JPH0432603Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0432603Y2 JPH0432603Y2 JP1981106509U JP10650981U JPH0432603Y2 JP H0432603 Y2 JPH0432603 Y2 JP H0432603Y2 JP 1981106509 U JP1981106509 U JP 1981106509U JP 10650981 U JP10650981 U JP 10650981U JP H0432603 Y2 JPH0432603 Y2 JP H0432603Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rays
- detector
- ray
- central axis
- sample
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案はバツクグランドノイズ（背影雑音）を
除去できるＸ線分析装置に関する。
除去できるＸ線分析装置に関する。
金属等の多結晶試料などの試料に特定の波長の
Ｘ線をある方向から照射すると、その方向がブラ
ツグの回折条件（2dsinθ＝nλ，ｄ：結晶格子面
間隔、θ：照射角、ｎ：整数、λ：照射Ｘ線の波
長）を満足するときに回折Ｘ線を生ずる。したが
つて、試料と検出器とを同軸的に配置し、これら
を１対２の速度で回転させて、回折Ｘ線の生ずる
角度（θ）を求め、これから試料に含まれる物質
の種々の結晶格子面間隔ｄを求めることにより物
質の同定あるいは、回折Ｘ線の強度から物質の定
量を行なうデイフラクトメータ法が知られてい
る。
Ｘ線をある方向から照射すると、その方向がブラ
ツグの回折条件（2dsinθ＝nλ，ｄ：結晶格子面
間隔、θ：照射角、ｎ：整数、λ：照射Ｘ線の波
長）を満足するときに回折Ｘ線を生ずる。したが
つて、試料と検出器とを同軸的に配置し、これら
を１対２の速度で回転させて、回折Ｘ線の生ずる
角度（θ）を求め、これから試料に含まれる物質
の種々の結晶格子面間隔ｄを求めることにより物
質の同定あるいは、回折Ｘ線の強度から物質の定
量を行なうデイフラクトメータ法が知られてい
る。
このようなＸ線回折法を実施する際には、照射
するＸ線は単一波長であることが望ましい。しか
し、一般に用いられるＸ線管から放出されるＸ線
の波長は単一ではなく、Ｘ線管のターゲツト物質
に特有の波長において鋭いピーク状の強いＸ線い
わゆるKα線とそれよりは弱いがやはりピーク状
のKβ線等の特性Ｘ線と他に連続Ｘ線が存在する。
一般には、フイルタ等でKα線のみをとり出して
試料に照射するが、完全な単一化は不可能であ
り、このためKα線に対しては回折Ｘ線が存在し
ないはずの回折角の範囲でもノイズとして検出さ
れる。また、かりに完全に単一の波長のＸ線を試
料に照射したとしても、試料より螢光Ｘ線、散乱
Ｘ線等回折Ｘ線以外のＸ線が検出器に入り、ノイ
ズとなつて誤観測の原因となつていた。
するＸ線は単一波長であることが望ましい。しか
し、一般に用いられるＸ線管から放出されるＸ線
の波長は単一ではなく、Ｘ線管のターゲツト物質
に特有の波長において鋭いピーク状の強いＸ線い
わゆるKα線とそれよりは弱いがやはりピーク状
のKβ線等の特性Ｘ線と他に連続Ｘ線が存在する。
一般には、フイルタ等でKα線のみをとり出して
試料に照射するが、完全な単一化は不可能であ
り、このためKα線に対しては回折Ｘ線が存在し
ないはずの回折角の範囲でもノイズとして検出さ
れる。また、かりに完全に単一の波長のＸ線を試
料に照射したとしても、試料より螢光Ｘ線、散乱
Ｘ線等回折Ｘ線以外のＸ線が検出器に入り、ノイ
ズとなつて誤観測の原因となつていた。
このような場合、Kα線のみを検出するために
２重フイルタを用いる方法が知られている。この
方法を第１図の吸収曲線を用いて説明する。周期
律表で２つの隣り合つた元素、例えばコバルトと
