JPH04323339A - イリジウム線および薄板材料 - Google Patents
イリジウム線および薄板材料Info
- Publication number
- JPH04323339A JPH04323339A JP11537291A JP11537291A JPH04323339A JP H04323339 A JPH04323339 A JP H04323339A JP 11537291 A JP11537291 A JP 11537291A JP 11537291 A JP11537291 A JP 11537291A JP H04323339 A JPH04323339 A JP H04323339A
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- JP
- Japan
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- iridium
- zirconium
- sheet
- wire
- hafnium
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、化学的、熱酸化的もし
くは電気的な侵食を伴う雰囲気で使用されるイリジウム
線および薄板材料に関するものである。
くは電気的な侵食を伴う雰囲気で使用されるイリジウム
線および薄板材料に関するものである。
【０００２】
【従来の技術とその問題点】イリジウム材料は高い融点
と耐蝕性を有するイリジウム金属自身の特性を生かし、
ドットプリンタのピン先や放電を伴う電極材料等、耐蝕
性が必要な部位に用いられてきた。これらの材料は直径
１ｍｍ以下の線材もしくは厚み１ｍｍ以下の薄板材をカ
ットした形状で用いられるが、従来の純イリジウムを熱
間で引抜き加工する方法では線材長手方向に対し垂直方
向に多数の細かいクラックが表面に発生し、線材破断を
生じたり、使用中に侵食が発生する原因となっていた。 また、薄板材でも同様の問題が発生し、熱間圧延中に板
材表面にクラックを生じていた。これらのクラックは径
の太い棒状材料や厚い板材料では無視できるものであっ
たが、特に引張力をかけながらの細い線材や薄い板材の
熱間加工では重要な問題となっており、その主となる要
因はイリジウムが熱間加工中に酸化揮発して、材料表面
が荒れることがきっかけとなって起こるものと考えられ
る。このような問題を避ける方法としては粉末冶金法や
圧延材を薄く切り出す方法があるが、粉末冶金法では密
度を９８％以上に高めることが困難で、使用中に著しい
消耗をもたらすものであった。また、圧延材を薄く切り
出す方法では切断の手間がかかるとともに切断時の地金
ロスの発生が多く経済性に欠け実用的な方法ではなかっ
た。
と耐蝕性を有するイリジウム金属自身の特性を生かし、
ドットプリンタのピン先や放電を伴う電極材料等、耐蝕
性が必要な部位に用いられてきた。これらの材料は直径
１ｍｍ以下の線材もしくは厚み１ｍｍ以下の薄板材をカ
ットした形状で用いられるが、従来の純イリジウムを熱
間で引抜き加工する方法では線材長手方向に対し垂直方
向に多数の細かいクラックが表面に発生し、線材破断を
生じたり、使用中に侵食が発生する原因となっていた。 また、薄板材でも同様の問題が発生し、熱間圧延中に板
材表面にクラックを生じていた。これらのクラックは径
の太い棒状材料や厚い板材料では無視できるものであっ
たが、特に引張力をかけながらの細い線材や薄い板材の
熱間加工では重要な問題となっており、その主となる要
因はイリジウムが熱間加工中に酸化揮発して、材料表面
が荒れることがきっかけとなって起こるものと考えられ
る。このような問題を避ける方法としては粉末冶金法や
圧延材を薄く切り出す方法があるが、粉末冶金法では密
度を９８％以上に高めることが困難で、使用中に著しい
消耗をもたらすものであった。また、圧延材を薄く切り
出す方法では切断の手間がかかるとともに切断時の地金
ロスの発生が多く経済性に欠け実用的な方法ではなかっ
た。
【０００３】
【発明の目的】本発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、高密度で安価な材料を提供できる線材引抜き法やロ
ールによる薄板加工に於いて、加工中の材料破断を防ぎ
、使用中の侵食を防止するため、材料表面にクラックの
ない材料を提供することを目的とする。
で、高密度で安価な材料を提供できる線材引抜き法やロ
ールによる薄板加工に於いて、加工中の材料破断を防ぎ
、使用中の侵食を防止するため、材料表面にクラックの
ない材料を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、イリジウムに
ジルコニウム、ハフニウム、イットリウムより選ばれた
少なくとも１種の金属を２０〜５０００ｐｐｍ含有する
ことを特徴とするイリジウム線および薄板材料である。
ジルコニウム、ハフニウム、イットリウムより選ばれた
