JPH04330087A - ホスホン酸誘導体の製造法 - Google Patents
ホスホン酸誘導体の製造法Info
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- JPH04330087A JPH04330087A JP3037342A JP3734291A JPH04330087A JP H04330087 A JPH04330087 A JP H04330087A JP 3037342 A JP3037342 A JP 3037342A JP 3734291 A JP3734291 A JP 3734291A JP H04330087 A JPH04330087 A JP H04330087A
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- JP
- Japan
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- compound
- phosphonic acid
- group
- hydroxy
- phenyl group
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-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A01—AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
- A01N—PRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
- A01N57/00—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing organic phosphorus compounds
- A01N57/18—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing organic phosphorus compounds having phosphorus-to-carbon bonds
- A01N57/24—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing organic phosphorus compounds having phosphorus-to-carbon bonds containing heterocyclic radicals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/547—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
- C07F9/6515—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
- C07F9/6518—Five-membered rings
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は置換ホスホン酸誘導体の
製造法に関する。
製造法に関する。
【0002】
【課題を解決するための手段】本発明によると、塩基の
存在下に1,2,4,−トリアゾールを次式(II):
存在下に1,2,4,−トリアゾールを次式(II):
【0003】
【0004】(式中Rは置換基を有する又は有しない脂
肪族基又はフェニル基である)のエポキシプロピルホス
ホネートと反応させて以下の式(III) の化合物(
但しRは置換基を有する又は有しない脂肪族基又はフェ
ニル基である)を得、所望に応じてこの化合物を酸加水
分解にかけるか又は脱アルキル化剤で処理して以下の式
(III)の化合物(但しRは水素である)を得ること
を特徴とする、次式(III) :
肪族基又はフェニル基である)のエポキシプロピルホス
ホネートと反応させて以下の式(III) の化合物(
但しRは置換基を有する又は有しない脂肪族基又はフェ
ニル基である)を得、所望に応じてこの化合物を酸加水
分解にかけるか又は脱アルキル化剤で処理して以下の式
(III)の化合物(但しRは水素である)を得ること
を特徴とする、次式(III) :
【0005】
【0006】(式中Rは水素あるいは置換基を有する又
は有しない脂肪族基又はフェニル基である)の化合物の
製造法が提供される。
は有しない脂肪族基又はフェニル基である)の化合物の
製造法が提供される。
【0007】Rが脂肪族基である時には、例えばアルキ
ル、アルケニル又はアルキニル基であり得る。アルキル
基は例えば1〜20個又はそれ以上の炭素原子を含有で
き、アルケニル又はアルキニル基は3〜20個又はそれ
以上の炭素原子を含有できる。アルキル基の例には1〜