ニツケルなどの２つの元素の吸収端にはされまた
領域、λ1〜λ2の外では、両元素による吸収係数の
比はほぼ一定でμcp／μNi≒0.9である。いま、単位
面積につき重さＰ（ｇ／cm2）のコバルト、0.9Pの
ニツケルを含む２つのフイルタを作ると、この２
つのフイルタの吸収はλ1〜λ2の外のＸ線に対して
は同じであるが、λ1〜λ2の間ではニツケルフイル
タの吸収は非常に弱く、コバルトフイルタの吸収
は非常に強くなり、同じＸ線源でニツケルフイル
タとコバルトフイルタとを別々に使つて測定すれ
ば、両者における値の差がλ1〜λ2のスペクトル帯
だけからの効果を表わすことになる。もし、Ｘ線
源として銅の対陰極を用いれば、上記スペクトル
帯にあるのはCuKα線（λ0）が大部分でその他に
強度の非常に弱い下地があるだけである。したが
つて、ニツケル−コバルトの２重フイルタは
CuKα線を分離できることがわかる。しかし、２
重フイルタを用いる場合おのおののフイルタを使
つて前後２回の測定をしなければならなかった。
２重フイルタを用いる方法が知られている。この
方法を第１図の吸収曲線を用いて説明する。周期
律表で２つの隣り合つた元素、例えばコバルトと
ニツケルなどの２つの元素の吸収端にはされまた
領域、λ1〜λ2の外では、両元素による吸収係数の
比はほぼ一定でμcp／μNi≒0.9である。いま、単位
面積につき重さＰ（ｇ／cm2）のコバルト、0.9Pの
ニツケルを含む２つのフイルタを作ると、この２
つのフイルタの吸収はλ1〜λ2の外のＸ線に対して
は同じであるが、λ1〜λ2の間ではニツケルフイル
タの吸収は非常に弱く、コバルトフイルタの吸収
は非常に強くなり、同じＸ線源でニツケルフイル
タとコバルトフイルタとを別々に使つて測定すれ
ば、両者における値の差がλ1〜λ2のスペクトル帯
だけからの効果を表わすことになる。もし、Ｘ線
源として銅の対陰極を用いれば、上記スペクトル
帯にあるのはCuKα線（λ0）が大部分でその他に
強度の非常に弱い下地があるだけである。したが
つて、ニツケル−コバルトの２重フイルタは
CuKα線を分離できることがわかる。しかし、２
重フイルタを用いる場合おのおののフイルタを使
つて前後２回の測定をしなければならなかった。
本考案の目的は、デイフラクトメータ法による
Ｘ線分析装置において、一回の観測で、各Ｘ線の
入射角に対応する一定の波長の回折Ｘ線を連続し
て得ることができるＸ線分析装置を提供すること
にある。
Ｘ線分析装置において、一回の観測で、各Ｘ線の
入射角に対応する一定の波長の回折Ｘ線を連続し
て得ることができるＸ線分析装置を提供すること
にある。
前記目的を達成するために、本考案によるＸ線
分析装置は、試料にＸ線を照射するＸ線管と、 同一の回折角に生ずる回折Ｘ線を受け入れるた
め検出部前面の各中心が縦方向一線上に隣接して
設けられている第１および第２の検出部を有する
Ｘ線検出器と、 前記Ｘ線管からの入射Ｘ線の交点をとおる軸を
中心軸として、前記試料をその回転中心軸が前記
中心軸に一致するように、前記検出器を前記中心
軸にむけかつ前記一線が前記中心軸に平行になる
ように支持し、前記試料表面と前記検出器を１対
２の速度で回転させる機構と、 前記検出器の第１の検出部前面に配置されＸ線
の吸収端の波長が前記Ｘ線管の特性Ｘ線の波長よ
りもわずかに短い部材で形成された第１のフイル
タと、 前記検出器の第２の検出部前面に配置されＸ線
の波長よりもわずかに長い部材で形成された第２
のフイルタと、 前記第１および第２の検出部から送出されるパ
ルス信号を係数する第１および第２のスケーラ
と、 前記第１および第２のスケーラの出力を受けて
それらの差を送出する演算器とから構成されてい
る。
分析装置は、試料にＸ線を照射するＸ線管と、 同一の回折角に生ずる回折Ｘ線を受け入れるた
め検出部前面の各中心が縦方向一線上に隣接して
設けられている第１および第２の検出部を有する
