JPH04319447A - Thermal head manufacturing method - Google Patents

Thermal head manufacturing method

Info

Publication number
JPH04319447A
JPH04319447A JP8655791A JP8655791A JPH04319447A JP H04319447 A JPH04319447 A JP H04319447A JP 8655791 A JP8655791 A JP 8655791A JP 8655791 A JP8655791 A JP 8655791A JP H04319447 A JPH04319447 A JP H04319447A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass glaze
thermal head
layer
firing
glass
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8655791A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshinao Miyata
佳直 宮田
Yoshinori Ubusaka
生坂 芳則
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP8655791A priority Critical patent/JPH04319447A/en
Publication of JPH04319447A publication Critical patent/JPH04319447A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electronic Switches (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、コンピュータ、ワープ
ロ、FAX等に使用される、サーマルプリンタのヘッド
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thermal printer head used in computers, word processors, facsimile machines, etc.

【0002】0002

【従来の技術】印字装置の中で、サーマルプリンタは、
低価格、低騒音、メンテナンスフリー、等の特徴があり
、特に個人用途として、広く普及している。
[Prior Art] Among printing devices, thermal printers are
It has the characteristics of low price, low noise, and is maintenance free, and is widely used, especially for personal use.

【0003】しかし、サーマルプリンタは、表面粗度の
大きな紙(ラフ紙)に対して、高速で印字することが難
しいといった課題があった。
However, thermal printers have a problem in that it is difficult to print at high speed on paper with a large surface roughness (rough paper).

【0004】このような課題に対して、従来は、図6に
示すように、基板1上に形成するガラスグレーズ2を、
より幅を狭くし、且つ、ガラスグレーズの厚さを厚くす
ることで、ラフ紙への密着性を高め、良好な印字を得る
努力がされてきた。一般に、ガラスグレーズの幅を狭く
し、厚さを厚くするには、ガラスグレーズ焼成時に溶融
したガラスグレーズの流動性を低くすることが必要とな
る。しかし、溶融時のガラスグレーズの流動性をおさえ
ることにより、ガラスグレーズの表面が滑らかにならず
、うねりとして残ってしまうといった問題点があった。 このため、現在では、ガラスグレーズ幅は550μ、厚
さは50μ程度のサイズが限界となっている。
In order to solve this problem, conventionally, as shown in FIG. 6, the glass glaze 2 formed on the substrate 1 is
Efforts have been made to improve adhesion to rough paper and obtain good printing by narrowing the width and increasing the thickness of the glass glaze. Generally, in order to narrow the width and increase the thickness of a glass glaze, it is necessary to lower the fluidity of the glass glaze melted during firing of the glass glaze. However, by suppressing the fluidity of the glass glaze during melting, there was a problem in that the surface of the glass glaze did not become smooth and remained as undulations. For this reason, at present, the glass glaze has a width of about 550 microns and a thickness of about 50 microns.

【0005】また、例えば、特公平2−46390号公
報のごとく、部分的に形成されたガラスグレーズの頂部
に更に上部ガラスグレーズ層を印刷焼成することにより
、発熱部の、紙への密着性を高め、鮮明な印字を行うサ
ーマルヘッドが提案されている。しかし、このようにし
て構成されたサーマルヘッドでは、下部ガラスグレーズ
層の焼成温度に対して、上部ガラスグレーズ層の焼成温
度を低くする必要があり、従って発熱部の形成される部
分のガラスグレーズ層の耐熱温度が低くなってしまうた
め、より高速で印字を行うようなサーマルヘッドでは、
熱的な耐久性が劣るといった問題点があった。
Furthermore, as disclosed in Japanese Patent Publication No. 2-46390, an upper glass glaze layer is further printed and fired on top of the partially formed glass glaze, thereby improving the adhesion of the heat generating part to the paper. A thermal head that prints sharply and clearly has been proposed. However, in a thermal head configured in this way, it is necessary to lower the firing temperature of the upper glass glaze layer than that of the lower glass glaze layer. Thermal heads that print at higher speeds have a lower heat-resistant temperature.
There were problems such as poor thermal durability.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】解決しようとする問題
点は、表面粗度の大きい紙に対し、現在では、高速、高
品位の印字が難しいという点である。
The problem to be solved is that it is currently difficult to perform high-speed, high-quality printing on paper with a large surface roughness.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、表面の表面粗
度の大きい紙に、より高速で印字するという目的を、ガ
ラスグレーズの一部を除去したのち焼成を行うことによ
り、部分的に曲率が大きく、且つ耐熱性を損なわずに実
現した。
[Means for Solving the Problems] The present invention aims to print at higher speed on paper with a large surface roughness by partially removing glass glaze and then baking it. Achieved with large curvature without compromising heat resistance.