6個の炭素原子のアルキル基即ちメチル、エチル、イソ
プロピル、プロピル、ブチル、ペンチル及びヘキシル基
がある。アルケニル及びアルキニル基の例には3〜6個
の炭素原子を含有するような基例えばアリル、2−ブテ
ニル、プロパルギル及び2−ブチニル基がある。
ル、アルケニル又はアルキニル基であり得る。アルキル
基は例えば1〜20個又はそれ以上の炭素原子を含有で
き、アルケニル又はアルキニル基は3〜20個又はそれ
以上の炭素原子を含有できる。アルキル基の例には1〜
6個の炭素原子のアルキル基即ちメチル、エチル、イソ
プロピル、プロピル、ブチル、ペンチル及びヘキシル基
がある。アルケニル及びアルキニル基の例には3〜6個
の炭素原子を含有するような基例えばアリル、2−ブテ
ニル、プロパルギル及び2−ブチニル基がある。
【0008】アルキル、アルケニル又はアルキニル基に
存在し得る置換基の例には、ヒドロキシ、アルコキシ(
例えば1〜6個の炭素原子のアルコキシ)、ハロゲン(
例えば塩素)及びフェニル(例えばRはベンジル基であ
り得る)基がある。
存在し得る置換基の例には、ヒドロキシ、アルコキシ(
例えば1〜6個の炭素原子のアルコキシ)、ハロゲン(
例えば塩素)及びフェニル(例えばRはベンジル基であ
り得る)基がある。
【0009】Rが置換基を有する又は有しないフェニル
基である時には、存在し得る置換基の例にはヒドロキシ
、1〜6個の炭素原子のアルコキシ、ハロゲン(例えば
フッ素、塩素又は臭素)及び1〜4個の炭素原子のアル
キル基がある。
基である時には、存在し得る置換基の例にはヒドロキシ
、1〜6個の炭素原子のアルコキシ、ハロゲン(例えば
フッ素、塩素又は臭素)及び1〜4個の炭素原子のアル
キル基がある。
【0010】Rが脂肪族基又はフェニル基である本発明
の化合物は以下の反応図式Aで示した方法によって製造
できる: 反応図式A
の化合物は以下の反応図式Aで示した方法によって製造
できる: 反応図式A
【0011】
【0012】反応図式Aにおいて、Rは置換基を有する
又は有しない脂肪族基又はフェニル基例えばC1 〜6
アルキル基又はフェニル基である。工程(a)におい
ては、エピブロモヒドリンをトリアルキルホスファイト
又はトリフェニルホスファイトと共に加熱してエポキシ
ド誘導体(II)を得る。次いでこれを塩基の存在下に
1,2,4−トリアゾールと反応させて誘導体(III
) を得る。
又は有しない脂肪族基又はフェニル基例えばC1 〜6
アルキル基又はフェニル基である。工程(a)におい
ては、エピブロモヒドリンをトリアルキルホスファイト
又はトリフェニルホスファイトと共に加熱してエポキシ
ド誘導体(II)を得る。次いでこれを塩基の存在下に
1,2,4−トリアゾールと反応させて誘導体(III
) を得る。
【0013】前記の反応は反応剤に対して不活性な溶剤
中で実施でき、加熱により例えば50〜120℃又はそ
れ以上の範囲の温度に加熱することにより促進させ得る
。溶剤は例えばメチルエチルケトンであり得る。塩基は
例えば無機塩基例えば無水炭酸カリウム、炭酸水素ナト
リウム、テトラアルキルアンモニウムハライド又はフッ
化セシウムであり得る。生成物は常法により単離でき、
例えば反応混合物から不溶性の塩を分離し、溶剤を減圧
下に蒸発させ且つ所要ならば既知の方法例えばクロマト
グラフィー(例えば高性能液体クロマトグラフィーHP
LC)及び再結晶によって残渣を精製することにより単
離できる。
中で実施でき、加熱により例えば50〜120℃又はそ
れ以上の範囲の温度に加熱することにより促進させ得る
。溶剤は例えばメチルエチルケトンであり得る。塩基は
例えば無機塩基例えば無水炭酸カリウム、炭酸水素ナト
リウム、テトラアルキルアンモニウムハライド又はフッ
化セシウムであり得る。生成物は常法により単離でき、
例えば反応混合物から不溶性の塩を分離し、溶剤を減圧
下に蒸発させ且つ所要ならば既知の方法例えばクロマト
グラフィー(例えば高性能液体クロマトグラフィーHP
LC)及び再結晶によって残渣を精製することにより単
離できる。
【0014】反応図式Aの1変更例では、塩基としてフ
ッ化セシウム又はテトラブチルアンモニウムを用いて、
トリメチルシリル−1,2,4−トリアゾールを前記の
中間体(II)と反応させて以下の構造式(IV)の生
成物が得られる。
ッ化セシウム又はテトラブチルアンモニウムを用いて、
トリメチルシリル−1,2,4−トリアゾールを前記の
中間体(II)と反応させて以下の構造式(IV)の生
成物が得られる。
【0015】
【0016】次いでこれをトリメチルシリルブロマイド
続いてメタノールの如き脱アルキル化剤で処理するか、
あるいは前記の化合物(III) について記載した如
く塩酸で加水分解してRが水素である生成物が得られる
。式(IV)中のトリメチルシリルエーテル基はこれら
の操作法により同時に脱離されて遊離のヒドロキシ化合
