JPH04320904A - 薄膜の屈折率・膜厚測定方法 - Google Patents

薄膜の屈折率・膜厚測定方法

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JPH04320904A
JPH04320904A JP8878291A JP8878291A JPH04320904A JP H04320904 A JPH04320904 A JP H04320904A JP 8878291 A JP8878291 A JP 8878291A JP 8878291 A JP8878291 A JP 8878291A JP H04320904 A JPH04320904 A JP H04320904A
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JP
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refractive index
wavelength
incidence
incident
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JP8878291A
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Tami Isobe
磯部 民
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体デバイスや光デバ
イス等の光学的評価に応用可能な薄膜の屈折率・膜厚測
定方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、LASER−VAMFO(Var
iable−Angle Monochromatic
 FringeObservation)というレーザ
ーとモノクロメータという2つの光源を使って薄膜の屈
折率と膜厚を精度良く測定する方法が知られている(I
BM J.Res.Develop.8,pp.43−
51(1964)参照)。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記LASE
R−VAMFOだとモノクロメータを使わなければいけ
ないので、装置が大がかりになり、また測定に時間がか
かるという欠点がある。そこで本発明者は、2つの波長
の入射光を用いて反射率が極値となる入射角度を測定し
、薄膜の屈折率と膜厚を測定する方法を提案した(以後
、この方法を2波長VAMFO法と呼ぶ)。しかしなが
ら、この2波長VAMFO法では等方的な膜しか測定で
きず、一軸性結晶薄膜(以下、異方性膜と呼ぶ)の屈折
率及び膜厚測定には適さなかった。本発明は上記事情に
鑑みてなされたものであって、新規な薄膜の屈折率・膜
厚測定方法を提供することを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、基板上に形成
された異方性膜の屈折率と膜厚を測定する方法であって
、基板面に垂直な法線方向をZ軸、基板面に平行で互い
に直交する方向をX,Y軸と定めたとき、薄膜の法線方
向の主屈折率nZ 、切線方向の主屈折率nY 、及び
膜厚d1 を求める薄膜の屈折率・膜厚測定方法におい
て、■まず波長λの単色光を上記異方性膜に入射角φ0
 を色々と変えて入射させ、各入射角に対するS偏光の
エネルギー反射率Rs(φ0)を測定し、該Rs(φ0
)が極値となる時の入射角φ01,φ02,・・・,φ
0m(mは極値の数)を求め、■次に波長λの単色光を
上記異方性膜に入射角θ0 を色々と変えて入射させ、
各入射角に対するP偏光のエネルギー反射率Rp(θ0
)を測定し、該Rp(θ0)が極値となる時の入射角θ
01,θ02,・・・,θ0M(Mは極値の数)を求め
、■次に波長λ’(λ≠λ’)の単色光を上記異方性膜
に入射角φ0’を色々と変えて入射させ、各入射角に対
するS偏光のエネルギー反射率Rs’(φ0’)を測定
し、該Rs’(φ0’)が極値となる時の入射角φ01
’,φ02’,・・・,φ0m’’(m’は極値の数)
を求め、■次に波長λ’の単色光を上記異方性膜に入射
角θ0’を色々と変えて入射させ、各入射角に対するP
偏光のエネルギー反射率Rp’(θ0’)を測定し、R
p’(θ0’)が極値となる時の入射角θ01’,θ0
2’,・・・,θ0M’’(M’は極値の数)を求め、
■上記■■■■を求めた後、φ01,φ02,・・・,
φ0mとφ01’,φ02’,・・・,φ0m’’の値
を使い、所定の演算に従って上記異方性膜のnYとnY
’とd1 を算出し、次にθ01,θ02,・・・,θ
0Mの値と得られたnY の値を使って上記異方性膜の
nZ の値を所定の演算に従って算出し、次にθ01’
,θ02’,・・・,θ0M’’の値を使い所定の演算
に従って上記異方性膜のnZ’の値を所定の演算に従っ
て算出する(但し、nY,nZは波長λに対する屈折率
、nY’,nZ’は波長λ’ に対する屈折率)ことを
特徴とする。
【0005】以下、本発明の原理について詳細に説明す
