JPH04328802A - Manufacture of sintered body varistor element substrate - Google Patents

Manufacture of sintered body varistor element substrate

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JPH04328802A
JPH04328802A JP3098603A JP9860391A JPH04328802A JP H04328802 A JPH04328802 A JP H04328802A JP 3098603 A JP3098603 A JP 3098603A JP 9860391 A JP9860391 A JP 9860391A JP H04328802 A JPH04328802 A JP H04328802A
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JP
Japan
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varistor
substrate
sintered
varistor element
liquid crystal
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JP3098603A
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Japanese (ja)
Inventor
Ryuichi Nakamura
隆一 中村
Toshiro Nagase
俊郎 長瀬
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Toppan Inc
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Toppan Printing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To provide a method with which a varistor element substrate, having the correct position on the substrate, excellent shape, high quality being constant in each element. CONSTITUTION:The mixture of varistor particles and glass frit made into a suspension in advance is applied to a substrate using a doctor blade, a sping coater and the like, a patterning operation is conducted using a photolithographic method, then a calcination is performed, and a sintered varistor element 13 is obtained.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、例えば二端子素子型の
液晶表示装置の非線形素子として用いて好適な焼結体バ
リスタ素子基板の製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a sintered varistor element substrate suitable for use as a nonlinear element in, for example, a two-terminal element type liquid crystal display device.

【0002】0002

【従来の技術】現在、例えば液晶テレビの画像表示装置
には大別して単純マトリクス方式とアクティブマトリク
ス方式とがある。単純マトリクス方式は、直角をなして
設けられた一対の帯状電極群(行電極群と列電極群)の
間に複数の液晶画素を行列状に配して接続したものであ
り、これら帯状電極間に駆動回路によって所定の電圧を
印加して液晶画素を作動させる。この方式は、構造が簡
単なため低価格でシステムを実現できるという利点があ
るが、各液晶画素でのクロストークが生じるため、画素
のコントラストが低く、液晶テレビの画像表示を行う際
、画質の低下は避けられないものであった。
2. Description of the Related Art Currently, image display devices for, for example, liquid crystal televisions are broadly classified into simple matrix type and active matrix type. In the simple matrix method, a plurality of liquid crystal pixels are arranged in a matrix and connected between a pair of band-shaped electrode groups (row electrode group and column electrode group) arranged at right angles. A predetermined voltage is applied by a drive circuit to operate the liquid crystal pixels. This method has the advantage of being able to realize a system at a low cost due to its simple structure, but crosstalk occurs in each LCD pixel, resulting in low pixel contrast and resulting in poor image quality when displaying images on an LCD TV. The decline was inevitable.

【0003】これに対し、アクティブマトリクス方式は
、各液晶画素毎にスイッチング素子を設けて電圧を保持
するものであり、液晶表示装置を時分割駆動しても液晶
画素が選択時の電圧を保持することができるため、表示
容量の増大が可能で、コントラスト等の画質に関する特
性がよく、液晶テレビの高画質表示を実現できるもので
ある。しかしながら、アクティブマトリクス方式にあっ
ては構造が複雑になって製造コストが高くなってしまう
という欠点があった。例えば、スイッチング素子として
薄膜トランジスタを用いるTFT型では、その製造工程
において5層以上の薄膜を重ねるため、製品歩留まりを
上げることが困難である。
On the other hand, in the active matrix method, a switching element is provided for each liquid crystal pixel to maintain the voltage, and even if the liquid crystal display device is time-divisionally driven, the liquid crystal pixel maintains the voltage at the time of selection. Therefore, the display capacity can be increased, and characteristics related to image quality such as contrast are good, and high-quality display on liquid crystal televisions can be realized. However, the active matrix method has the disadvantage that the structure is complicated and the manufacturing cost is high. For example, in a TFT type device that uses a thin film transistor as a switching element, five or more layers of thin films are stacked in the manufacturing process, making it difficult to increase the product yield.

【0004】上記のようなことから、コントラスト等の
画質に関する特性が良く、かつ構造簡単にして低コスト
な方式の液晶表示装置の実現が望まれており、この様な
要求を実現する方式として、焼結体バリスタ素子を用い
た二端子素子型液晶表示装置が注目されている。
[0004] For the above reasons, there is a desire to realize a liquid crystal display device that has good image quality characteristics such as contrast, has a simple structure, and is low in cost. Two-terminal element type liquid crystal display devices using sintered varistor elements are attracting attention.

