JPH0432685B2 - - Google Patents

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JPH0432685B2
JPH0432685B2 JP59161000A JP16100084A JPH0432685B2 JP H0432685 B2 JPH0432685 B2 JP H0432685B2 JP 59161000 A JP59161000 A JP 59161000A JP 16100084 A JP16100084 A JP 16100084A JP H0432685 B2 JPH0432685 B2 JP H0432685B2
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JP
Japan
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gas
adsorption
container
cylinder
adsorbent
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JP59161000A
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Fushinobu Asano
Mitsuru Toyama
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Japan Pionics Ltd
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Japan Pionics Ltd
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  • Separation Of Gases By Adsorption (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は水素ガスまたはヘリウムガス中に含ま
れる窒素ガス、一酸化炭素ガス、メタンガスなど
の不純ガスを深冷吸着法によつて除去するガス精
製装置に関し、さらに詳しくは吸着筒に内蔵され
たシーズヒーターによる直接加熱によつて、吸着
剤の再生が行われるガス精製装置に関する。
近年、半導体産業、原子力産業などにおける水
素ガス、ヘリウムガスなどの需要が増大して来た
が、これらの分野で使用されるガスは極めて高純
度であることが要求される。
〔従来技術〕
このため窒素ガス、一酸化炭素ガス、メタンガ
スなどの不純ガスを含む水素ガスまたはヘリウム
ガスを精製して高純度ガスを得るための手段の一
つとして深冷吸着法を利用した種々のガス精製装
置が用いられており、たとえば特開昭54−42370、
特開昭55−7565などがある。これらの装置は主に
吸着筒、液体窒素容器、断熱容器および熱交換器
などによつて構成され、深冷によるガスの吸着精
製と、加熱による吸着剤の再生とが交互に繰返し
て行われる。すなわち、ガスの精製時には液体窒
素で冷却されている吸着筒内に不純ガスを含む水
素ガスまたはヘリウムガスを流すことにより、不
純ガスが吸着剤に吸着され高純度の精製ガスが取
り出される。また、吸着剤の再生時には液体窒素
を抜き出した後、加熱された空気、窒素などで吸
着筒を外側から加熱しながら再生用ガス(精製ガ
ス)を吸着筒内に流すことにより、一旦吸着され
た不純ガスが脱着除去される。
〔解決しようとする問題点〕
しかしながら、再製時にこのような加熱ガスを
用いる従来の装置ではガスを加熱する場合の加熱
効率が極めて低いこと、加熱ガスによつて吸着筒
を外側から加熱するため伝熱効率が低いこと、お
よび加熱ガスを循環するためのブロワー配管およ
びこれらの保温などが必要であることなど種々の
欠点があつた。また、露出されたニクロム線など
を使用した電気ヒーターで吸着剤を直接加熱する
ことは、吸着剤が局部加熱される惧れがあるこ
と、吸着筒が真空断熱容器内に収容された場合に
は真空層を貫通し、かつ極低温にさらされること
からリード線の外部への取り出しおよびその材質
選定が困難なこと、ヒーターの絶縁性が悪く、し
かも寿命が短いことなど種々の問題があり、実用