物を得る。 式(IV)の化合物中の基Rが置換基を有する又は有し
ないフェニル基である場合には、これらの基はトリメチ
ルシリルブロマイドでの処理によっては脱離し得ず酸加
水分解によって脱離し得る。
続いてメタノールの如き脱アルキル化剤で処理するか、
あるいは前記の化合物(III) について記載した如
く塩酸で加水分解してRが水素である生成物が得られる
。式(IV)中のトリメチルシリルエーテル基はこれら
の操作法により同時に脱離されて遊離のヒドロキシ化合
物を得る。 式(IV)の化合物中の基Rが置換基を有する又は有し
ないフェニル基である場合には、これらの基はトリメチ
ルシリルブロマイドでの処理によっては脱離し得ず酸加
水分解によって脱離し得る。
【0017】Rが水素である化合物は前記誘導体(II
I) を脱アルキル化剤(例えばトリメチルシリルブロ
マイド続いてメタノール)で処理するかあるいは鉱酸(
例えば塩酸)での加水分解により得られる。Rの一方が
水素原子であって他方がアルキル基である化合物は前記
誘導体(III) の部分加水分解によって得られる。 Rの一方又は両方が水素である化合物の塩は例えば、こ
れらの酸性化合物を金属水酸化物又は炭酸塩であるいは
アンモニア又はアミンで部分中和又は完全中和すること
により製造でき、あるいはトリアルキルスルホニウムヒ
ドロキシド、トリアルキルスルホキソニウムヒドロキシ
ド又はホスホニウムヒドロキシドと反応させることによ
り製造できる。
I) を脱アルキル化剤(例えばトリメチルシリルブロ
マイド続いてメタノール)で処理するかあるいは鉱酸(
例えば塩酸)での加水分解により得られる。Rの一方が
水素原子であって他方がアルキル基である化合物は前記
誘導体(III) の部分加水分解によって得られる。 Rの一方又は両方が水素である化合物の塩は例えば、こ
れらの酸性化合物を金属水酸化物又は炭酸塩であるいは
アンモニア又はアミンで部分中和又は完全中和すること
により製造でき、あるいはトリアルキルスルホニウムヒ
ドロキシド、トリアルキルスルホキソニウムヒドロキシ
ド又はホスホニウムヒドロキシドと反応させることによ
り製造できる。
【0018】
【実施例】本発明を次の実施例により説明するが、但し
書きがなければ実施例中の部は全て重量部であり温度は
全て℃である。
書きがなければ実施例中の部は全て重量部であり温度は
全て℃である。
【0019】実施例1
本実施例はジエチル2−ヒドロキシ−3−(1,2,4
−トリアゾール−1−イル)プロピルホスホネートの製
造を説明する。
−トリアゾール−1−イル)プロピルホスホネートの製
造を説明する。
【0020】ジエチル・2,3−エポキシプロピルホス
ホネート(14.55g)と、1,2,4−トリアゾー
ル(5.18g)と炭酸カリウム(10.35g)とメ
チルエチルケトン(220ml)との混合物を4時間加
熱還流する。上澄み液を粘稠な残渣から傾シャし、減圧
下に蒸発させる。粗製物を分取高性能液体クロマトグラ
フィー(HPLC)(Waters LC 500
装置、固相としてのシリカ及び液相としての1:2容量
比のエタノール:エーテルを用いる)により精製して淡
黄色の粘性油としてジエチル・2−ヒドロキシ−3−(
1,2,4−トリアゾール−1−イル)プロピルホスホ
ネート(7.5g)を得る。該生成物の同定はその赤外
スペクトル;質量スペクトル;及びプロトン、P31及
びC13核磁気共鳴スペクトルの検査により確認され、
これらのスペクトルは指定した構造と全て一致した。
ホネート(14.55g)と、1,2,4−トリアゾー
ル(5.18g)と炭酸カリウム(10.35g)とメ
チルエチルケトン(220ml)との混合物を4時間加
熱還流する。上澄み液を粘稠な残渣から傾シャし、減圧
下に蒸発させる。粗製物を分取高性能液体クロマトグラ
フィー(HPLC)(Waters LC 500
装置、固相としてのシリカ及び液相としての1:2容量
比のエタノール:エーテルを用いる)により精製して淡
黄色の粘性油としてジエチル・2−ヒドロキシ−3−(
1,2,4−トリアゾール−1−イル)プロピルホスホ
ネート(7.5g)を得る。該生成物の同定はその赤外
スペクトル;質量スペクトル;及びプロトン、P31及
びC13核磁気共鳴スペクトルの検査により確認され、
これらのスペクトルは指定した構造と全て一致した。
【0021】塩基性触媒と溶剤との他の組合せ例えばメ
チルエチルケトン中での例えば重炭酸ナトリウム;例え
ば溶剤なしで用いたフッ化セシウム又は第4級アンモニ
ウムハライドを用い得る。後者の塩基はトリアゾールそ
れ自体の代りにN−トリメチルシリルトリアゾールと共
に用い得る。得られるシリルエーテルは実施例2及び3
に記載した如くホスホン酸エステルをホスホン酸に転化
させる間に開裂し得る 。実施例2 本実施例は2−ヒドロキシ−3−(1,2,4−トリア
ゾール−1−イル)プロピルホスホン酸の製造を説明す
る。