【0005】二端子素子型の液晶表示装置は、単純マト
リクス方式に改良を加えて、図6に示すように、行電極
11と列電極16との間に液晶画素14と所定のしきい
値電圧で導通する焼結体バリスタ素子13とを電気的に
直列に配して接続したものであり、図7に示すような焼
結体バリスタ素子13の非線形な電流−電圧特性を利用
したものである。
The two-terminal element type liquid crystal display device is an improvement on the simple matrix method, and as shown in FIG. The sintered varistor element 13 is electrically connected in series with the sintered varistor element 13, which conducts at .

【0006】図3に一般的な二端子素子型の液晶表示装
置を示す。ここに示すように、行電極11のそれぞれに
対して多数の画素電極12が一定の間隔dをもって設け
られ、行電極11と画素電極12とは各焼結体バリスタ
素子13で一定のしきい値電圧VVをもって接続されて
いる。焼結体バリスタ素子13は、図5に詳示するよう
に、ZnO単結晶粒子131の表面をMn,Co酸化物
等の無機質絶縁膜132で被覆したバリスタ粒子13a
からなり、図4に詳示するように、これらバリスタ粒子
13aをガラスフリット13bで焼結したものである。 このため、通常、焼結体バリスタ素子基板はバリスタ粒
子にガラスフリットと有機バインダーを加えてペースト
化し、バリスタインキとし、これを電極を付けたガラス
基板上にスクリーン印刷などの印刷法にて印刷し、しか
るのち焼成して形成されている。
FIG. 3 shows a general two-terminal element type liquid crystal display device. As shown here, a large number of pixel electrodes 12 are provided for each of the row electrodes 11 at a constant interval d, and the row electrodes 11 and the pixel electrodes 12 have a constant threshold value in each sintered body varistor element 13. It is connected with voltage VV. As shown in detail in FIG. 5, the sintered varistor element 13 includes varistor particles 13a in which the surface of a ZnO single crystal particle 131 is coated with an inorganic insulating film 132 such as Mn or Co oxide.
As shown in detail in FIG. 4, these varistor particles 13a are sintered with a glass frit 13b. For this reason, sintered varistor element substrates are usually made by adding glass frit and an organic binder to varistor particles to form a paste, creating a varistor stamp, and printing this onto a glass substrate with electrodes using a printing method such as screen printing. , and is then fired and formed.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】特に、画質の良好な2
端子素子型液晶表示装置を実現するためには、焼結体バ
リスタ素子が高性能を有し安定性が高く、かつその性能
が素子間で一定している必要がある。また、上側ガラス
基板と下側ガラス基板の間隔が全面均一であることが求
められる。しかし、例えばバリスタ粒子をインキ化、ス
クリーン印刷で素子を印刷した場合、スクリーン印刷の
本質的な問題点としての版伸び、ゆがみがあり、印刷位
置ズレが発生する。また、印刷中のインキの粘度変化、
スキージの摩耗等による印刷条件の変化が、素子形状、
厚さ等に大きく影響する。したがってバリスタ素子の基
板上における位置ズレ、および厚みのばらつきが大きい
。これがバリスタ素子間の電気的特性のばらつきの原因
となっている。このため、コントラスト等の画質に関す
る特性のよい液晶表示装置を製作することが困難である
[Problem to be solved by the invention] In particular, two
In order to realize a terminal element type liquid crystal display device, sintered varistor elements must have high performance and stability, and the performance must be constant between elements. Further, the distance between the upper glass substrate and the lower glass substrate is required to be uniform over the entire surface. However, for example, when varistor particles are made into ink and elements are printed by screen printing, the essential problems of screen printing are plate elongation and distortion, which causes printing position shifts. In addition, changes in ink viscosity during printing,
Changes in printing conditions due to squeegee wear, etc.
It greatly affects the thickness etc. Therefore, the positional deviation of the varistor element on the substrate and the variation in thickness are large. This causes variations in electrical characteristics between varistor elements. For this reason, it is difficult to manufacture a liquid crystal display device with good characteristics regarding image quality such as contrast.

