JPH0431973A - パターン検査装置 - Google Patents
パターン検査装置Info
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- JPH0431973A JPH0431973A JP2137790A JP13779090A JPH0431973A JP H0431973 A JPH0431973 A JP H0431973A JP 2137790 A JP2137790 A JP 2137790A JP 13779090 A JP13779090 A JP 13779090A JP H0431973 A JPH0431973 A JP H0431973A
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- Closed-Circuit Television Systems (AREA)
- Image Analysis (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
この発明は、例えば基板上に印刷されたパターンの欠け
や突出を検査するのに用いられるパターン検査装置に関
する。
や突出を検査するのに用いられるパターン検査装置に関
する。
〈従来の技術〉
この種基板には、パターン構成部分（導体部分）に欠け
が生じていたり、パターン構成部分間の背景部分（絶縁
部分）に短絡などの突出が生じていたりする場合がある
ため、欠けや突出などの不良を検査する必要がある。
が生じていたり、パターン構成部分間の背景部分（絶縁
部分）に短絡などの突出が生じていたりする場合がある
ため、欠けや突出などの不良を検査する必要がある。
〈発明が解決しようとする問題点〉
このような検査は、従来は人手で行っているため、検査
に熟練を要し、検査効率や検査精度が悪く、検査結果が
検査員によってばらつくなどの問題がある。とりわけ小
型の基板の場合、パターンが微細となるため、検査が容
易でなく、不良の発見が難しくなる。
に熟練を要し、検査効率や検査精度が悪く、検査結果が
検査員によってばらつくなどの問題がある。とりわけ小
型の基板の場合、パターンが微細となるため、検査が容
易でなく、不良の発見が難しくなる。
また基板が一種類であれば、パターンマツチングなどの
方法で自動検査することが可能であるが、パターンが多
種類にわたって検査対象が頻繁に変わる場合は、パター
ンマツチングのような方法では到底対応できない。
方法で自動検査することが可能であるが、パターンが多
種類にわたって検査対象が頻繁に変わる場合は、パター
ンマツチングのような方法では到底対応できない。
二の発明は、上述した技術的課題を解消するためのもの
であって、検査すべきパターンが微細であったり、多種
類にわたる場合であっても、簡便な検査工程にて効率的
かつ高精度にパターンを検査できるパターン検査装置を
提供することを目的とする。
であって、検査すべきパターンが微細であったり、多種
類にわたる場合であっても、簡便な検査工程にて効率的
かつ高精度にパターンを検査できるパターン検査装置を
提供することを目的とする。
〈考案が解決しようとする問題点〉
請求項Ｉにかかる発明は、パターンの欠けを検査するパ
ターン検査装置であって、検査マスクと位置決め機構と
撮像部と画像処理部とから成るものである。
ターン検査装置であって、検査マスクと位置決め機構と
撮像部と画像処理部とから成るものである。
検査マスクは、被検査パターンと輪郭が一致する判別パ
ターンを有し、判別パターンは被検査パターンのパター
ン構成部分に対応させた透明部と、背景部分に対応させ
たパターン構成部分と明度が近似する色の非透明部分と
から成る。
ターンを有し、判別パターンは被検査パターンのパター
ン構成部分に対応させた透明部と、背景部分に対応させ
たパターン構成部分と明度が近似する色の非透明部分と
から成る。
位置決め機構は、検査マスクの判別パターンと被検査パ
ターンとが重なるよう検査マスクの位置合わせが可能で
ある。撮像部は、被検査パターンの上方に位置して被検
査パターン上に検査マスクを重ねた状態で撮像する。画
