JPH0432565A

JPH0432565A - スパッタリング装置におけるターゲットの固定方法

Info

Publication number: JPH0432565A
Application number: JP13902290A
Authority: JP
Inventors: Naoki Kato; 直樹加藤; Kyoji Kinokiri; 恭治木ノ切; Jiro Ikeda; 池田　治朗
Original assignee: Sony Corp; Tokuda Seisakusho Co Ltd
Current assignee: Sony Corp; Tokuda Seisakusho Co Ltd
Priority date: 1990-05-29
Filing date: 1990-05-29
Publication date: 1992-02-04
Anticipated expiration: 2012-05-21
Also published as: JP2612554B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［発明の目的］（産業上の利用分野）この発明は、コンパクトディスク等の基板面にアルミニ
ューム被膜等を形成するスパッタリング装置において、
ターゲットをバッキングプレートにねし止め固定するタ
ーゲット固定方法の改良に関する。

（従来の技術）デジタル化された音声情報や画像情報を大量に記録する
のにコンパクトディスク（以下、ＣＤと略称する）が広
く使用されるようになってきた。

ＣＤは、ポリカーボネート等の透明な合成樹脂性基板の
表面にスパッタリングにより光反射率の高いアルミニュ
ーム（＾１）薄膜層が形成されて構成され、「１」か「
０」のデジタル情報に合わせて、その基板にピット（ｐ
ｉｔ）と称する小さな孔を開け、その孔の有無をレーザ
光の反射波あるいは透過波の有無によりその記録情報を
読み出し得るものである。

１枚のディスクへの薄膜形成はスパッタにより比較的短
時間で行われることから、多数のディスクに連続的に薄
膜形成することが可能である。

従来のスパッタリング装置は、第４図に示すように、搬
送テーブル１によってスパッタ源２に運ばれた基板３は
、成膜室２１を形成するマスク２２下端面に密着するよ
うにブツシャ−４によって押し上げられる。

成膜室２１は、外囲器２３内に内接した防着シールド２
３ａ、２３ｂとマスク２２、及びターゲット２４を固定
したバッキングプレート２５により形成され、排気は基
板３のないときには、マスク２２の空間２２ａを通して
排気口２６から排気される。

マスク２２は基板３を支持するとともに、その非成膜部
分を遮蔽するが、マスク２２の外形寸法は高精度に製作
されており、その熱膨張力を利用して外囲器２３に密着
固定される。

またＡＩ製等のターゲット２４は成膜室２１側に面し、
バッキングプレート２５にボルト等のねじ２５ａ。

２５ｂにより密着固定される。

しかし、成膜室２１側に面したターゲット２４の表面は
、第５図に太線Ａで示すように磁石２７による磁力線Ｂ
がターゲット２４と平行になった部分が最もエツチング
される。そこで磁石２７は、永久磁石からなり中央の磁
石２７ａとこれを取囲むように円形に配置された周囲の
磁石２７ｂとによって構成されるか、エツチングの均一
化を目的として、ターゲット２４の中心位置Ｃから距離
ｄだけ偏心して位置させ、モータによって位置Ｃを中心
軸として回転駆動される。

このようにして、ターゲットゲット２４はほぼ全面にわ
たってエツチングされるため、ねじ２５ｂて固定される
ターゲット外周フランジ部を除き、中央部を固定する大
形のねじ２５ａは図示のようにバッキングプレート２５
側から取付けられていた。

バッキングプレート２５はカソード電極を構成し、ター
ゲット２４面で７５Ｗ／ｃｍ２程度の放電電界を形成す
るので、相当な熱を発生する。熱による表面温度上昇を
２００〜３００℃以下に押え、ターゲット２４が変形し
たりバッキングプレート２５との間に間隙が生じるのを
防ぐため、バッキングプレート２５内にリング状の空洞
を形成し、給水バイブ２５ｃを介して冷却水が供給され
ている。

基板３への成膜時は、成膜に必要なアルゴンガスが管２
３ｃから供給されて０．　６　［Ｐａ　（パスカル）コ
程度の圧力に設定され、形成された放電磁界のもとてア
ルゴンガスイオンによるスパッタリング作用か起り、基
板３表面にＡ１の膜が形成される。薄膜形成後は、放電
停止され、基板３は再び搬送テーブル１に載置されて取
出される。

上記構成のスパッタリング装置において、ターゲット２
４は消耗品でありしばしば交換が必要とされる。しかし
、ターゲット２４は周縁のフランジ部はともかくとして
、中央部ではバッキングプレート２５側からねじ２５ａ
により固定されるので、ターゲット２４を交換するには
、磁石２７を取除いた後にねし２５ａを取外す必要があ
る。しかも、磁石２７はケース２８内にあって、バッキ
ングプレート２５とケース２８との間には給水管２５ｃ
が連結されていることなどから、ターゲット２４の交換
には繁雑な分解作業か要求され、多くの手間と高い技術
力を必要としたので改善が要望されていた。

（発明が解決しようとする課題）従来のスパッタリング装置におけるターゲットの固定方
法では、ターゲットの中央部がバッキングプレート側か
らねじ止め固定されているので、ターゲットの交換作業
は容易でなかった。