【0008】本発明は、個々のバリスタ素子において基
板上における位置が正確であり、かつ厚みのばらつきが
小さく、良好な形状に製造でき、高性能かつその性能が
素子間で一定したバリスタ素子基板を容易に製造するこ
とを目的とする。
The present invention provides a varistor element substrate in which each varistor element is accurately positioned on the substrate, has small variations in thickness, can be manufactured into a good shape, and has high performance and whose performance is constant between elements. The purpose is to make it easy to manufacture.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は上記の課題に鑑
みてなされたものであって、焼結体バリスタ素子基板の
製造方法において、少なくともバリスタ粒子とガラスフ
リットと感光性樹脂とを混合してなる懸濁液を基板上に
塗布し、バリスタ粒子層を形成後、前記バリスタ粒子層
をフォトリソグラフィー法によりパターニングし、焼成
することにより焼結体バリスタ素子を形成することによ
り課題を解決した。
[Means for Solving the Problems] The present invention has been made in view of the above problems, and provides a method for manufacturing a sintered varistor element substrate, in which at least varistor particles, glass frit, and photosensitive resin are mixed. The problem was solved by forming a varistor particle layer by applying a suspension of the above on a substrate, patterning the varistor particle layer by photolithography, and firing it to form a sintered varistor element.

【0010】0010

【作用】本発明では、少なくともバリスタ粒子とガラス
フリットと感光性樹脂とを混合してなる懸濁液を、ドク
ターブレード、スピンコーター等を用い基板上に塗布し
、バリスタ粒子層を形成後、これフォトリソグラフィー
法によりパターニングを行うので、焼結体バリスタ素子
の位置と形状は、フォトリソグラフィー法に使用するフ
ィルム等の原版により決められるので、再現性の良い、
高い位置精度が得られる。また焼結体バリスタ素子厚み
は、懸濁液を塗布する際の厚み(バリスタ粒子層の厚み
)により規定されるため、ばらつきが少ない。
[Operation] In the present invention, a suspension formed by mixing at least varistor particles, a glass frit, and a photosensitive resin is applied onto a substrate using a doctor blade, a spin coater, etc. to form a varistor particle layer. Since patterning is performed by photolithography, the position and shape of the sintered varistor element are determined by the original plate such as the film used in the photolithography method, resulting in good reproducibility.
High positional accuracy can be obtained. Further, the thickness of the sintered varistor element is determined by the thickness when applying the suspension (thickness of the varistor particle layer), so there is little variation.

【0011】このように、バリスタ素子の基板上におけ
る位置が正確であり、厚みのばらつきが小さく、かつ形
状が良好なため、高性能かつその性能が素子間で一定し
たバリスタ素子基板を得ることを容易にする。
As described above, since the position of the varistor element on the substrate is accurate, the variation in thickness is small, and the shape is good, it is possible to obtain a varistor element substrate with high performance and whose performance is constant between elements. make it easier.

【0012】本発明の具体例としては、あらかじめ、少
なくともバリスタ粒子とガラスフリットとポリビニルア
ルコール等からなる感光性樹脂とを加え懸濁液を作製す
る。
In a specific example of the present invention, a suspension is prepared by adding at least varistor particles, glass frit, and a photosensitive resin made of polyvinyl alcohol or the like in advance.

【0013】バリスタ粒子は、ZnO単結晶粒子の表面
をMn,Co酸化物等の無機質絶縁膜で被覆したもので
あり、直径1〜10μmのものを使用する。ガラスフリ
ットは、焼成時に溶融しなければならないので、融点が
 350℃〜 400℃のものが好ましい。感光性樹脂
は、焼成時に燃焼してしまうものが好ましく、例えば、
ポリビニルアルコールと重クロム酸アンモニウムからな
るものが挙げられる。前記感光性樹脂は、溶剤として水
を用いることができるので作業性も良い。
The varistor particles are ZnO single crystal particles whose surfaces are coated with an inorganic insulating film of Mn, Co oxide, etc., and have a diameter of 1 to 10 μm. Since the glass frit must be melted during firing, it is preferable that the glass frit has a melting point of 350°C to 400°C. The photosensitive resin is preferably one that burns during firing, for example,
Examples include those made of polyvinyl alcohol and ammonium dichromate. The photosensitive resin has good workability since water can be used as a solvent.

【0014】懸濁液の組成は、例えばバリスタ粒子が重
量部にして10部〜40部、ガラスフリットが2部〜1
5部、感光性樹脂が5部〜40部、溶剤が2部〜75部
からなるものである。
The composition of the suspension is, for example, 10 to 40 parts by weight of varistor particles and 2 to 1 part by weight of glass frit.
5 parts of the photosensitive resin, 5 parts to 40 parts of the photosensitive resin, and 2 parts to 75 parts of the solvent.