像処理部は、撮像部で得た入力画像より被検査パターン
の背景部分の存在有無を検出することによりパターン構
成部分の欠けを特徴する 請求項２にかかる発明は、パターンの突出を検査するパ
ターン検査装置であって、検査マスクと位置決め機構と
撮像部と画像処理部とから成るものである。
ターンとが重なるよう検査マスクの位置合わせが可能で
ある。撮像部は、被検査パターンの上方に位置して被検
査パターン上に検査マスクを重ねた状態で撮像する。画
像処理部は、撮像部で得た入力画像より被検査パターン
の背景部分の存在有無を検出することによりパターン構
成部分の欠けを特徴する 請求項２にかかる発明は、パターンの突出を検査するパ
ターン検査装置であって、検査マスクと位置決め機構と
撮像部と画像処理部とから成るものである。
検査マスクは、被検査パターンと輪郭が一致する判別パ
ターンを有し、判別パターンは被検査パターンの背景部
分に対応させた透明部と、パターン構成部分に対応させ
た背景部分と明度が近似する色の非透明部分とから成る
。位置決め機構は、検査マスクの判別パターンと非検査
パターンとが重なるよう検査マスクの位置合わせが可能
である。撮像部は、被検査パターンの上方に位置して被
検査パターン上に検査マスクを重ねた状態で撮像する。
ターンを有し、判別パターンは被検査パターンの背景部
分に対応させた透明部と、パターン構成部分に対応させ
た背景部分と明度が近似する色の非透明部分とから成る
。位置決め機構は、検査マスクの判別パターンと非検査
パターンとが重なるよう検査マスクの位置合わせが可能
である。撮像部は、被検査パターンの上方に位置して被
検査パターン上に検査マスクを重ねた状態で撮像する。
画像処理部は、撮像部で得た入力画像より被検査パター
ンのパターン構成部分の存在有無を検出することにより
パターン構成部分の突出を特徴する 請求項３にかかる発明は、パターンの欠けおよび突出を
検査するパターン検査装置であって、第１．第２の検査
マスクと位置決め機構と第１゜第２の撮像部と画像処理
部とから成るものである。
ンのパターン構成部分の存在有無を検出することにより
パターン構成部分の突出を特徴する 請求項３にかかる発明は、パターンの欠けおよび突出を
検査するパターン検査装置であって、第１．第２の検査
マスクと位置決め機構と第１゜第２の撮像部と画像処理
部とから成るものである。
第１の検査マスクは、被検査パターンと輪郭が一致する
判別パターンを有し、判別パターンは被検査パターンの
パターン構成部分に対応させた透明部と、背景部分に対
応させたパターン構成部分と明度が近似する色の非透明
部分とから成る。第２の検査マスクは、被検査パターン
と輪郭が一致する判別パターンを有し、判別パターンは
被検査パターンの背景部分に対応させた透明部と、パタ
ーン構成部分に対応させた背景部分と明度が近似する色
の非透明部分とから成る。位置決め機構は、第１．第２
の各検査マスクの判別パターンと被検査パターンとが重
なるよう各検査マスクの位置合わせが可能である。
判別パターンを有し、判別パターンは被検査パターンの
パターン構成部分に対応させた透明部と、背景部分に対
応させたパターン構成部分と明度が近似する色の非透明
部分とから成る。第２の検査マスクは、被検査パターン
と輪郭が一致する判別パターンを有し、判別パターンは
被検査パターンの背景部分に対応させた透明部と、パタ
ーン構成部分に対応させた背景部分と明度が近似する色
の非透明部分とから成る。位置決め機構は、第１．第２
の各検査マスクの判別パターンと被検査パターンとが重
なるよう各検査マスクの位置合わせが可能である。
第１の撮像部は、被検査パターンの上方に位置して被検
査パターン上に第１の検査マスクを重ねた状態で撮像し
、第２の撮像部は、被検査パターンの上方に位置して被
検査パターン上に第２の検査マスクを重ねた状態で撮像
する。画像処理部は、第１の撮像部で得た入力画像より
被検査パターンの背景部分の存在有無を検出することに
よりパターン構成部分の欠けを検査すると共に、第２の
撮像部で得た入力画像より被検査パターンのパターン構
成部分の存在有無を検出することによりパターン構成部