る。ここでは、図1に示すような、基板12上の異方性
膜11の屈折率、膜厚を測定することを目的とする。尚
、本発明で対象とする異方性膜は、薄膜の法線方向(Z
軸方向)を光学軸とする一軸性結晶薄膜であり、このよ
うな薄膜の主屈折率は法線方向のnZ 、切線方向のn
Y で与えられる。また、上記一軸性結晶薄膜では、X
軸方向に波面を持つ光線に対する屈折率nX とY軸方
向に波面を持つ光線に対する屈折率nY は等しい。従
って、本発明では、屈折率nZ,nYと膜厚d1 を求
める。先ず、図1のように波長λの単色光を入射角度φ
0 で上記異方性膜に入射させる。すると、X−Z平面
が入射面となるので、S偏光光に対する屈折率はnY 
であり、S偏光のフレネルの反射係数を表す式は等方性
薄膜の場合の膜の屈折率をnY と置き換えるだけでそ
のまま成り立つ。従って、波長λでS偏光の単色光を入
射角φ0 で異方性膜に入射させた時、反射率が極大ま
たは極小値となるのは次式を満足する場合である。     2d1√(nY2−n02sin2φ0)=m
λ                        
   ・・・(1)     (n0は入射媒質の屈折率、mは干渉の次数で
整数または半整数である)ところが、P偏光光の場合、
電界成分がX−Z平面内にあるため、上記波長λの単色
光を入射角θ0 で入射させた時、反射率が極大または
極小となるのは、次式を満足する場合である。     2d1nY√{1−(n02sin2θ0/n
Z2)}=Mλ                 ・
・・(2)     (Mは干渉の次数で整数または半整数である)
【0006】ここで、波長λの入射単色光をS偏光光に
して上記異方性膜に入射させ、入射角度を変えて反射率
を測定した結果、φ01とφ02という角度で極小値が
表れたとする。次に、P偏光光にして同様に反射率を測
定した結果、θ01とθ02という角度で極小値が表れ
たとする。さらに、波長λ’(λ’≠λ)の入射単色光
をS偏光光にして入射角度を変えて反射率を測定した結
果、φ01’とφ02’という角度で極小値が表れ、P
偏光光にして入射角度を変えて反射率を測定した結果、
θ01’とθ02’という角度で極小値が表れたとする
。また一般的に屈折率は波長分散があるので、波長λ’
に対する屈折率はnY’,nZ’とする(nY,nZは
波長λに対する屈折率)。すると、(1)式、(2)式
より次式が成り立つ。     2d1√(nY2−n02sin2φ01)=
m1λ                      
   ・・・(3)    2d1√(nY2−n02
sin2φ02)=m2λ             
            ・・・(4)    2d1
nY√{1−(n02sin2θ01/nZ2)}=M
1λ               ・・・(5)  
  2d1nY√{1−(n02sin2θ02/nZ
2)}=M2λ               ・・・
(6)    2d1√(nY’2−n02sin2φ
01’)=m1’λ’               
      ・・・(7)  2d1√(nY’2−n
02sin2φ02’)=m2’λ’        
             ・・・(8)    2d
1nY’√{1−(n02sin2θ01’/nZ’2
)}=M1’λ’          ・・・(9) 
   2d1nY’√{1−(n02sin2θ02’
/nZ’2)}=M2’λ’          ・・
・(10)   また(3),(4)式よりnY を算出する式は次
のようになる。     nY=n0√{(m12sin2φ02−m2
2sin2φ01)/(m12−m22)}     
・・・(11)   従って、次数m1(又はm2)を仮定すれば(11
)式によりnY が算出され、その値を(3) 式(又
は(4) 式)に代入すると、膜厚d1 が算出される
。また、(5),(6)式よりnZ を算出する式は次
のようになる。     nZ=n0√{(M12sin2θ02−M2
2sin2θ01)/(M12−M22)}     
・・・(12)   また、(9),(10)式よりnZ’を算出する式
は次のようになる。   nZ’=n0√{(M1’2sin2θ02’−M
2’2sin2θ01’)/(M1’2−M2’2)}
・・・(13)
【0007】次に以下のような膜を仮定してnY,nZ
とd1 を算出する方法を説明する。入射媒質の屈折率
n0=1.000  ,  基板12の屈折率n2*=
3.858−0.018i 、波長λ =6328Åの
とき、nY=1.470 ,nZ=1.700 、波長
λ’=5941Åのとき、nY’=1.471,nZ’
=1.701 、膜厚d1=32000Å 、 フレネルの公式を使って上記異方性膜11の反射率を計
算した結果、     波長6328ÅでS偏光光の場合は、φ01=
38.01°,φ02=52.73°    波長63
28ÅでP偏光光の場合は、θ01=45.41°,θ
02=66.98°    波長5941ÅでS偏光光
の場合は、φ01’=36.40°,φ02’=50.