Ｘ線検出器と、 前記Ｘ線管からの入射Ｘ線の交点をとおる軸を
中心軸として、前記試料をその回転中心軸が前記
中心軸に一致するように、前記検出器を前記中心
軸にむけかつ前記一線が前記中心軸に平行になる
ように支持し、前記試料表面と前記検出器を１対
２の速度で回転させる機構と、 前記検出器の第１の検出部前面に配置されＸ線
の吸収端の波長が前記Ｘ線管の特性Ｘ線の波長よ
りもわずかに短い部材で形成された第１のフイル
タと、 前記検出器の第２の検出部前面に配置されＸ線
の波長よりもわずかに長い部材で形成された第２
のフイルタと、 前記第１および第２の検出部から送出されるパ
ルス信号を係数する第１および第２のスケーラ
と、 前記第１および第２のスケーラの出力を受けて
それらの差を送出する演算器とから構成されてい
る。
前記第１または第２のフイルタはＸ線の入射方
向に対する角度を調節できるように支持すること
ができる。
向に対する角度を調節できるように支持すること
ができる。
以下図面等を参照して本考案をさらに詳しく説
明する。
明する。
第２図は本考案によるＸ線分析装置の実施例を
示す構成図、第３図は本考案による係数管の実施
例を示す正面図、第４図は計数管のフイルタ部を
示す詳細図である。
示す構成図、第３図は本考案による係数管の実施
例を示す正面図、第４図は計数管のフイルタ部を
示す詳細図である。
試料１と計数管２はそれぞれ同軸に設けられた
θ回転台３および２θ回転台４に載置されており
１対２の速度比で回転できる。回転の中心軸は試
料１の表面とＸ線管５からの入射Ｘ線の交点を含
んでいる。Ｘ線管５から発生したＸ線は入射線側
のソーラースリツト６を通過し、発散スリツト７
を介し発散的に試料１に入射し、回折したのち散
乱スリツト８、回折線側のソーラースリツト９を
介し受光スリツト１０の位置に収束する。ソーラ
ースリツト６，９は多数の薄い金属板を層状に狭
い間隔で平行に重ね合せたもので、幅の広い平行
線束を作ることができる。
θ回転台３および２θ回転台４に載置されており
１対２の速度比で回転できる。回転の中心軸は試
料１の表面とＸ線管５からの入射Ｘ線の交点を含
んでいる。Ｘ線管５から発生したＸ線は入射線側
のソーラースリツト６を通過し、発散スリツト７
を介し発散的に試料１に入射し、回折したのち散
乱スリツト８、回折線側のソーラースリツト９を
介し受光スリツト１０の位置に収束する。ソーラ
ースリツト６，９は多数の薄い金属板を層状に狭
い間隔で平行に重ね合せたもので、幅の広い平行
線束を作ることができる。
次に第３図、第４図を参照して計数管２の構成
を説明する。計数管２には、同一の回折角に生ず
る同一の回折Ｘ線を独立に検出できるように、気
密容器を分離箔２３で２分した検出部２１，２２
を有し、それぞれ光軸に平行に芯線２４，２５が
張架されており、さらに２つの検出部の感度を等
しくするために分離箔２３がソーラースリツト９
の中心に位置するように計数管２を上下移動でき
る調節ねじ２６が設けられている。検出部２１，
２２の前面にはフイルタ枠２７，２８を介しフイ
ルタ２９，３０が配置され、フイルタ押え３１，
３２で固定されている。フイルタ枠２７，２８は
分離箔と同一平面で光軸に直交する軸３３で枢支
されており、傾き調整ねじ３４，３５でフイルタ
２９，３０の実効厚さが等しくなるように調節可
能である。フイルタ２９は例えばＸ線管５のター
ゲツトが銅の場合は、銅の特性Ｘ線（Kα線）の
波長よりもＸ線の吸収端がわずかに短い材料ニツ
ケルを用い、フイルタ３０は銅の特性Ｘ線の波長
よりもＸ線の吸収端がわずかに長い材料コバルト
を用いており、CuKα線を分離する２重フイルタ
を形成している。
を説明する。計数管２には、同一の回折角に生ず
る同一の回折Ｘ線を独立に検出できるように、気
密容器を分離箔２３で２分した検出部２１，２２
を有し、それぞれ光軸に平行に芯線２４，２５が
張架されており、さらに２つの検出部の感度を等
しくするために分離箔２３がソーラースリツト９