分の突出を検査する。
査パターン上に第１の検査マスクを重ねた状態で撮像し
、第２の撮像部は、被検査パターンの上方に位置して被
検査パターン上に第２の検査マスクを重ねた状態で撮像
する。画像処理部は、第１の撮像部で得た入力画像より
被検査パターンの背景部分の存在有無を検出することに
よりパターン構成部分の欠けを検査すると共に、第２の
撮像部で得た入力画像より被検査パターンのパターン構
成部分の存在有無を検出することによりパターン構成部
分の突出を検査する。
〈作用〉
請求項１のパターン検査装置によれば、被検査パターン
に欠けが存在すると、この被検査パターンに検査マスク
の判別パターンを重ねて撮像すると、前記欠けの部分の
みが画像中に被検査パターンの背景部分として現れるた
め、欠けの存在を検出し得る。
に欠けが存在すると、この被検査パターンに検査マスク
の判別パターンを重ねて撮像すると、前記欠けの部分の
みが画像中に被検査パターンの背景部分として現れるた
め、欠けの存在を検出し得る。
請求項２のパターン検査装置によれば、被検査パターン
に突出が存在すると、この被検査パターンに検査マスク
の判別パターンを重ねて撮像すると、前記突出の部分の
みが画像中に被検査パターンのパターン構成部分として
現れるため、突出の存在を検出し得る。
に突出が存在すると、この被検査パターンに検査マスク
の判別パターンを重ねて撮像すると、前記突出の部分の
みが画像中に被検査パターンのパターン構成部分として
現れるため、突出の存在を検出し得る。
請求項３のパターン検査装置によれば、被検査パターン
に欠けおよび突出が存在すると、第１、第２の各検査マ
スクの判別パターンを重ねて撮像すると、請求項１．２
に記載のものと同様の原理で欠けおよび突出の存在を検
出し得る。
に欠けおよび突出が存在すると、第１、第２の各検査マ
スクの判別パターンを重ねて撮像すると、請求項１．２
に記載のものと同様の原理で欠けおよび突出の存在を検
出し得る。
〈実施例〉
第１図は、この発明の一実施例にかかるパターン検査装
置１の構成を示している。ここでの検査対象は、一方表
面に回路の配線パターンが導電性材料層をエツチング処
理して形成された配線基板２であって、複数の配線基板
２がＸＹ子テーブル上に載置されて矢印４で示す方向に
搬送されてくる。この搬送路上には、２台の撮像装置５
Ａ、５Ｂが配備されており、各撮像装置５Ａ、５Ｂによ
り配線基板２のパターン形成側表面が撮像され、画像処
理装置１０で２値化などの処理が施された後、表示装置
１１でそれぞれの２値画像などが表示される。各撮像装
置５Ａ、５Ｂの視野内には後述するような検査マスク６
、′７がそれぞれ配置され、これら検査マスク６．７を
介して配線基板２の配線パターンが各撮像装置５Ａ、５
Ｂで撮像される。
置１の構成を示している。ここでの検査対象は、一方表
面に回路の配線パターンが導電性材料層をエツチング処
理して形成された配線基板２であって、複数の配線基板
２がＸＹ子テーブル上に載置されて矢印４で示す方向に
搬送されてくる。この搬送路上には、２台の撮像装置５
Ａ、５Ｂが配備されており、各撮像装置５Ａ、５Ｂによ
り配線基板２のパターン形成側表面が撮像され、画像処
理装置１０で２値化などの処理が施された後、表示装置
１１でそれぞれの２値画像などが表示される。各撮像装
置５Ａ、５Ｂの視野内には後述するような検査マスク６
、′７がそれぞれ配置され、これら検査マスク６．７を
介して配線基板２の配線パターンが各撮像装置５Ａ、５
Ｂで撮像される。
第２図は、上記パターン検査装置１の電気的構成を示す
ブロック図である。
ブロック図である。
図示例において、各撮像装置５Ａ、５Ｂからのアナログ
量の画像信号は画像処理装置１０に入力されて２値化回
路１２で２値化され、画像メモリ１３に記憶される。こ
の２値画像はＣＲＴインタフェース回路１４を介してＣ
ＲＴなどの表示装置１１に表示される。このような動作
を制御するＣＰＵ１５がパスライン１６を介して画像メ
モリ１３に接続されており、前記パスライン１６には、
パターン検査のためのプログラムなどが格納されるＲＯ
ＭＬ７や各種データなどが格納されるＲＡＭ１８が接続