化できなかつた。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明者らは従来装置の欠点を改善し、ガスの
精製と吸着剤の再生サイクルにおける冷却および
加熱に要するエネルギーの損失を著しく減少させ
ることができ、しかも小型化されたガス精製装置
を得るべく吸着剤の電気加熱による再生に着目
し、鋭意研究を続けた結果本発明に到達した。
すなわち、本発明は深冷吸着法によるガス精製
装置において、外筒容器および内筒容器によつて
2重構造とされ、該内筒容器には1または複数の
吸着筒が収容され、該吸着筒の少くとも1つには
シーズヒーターが内蔵されたことを特徴とするガ
ス精製装置である。
本発明において使用される吸着筒の形状には特
に制限はないが円筒形であることが好ましい。こ
れらの吸着筒は単独で用いられてもよく、また複
数の吸着筒が配管で直列に連結されて用いられて
もよい。
本発明において吸着筒に充填される吸着剤とし
ては活性炭、モレキユラーシーブおよびゼオライ
トなどがあるが、不純ガスに対する吸着性能の良
さから、就中活性炭が好ましい。
本発明において吸着筒に内蔵されるヒーター
は、いわゆるシーズヒーターであればよく、たと
えばニツケル・クロム線などの電熱線が金属シー
ス内に収納され、シース内空間部には高純度の酸
化マグネシウムなどの無機絶縁粉末が強固に充填
され、端子部はシリコン系シール剤あるいはエポ
キシ樹脂などで完全にシールされたヒーター(い
わゆるマイクロヒーターも包含される。以下同
様)である。このようなシーズヒーター以外の電
熱ヒーターでは吸着剤の局部加熱、真空放電、絶
縁不良、電熱線の断線などが生じ易く、実用に耐
える装置を得ることはできない。
またシーズヒーターの端子部から装置外部へ導
かれるリード線も金属細管内でシーズヒーターに
おけると同様な無機絶縁粉末によつて固定され、
かつ、金属細管とともに折曲げ可能な柔軟性を具
備したものが用いられる。
吸着筒に内蔵されるシーズヒーターの数は吸着
筒の大きさ、要求される加熱量などによつて異な
り、一概に特定はできないが、円筒状の吸着筒に
ついてその内径がたとえば100mm以下では1〜3
本である。なお、複数の吸着筒が配管によつて直
列に連結されている場合には通常は再生用ガスの
少くとも最上流側に位置する吸着筒にシーズヒー
ターが内蔵される。勿論他の吸着筒にもシーズヒ
ーターを内蔵させることもできる。また吸着剤の
局部加熱をさらに防止し、吸着剤全体に対する伝
熱効率を高めるために吸着筒内部に放熱板を設け
ることが好ましい。放熱板はシーズヒーターの熱
を吸着剤に効率よく伝えるものであればその形状
および数には特に制限はないが、たとえば複数枚
の長方形の金属板を用い、それぞれの一方の長辺
はシーズヒーターまたはヒーター鞘に接し、各放
熱板は放射状に設けられてもよい。また中央にシ
ーズヒーターまたはヒーターの鞘を通すための孔
の他、ガスを自由に通過させるための孔が適宜数
穿設された複数枚の金属円板をそれぞれ水平に
し、吸着筒内で上下方向に間隔をあけて設けられ
てもよい。
本発明において吸着筒は真空断熱によつて外界
と遮断されているが、外筒容器および内筒容器に
よつて2重構造とされ、外筒容器の内周面と内筒
容器の外周面との間は全周にわたつて空間有し、
この空間は真空状態を保つことができるよう気密
構造とされている。外筒容器および内筒容器は筒
状であればその形状には特に制限はないが、円筒
状であることが好ましい。外筒容器の内周面と内
筒容器の外周面で挟まれた空間は装置の運転時に
は常に真空状態とされる。内筒容器内には1また
は複数の吸着筒が収容されており、吸着筒はガス
の精製時には内筒容器内に供給された液体窒素
(以下LN2と記す)によつて外側から冷却される。
また、吸着剤の再生時には内筒容器からLN2が抜
き出され、吸着筒内に再生用ガスを流しながら、
吸着筒に内蔵されたシーズヒーターにより吸着剤
を加熱することによつて、吸着されていた不純ガ
スが脱着除去されるが、この再生時には内筒容器
内をも真空状態に保つことが好ましい。
本発明において精製時および再生時の熱効率を
さらに高めるために吸着筒に供給されるガスと吸
着筒から出るガスとの熱交換器を設けることが好
ましい。熱交換器を設ける場所には特に制限はな
く、たとえば、(1)内筒容器のLN2液面の上方空間