そこでこの発明は、取外しが容易なスパッタリング装置
におけるターゲットの固定方法を提供することを目的と
する。

［発明の構成コ（課題を解決するための手段）この発明は、成膜室内で基板と対向配置されるように、
ターゲットをバッキングプレートにねし止め固定するス
パッタリング装置におけるターゲットの固定方法におい
て、ターゲットのほぼ中央部及びターゲット外周フラン
ジ部で成膜室側から前記バッキングプレートにねし止め
固定し、かつ中央ねじ部をターゲットと同質の封止部材
で封止することを特徴とする。

（作用）この発明によるスパッタリング装置のターゲットの固定
方法は、ターゲットを成膜室側から前記バッキングプレ
ートにねじ止め固定したので、従来のように磁石等を取
外すことなく、ターゲットの交換を簡単に行うことがで
きる。

また、ねじ部をターゲットと同質の封止部材で封止した
ので、ねじがエツチングされることが防止され、成膜室
内の汚染を避けることができる。

（実施例）以下、第１図ないし第３図を参照し、この発明によるス
パッタリング装置のターゲットの固定方法の一実施例を
説明する。なお、第４図及び第５図に示した従来のスパ
ッタリング装置と同一構成には同一符号を付して詳細な
説明は省略する。

即ち、成膜室２１は、マスク２２と外囲器２３に内接す
る防着シールド２３ｄ１及びターゲット２４を固定した
バッキングプレート２５で構成される。

そこで、成膜室２１には従来と同様に、管２３ｃからア
ルゴンガスが流入され、アルゴンガスイオンによるスパ
ッタリング作用により、対向配置された基板３表面にＡ
１薄膜が形成される。膜形成後は従来と同様に、放電が
停止され、基板３は搬送テーブルに載置されて取出され
る。

ところで、ＡＩ製等のターゲット２４は成膜室２１内に
面してバッキングプレート２５に固定されるが、中央部
はボルト等のねし２５ａにより、外周フランジ部は複数
の比較的小さなねじ２５ｂにより、夫々ターゲット２４
側からねし止め固定され、カソード電極を構成する。カ
ソード電極は、従来と同様に偏心して回転する磁石２７
とともに成膜室２１内に磁界を形成する。

この実施例では、ねじ２５ａの頭部がターゲット２４の
中央凹部２４ａに深く位置させて取付けるとともに、第
２図に拡大して示すように、ねし２５ａを覆い、凹部２
４ａをターゲット２４と同質の、例えばＡ１部材からな
る蓋状の封止部材２９で封止し、ターゲット２４面とほ
ぼ同一となり凹凸がないように構成したものである。

また、上記封止部材２９は第３図に拡大して示すように
、有底筒状からなり、周縁部には複数のスリット２９ａ
によって、先端部が若干外側に反ってばね性を有する複
数の爪部２９ｂが形成されている。

そして封止部材２９の爪部２９ｂの先端２９ｂ′　は、
ターゲット２４の凹部２４ａに形成したリング状の溝２
４ａ′に嵌合するように形成したので、封止部材２９は
押し込み操作でワンタッチで取付けられるとともに、成
膜室２１内への脱落が防止される。また、封止部材２９
のスリット２９ａは、成膜室２１の排気処理と同時に、
凹部２４ａ内のガスを排出する機能をも併せ持つものも
のである。

なお、封止部材２９を外すときは、細いキリ状の金具で
爪部２９ｂを押し狭めることによって容易に取外すこと
ができる。

以上のように、この発明によるターゲットの固定方法に
よれば、ターゲット２４と同じ材質からなる封止部材２
９で中央部のねじ２５ａを封止するので、異質な材料か
らなるねじ２５ａが成膜室２１側に露出しないことから
、異常放電や成膜室１１の汚染を未然に防ぐことができ
るとともに、磁石２７．バッキングプレート２５及びタ
ーゲット２４を、ねじ２３ｅにより外囲器２３側から一
体として切離すだけで、ターゲット２４を成膜室２１側
から簡単に交換できるものである。

［発明の効果コこの発明によるスパッタリング装置におけるターゲット
の固定方法は、ターゲットを成膜室側の一方向からバッ
キングプレートにねし止め固定して蓋で覆うので、着脱
を容易とし、しかも成膜室を汚染することがなく良好な
スパッタ処理が可能となったものであり、例えば連続的
なＣＤの薄膜形成のスパッタリング装置等に適用して顕
著な効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明によるスパッタリング装置におけるタ
ーゲットの固定方法の一実施例を示す断面図、第２図は
第１図に示した方法でのねじ止め部の拡大断面図、第３
図は第１図に示した方法で使用する蓋の拡大斜視図、第
４図は従来のスパッタリング装置におけるターゲットの
固定方法を示す断面図、第５図は第４図に示す方法にお
ける磁石による磁力線の発生状況を示す説明図である。１・・・搬送テーブル、２・・・スパッタ源、２１・・
・成膜室、　　２２・・・マスク、２３・・・外囲器、
　　２４・・・ターゲット、２５・・・バッキングプレ
ート、２５ａ２５ｂ・・・ねじ、２７・・・磁石、２８・・・ケース、２９・・・封止部材３・・・基板。

Claims

【特許請求の範囲】

成膜室内で基板と対向配置されるように、ターゲットを
バッキングプレートにねじ止め固定するスパッタリング
装置におけるターゲットの固定方法において、ターゲッ
トのほぼ中央部及びターゲット外周フランジ部で成膜室
側から前記バッキングプレートにねじ止め固定し、かつ
中央ねじ部をターゲットと同質の封止部材で封止するこ
とを特徴としたスパッタリング装置におけるターゲット
の固定方法。