される。
量の画像信号は画像処理装置１０に入力されて２値化回
路１２で２値化され、画像メモリ１３に記憶される。こ
の２値画像はＣＲＴインタフェース回路１４を介してＣ
ＲＴなどの表示装置１１に表示される。このような動作
を制御するＣＰＵ１５がパスライン１６を介して画像メ
モリ１３に接続されており、前記パスライン１６には、
パターン検査のためのプログラムなどが格納されるＲＯ
ＭＬ７や各種データなどが格納されるＲＡＭ１８が接続
される。
このパターン検査装置１は、第３図に示されるように、
配線基板２における配線パターンの欠け２０や短絡２１
などの不良箇所を検出するためのもので、各撮像装置５
Ａ、５Ｂで撮像された配線パターンの画像は、パターン
構成部分１９が黒に、背景部分２２である基板表面が白
に成るように２イ直される。
配線基板２における配線パターンの欠け２０や短絡２１
などの不良箇所を検出するためのもので、各撮像装置５
Ａ、５Ｂで撮像された配線パターンの画像は、パターン
構成部分１９が黒に、背景部分２２である基板表面が白
に成るように２イ直される。
前記の各検査マスク６．７は、フィルム状のものであっ
て、配線基板２のパターンと輪郭が一致する判別パター
ンを有するものである。
て、配線基板２のパターンと輪郭が一致する判別パター
ンを有するものである。
方の検査マスク６は、パターンの欠け２０を検出するの
に用いられ、第４図（１）に示されるように、配線基板
２におけるパターン構成部分１９に対応する形状の透明
部２３と、背景部分２２に対応する形状であってパター
ン構成部分１９と明度が近似する色の非透明部２４とを
含んで構成される。他方の検査マスク７は、パターン１
９間の短絡箇所２１を検出するのに用いられ、第４図（
２）に示されるように、前記配線基板２番ごおけるパタ
ーン構成部分１９に対応する形状であって背景部分２２
と明度が近似する色の非透明部２５と、背景部分２２に
対応する形状の透明部２６とを含んで構成される。
に用いられ、第４図（１）に示されるように、配線基板
２におけるパターン構成部分１９に対応する形状の透明
部２３と、背景部分２２に対応する形状であってパター
ン構成部分１９と明度が近似する色の非透明部２４とを
含んで構成される。他方の検査マスク７は、パターン１
９間の短絡箇所２１を検出するのに用いられ、第４図（
２）に示されるように、前記配線基板２番ごおけるパタ
ーン構成部分１９に対応する形状であって背景部分２２
と明度が近似する色の非透明部２５と、背景部分２２に
対応する形状の透明部２６とを含んで構成される。
第５図は、この実施例の動作手順を示している。
同図のステップ１（図中ｒｓＴＩＪで示す）では、ＸＹ
子テーブル上の配線基板２を撮像袋ｆ５Ａの視野内に導
き、検査マスク６の直下に位置させる。このときＸＹ子
テーブルは、配線基板２のパターンと検査マスク６の判
別パターンとが重なり合うように配線基板２の位置決め
を行う。
子テーブル上の配線基板２を撮像袋ｆ５Ａの視野内に導
き、検査マスク６の直下に位置させる。このときＸＹ子
テーブルは、配線基板２のパターンと検査マスク６の判
別パターンとが重なり合うように配線基板２の位置決め
を行う。
この状態で撮像装置５Ａは検査マスク６を介して配線基
板２を撮像し、その画像は画像処理装置１０に取り込ま
れる。
板２を撮像し、その画像は画像処理装置１０に取り込ま
れる。
第６図はそのときの入力画像２７であって、第６図（１
）は欠けが存在しない配線基板２についての入力画像２
７を、また第６図（２）は欠け２０が存在する配線基板
２についての入力画像２７を、それぞれ示している。
）は欠けが存在しない配線基板２についての入力画像２
７を、また第６図（２）は欠け２０が存在する配線基板
２についての入力画像２７を、それぞれ示している。
前記検査マスク６は、透明部２３が配線基板２のパター
ン構成部分１９に、非透明部２４が背景部分２２に、そ
れぞれ対応し、しかも非透明部２４がパターン構成部分
１９と近似色に設定しであるから、もし配線基板２に欠
けが存在していなければ、その画像２７は第６図（１）
のように全体がパターン構成部分１９の色となる。