少なくとも１種の金属を２０〜５０００ｐｐｍ含有する
ことを特徴とするイリジウム線および薄板材料である。
【０００５】ジルコニウム、ハフニウム、イットリウム
はイリジウムに比べ酸化し易く、イリジウム自身の酸化
を防ぐもので、酸化雰囲気中高温にさらされても加工中
の破断につながる表面荒れを防ぐものである。また、侵
食を伴う雰囲気中で使用する場合、例えば酸化雰囲気中
１０００℃以上の高温にさらされると、イリジウムの酸
化揮発が増大するが、前記ジルコニウム、ハフニウム、
イットリウムの少なくとも１種を加えることにより、使
用中の消耗量を減少させることができるものである。
はイリジウムに比べ酸化し易く、イリジウム自身の酸化
を防ぐもので、酸化雰囲気中高温にさらされても加工中
の破断につながる表面荒れを防ぐものである。また、侵
食を伴う雰囲気中で使用する場合、例えば酸化雰囲気中
１０００℃以上の高温にさらされると、イリジウムの酸
化揮発が増大するが、前記ジルコニウム、ハフニウム、
イットリウムの少なくとも１種を加えることにより、使
用中の消耗量を減少させることができるものである。
【０００６】一方前記ジルコニウム、ハフニウム、イッ
トリウムの少なくとも１種を加えても、１４００℃以上
の高温にさらされたり、加工率が小さい場合には再結晶
化が起こり、充分な特性が得られない。このためイリジ
ウム合金の脆性が改善される温度である８００℃より再
結晶化が起こる１４００℃までの範囲でトータル５０％
以上の加工をすることが必要となる。また、ジルコニウ
ム、ハフニウム、イットリウムの少なくとも１種を加え
る量は５０００ｐｐｍを超えると特に引抜力が大きくな
り、口付け部の破断が生じ加工が困難となるものである
。
トリウムの少なくとも１種を加えても、１４００℃以上
の高温にさらされたり、加工率が小さい場合には再結晶
化が起こり、充分な特性が得られない。このためイリジ
ウム合金の脆性が改善される温度である８００℃より再
結晶化が起こる１４００℃までの範囲でトータル５０％
以上の加工をすることが必要となる。また、ジルコニウ
ム、ハフニウム、イットリウムの少なくとも１種を加え
る量は５０００ｐｐｍを超えると特に引抜力が大きくな
り、口付け部の破断が生じ加工が困難となるものである
。
【０００７】以下、本発明の実施例を記載するが、該実
施例は本発明を限定するものではない。
施例は本発明を限定するものではない。
【０００８】
【実施例】９９．９６％の純度（他の含有元素として白
金、ロジウムが数百ｐｐｍ、マンガン、鉄が数十ｐｐｍ
、その他数ｐｐｍ）をもつイリジウム粉末に表１のよう
に０〜８０００ｐｐｍのジルコニウム、ハフニウム、イ
ットリウムを段階的に加えて溶解し、１５００℃でハマ
リングを行ない、８ｍｍ角のインゴットを得た。これを
１５００℃で再結晶化処理した後、８００〜１３００℃
の温度範囲で１回のリダクションを１０〜２５％とし、
断面減少率９５％の熱間加工を行った後、材料断面組織
を２００倍で観察し、結晶粒の大きい順にＡＢＣのラン
ク付けを行うとともに加工中の破断回数および１０ｃｍ
長さ中に存在する目視で確認できるクラック数をカウン
トした。また、それぞれ長さ各５ｃｍを１２００℃大気
中に８時間さらし表面の荒れを観察し、荒れの多い順か
らＡＢＣのランク付けを行い使用中の侵食の目安とした
。なお、比較のためにイリジウム粉末のみで溶解し同様
に処理したものも含む。その結果は表１に示すものであ
った。
金、ロジウムが数百ｐｐｍ、マンガン、鉄が数十ｐｐｍ
、その他数ｐｐｍ）をもつイリジウム粉末に表１のよう
に０〜８０００ｐｐｍのジルコニウム、ハフニウム、イ
ットリウムを段階的に加えて溶解し、１５００℃でハマ
リングを行ない、８ｍｍ角のインゴットを得た。これを
１５００℃で再結晶化処理した後、８００〜１３００℃
の温度範囲で１回のリダクションを１０〜２５％とし、
断面減少率９５％の熱間加工を行った後、材料断面組織
を２００倍で観察し、結晶粒の大きい順にＡＢＣのラン
ク付けを行うとともに加工中の破断回数および１０ｃｍ
長さ中に存在する目視で確認できるクラック数をカウン
トした。また、それぞれ長さ各５ｃｍを１２００℃大気
中に８時間さらし表面の荒れを観察し、荒れの多い順か
らＡＢＣのランク付けを行い使用中の侵食の目安とした
。なお、比較のためにイリジウム粉末のみで溶解し同様
に処理したものも含む。その結果は表１に示すものであ
った。
【０００９】
【表１】
【００１０】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、イリジ
ウムにジルコニウム、ハフニウム、イットリウムの少な
くとも１種を２０〜５０００ｐｐｍ含有する材料とする
ことで、クラックの発生を防止し、加工中の破断回数を
も防止し表面の荒れを解消することができ、従来の課題
を解決することを可能とした画期的なものといえる。
ウムにジルコニウム、ハフニウム、イットリウムの少な