部、(2)外筒容器の内周面と内筒容器の外周面との
間の空間部、および(3)外筒容器の外部、が挙げら
れる。これらの中でも(2)が好ましい。さらに内筒
容器内において原料ガスの冷却効率を高めるた
め、吸着筒への原料ガス供給管の一部を蛇管また
は冷却フイン付配管などの予冷管とすることもで
きる。
次に図面によつて本発明をさらに具体的に説明
する。
第1図イおよびロはそれぞれシーズヒーターが
内蔵された吸着筒の縦断面図および横断端面図で
あり、第2図イおよびロはそれぞれ第1図とは異
る態様の吸着筒の縦断面図および横断端面図であ
る。
第1図においてガスの入口1および出口2を有
する円筒状の容器本体3の内部に、金属細管で保
護されたリード線4が接続された棒状のシーズヒ
ーター5がその発熱部が吸着剤6の充填層に埋ま
るように容器本体3と同心的に設けられ、シーズ
ヒーター5は容器本体3の上端7において容器本
体3と溶接により気密に固定されている。シーズ
ヒーター5の側面周囲には複数枚の長方形の放熱
板8,…,8がそれぞれ1方の長辺をシーズヒー
ター5に接し、他方の長辺が容器本体の内周面に
向けて放射状に配置せしめられ、残る空間部には
吸着剤6が充填されて吸着筒とされている。
第2図においてガス入口1および出口2を有す
る円筒状の容器本体3の内部に直接シーズヒータ
ー5を設ける代りに、シーズヒーター5が着脱自
在に収納され、かつ一端が閉じられた円筒状のヒ
ーター鞘10が容器本体3と同心的に設けられ、
ヒーター鞘10は容器本体3の上端7において容
器本体3と溶接により気密に固定され、ヒーター
鞘10の側面周囲に放熱板8,…,8が放射状に
配置せしめられている他は第1図で示されたと同
様な吸着筒である。
第3図は単一の吸着筒が用いられた本発明のガ
ス精製装置の原理を示すための縦断面図であり、
第4図は複数の吸着筒が用いられた本発明のガス
精製装置の原理を示すための縦断面図であり、第
5図は第4図において内筒容器および外筒容器が
円筒状とされたガス精製装置の横断端面図であ
る。
第3図において内筒容器11の内部には第1図
または第2図で示されたと同様な吸着筒9が収容
され、内筒容器11は外筒容器12内に収納さ
れ、かつ内筒容器11の外周面と外筒容器12の
内周面で挟まれた空間には円筒状の熱交換器13
が設けられている。原料ガス供給管14および精
製ガス抜出管15はそれぞれ装置外部から外筒容
器12の壁を貫通し、熱交換器13を介し、さら
に内筒容器11の壁を貫通して吸着筒9の入口1
および出口2と接続せしめられている。またLN2
供給管16およびLN2抜出管17はそれぞれ外筒
容器12の壁を貫通して内筒容器11に接続せし
められている。これらの配管はいずれも貫通部に
おいて溶接および管継手によつて気密に固定され
ている。なお、原料ガス供給管14は内筒容器1
1内においてその一部が蛇管18とされている。
金属細管で保護されたリード線4は内筒容器11
および外筒容器12それぞれの壁を順次貫通して
外部へ導かれ、それぞれの貫通部において継手1
9および20によつて気密に固定されている。ガ
スの精製時にはLN2供給管16から内筒容器11
の内部にLN2が供給され、吸着筒9はこのLN2
浸されて外側から冷却される。原料ガスは原料ガ
ス供給管14により熱交換器13および蛇管18
を順次経由して冷却され、吸着筒9の内部に供給
され、不純ガスが吸着除去され、精製ガスとして
熱交換器13を経由して精製ガス抜出管15より
外部に出る。吸着剤の再生時には内筒容器11か
らLN2抜出管17によつてLN2が抜出され、さら
に真空ポンプ(図示されていない)により、内筒
容器11内部が真空とされ、シーズヒーター5に
通電して吸着剤を加熱しながら再生用ガス(精製
ガス)が精製時とは逆の経路で流されることによ
り吸着されていた不純ガスは脱着除去される。
第4図においてシーズヒーター5が内蔵されて
いる吸着筒9が4筒およびシーズヒーター5が内
蔵されていない吸着筒9′が3筒それぞれ交互に
連絡配管21,…,21で直列に連結されて用い
られた以外は第3図で示されたと同様な構造のガ
ス精製装置である。
ガスの精製時にはLN2供給管16から内筒容器
11の内部にLN2が供給され、吸着筒9,9′,
…,9′,9がそれぞれこのLN2に浸されて外側