ン構成部分１９に、非透明部２４が背景部分２２に、そ
れぞれ対応し、しかも非透明部２４がパターン構成部分
１９と近似色に設定しであるから、もし配線基板２に欠
けが存在していなければ、その画像２７は第６図（１）
のように全体がパターン構成部分１９の色となる。
またもし配線基板２に欠けが存在しておれば、その画像
２７は第６図（２）のようにパターン構成部分１９の色
領域中に背景部分２２の色の領域２８が現れることにな
る。
２７は第６図（２）のようにパターン構成部分１９の色
領域中に背景部分２２の色の領域２８が現れることにな
る。
かくして上記の各画像２７を２値化すると、第６図（１
）の画像は全体が黒画素となるのに対し、第６図（２）
の画像は全体が黒画素であって前記領域２８に対応する
部分が白画素となる。
）の画像は全体が黒画素となるのに対し、第６図（２）
の画像は全体が黒画素であって前記領域２８に対応する
部分が白画素となる。
ステップ２は、この白画素が存在するか否かを判定して
おり、もしその判定が“ＹＥＳ”であれば、ステップ３
で配線基板２のパターンに欠け２０が存在すると判断さ
れ、その配線基板２は不良品である旨の判定結果が出力
される。
おり、もしその判定が“ＹＥＳ”であれば、ステップ３
で配線基板２のパターンに欠け２０が存在すると判断さ
れ、その配線基板２は不良品である旨の判定結果が出力
される。
つぎのステップ４では、配線基板２をつぎの撮像装置５
Ｂの視野内に導いて、検査マスク７の真下に位置させ、
配線基板２のパターンと検査マスク７の判別パターンと
が重なり合うように配線基板２が位置決めされる。
Ｂの視野内に導いて、検査マスク７の真下に位置させ、
配線基板２のパターンと検査マスク７の判別パターンと
が重なり合うように配線基板２が位置決めされる。
この状態で撮像装置５Ｂは検査マスク７を介して配線基
板２を撮像し、その画像は画像処理装置１０に取り込ま
れる。
板２を撮像し、その画像は画像処理装置１０に取り込ま
れる。
第７図はそのときの入力画像２７′であって、第７図（
１）は短絡が存在しない配線基板２についての入力画像
２７′を、また第７図（２）は短絡２１が存在する配線
基板２についての入力画像２７′を、それぞれ示してい
る。
１）は短絡が存在しない配線基板２についての入力画像
２７′を、また第７図（２）は短絡２１が存在する配線
基板２についての入力画像２７′を、それぞれ示してい
る。
前記検査マスク７は、透明部２６が配線基板２の背景部
分２２に、非透明部２５がパターン構成部分１９に、そ
れぞれ対応し、しかも非透明部２４が背景部分２２と近
似色に設定しであるから、もし配線基板２に短絡が存在
していなければ、その画像２７′は第７図（１）のよう
に全体が背景部分２２の色となる。またもし配線基板２
に短絡が存在しておれば、その画像２７′は第７図（２
）のように背景部分２２の色領域中にパターン構成部分
１９の色の領域２９が現れることになる。
分２２に、非透明部２５がパターン構成部分１９に、そ
れぞれ対応し、しかも非透明部２４が背景部分２２と近
似色に設定しであるから、もし配線基板２に短絡が存在
していなければ、その画像２７′は第７図（１）のよう
に全体が背景部分２２の色となる。またもし配線基板２
に短絡が存在しておれば、その画像２７′は第７図（２
）のように背景部分２２の色領域中にパターン構成部分
１９の色の領域２９が現れることになる。
かくして上記の各画像２７′を２値化すると、第７図（
１）の画像は全体が白画素となるのに対し、第７図（２
）の画像は全体が白画素であって前記領域２９に対応す
る部分が黒画素となる。
１）の画像は全体が白画素となるのに対し、第７図（２
）の画像は全体が白画素であって前記領域２９に対応す
る部分が黒画素となる。
ステップ５は、この黒画素が存在するか否かを判定して
おり、もしその判定が“ＹＥＳ”であれば、ステップ６
で配線基板２のパターンに短絡２１が存在すると判断さ
れ、その配線基板２は不良品である旨の判定結果が出力
される。またもしステップ５の判定が“ＮＯ”であれば
、この配線基板２は欠けも短絡も存在しない正常晶であ
る旨の判定結果が出力される。
