成され、この紫外線硬化樹脂層に青色紫外線硬化樹
脂が接着し、その後、母型No.1から透明基板を剥離
したところ透明基板上に紫外線硬化樹脂層を介して青色
パターンが形成されていた。
【0030】次に、上記と同様に紫外線硬化樹脂を母型
No.2上に滴下し、透明基板の青色パターンが形成さ
れていない領域のうち青色パターンから20μm離れた
領域に緑色紫外線硬化樹脂が位置するように透明基板を
母型No.2上に重ね、透明基板側から紫外線を照射す
ることにより紫外線硬化樹脂層を介して透明基板上に緑
色パターンを形成した。さらに、上記と同様に紫外線硬
化樹脂を母型No.3上に滴下し、透明基板の青色パタ
ーンおよび緑色パターンの形成領域に挟まれた領域(幅
150μmの)中央に赤色紫外線硬化樹脂が位置するよ
うに透明基板を母型No.3上に重ね、透明基板側から
紫外線を照射することにより紫外線硬化樹脂層を介して
透明基板上に赤色パターンを形成した。これにより、赤
(R)、緑(G)、青(B)の着色パターンを有する着
色層が形成された。
【0031】次に、上記と同様に紫外線硬化樹脂を母型
No.4上に滴下し、赤(R)、緑(G)、青(B)の
各着色パターンの境界部分(幅20μm)に黒色紫外線
硬化樹脂が密着するように透明基板を母型No.4上に
重ね、透明基板側から紫外線を照射することにより、紫
外線硬化樹脂層を介して透明基板上にブラックマトリッ
クスを形成した。
【0032】次に、このような着色層を覆うように保護
層を形成した。この保護層は日本合成ゴム社製オプトマ
ーSSを用いてスピンコート法により形成され、厚さは
約25μmであった。さらに、この保護層上にスパッタ
リング法により厚さ約220Aの透明共通電極(ITO
膜)を形成してカラーフィルタを得た。このようなカラ
ーフィルタの寸法精度は±1μmであった。 (実験例2)紫外線硬化樹脂の替りに下記の電子線硬化
樹脂を用い、また透明基板として厚さ100μmのポリ
エチレンテルフタレート(PET)樹脂を用い、電子線
照射(母型と透明基板との重ね合わせ前の照射量は10
Mrad、母型と透明基板との重ね合わせ後の照射量は
10Mrad)により硬化させた他は実験例1と同様に
してカラーフィルタを得た。
【0033】このようなカラーフィルタの寸法精度は±
5μmであり、またPET樹脂基板の大きな変形はみら
れなかった。 (電子線硬化樹脂)   ・ウレタンアクリレート(C−9501  サート
マー製)      …50重量部  ・ジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレート           
                     (M−東
亜合成製)          …15重量部  ・テ
トラヒドロフルフリルメタクリレート(粘度2.5cp
s)…30重量部(実験例3)母型と透明基板との重ね
合わせ前の紫外線照射量を50mJ/cm2 として着
色紫外線硬化樹脂を半硬化状態とし、母型と透明基板と
の重ね合わせ後の紫外線照射量を200mJ/cm2 
とした他は実験例1と同様にしてカラーフィルタを得た
。このようなカラーフィルタの寸法精度は±1μmであ
った。
【0034】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば着
色顔料を含有する電離放射線硬化樹脂は母型に形成され
た所定の着色パターン用の溝部に充填され、電離放射線
照射により硬化状態もしくは半硬化状態とされ、その後
、電離放射線硬化透明樹脂を介して透明基板が母型と重
ね合され、透明基板側および母型側の少なくとも一方か
ら電離放射線が照射されて電離放射線硬化透明樹脂が硬
化されると同時に電離放射線硬化透明樹脂を介して溝部
内の電離放射線硬化樹脂が透明基板に接着されて透明基
板上に着色パターンが形成され、これを繰り返すことに
より必要とする複数色の着色パターンからなる着色層を
備えるカラーフィルタが得られ、これにより、耐熱性、
耐光性等を有しパターン寸法精度が良好なカラーフィル
タの製造が可能になるとともに、カラーフィルタの工程
の簡略化がなされて製造コストの低減が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明により製造されたカラーフィルタを用い
たアクティブマトリックス方式による液晶ディスプレイ
の一例を示す斜視図である。
【図2】図1に示される液晶ディスプレイの概略断面図
である。
【図3】図1に示される液晶ディスプレイに用いられて
いるカラーフィルタの拡大部分断面図である。
【図4】本発明によるカラーフィルタの製造方法を説明
するための工程図である。
【図5】本発明によるカラーフィルタの製造方法を説明
するための工程図である。
【図6】母型の断面形状を示す断面図である。
【図7】母型の構成例を示す概略構成図である。
【符号の説明】
4…母型 6…溝部 10…カラーフィルタ 12…透明基板 13…透明樹脂層 14…着色層 14R,14G,14B…着色パターン16…ブラック
マトリックス

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  複数色の着色パターンからなる着色層
    を備えるカラーフィルタの製造方法において、所定の着
    色パターン用の溝部が形成された母型の該溝部に着色顔
    料を含有する電離放射線硬化樹脂を充填し、電離放射線
    を照射して該電離放射線硬化樹脂を硬化状態もしくは半
    硬化状態とし、その後、電離放射線硬化透明樹脂を介し
    て前記溝部内の電離放射線硬化樹脂と密着するように前
    記母型に透明基板を重ね、前記透明基板側および前記母
    型側の少なくとも一方から電離放射線を照射して前記電
    離放射線硬化透明樹脂を硬化させ、この硬化した電離放
    射線硬化透明樹脂を介して前記溝部内の電離放射線硬化
    樹脂と前記透明基板とを接着させて前記透明基板上に着
    色パターンを形成する工程、を必要色数分繰り返して前
    記透明基板上に着色層を形成することを特徴とするカラ
    ーフィルタの製造方法。
  2. 【請求項2】  着色層を形成した後、ブラックマトリ
    ックス用の溝部が形成された母型の該溝部に光不透過物
    質を含有する電離放射線硬化樹脂を充填し、電離放射線
    を照射して該電離放射線硬化樹脂を硬化状態もしくは半
    硬化状態とし、その後、電離放射線硬化透明樹脂を介し
    て前記溝部内の電離放射線硬化樹脂と密着するように前
    記母型に前記透明基板を重ね、前記透明基板側および前
    記母型側の少なくとも一方から電離放射線を照射して前
    記電離放射線硬化透明樹脂を硬化させ、この硬化した電
    離放射線硬化透明樹脂を介して前記溝部内の電離放射線
    硬化樹脂と前記透明基板とを接着させて前記透明基板上
    にブラックマトリックスを形成することを特徴とする請
    求項1記載のカラーフィルタの製造方法。
  3. 【請求項3】  ブラックマトリックス用の溝部が形成
    された母型の該溝部に光不透過物質を含有する電離放射
    線硬化樹脂を充填し、電離放射線を照射して該電離放射
    線硬化樹脂を硬化状態もしくは半硬化状態とし、その後
    、電離放射線硬化透明樹脂を介して前記溝部内の電離放
    射線硬化樹脂と密着するように前記母型に透明基板を重
    ね、前記透明基板側および前記母型側の少なくとも一方
    から電離放射線を照射して前記電離放射線硬化透明樹脂
    を硬化させ、この硬化した電離放射線硬化透明樹脂を介
    して前記溝部内の電離放射線硬化樹脂と前記透明基板と
    を接着させてブラックマトリックスを予め形成した透明
    基板を用いることを特徴とする請求項1記載のカラーフ
    ィルタの製造方法。
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