38°    波長5941ÅでP偏光光の場合は、θ
01’=43.33°,θ02’=62.97°でそれ
ぞれ極小値が現われる。 1)ここで、先ず、φ01とφ02の値を(11)式に
代入し、次数m1 の値をいろいろと仮定し、nY の
値を計算し、その値を(3) 式に代入してd1 の値
を計算した結果を表1に示す(φ01とφ02は隣合う
極小値なので、φ01の次数m1 はφ02の次数m2
 より1つ大きい)。
【0008】
【表1】 ところが、表1の結果だけではどのnY,d1の組が真
の値か決定できない。
【0009】2)次に、(7) 式を変形すると、  
  nY’=√{(m1’2λ’2/4d12)+si
n2φ01’}                  
  ・・・(7’) なので、(7’)式にφ01’=36.40°,λ’=
5941Åを代入し、d1 に表1のデータを代入して
、表1で仮定した次数と同じ次数、+1した次数、+2
した次数についてnY’を算出した結果を、表2,表3
,表4に示す。
【0010】
【表2】
【0011】
【表3】
【0012】
【表4】 表2を見るとnY の値がnY’の値よりどの次数でも
大きくなっている。また、表4では、nY の値がnY
’の値よりどの次数でも小さくなっている。ところが、
表3では、次数の大きい方から見ていくとm1=13.
5 の時初めてnY の値よりもnY’の値の方が大き
くなり、その後は徐々にその差が大きくなっている。一
般の誘電体の場合、可視光の領域で波長が短くなると、
その波長に対する屈折率はわずかに大きくなる(セルマ
イヤーの分散式)。従って、nY (波長6328Åに
対する屈折率)は 1.46975、nY’(波長59
41Åに対する屈折率)は1.47076 と決定でき
る。また、それに対応して、膜厚d1 は 32006
.8Åと決定できる。
【0013】3)次にθ01とθ02の値を(12)式
に代入し、次数M1 の値を色々と仮定し、nZの値を
計算してそのnZ の値と、1),2)で求めたnY 
の値を(5)式に代入してd1 の値を計算した結果を
表5に示す。
【0014】
【表5】 表5を見るとM1 =13.5の時、d1 の値が 3
2005.8Åであり、1),2)で求めたd1 の値
と最も近い。従って、この時のnZ の値 1.699
97を求めるnZの値と決定できる。
【0015】4)次に、θ01’とθ02’の値を(1
3)式に代入し、次数M1’の値を色々と仮定してnZ
’の値を計算して、そのnZ’の値と、1),2)で求
めたnY’の値を(9)式に代入してd1 の値を計算
した結果を表6に示す。
【0016】
【表6】 表6を見ると、M1’=14.5の時、d1 の値が 
32005.8Åであり、1),2)で求めたd1 の
値と最も近い。従って、この時のnZ’の値 1.70
095を求めるnZ’の値と決定できる。
【0017】
【作用】以上説明したように、本発明の屈折率・膜厚測
定方法によれば、異方性膜(一軸性結晶薄膜)の法線方
向の主屈折率nZ(nZ’)、切線方向の主屈折率nY
(nY’)、及び膜厚d1 を測定することができる。
【0018】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。こ
の実施例では、ガラス基板(屈折率1.530)上にス
パッタリング法によって形成されたZnO薄膜について
測定した結果を示す。図2に測定系の構成を示す。図2
において、符号8はθ−2θ回転系であり、このθ−2
θ回転系は、測定サンプル7がθ回転するとフォトディ
テクタ6が2θ回転する機構になっており、入射角度を
連続的に変えて反射光のパワーをフォトディテクタ6に
より検知するようになっている。また、4のダイクロイ