から冷却される。原料ガスは原料ガス供給管14
により熱交換器13および蛇管18を順次経由し
て冷却され、吸着筒9,9′,…,9,9それぞ
れの連結の順にその内部を通過せしめられること
により不純ガスが吸着除去され、精製ガスとして
熱交換器13を経由して精製ガス抜出管15から
外部に排出される。吸着剤の再生時には内筒容器
11からLN2抜出管17によつてLN2を抜出し、
さらに真空ポンプ(図示されていない)により、
内筒容器11内部を真空とし、シーズヒーター
5,…,5に通電して再生用ガス(精製ガス)を
精製時とは逆の経路で流すことにより吸着されて
いた不純ガスは脱着除去される。
第5図において円筒状の外筒容器12と円筒状
の内筒容器11とは互に同心的に設けられ、その
内部には吸着筒9,9′,…,9′,9が収容さ
れ、吸着筒9,9′,…,9′,9はそれぞれ連絡
配管21,…,21によつて直列に連結され、内
筒容器11の外周面と外筒容器12の内周面との
間の空間部には円筒状の熱交換器13が配設され
て、外観的にはほゞ円筒形のガス精製装置とされ
ている。
〔発明の効果〕
本発明のガス精製装置は従来の装置に比べて次
のような優れた特徴を有している。
1 吸着剤の再生時、加熱されたガスによる間接
加熱と異り、加熱効率がきわめて高い。
2 吸着剤の再生時、内筒容器の内部をも真空に
することができガス伝導による熱エネルギーの
ロスが小さい。
3 ガスを外部加熱するための加熱炉、ブロワ
ー、配管ならびにこれらの保温も不要であり、
従つて装置が小型化できると共にシール材、バ
ルブなどの耐熱仕様が緩やかになり、設備費が
低減される。
実施例 装置: 第4図および第5図で示されたと同様な装置に
おいて、7筒の吸着筒、それぞれの容器本体の材
質SUS304、寸法89.1mmφ×1000mmH×2mmtと
し、このうちシーズヒーターが内蔵された4筒に
はそれぞれ第2図で示されたと同様な構造のもの
を用いた。すなわち4筒それぞれについてヒータ
ー鞘として材質SUS304、寸法19mmφ×1000mmH
×1.2mmt、シーズヒーターとして200V、500W、
寸法16mmφ×1050mm、発熱部の長さ800mm、放
熱板として材質SUS304、寸法30mm×200mm×1
mmtの板16枚を使用した。また7筒の吸着筒のそ
れぞれにはヤシ殻活性炭を5ずつ充填した。内
筒容器は寸法318.5mmφ×1400mmH×4mmt、外
筒容器は寸法600mmφ×1600mmH×4mmtであり、
金属細管で保護されたリード線は内筒容器および
外筒容器それぞれの壁を貫通させてスライダツク
に接続し、それぞれの貫通部はスエージロツク継
手(米、スエージロツク社製)で固定した。
この装置を用いてガスの精製および吸着剤の再
生を行つた。
ガスの精製: 内筒容器の外周面と外筒容器の内周面との間の
空間を真空状態(0.1Torr)に保ち、内筒容器に
LN2を供給して吸着筒を−196℃に冷却しながら
原料ガス供給管より窒素ガス330ppm、一酸化炭
素ガス70ppm、メタンガス70ppmを含む原料水素
ガスを流速20Nm3/hrで供給し、精製を10日間続
けた。この間に得られた精製水素ガスをTCDお
よびFID型ガスクロマトグラスによつて分析した
結果窒素ガス、一酸化炭素ガスおよびメタンガス
はいずれも検出されなかつた。これら不純ガスの
検出下限は窒素ガス1ppm、一酸化炭素0.1ppm、
メタンガス0.05ppmである。
吸着剤の再生: 次に原料水素ガスの供給を停止し、吸着剤の再
生を行つた。内筒容器のLN2を抜き出した後、室
温の乾燥窒素ガスを内筒容器に流して昇温した。
内筒容器内の温度が−50℃まで上昇したとき窒素
ガスを止め、内筒容器内を0.1Torrの真空とし
た。スライダツクを操作して各吸着筒のシーズヒ
ーターそれぞれに0.5Aの電流を流し始め、徐々
に電流値を増し2.0Aとすると同時に吸着剤の再
生用ガスとして精製水素ガスを常圧で精製ガス抜
出管から、精製時とは逆の経路で始めの1hrに1N
m3流した。シーズヒーターが内蔵された吸着筒内
の温度はさらに上昇をつゞけ、10℃になつたとき
に、精製水素ガスを流速3Nm3/hrで2hr流した。
その後、吸着筒内の温度はさらに上昇をつゞけ
180℃に達した。こゝでシーズヒーターの電流を
1.8Aに下げたが0.5hr後に吸着筒内の温度は210℃