【0015】前記懸濁液をドクターブレード、スピンコ
ーター等の塗布法を用いて基板上に1μm〜25μm程
度の厚さに塗布後、乾燥あるいは半乾燥させてバリスタ
粒子層を形成し、複数のバリスタ素子形状の透過部を有
するフィルム等の原版を密着させ露光後、現像する(フ
ォトリソグラフィー法)ことによりパターニングし、し
かるのち 400℃程度で30分〜2時間程度焼成する
ことにより焼結体バリスタ素子基板を製造することがで
きる。
[0015] The suspension is applied onto a substrate to a thickness of about 1 μm to 25 μm using a coating method such as a doctor blade or a spin coater, and then dried or semi-dried to form a layer of varistor particles. A sintered varistor element is formed by closely contacting an original plate such as a film having a transparent part in the shape of the element, exposing it to light, developing it (photolithography method) to pattern it, and then baking it at about 400°C for about 30 minutes to 2 hours. A substrate can be manufactured.

【0016】なお、前記説明はネガ型の感光性樹脂(光
のあたった部分が現像液に不溶化)を使用した例である
が、ポジ型の感光性樹脂(光のあたった部分が現像液に
可溶化)を使用した場合は、露光時の原板は複数のバリ
スタ素子形状の遮光部を有するものを用いる必要がある
[0016] The above explanation is an example in which a negative-working photosensitive resin (the part exposed to light becomes insoluble in the developer), but a positive-working photosensitive resin (the part exposed to light becomes insoluble in the developing solution) is used. If solubilization) is used, it is necessary to use an original plate at the time of exposure that has a plurality of varistor element-shaped light shielding parts.

【0017】[0017]

【実施例】本発明の実施例に基づいて具体的に説明する
。図1〜2は、本発明の一実施例に係わる製造方法の工
程図である。
[Example] The present invention will be explained in detail based on an example. 1 and 2 are process diagrams of a manufacturing method according to an embodiment of the present invention.

【0018】〔実施例1〕まずバリスタ懸濁液を作成す
る。ここで用いたバリスタ粒子はZnOを主成分とする
ものであり、その直径が1〜2μmのものを用いた。バ
リスタ粒子20部に対し、ガラスフリット5部、感光性
樹脂として、ポリビニルアルコール20部及び重クロム
酸アンモニウム2部、溶剤として純水40部を添加し、
混合して懸濁液を作製した。
[Example 1] First, a varistor suspension is prepared. The varistor particles used here had ZnO as a main component and had a diameter of 1 to 2 μm. To 20 parts of varistor particles, 5 parts of glass frit, 20 parts of polyvinyl alcohol and 2 parts of ammonium dichromate as a photosensitive resin, and 40 parts of pure water as a solvent were added.
A suspension was prepared by mixing.

【0019】これをスピンコーターを用いて、行電極1
1と画素電極12とが形成されたガラス基板10(以下
、基板という)上に4μmの厚さになるように塗布し、
乾燥させ、バリスタ粒子層15を形成した(図1参照)
The row electrode 1 is coated using a spin coater.
1 and a pixel electrode 12 (hereinafter referred to as a substrate), the coating was applied to a thickness of 4 μm.
It was dried to form a varistor particle layer 15 (see FIG. 1).
.

【0020】バリスタ粒子層に複数のバリスタ素子形状
の透過部を有するフィルム原板を密着露光し、温純水で
スプレイ現像してパターニングした。
A film original plate having a plurality of varistor element-shaped transparent parts in the varistor particle layer was exposed in close contact and patterned by spray development with warm pure water.

【0021】この基板を 420℃、1時間加熱して焼
成した。その結果、各焼結体バリスタ素子13が求める
位置に形成され、厚みのばらつきが少なくかつ形状の良
好な焼結体バリスタ素子基板を得た(図2参照)。
[0021] This substrate was fired by heating at 420°C for 1 hour. As a result, each sintered varistor element 13 was formed at the desired position, and a sintered varistor element substrate with little variation in thickness and good shape was obtained (see FIG. 2).

【0022】〔実施例2〕まずバリスタ懸濁液を作成す
る。ここで用いたバリスタ粒子はZnOを主成分とする
ものであり、その直径が5〜10μmのものを用いた。 バリスタ粒子15部に対し、ガラスフリット5部、感光
性樹脂として、ポリビニルアルコール10部及び重クロ
ム酸アンモニウム1部、溶剤として純水40部を添加し
、混合して懸濁液を作製した。
[Example 2] First, a barista suspension is prepared. The varistor particles used here had ZnO as a main component and had a diameter of 5 to 10 μm. To 15 parts of the varistor particles, 5 parts of glass frit, 10 parts of polyvinyl alcohol and 1 part of ammonium dichromate as a photosensitive resin, and 40 parts of pure water as a solvent were added and mixed to prepare a suspension.