くとも１種を２０〜５０００ｐｐｍ含有する材料とする
ことで、クラックの発生を防止し、加工中の破断回数を
も防止し表面の荒れを解消することができ、従来の課題
を解決することを可能とした画期的なものといえる。
Claims (1)
- 【請求項１】 イリジウムにジルコニウム、ハフニウ
ム、イットリウムより選ばれた少なくとも１種の金属を
２０〜５０００ｐｐｍ含有することを特徴とするイリジ
ウム線および薄板材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11537291A JPH04323339A (ja) | 1991-04-19 | 1991-04-19 | イリジウム線および薄板材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11537291A JPH04323339A (ja) | 1991-04-19 | 1991-04-19 | イリジウム線および薄板材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04323339A true JPH04323339A (ja) | 1992-11-12 |
Family
ID=14660901
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11537291A Pending JPH04323339A (ja) | 1991-04-19 | 1991-04-19 | イリジウム線および薄板材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04323339A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009107289A1 (ja) * | 2008-02-27 | 2009-09-03 | 田中貴金属工業株式会社 | 硬度、加工性、並びに、防汚特性に優れたイリジウム合金 |
| WO2012108338A1 (ja) * | 2011-02-08 | 2012-08-16 | 田中貴金属工業株式会社 | 硬度、加工性、並びに、防汚特性に優れるプローブピン用線材に好適なロジウム合金 |
-
1991
- 1991-04-19 JP JP11537291A patent/JPH04323339A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009107289A1 (ja) * | 2008-02-27 | 2009-09-03 | 田中貴金属工業株式会社 | 硬度、加工性、並びに、防汚特性に優れたイリジウム合金 |
| US9063173B2 (en) | 2008-02-27 | 2015-06-23 | Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. | Iridium alloy excellent in hardness, workability and anti-contamination properties |
| WO2012108338A1 (ja) * | 2011-02-08 | 2012-08-16 | 田中貴金属工業株式会社 | 硬度、加工性、並びに、防汚特性に優れるプローブピン用線材に好適なロジウム合金 |
| JP2012163460A (ja) * | 2011-02-08 | 2012-08-30 | Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk | プローブピン |
| KR20130107360A (ko) * | 2011-02-08 | 2013-10-01 | 다나카 기킨조쿠 고교 가부시키가이샤 | 경도, 가공성 및 방오 특성이 우수한 프로브 핀용 선재에 적합한 로듐 합금 |
| CN103348254A (zh) * | 2011-02-08 | 2013-10-09 | 田中贵金属工业株式会社 | 硬度、加工性及防污特性优异的适合作为探针用线材的铑合金 |
| CN103348254B (zh) * | 2011-02-08 | 2015-09-30 | 田中贵金属工业株式会社 | 由铑合金构成的探针 |
| US9297833B2 (en) | 2011-02-08 | 2016-03-29 | Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. | Rhodium alloy having excellent hardness, processability and antifouling properties and suitable for wire rod for probe pins |
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