ックミラーは、波長λ=6328ÅのHe−Neレーザ
1からの光に対しては透過率の方が高いように、λ’=
5941ÅのHe−Neレーザ2からの光に対しては反
射率の方が高いように設計してあり、3a,3bのシャ
ッターを切り換えることにより測定サンプル7への入射
光を6328Åか5941Åに設定するようになってい
る。また、5の偏光子は、この実施例の場合グラントム
ソンプリズムを使用し、このプリズムの方向を変えて、
入射光が入射面に対してS偏光またはP偏光になるよう
に偏光方向を設定する。尚、本発明の測定方法において
は、エネルギー反射率の極値の現われる入射角度を求め
、その値を使って屈折率及び膜厚を算出するので、エネ
ルギー反射率の絶対値を測定する必要はない。従って、
反射光量を検知して各入射角に対するエネルギー反射率
の相対値が得られれば良く、入射光量を検知する必要は
ない。但し、これは測定時間中の入射光のパワー変動が
非常に小さい場合である。また、入射角度が0°や90
°に近いところでは、反射光量を正確に測定することも
難しく、また、反射率の極値を求めるのも難しい。従っ
て、精度の高い屈折率及び膜厚を求めるためには、なる
べく0°や90°に近い極値を与える入射角度は使わな
い方が良い。
【0019】さて、上記の方法により反射光量を測定し
た結果、以下の角度で極値が現われた。       λ=6328Å   ,S偏光  ,φ0
1=25.77° ,φ02=50.16°     
 λ=6328Å   ,P偏光  ,θ01=26.
00° ,θ02=50.71°      λ’=5
941Å  ,S偏光  ,φ01’=31.43°,
φ02’=53.40°      λ’=5941Å
  ,P偏光  ,θ01’=31.71°,θ02’
=54.02°ここで、先ず前述の1),2)の手順に
より、φ01,φ02,φ01’ を用いて次数m1,
m1’ を色々と仮定し、算出したnY,d1,nY’
の組みを表7に示す。
【0020】
【表7】 表7を見ると、m1=18.5 の時、初めてnY の
値よりもnY’の値の方が大きくなり、その後は徐々に
その差が大きくなっている。従って、波長λ=6328
Åに対する屈折率はnY=1.99927、波長λ’=
5941Åに対する屈折率はnY’=2.00027 
と決定できる。また、膜厚はd1=29995.5Åと
決定できる。
【0021】次に前述の3)の手順により、θ01,θ
02の値と得られたnY の値を使って次数M1 の値
を色々と仮定し、nZ の値とd1 の値を計算した結
果を表8に示す。
【0022】
【表8】 表8を見ると、M1=18.5 の時、d1 の値が 
29996.2Åであり、表7で求めたd1 の値と最
も近い。従って、この時のnZ の値 2.01492
を求めるnZ の値と決定できる。
【0023】次に、4)の手順により、θ01’,θ0
2’の値と得られたnY’の値を使って次数M1’の値
を色々と仮定し、nZ’の値とd1 の値を計算した結
果を表9に示す。
【0024】
【表9】 表9を見ると、M1’=19.5 の時、d1 の値が
29995.8Åであり、表7で求めたd1 の値と最
も近い。従って、この時のnZ’の値 2.01604
を求めるnZ’の値と決定できる。
【0025】
【発明の効果】以上説明したように、本発明による薄膜
の屈折率・膜厚測定方法によれば、一軸性結晶薄膜(異
方性膜)の法線方向の主屈折率、切線方向の主屈折率、
及び膜厚を、精度良く且つ同時に求めることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の原理を説明するための図である。
【図2】本発明の一実施例を示す測定系の概略構成図で
ある。
【符号の説明】