チルエチルケトン中での例えば重炭酸ナトリウム;例え
ば溶剤なしで用いたフッ化セシウム又は第4級アンモニ
ウムハライドを用い得る。後者の塩基はトリアゾールそ
れ自体の代りにN−トリメチルシリルトリアゾールと共
に用い得る。得られるシリルエーテルは実施例2及び3
に記載した如くホスホン酸エステルをホスホン酸に転化
させる間に開裂し得る 。実施例2 本実施例は2−ヒドロキシ−3−(1,2,4−トリア
ゾール−1−イル)プロピルホスホン酸の製造を説明す
る。
【0022】臭化トリメチルシリル(6.0ml)を、
ジクロロメタン(40ml)に溶かしたジエチル・2−
ヒドロキシ−3−(1,2,4−トリアゾール−1−イ
ル)プロピルホスホネート(2.0g、実施例1に記載
の如く製造した)の溶液に添加する。この混合物を20
℃で18時間放置し、減圧下に蒸発させ、メタノール(
5ml)で処理し、再び蒸発させる。残渣をメタノール
とエーテルとの混合物に溶解させ、この溶液を粘稠な白
色固体が分離されるまでアニリンで滴下処理する。これ
をエーテルと共に研和し次いで少量のメタノールと共に
擂砕き最後にアセトンと共に研和すると、乾燥後に白色
固体として所要のホスホン酸(0.9g)、融点162
〜165℃を得る。この生成物のスペクトル特性は指定
した構造について予期されるスペクトル特性と一致した
。元素分析値は次の如くである: C5 H10N3 O4 Pの理論値:C,
28.99 ;H, 4.87;N, 20.29 %
実
測値:C, 28.48 ;H, 4.72;N, 1
9.98 %実施例3 本実施例は2−ヒドロキシ−3−(1,2,4−トリア
ゾール−1−イル)プロピルホスホン酸の塩酸塩及びそ
れから遊離塩基の製造を説明する。
ジクロロメタン(40ml)に溶かしたジエチル・2−
ヒドロキシ−3−(1,2,4−トリアゾール−1−イ
ル)プロピルホスホネート(2.0g、実施例1に記載
の如く製造した)の溶液に添加する。この混合物を20
℃で18時間放置し、減圧下に蒸発させ、メタノール(
5ml)で処理し、再び蒸発させる。残渣をメタノール
とエーテルとの混合物に溶解させ、この溶液を粘稠な白
色固体が分離されるまでアニリンで滴下処理する。これ
をエーテルと共に研和し次いで少量のメタノールと共に
擂砕き最後にアセトンと共に研和すると、乾燥後に白色
固体として所要のホスホン酸(0.9g)、融点162
〜165℃を得る。この生成物のスペクトル特性は指定
した構造について予期されるスペクトル特性と一致した
。元素分析値は次の如くである: C5 H10N3 O4 Pの理論値:C,
28.99 ;H, 4.87;N, 20.29 %
実
測値:C, 28.48 ;H, 4.72;N, 1
9.98 %実施例3 本実施例は2−ヒドロキシ−3−(1,2,4−トリア
ゾール−1−イル)プロピルホスホン酸の塩酸塩及びそ
れから遊離塩基の製造を説明する。
【0023】ジエチル・2−ヒドロキシ−3−(1,2
,4−トリアゾール−1−イル)プロピルホスホネート
(50.0g、実施例1に記載の如く製造した)と濃塩
酸(300ml)との混合物を3時間加熱還流させ、減
圧下(最終的には0.01mm)に蒸発させて褐色の粘
性油を得る。これをメタノール(100ml)で処理し
、この混合物を放置させる。灰白色の結晶質固体を濾過
し、メタノールで洗浄し、乾燥させると標記のホスホン
酸塩酸塩(29.0g,m・p・165〜168℃)を
得る。元素分析値は次の如くである。
,4−トリアゾール−1−イル)プロピルホスホネート
(50.0g、実施例1に記載の如く製造した)と濃塩
酸(300ml)との混合物を3時間加熱還流させ、減
圧下(最終的には0.01mm)に蒸発させて褐色の粘
性油を得る。これをメタノール(100ml)で処理し
、この混合物を放置させる。灰白色の結晶質固体を濾過
し、メタノールで洗浄し、乾燥させると標記のホスホン
酸塩酸塩(29.0g,m・p・165〜168℃)を
得る。元素分析値は次の如くである。
【0024】
C5 H11CIN3 O4 Pの理論値:C,
24.65 ;H, 4.55;N, 17.25 %
実測値:C, 24.50 ;H, 4.32;N,
17.18 %ホスホン酸塩酸塩を水に溶解させ、水
に溶かした当モル量の水酸化ナトリウムで処理し、蒸発
乾固させ、メタノールで抽出する。抽出液を蒸発乾固さ
せると少量の塩化ナトリウムにより汚染した本質的に定
量的な収量でのホスホン酸の遊離塩基を得る。塩の含量
は抽出処理を反復することにより減少させ得る。
24.65 ;H, 4.55;N, 17.25 %
実測値:C, 24.50 ;H, 4.32;N,
17.18 %ホスホン酸塩酸塩を水に溶解させ、水
に溶かした当モル量の水酸化ナトリウムで処理し、蒸発
乾固させ、メタノールで抽出する。抽出液を蒸発乾固さ
せると少量の塩化ナトリウムにより汚染した本質的に定