の中心に位置するように計数管２を上下移動でき
る調節ねじ２６が設けられている。検出部２１，
２２の前面にはフイルタ枠２７，２８を介しフイ
ルタ２９，３０が配置され、フイルタ押え３１，
３２で固定されている。フイルタ枠２７，２８は
分離箔と同一平面で光軸に直交する軸３３で枢支
されており、傾き調整ねじ３４，３５でフイルタ
２９，３０の実効厚さが等しくなるように調節可
能である。フイルタ２９は例えばＸ線管５のター
ゲツトが銅の場合は、銅の特性Ｘ線（Kα線）の
波長よりもＸ線の吸収端がわずかに短い材料ニツ
ケルを用い、フイルタ３０は銅の特性Ｘ線の波長
よりもＸ線の吸収端がわずかに長い材料コバルト
を用いており、CuKα線を分離する２重フイルタ
を形成している。
検出部２１，２２から送出されるパルス信号は
プリアンプ１１，１２で波形整形されたのち、そ
れぞれスケーラ１３，１４で計数され演算器１５
で出力の差が演算されその結果はレコーダ１６に
記録される。
プリアンプ１１，１２で波形整形されたのち、そ
れぞれスケーラ１３，１４で計数され演算器１５
で出力の差が演算されその結果はレコーダ１６に
記録される。
以上詳しく説明したように、本考案によるＸ線
分析装置は、試料と検出器を支持して１対２の速
度で試料表面と前記Ｘ線管からの入射Ｘ線の交点
を含む軸を中心軸として同軸回転させる機構を用
いているから、各入射角に対応して一定の波長の
回折Ｘ線を連続して得ることができる。
分析装置は、試料と検出器を支持して１対２の速
度で試料表面と前記Ｘ線管からの入射Ｘ線の交点
を含む軸を中心軸として同軸回転させる機構を用
いているから、各入射角に対応して一定の波長の
回折Ｘ線を連続して得ることができる。
また前記第１および第２の検出部から送出され
るパルス信号を計数する第１および第２のスケー
ラを用い、前記第１および第２のスケーラの出力
を受けてそれらの差を演算器から送出するように
構成しているから、必要な波長成分のみを連続し
て抜き出すことができる。
るパルス信号を計数する第１および第２のスケー
ラを用い、前記第１および第２のスケーラの出力
を受けてそれらの差を演算器から送出するように
構成しているから、必要な波長成分のみを連続し
て抜き出すことができる。
さらに、フイルタの傾斜角度を調節できるので
容易にフイルタの実効厚さを等しくでき高精度の
観測ができるようになつた。
容易にフイルタの実効厚さを等しくでき高精度の
観測ができるようになつた。
第１図は２重フイルタを説明するためのグラ
フ、第２図は本考案によるＸ線分析装置の実施例
を示す構成図、第３図は本考案装置の計数管の実
施例を示す正面図、第４図は計数管のフイルタ部
を示す詳細図である。 １……試料、２……計数管、３……θ回転台、
４……2θ回転台、５……Ｘ線管、６，９……ソー
ラースリツト、７……発散スリツト、８……散乱
スリツト、１０……受光スリツト、１１，１２…
…プリアンプ、１３，１４……スケーラ、１５…
…演算器、１６……レコーダ、２１，２２……検
出部、２３……分離箔、２４，２５……芯線、２
６……上下調節ねじ、２７，２８……フイルタ
枠、２９，３０……フイルタ、３１，３２……フ
イルタ押え、３３……軸、３４，３５……傾き調
節ねじ。
フ、第２図は本考案によるＸ線分析装置の実施例
を示す構成図、第３図は本考案装置の計数管の実
施例を示す正面図、第４図は計数管のフイルタ部
を示す詳細図である。 １……試料、２……計数管、３……θ回転台、
４……2θ回転台、５……Ｘ線管、６，９……ソー
ラースリツト、７……発散スリツト、８……散乱
スリツト、１０……受光スリツト、１１，１２…
…プリアンプ、１３，１４……スケーラ、１５…
…演算器、１６……レコーダ、２１，２２……検
出部、２３……分離箔、２４，２５……芯線、２
６……上下調節ねじ、２７，２８……フイルタ
枠、２９，３０……フイルタ、３１，３２……フ
イルタ押え、３３……軸、３４，３５……傾き調