【0008】[0008]

【実施例】図1は本発明のサーマルヘッドの実施例の製
造方法を示す図である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 is a diagram showing a method of manufacturing a thermal head according to an embodiment of the present invention.

【0009】基板1上に、ガラスフリットを一般的なス
クリーン印刷法により印刷、焼成し、ガラスグレーズ層
2を形成する(図1(a))。次に、感光性樹脂4をコ
ーティングし、ガラスグレーズ層2を除去する部分の感
光性樹脂4を除去する。ガラスグレーズ層2の部分的除
去には、一般的にフッ酸系のエッチング液を使用するが
、エッチング工程で感光性樹脂4が剥離してしまう場合
がある。このようなときには、ガラスグレーズ層2上に
金属層3を形成し、更に感光性樹脂4をコーティング後
、ガラス層2の除去部分の感光性樹脂4、及び、金属層
3を除去する(図1(b))。次に、ガラスグレーズ層
2をフッ酸系のエッチング液で除去する(図1(c))
。更に、前記感光性樹脂4、金属層3を除去することに
より、部分的に突出したガラスグレーズ層2を得ること
ができる。(図1(d))このようにして得られたガラ
スグレーズは、図2に示すように、ガラスグレーズの除
去部と、非除去部の界面(エッチング端)5が鋭利にな
ってしまうという問題点がある。次に、エッチング端5
が鋭利になってしまうことの問題点について説明する。
A glass frit is printed on a substrate 1 by a general screen printing method and fired to form a glass glaze layer 2 (FIG. 1(a)). Next, a photosensitive resin 4 is coated, and the photosensitive resin 4 is removed from the portion where the glass glaze layer 2 is to be removed. Generally, a hydrofluoric acid-based etching solution is used to partially remove the glass glaze layer 2, but the photosensitive resin 4 may peel off during the etching process. In such a case, the metal layer 3 is formed on the glass glaze layer 2, and the photosensitive resin 4 is further coated, and then the photosensitive resin 4 and the metal layer 3 in the removed portion of the glass layer 2 are removed (see FIG. 1). (b)). Next, the glass glaze layer 2 is removed using a hydrofluoric acid-based etching solution (FIG. 1(c)).
. Furthermore, by removing the photosensitive resin 4 and the metal layer 3, a partially protruding glass glaze layer 2 can be obtained. (FIG. 1(d)) The glass glaze thus obtained has a problem in that the interface (etched edge) 5 between the removed portion and the non-removed portion of the glass glaze becomes sharp, as shown in FIG. There is a point. Next, the etched end 5
I will explain the problem of sharp edges.

【0010】図3は、サーマルヘッドの製造工程を示す
図である。図1で説明したガラスグレーズ2の形成され
た基板1上に発熱抵抗層10をスパッタリング等により
成膜する。次に電極層11を同様に成膜する(図3(a
))。この時、エッチング端5が鋭利であった場合、エ
ッチング部と非エッチング部の段差の壁面6で成膜が均
一に行えず、部分的に発熱抵抗層10の膜厚が薄くなっ
てしまう。このことは、発熱時の熱的耐久性が劣る原因
になる。更に、電極層11上に感光性樹脂4をコーティ
ングし、電極層11をリード電極11−1とコモン電極
11−2に分割し、発熱部12を形成する(図3(b)
)。この時、エッチング端5が鋭利であるために、感光
性樹脂4の膜厚が均一にならず、発熱部12のパターン
精度が悪くなるといった問題点がある(図3(c))。
FIG. 3 is a diagram showing the manufacturing process of the thermal head. A heating resistor layer 10 is formed by sputtering or the like on the substrate 1 on which the glass glaze 2 described in FIG. 1 is formed. Next, the electrode layer 11 is formed in the same manner (FIG. 3(a)
)). At this time, if the etched edge 5 is sharp, the film cannot be formed uniformly on the wall surface 6 of the step between the etched part and the non-etched part, and the thickness of the heat generating resistor layer 10 becomes thin in some parts. This causes poor thermal durability during heat generation. Further, a photosensitive resin 4 is coated on the electrode layer 11, and the electrode layer 11 is divided into a lead electrode 11-1 and a common electrode 11-2 to form a heat generating part 12 (FIG. 3(b)).
). At this time, since the etched edge 5 is sharp, there is a problem that the thickness of the photosensitive resin 4 is not uniform and the pattern accuracy of the heat generating part 12 is deteriorated (FIG. 3(c)).

【0011】本発明は、このような問題点を、ガラスグ
レーズを部分的に除去した後に、ガラスグレーズの屈伏
点以上の温度で焼成をすることにより解決した。
The present invention solves these problems by partially removing the glass glaze and then firing it at a temperature equal to or higher than the yield point of the glass glaze.