1        He−Neレーザ(波長λ=632
8Å)2        He−Neレーザ(波長λ’
=5941Å)3a,3b  シャッター 4        ダイクロイックミラー5     
   偏光子 6        フォトディテクター7      
  測定サンプル 8        θ−2θ回転系 11        異方性薄膜 12        基板

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】基板上に形成された一軸性結晶薄膜(以下
    、異方性膜と呼ぶ)の屈折率と膜厚を測定する方法であ
    って、基板面に垂直な法線方向をZ軸、基板面に平行で
    互いに直交する方向をX,Y軸と定めたとき、薄膜の法
    線方向の主屈折率nZ 、切線方向の主屈折率nY 、
    及び膜厚d1 を求める薄膜の屈折率・膜厚測定方法に
    おいて、■まず波長λの単色光を上記異方性膜に入射角
    φ0 を色々と変えて入射させ、各入射角に対するS偏
    光のエネルギー反射率Rs(φ0)を測定し、該Rs(
    φ0)が極値となる時の入射角φ01,φ02,・・・
    ,φ0m(mは極値の数)を求め、■次に波長λの単色
    光を上記異方性膜に入射角θ0 を色々と変えて入射さ
    せ、各入射角に対するP偏光のエネルギー反射率Rp(
    θ0)を測定し、該Rp(θ0)が極値となる時の入射
    角θ01,θ02,・・・,θ0M(Mは極値の数)を
    求め、■次に波長λ’(λ≠λ’)の単色光を上記異方
    性膜に入射角φ0’を色々と変えて入射させ、各入射角
    に対するS偏光のエネルギー反射率Rs’(φ0’)を
    測定し、該Rs’(φ0’)が極値となる時の入射角φ
    01’,φ02’,・・・,φ0m’’(m’は極値の
    数)を求め、■次に波長λ’の単色光を上記異方性膜に
    入射角θ0’を色々と変えて入射させ、各入射角に対す
    るP偏光のエネルギー反射率Rp’(θ0’)を測定し
    、Rp’(θ0’)が極値となる時の入射角θ01’,
    θ02’,・・・,θ0M’’(M’は極値の数)を求
    め、■上記■■■■を求めた後、φ01,φ02,・・
    ・,φ0mとφ01’,φ02’,・・・,φ0m’’
    の値を使い、所定の演算に従って上記異方性膜のnY 
    とnY’とd1 を算出し、次にθ01,θ02,・・
    ・,θ0Mの値と得られたnY の値を使って上記異方
    性膜のnZ の値を所定の演算に従って算出し、次にθ
    01’,θ02’,・・・,θ0M’’の値を使い所定
    の演算に従って上記異方性膜のnZ’の値を所定の演算
    に従って算出する(但し、nY,nZは波長λに対する
    屈折率、nY’,nZ’は波長λ’ に対する屈折率)
    ことを特徴とする薄膜の屈折率・膜厚測定方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003294620A (ja) * 2002-03-28 2003-10-15 Mitsui Chemicals Inc 光学結晶ウエハーの屈折率分布および組成比分布の測定方法

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JP2003294620A (ja) * 2002-03-28 2003-10-15 Mitsui Chemicals Inc 光学結晶ウエハーの屈折率分布および組成比分布の測定方法

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