節ねじ。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 試料にＸ線を照射するＸ線管と、 同一の回折角に生ずる回折Ｘ線を受け入れる
ため検出部前面の各中心が縦方向一線上に隣接
して設けられている第１および第２の検出部を
有するＸ線検出器と、 前記Ｘ線管からの入射Ｘ線の交点をとおる軸
を中心軸として、前記試料をその回転中心軸が
前記中心軸に一致するように、前記検出器を前
記中心軸にむけかつ前記一線が前記中心軸に平
行になるように支持し、前記試料表面と前記検
出器を１対２の速度で回転させる機構と、 前記検出器の第１の検出部前面に配置されＸ
線の吸収端の波長が前記Ｘ線管の特性Ｘ線の波
長よりもわずかに短い部材で形成された第１の
フイルタと、 前記検出器の第２の検出部前面に配置されＸ
線の波長よりもわずかに長い部材で形成された
第２のフイルタと、 前記第１および第２の検出部から送出される
パルス信号を計数する第１および第２のスケー
ラと、 前記第１および第２のスケーラの出力を受け
てそれらの差を送出する演算器とから構成した
ことを特徴とするＸ線分析装置。 (2) 前記第１または第２のフイルタはＸ線の入射
方向に対する角度を調節できるように支持され
ていることを特徴とする第１項記載のＸ線分析
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10650981U JPS5812851U (ja) | 1981-07-17 | 1981-07-17 | Ｘ線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10650981U JPS5812851U (ja) | 1981-07-17 | 1981-07-17 | Ｘ線分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5812851U JPS5812851U (ja) | 1983-01-27 |
| JPH0432603Y2 true JPH0432603Y2 (ja) | 1992-08-05 |
Family
ID=29900980
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10650981U Granted JPS5812851U (ja) | 1981-07-17 | 1981-07-17 | Ｘ線分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5812851U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011017690A (ja) * | 2009-06-12 | 2011-01-27 | Sii Nanotechnology Inc | Ｘ線透過検査装置及びｘ線透過検査方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5932731B2 (ja) * | 1975-03-26 | 1984-08-10 | セイコーインスツルメンツ株式会社 | 放射線分析装置 |
-
1981
- 1981-07-17 JP JP10650981U patent/JPS5812851U/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011017690A (ja) * | 2009-06-12 | 2011-01-27 | Sii Nanotechnology Inc | Ｘ線透過検査装置及びｘ線透過検査方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5812851U (ja) | 1983-01-27 |
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