【0012】図4は、焼成温度と焼成条件を変化させた
場合の、ガラスグレーズの形状と、表面状態の変化を表
す図である。図4(a)は焼成温度、時間の不足により
、エッチング端5が充分に鈍化されない状態であり、図
4(b)は焼成温度、時間が過度の状態で、非エッチン
グ部が溶融して充分な曲率が得られない場合である。 図4(c)が理想的な状態であり、エッチング端が充分
に鈍化し、非エッチング部の曲率が大きく残った状態で
ある。表1は、焼成温度と焼成時間を変化させた場合の
形状と、表面状態についてまとめたものである。形状に
ついては、図4(a)の状態を×、図4(b)の状態を
△、図4(c)の状態を○として記入してある。また、
表面状態は、×〜△〜○になるにしたがって、ガラス本
来の滑らかな表面になることを示している。ただし、こ
の表に使用したガラスグレーズの屈伏点は850℃であ
る。
FIG. 4 is a diagram showing changes in the shape and surface condition of a glass glaze when the firing temperature and firing conditions are changed. FIG. 4(a) shows a state in which the etched edge 5 is not sufficiently blunted due to insufficient firing temperature and time, and FIG. 4(b) shows a state in which the etched edge 5 is not sufficiently blunted due to excessive firing temperature and time. This is the case when a certain curvature cannot be obtained. FIG. 4C shows an ideal state in which the etched edges are sufficiently blunted and the unetched portions have a large curvature remaining. Table 1 summarizes the shapes and surface conditions when the firing temperature and firing time are varied. Regarding the shape, the state in FIG. 4(a) is marked as x, the state in FIG. 4(b) as Δ, and the state in FIG. 4(c) as ○. Also,
The surface condition shows that as it goes from x to △ to ○, the surface becomes smoother than glass. However, the yield point of the glass glaze used in this table is 850°C.

【0013】[0013]

【表1】[Table 1]

【0014】表1からわかるように、焼成温度が高くな
るにつれ、形状は、図4(a)〜図4(b)〜図4(c
)の状態へ変化してゆく。しかし、焼成時間が長くなる
に従って、ガラスグレーズの表面状態は悪化してゆく。 ガラスグレーズの屈伏点を越える温度で焼成すると、形
状、表面状態ともほぼ良好なものが得られはじめ、今回
試験したものに関しては、920℃で10〜15分程度
の焼成が形状、表面状態供に最も良好であった。
As can be seen from Table 1, as the firing temperature increases, the shape changes from FIGS. 4(a) to 4(b) to 4(c).
). However, as the firing time increases, the surface condition of the glass glaze deteriorates. When fired at a temperature that exceeds the yield point of the glass glaze, a nearly good shape and surface condition can be obtained.For the products tested this time, firing at 920℃ for about 10 to 15 minutes resulted in a good shape and surface condition. It was the best.

【0015】本実施例で説明した焼成温度、焼成時間は
、ガラスグレーズの種類、印刷量によって変化するもの
であり、これに限られるものではない。
The firing temperature and firing time described in this embodiment vary depending on the type of glass glaze and the amount of printing, and are not limited to these.

【0016】以上まではガラスグレーズの除去方法を、
エッチングによる除去について説明したが、研削加工で
除去する方法も可能である。図5にはダイシングソーに
よる研削加工の例について説明する。
[0016] The method for removing glass glaze has been described above.
Although removal by etching has been described, removal by grinding is also possible. FIG. 5 describes an example of grinding using a dicing saw.

【0017】基板1上にガラスグレーズ2を形成する(
図5(a))。カッティングブレード20を用いZ方向
のINDEX21を、基板厚み程度に設定し、ガラスグ
レーズ2を研削する。(図5(b))更に、発熱部を形
成するガラスグレーズのみを残すように、再度研削を行
う(図5(c))。こうして得られた基板を上記の温度
条件で焼成を行うことにより、エッチングによって除去
した基板同様に、表面が滑らかで、発熱部の曲率の大き
なサーマルヘッド用の基板を得ることが可能になる。
Forming glass glaze 2 on substrate 1 (
Figure 5(a)). Using the cutting blade 20, the INDEX 21 in the Z direction is set to approximately the thickness of the substrate, and the glass glaze 2 is ground. (FIG. 5(b)) Furthermore, grinding is performed again so that only the glass glaze forming the heat generating portion remains (FIG. 5(c)). By firing the substrate obtained in this way under the above temperature conditions, it is possible to obtain a substrate for a thermal head with a smooth surface and a large curvature of the heat generating part, similar to the substrate removed by etching.