に達して、ほゞ一定となつた。このときシーズヒ
ーターが内蔵されていない吸着筒内の温度は190
℃であつた。この状態で再生用ガスの流速を1N
m3/hrに下げ、3.5hr再生を続けた。この間シー
ズヒーターが内蔵されていない吸着筒内の温度は
205℃でほゞ一定値を示した。
こゝで再生を終了し、電流を切り、内側容器内
の真空を破つて室温の窒素ガスを流して冷却する
ことにより2hr後に吸着筒内の温度は120℃に下つ
た。この間に要した全電力消費量は7KWHであ
り、精製水素ガスの消費量は12Nm3であつた。引
続き水素ガスの精製を行つた結果前記と同様な結
果が得られた。
比較例 実施例と同様に水素ガスの吸着精製を行つた
後、条件を次の様に変更して吸着剤の再生を行つ
た。
すなわち吸着筒にシーズヒーターを内蔵させる
代りに外筒容器の外部に電気炉とブロワーを設
け、420℃に加熱された電気炉で窒素ガスを加熱
しながら内筒容器との間を循環させて吸着筒を加
熱した。また再生用ガスとして500℃に加熱され
た別の加熱炉で精製水素ガスを加熱して吸着筒内
に流した。
〔吸着剤の再生〕
まず内筒容器内のLN2を抜き出した後、室温の
乾燥窒素ガスを内筒容器に流して、内筒容器が0
℃に昇温したとき上記の加熱窒素ガス循環系に接
続し、1hrで吸着筒内の温度を100℃に昇温させ
た。窒素ガスの循環を続けながら500℃に調節さ
れた電気炉で加熱された精製水素ガスを実施例に
おけると同じ経路で流速1.5Nm3/hrで吸着筒内
に流してたところ4hrで200℃に達した。窒素ガス
加熱用電気炉の調節温度を400℃に下げて、さら
に3.5hr続けた。
吸着剤の再生に要した電力消費量は循環ブロワ
ーの駆動電力を除いて、38KWHであり、精製水
素ガスの消費量は12Nm3であつた。引続き水素ガ
スの精製を行つたところ実施例における精製と同
様な結果が得られた。
【図面の簡単な説明】
第1図イおよびロは、それぞれシーズヒーター
が内蔵された吸着筒の縦断面図および横断端面図
であり、第2図イおよびロはそれぞれ第1図とは
異る態様の吸着筒の縦断面図および横断端面図で
あり、第3図は単一の吸着筒が用いられた本発明
のガス精製装置の原理を示すための縦断面図であ
り、第4図は複数の吸着筒が用いられた本発明の
ガス精製装置の原理を示すための縦断面図であ
り、第5図は第4図における円筒状とされたガス
精製装置の横断端面図である。 図において、1……入口、2……出口、3……
容器本体、4……金属細管で保護されたリード
線、5……シーズヒーター、6……吸着剤、7…
…上端、8……放熱板、9および9′……吸着筒、
10……ヒーター鞘、11……内筒容器、12…
…外筒容器、13……熱交換器、14……原料ガ
ス供給管、15……精製ガス抜出管、16……
LN2供給管、17……LN2抜出管、18……蛇
管、19および20継手ならびに21……連絡配
管である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 深冷吸着法によるガス精製装置において、外
    筒容器および内筒容器によつて2重構造とされ、
    該内筒容器には1または複数の吸着筒が収容さ
    れ、該吸着筒の少くとも1つにはシーズヒーター
    が内蔵されたことを特徴とするガス精製装置。
JP16100084A 1984-07-31 1984-07-31 ガス精製装置 Granted JPS6138616A (ja)

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JP16100084A JPS6138616A (ja) 1984-07-31 1984-07-31 ガス精製装置

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JP16100084A JPS6138616A (ja) 1984-07-31 1984-07-31 ガス精製装置

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JPS6138616A JPS6138616A (ja) 1986-02-24
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