おり、もしその判定が“ＹＥＳ”であれば、ステップ６
で配線基板２のパターンに短絡２１が存在すると判断さ
れ、その配線基板２は不良品である旨の判定結果が出力
される。またもしステップ５の判定が“ＮＯ”であれば
、この配線基板２は欠けも短絡も存在しない正常晶であ
る旨の判定結果が出力される。
なお上記実施例は、パターンの欠けと短絡（突出）との
両方を検査する装置例を示すが、パターンの欠けまたは
短絡（突出）のみを検査する装置であってもよく、この
場合は撮像装置は１台でよい。
両方を検査する装置例を示すが、パターンの欠けまたは
短絡（突出）のみを検査する装置であってもよく、この
場合は撮像装置は１台でよい。
〈発明の効果〉
この発明は上記の如（、被検査パターンに検査マスクの
判別パターンを重ねて撮像し、その画像中にパターン構
成部分や背景部分が存在するか否かにより被検査パター
ンの欠けや突出、或いはその両方を検出するようにした
から、検査すべきパターンが微細であったり、多種類に
わたる場合であっても、それに応じた検査マスクを用意
するだけで、パターンの欠けや突出を容易かつ高精度に
検査できるという顕著な効果を奏する。
判別パターンを重ねて撮像し、その画像中にパターン構
成部分や背景部分が存在するか否かにより被検査パター
ンの欠けや突出、或いはその両方を検出するようにした
から、検査すべきパターンが微細であったり、多種類に
わたる場合であっても、それに応じた検査マスクを用意
するだけで、パターンの欠けや突出を容易かつ高精度に
検査できるという顕著な効果を奏する。
第１図はこの発明の一実施例にかかるパターン検査装置
１の構成を示す説明図、第２図はパターン検査装置１の
電気的構成を示すブロック図、第３図は配線基板のパタ
ーンにおける欠けや短絡箇所を示す拡大図、第４図は基
板のパターンと検査マスクの判別パターンとの関係を示
す斜視図、第５図はこの実施例の動作手順を示すフロー
チャート、第６図および第７図は画像の状態を示す説明
図である。 ■・・・・パターン検査装置 ２・・・・配線基板 ６．７・・・・検査マスク １９・・・・パターン構成部分 ２１・・・・短絡箇所 ２３、２６・・・・透明部分 ２４、２５・・・・非透明部分 ５Ａ、 ５Ｂ・・・・撮像装置 １０・・・・画像処理装置 ２０・・・・欠け ２２・・・・背景部分
１の構成を示す説明図、第２図はパターン検査装置１の
電気的構成を示すブロック図、第３図は配線基板のパタ
ーンにおける欠けや短絡箇所を示す拡大図、第４図は基
板のパターンと検査マスクの判別パターンとの関係を示
す斜視図、第５図はこの実施例の動作手順を示すフロー
チャート、第６図および第７図は画像の状態を示す説明
図である。 ■・・・・パターン検査装置 ２・・・・配線基板 ６．７・・・・検査マスク １９・・・・パターン構成部分 ２１・・・・短絡箇所 ２３、２６・・・・透明部分 ２４、２５・・・・非透明部分 ５Ａ、 ５Ｂ・・・・撮像装置 １０・・・・画像処理装置 ２０・・・・欠け ２２・・・・背景部分
Claims (3)
- （１）パターンの欠けを検査するパターン検査装置であ
って、 検査マスクと位置決め機構と撮像部と画像 処理部とから成り、 検査マスクは、被検査パターンと輪郭が一 致する判別パターンを有し、判別パターンは被検査パタ
ーンのパターン構成部分に対応させた透明部と、背景部
分に対応させたパターン構成部分と明度が近似する色の
非透明部分とから成り、 位置決め機構は、検査マスクの判別パター ンと被検査パターンとが重なるよう検査マスクの位置合
わせが可能であり、 撮像部は、被検査パターンの上方に位置し て被検査パターン上に検査マスクを重ねた状態で撮像し
、 画像処理部は、撮像部で得た入力画像より 被検査パターンの背景部分の存在有無を検出することに
よりパターン構成部分の欠けを検査するパターン検査装
置。 - （２）パターンの突出を検査するパターン検査装置であ
って、 検査マスクと位置決め機構と撮像部と画像 処理部とから成り、 検査マスクは、被検査パターンと輪郭が一 致する判別パターンを有し、判別パターンは被検査パタ
ーンの背景部分に対応させた透明部と、パターン構成部