量的な収量でのホスホン酸の遊離塩基を得る。塩の含量
は抽出処理を反復することにより減少させ得る。
【0025】実施例4
本実施例はエチル・2−ヒドロキシ−3−(1,2,4
−トリアゾール−1−イル)プロピルホスホネートの製
造を説明する。
−トリアゾール−1−イル)プロピルホスホネートの製
造を説明する。
【0026】ジエチル・2−ヒドロキシ−3−(1,2
,4−トリアゾール−1−イル)プロピルホスホネート
(2.9g,実施例1に記載の如く製造した)と1Mの
水酸化ナトリウム溶液(11.0ml)との混合物を2
時間加熱還流させ、次いで減圧下に蒸発させる。残渣の
水溶液をダウエックス50W−X8(H+ )イオン交
換樹脂のカラムに通送すると減圧下での蒸発後に標記化
合物の淡黄色ガラス体(2.1g)を得る。
,4−トリアゾール−1−イル)プロピルホスホネート
(2.9g,実施例1に記載の如く製造した)と1Mの
水酸化ナトリウム溶液(11.0ml)との混合物を2
時間加熱還流させ、次いで減圧下に蒸発させる。残渣の
水溶液をダウエックス50W−X8(H+ )イオン交
換樹脂のカラムに通送すると減圧下での蒸発後に標記化
合物の淡黄色ガラス体(2.1g)を得る。
Claims (1)
- 【請求項1】 塩基の存在下に1,2,4,−トリア
ゾールを次式(II): (式中Rは置換基を有する又は有しない脂肪族基又はフ
ェニル基である)のエポキシプロピルホスホネートと反
応させて以下の式(III) の化合物(但しRは置換
基を有する又は有しない脂肪族基又はフェニル基である
)を得、所望に応じてこの化合物を酸加水分解にかける
か又は脱アルキル化剤で処理して以下の式(III)の
化合物(但しRは水素である)を得ることを特徴とする
、次式(III) : (式中Rは水素あるいは置換基を有する又は有しない脂
肪族基又はフェニル基である)の化合物の製造法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB8132982 | 1981-11-02 | ||
| GB8132982 | 1981-11-02 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57191972A Division JPS5888397A (ja) | 1981-11-02 | 1982-11-02 | ホスホン酸誘導体及びこれを含む除草剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04330087A true JPH04330087A (ja) | 1992-11-18 |
| JPH0532398B2 JPH0532398B2 (ja) | 1993-05-14 |
Family
ID=10525568
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57191972A Granted JPS5888397A (ja) | 1981-11-02 | 1982-11-02 | ホスホン酸誘導体及びこれを含む除草剤 |
| JP3037342A Granted JPH04330087A (ja) | 1981-11-02 | 1991-03-04 | ホスホン酸誘導体の製造法 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57191972A Granted JPS5888397A (ja) | 1981-11-02 | 1982-11-02 | ホスホン酸誘導体及びこれを含む除草剤 |
Country Status (14)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4439428A (ja) |
| EP (1) | EP0078613B1 (ja) |
| JP (2) | JPS5888397A (ja) |
| AT (1) | ATE22565T1 (ja) |
| AU (1) | AU550022B2 (ja) |
| BR (1) | BR8206322A (ja) |
| CA (1) | CA1179679A (ja) |
| DE (1) | DE3273586D1 (ja) |
| GB (1) | GB2114133A (ja) |
| HU (1) | HU191363B (ja) |
| IE (1) | IE53743B1 (ja) |
| IL (1) | IL67097A (ja) |
| NZ (1) | NZ202139A (ja) |
| ZA (1) | ZA827618B (ja) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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