【0018】[0018]

【発明の効果】以上説明したように本発明のサーマルヘ
ッドは、ガラスグレーズの一部を除去した後に、焼成を
行うことにより、発熱体部が部分的にに曲率が大きくで
きるため、ラフ紙に対する接触性が高く、より高速で印
字が可能であるという利点がある。
Effects of the Invention As explained above, in the thermal head of the present invention, by firing after removing a part of the glass glaze, the curvature of the heating element can be partially increased, so that It has the advantage of having high contact properties and being able to print at higher speeds.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

【図1】本発明のサーマルヘッドの製造方法を示した図
である。
FIG. 1 is a diagram showing a method for manufacturing a thermal head according to the present invention.

【図2】本発明のエッチング後の状態を示した図である
FIG. 2 is a diagram showing the state after etching according to the present invention.

【図3】エッチング端が鋭利になった場合の問題点を説
明する図である。
FIG. 3 is a diagram illustrating a problem when the etched edge becomes sharp.

【図4】焼成温度を変化させた場合の、ガラスグレーズ
の形状を説明する図である。
FIG. 4 is a diagram illustrating the shape of glass glaze when the firing temperature is changed.

【図5】ガラスグレーズの除去を、研削加工によって行
った場合の図でる。
FIG. 5 is a diagram showing a case where glass glaze is removed by grinding.

【図6】一般的なサーマルヘッドのガラスグレーズの形
状を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing the shape of a glass glaze in a general thermal head.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1        基板 2        ガラスグレーズ 3        金属層 4        感光性樹脂 5        エッチング端 6        段差の壁面 10      発熱抵抗層 11      電極層 11−1  リード電極 11−2  コモン電極 12      発熱部 20      カッティングブレード21     
 Z方向のINDEX
1 Substrate 2 Glass glaze 3 Metal layer 4 Photosensitive resin 5 Etched end 6 Stepped wall 10 Heat generating resistance layer 11 Electrode layer 11-1 Lead electrode 11-2 Common electrode 12 Heat generating part 20 Cutting blade 21
INDEX in Z direction

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  基板と、基板上に形成されたガラスグ
レーズと、ガラスグレーズ上に形成された発熱部とを有
するサーマルヘッドの製造方法に於いて、前記ガラスグ
レーズの一部を除去する工程と、一部のガラスグレーズ
が除去された基板を、少なくともガラスグレーズの屈伏
点以上の温度で焼成する工程とを有することを特徴とす
るサーマルヘッドの製造方法。
1. A method for manufacturing a thermal head having a substrate, a glass glaze formed on the substrate, and a heat generating part formed on the glass glaze, including the step of removing a part of the glass glaze. 1. A method for manufacturing a thermal head, comprising the steps of: firing the substrate from which a portion of the glass glaze has been removed at a temperature at least equal to or higher than the yield point of the glass glaze.
JP8655791A 1991-04-18 1991-04-18 Thermal head manufacturing method Pending JPH04319447A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8655791A JPH04319447A (en) 1991-04-18 1991-04-18 Thermal head manufacturing method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8655791A JPH04319447A (en) 1991-04-18 1991-04-18 Thermal head manufacturing method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04319447A true JPH04319447A (en) 1992-11-10

Family

ID=13890314

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8655791A Pending JPH04319447A (en) 1991-04-18 1991-04-18 Thermal head manufacturing method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH04319447A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015189066A (en) * 2014-03-28 2015-11-02 東芝ホクト電子株式会社 Manufacturing method of thermal head

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015189066A (en) * 2014-03-28 2015-11-02 東芝ホクト電子株式会社 Manufacturing method of thermal head

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3124873B2 (en) Thermal head and method of manufacturing the same
JPH04288244A (en) Thermal head
JPH04319447A (en) Thermal head manufacturing method
JP3993325B2 (en) Thick film thermal print head and method of manufacturing the same
JPH036917B2 (en)
US4710263A (en) Method of fabricating print head for thermal printer
JP3293981B2 (en) Thermal head and manufacturing method thereof
JPH054361A (en) Thermal head and method of manufacturing thermal head
JP2860868B2 (en) Manufacturing method of thermal print head
US5373625A (en) Method for making thermal heads
JP2818498B2 (en) Thermal head
JPH07329331A (en) Thermal head and manufacture thereof
JPH0710600B2 (en) Edge type thermal head
JP3497870B2 (en) Manufacturing method of corner head type thermal head
JPH04338557A (en) Thermal printing head
JP2574118B2 (en) Manufacturing method of thermal print head
JP2731453B2 (en) Thermal head substrate and method of manufacturing the same
JP2002011899A (en) Manufacturing method of thermal head
JPH0746539Y2 (en) Thermal head
JP2578140B2 (en) Manufacturing method of thermal head
JPH04239655A (en) Thermal head and its manufacturing method
JPS60248366A (en) Thermal head
JPH06218974A (en) Thermal head and manufacture thereof
JP3261145B2 (en) Manufacturing method of thermal head
JPS6112788B2 (en)