分に対応させた背景部分と明度が近似する色の非透明部
分とから成り、 位置決め機構は、検査マスクの判別パター ンと非検査パターンとが重なるよう検査マスクの位置合
わせが可能であり、 撮像部は、非検査パターンの上方に位置し て被検査パターン上に検査マスクを重ねた状態で撮像し
、 画像処理部は、撮像部で得た入力画像より 被検査パターンのパターン構成部分の存在有無を検出す
ることによりパターン構成部分の突出を検査するパター
ン検査装置。 - （３）パターンの欠けおよび突出を検査するパターン検
査装置であって、 第１，第２の検査マスクと位置決め機構と 第１，第２の撮像部と画像処理部とから成り、第１の検
査マスクは、被検査パターンと輪 郭が一致する判別パターンを有し、判別パターンは被検
査パターンのパターン構成部分に対応させた透明部と、
背景部分に対応させたパターン構成部分と明度が近似す
る色の非透明部分とから成り、 第２の検査マスクは、被検査パターンと輪 郭が一致する判別パターンを有し、判別パターンは被検
査パターンの背景部分に対応させた透明部と、パターン
構成部分に対応させた背景部分と明度が近似する色の非
透明部分とから成り、 位置決め機構は、第１，第２の各検査マス クの判別パターンと被検査パターンとが重なるよう各検
査マスクの位置合わせが可能であり、 第１の撮像部は、被検査パターンの上方に 位置して被検査パターン上に第１の検査マスクを重ねた
状態で撮像し、 第２の撮像部は、被検査パターンの上方に 位置して被検査パターン上に第２の検査マスクを重ねた
状態で撮像し、 画像処理部は、第１の撮像部で得た入力画 像より被検査パターンの背景部分の存在有無を検出する
ことによりパターン構成部分の欠けを検査すると共に、
第２の撮像部で得た入力画像より被検査パターンのパタ
ーン構成部分の存在有無を検出することによりパターン
構成部分の突出を検査するパターン検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2137790A JPH0431973A (ja) | 1990-05-28 | 1990-05-28 | パターン検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2137790A JPH0431973A (ja) | 1990-05-28 | 1990-05-28 | パターン検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0431973A true JPH0431973A (ja) | 1992-02-04 |
Family
ID=15206912
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2137790A Pending JPH0431973A (ja) | 1990-05-28 | 1990-05-28 | パターン検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0431973A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7241231B2 (en) | 2001-12-19 | 2007-07-10 | Bridgestone Sports Co., Ltd. | Rubber composition for golf ball and golf ball |
-
1990
- 1990-05-28 JP JP2137790A patent/JPH0431973A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7241231B2 (en) | 2001-12-19 | 2007-07-10 | Bridgestone Sports Co., Ltd. | Rubber composition for golf ball and golf ball |
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