【0023】これをドクターブレードを用い基板上に1
5μmの厚さになるように塗布し、乾燥させ、バリスタ
粒子層を形成した。
[0023] Spread this onto the substrate using a doctor blade.
It was applied to a thickness of 5 μm and dried to form a varistor particle layer.

【0024】バリスタ粒子層に複数のバリスタ素子形状
の透過部を有するフィルム原板を密着露光し、温純水で
スプレイ現像してパターニングした。
A film original plate having a plurality of varistor element-shaped transparent parts in the varistor particle layer was exposed in close contact and patterned by spray development with warm pure water.

【0025】この基板を 420℃、1時間加熱して焼
成した。その結果、各焼結体バリスタ素子が求める位置
に形成され、厚みのばらつきが少なくかつ形状の良好な
焼結体バリスタ素子基板を得た。
[0025] This substrate was fired by heating at 420°C for 1 hour. As a result, each sintered varistor element was formed at the desired position, and a sintered varistor element substrate with little variation in thickness and good shape was obtained.

【0026】[0026]

【発明の効果】本発明の焼結体バリスタ素子基板の製造
方法によれば、各焼結体バリスタ素子が求める位置に形
成され、かつ厚みのばらつきの少なく素子形状の良好な
焼結体バリスタ素子基板を得ることができる。このこと
により高性能かつその性能が素子間で一定したバリスタ
素子基板を得ることが容易となり、むらのない鮮明な画
像表示を達成する大画面の液晶表示装置を得ることが可
能となる。
According to the method of manufacturing a sintered varistor element substrate of the present invention, each sintered varistor element can be formed at a desired position, and the sintered varistor element has a good element shape with little variation in thickness. A substrate can be obtained. This makes it easy to obtain a varistor element substrate with high performance and whose performance is constant between elements, and it becomes possible to obtain a large-screen liquid crystal display device that achieves uniform and clear image display.

【0027】[0027]

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

【図1】本発明の焼結体バリスタ素子基板の製造方法の
一実施例を工程順に示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing, in order of steps, an embodiment of a method for manufacturing a sintered varistor element substrate of the present invention.

【図2】本発明の焼結体バリスタ素子基板の製造方法の
一実施例を工程順に示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing an embodiment of the method for manufacturing a sintered varistor element substrate of the present invention in the order of steps.

【図3】一般的な二端子素子型の液晶表示装置の一例を
示す平面図である。
FIG. 3 is a plan view showing an example of a general two-terminal element type liquid crystal display device.

【図4】バリスタ素子要部の拡大図である。FIG. 4 is an enlarged view of a main part of a varistor element.

【図5】バリスタ粒子の断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view of a varistor particle.

【図6】二端子素子型液晶表示装置の等価回路図である
FIG. 6 is an equivalent circuit diagram of a two-terminal element type liquid crystal display device.

【図7】焼結体バリスタ素子の電圧−電流特性を示すグ
ラフ図である。
FIG. 7 is a graph diagram showing voltage-current characteristics of a sintered varistor element.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10    ガラス基板 11    行電極 12    画素電極 13    焼結体バリスタ素子 13a   バリスタ粒子 13b   ガラスフリット 131   ZnO単結晶粒子 132   無機質絶縁膜 14    液晶 15    バリスタ粒子層 16    列電極 10 Glass substrate 11 Row electrode 12 Pixel electrode 13 Sintered varistor element 13a Varistor particles 13b Glass frit 131 ZnO single crystal particles 132 Inorganic insulation film 14 Liquid crystal 15 Varistor particle layer 16 Column electrode

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】焼結体バリスタ素子基板の製造方法におい
て、少なくともバリスタ粒子とガラスフリットと感光性
樹脂とを混合してなる懸濁液を基板上に塗布し、バリス
タ粒子層を形成後、前記バリスタ粒子層をフォトリソグ
ラフィー法によりパターニングし、焼成することにより
焼結体バリスタ素子を形成することを特徴とする焼結体
バリスタ素子基板の製造方法。
1. A method for manufacturing a sintered varistor element substrate, in which a suspension formed by mixing at least varistor particles, glass frit, and a photosensitive resin is applied onto a substrate to form a varistor particle layer; 1. A method for manufacturing a sintered varistor element substrate, comprising forming a sintered varistor element by patterning a varistor particle layer by photolithography and firing.
JP3098603A 1991-04-30 1991-04-30 Manufacture of sintered body varistor element substrate Pending JPH04328802A (en)

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