JPH04330652A - 光ディスク原盤の露光方法 - Google Patents
光ディスク原盤の露光方法Info
- Publication number
- JPH04330652A JPH04330652A JP2403891A JP2403891A JPH04330652A JP H04330652 A JPH04330652 A JP H04330652A JP 2403891 A JP2403891 A JP 2403891A JP 2403891 A JP2403891 A JP 2403891A JP H04330652 A JPH04330652 A JP H04330652A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- exposure light
- appropriate
- pits
- optical disc
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は光ディスクの製造に用い
られる光ディスク原盤の露光方法に関する。
られる光ディスク原盤の露光方法に関する。
【0002】
【従来の技術】光ディスクの製造方法について説明する
。ガラス製の円盤の表面に密着剤層を形成し、さらにこ
の密着剤層上にフォトレジスト膜を形成する。次いでこ
のフォトレジスト膜が形成された面をレーザ光によって
露光し潜像を形成する。そして、この潜像を現像して凹
ませピットまたはグルーブを形成し光ディスク原盤を製
作する。次に、この光ディスク原盤にニッケルめっき等
を施し、光ディスク原盤のピット等を転写したスタンパ
を製作する。そして、このスタンパを用い射出プレス成
形や2P法などによってプラスチック製のレプリカを製
作し、このレプリカにディスク処理を施して光ディスク
を製造する。
。ガラス製の円盤の表面に密着剤層を形成し、さらにこ
の密着剤層上にフォトレジスト膜を形成する。次いでこ
のフォトレジスト膜が形成された面をレーザ光によって
露光し潜像を形成する。そして、この潜像を現像して凹
ませピットまたはグルーブを形成し光ディスク原盤を製
作する。次に、この光ディスク原盤にニッケルめっき等
を施し、光ディスク原盤のピット等を転写したスタンパ
を製作する。そして、このスタンパを用い射出プレス成
形や2P法などによってプラスチック製のレプリカを製
作し、このレプリカにディスク処理を施して光ディスク
を製造する。
【0003】しかし、光ディスク原盤のピットやグルー
ブの形状にバラツキが生じ、そのため光ディスクの信号
レベルが本来のレベルから変化してしまうおそれがある
。光ディスク原盤のピット等の形状ににバラツキが生じ
る原因としては、以下のものがある。フォトレジスト膜
の感度には若干のバラツキがあるためである。これは使
用するフォトレジスト液が製品ロッド毎に多少のバラツ
キがあったり、密着剤の影響を受け、レジスト膜が変質
することによる。また、フォトリソ工程内のプリベーグ
温度(レジスト膜の乾燥温度)や時間に一様でないため
である。さらに、フォトレジスト膜に形成された潜像を
現像する現像剤の濃度、温度が一様でないためである。
ブの形状にバラツキが生じ、そのため光ディスクの信号
レベルが本来のレベルから変化してしまうおそれがある
。光ディスク原盤のピット等の形状ににバラツキが生じ
る原因としては、以下のものがある。フォトレジスト膜
の感度には若干のバラツキがあるためである。これは使
用するフォトレジスト液が製品ロッド毎に多少のバラツ
キがあったり、密着剤の影響を受け、レジスト膜が変質
することによる。また、フォトリソ工程内のプリベーグ
温度(レジスト膜の乾燥温度)や時間に一様でないため
である。さらに、フォトレジスト膜に形成された潜像を
現像する現像剤の濃度、温度が一様でないためである。
【0004】ピット等の形状のバラツキがないように上
記フォトレジスト液等を管理することは殆ど不可能であ
るので、光ディスク原盤の回折光を検出することによっ
てピット等が最も適切な形状となる現像の終了点を検知
する装置を搭載した現像装置が用いられている。すなわ
ち、光ディスク原盤にレーザ光を照射した状態で現像を
行い、この回折光を測定する。そして、予め設定された
適正なピット等が形成されると得られる回折光を検出し
たとき現像を停止する現像装置が使用されている。
記フォトレジスト液等を管理することは殆ど不可能であ
るので、光ディスク原盤の回折光を検出することによっ
てピット等が最も適切な形状となる現像の終了点を検知
する装置を搭載した現像装置が用いられている。すなわ
ち、光ディスク原盤にレーザ光を照射した状態で現像を
行い、この回折光を測定する。そして、予め設定された
適正なピット等が形成されると得られる回折光を検出し
たとき現像を停止する現像装置が使用されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、現像を
行いながら回折光を測定することは作業が煩雑である。 また、現像剤のフォトレジスト膜表面上の流れ方も測定
される回折光に影響を及ぼすため、測定位置の選定が困
難である問題もある。さらに現像剤の量、流れ方のバラ
ツキによって回折光の測定値がかわってしまうおそれも
ある。したがって常に適正な形状のピット等を得られな
いおそれがある。また、フォトレジスト膜の感度が低い
場合、長時間、現像を行わなければならないので、フォ
トレジスト膜全体が薄くなってしまうので、ピット等が
浅くなってしまい信号レベルに悪影響を及ぼすおそれも
ある。本発明は上記従来の問題点に着目してなされたも
のであり、作業が煩雑化せず、常に適正なピット等をえ
ることができ、しかもピット等が浅くなってしまうおそ
れのない光ディスク原盤の露光方法を提供することを目
的とする。
行いながら回折光を測定することは作業が煩雑である。 また、現像剤のフォトレジスト膜表面上の流れ方も測定
される回折光に影響を及ぼすため、測定位置の選定が困
難である問題もある。さらに現像剤の量、流れ方のバラ
ツキによって回折光の測定値がかわってしまうおそれも
ある。したがって常に適正な形状のピット等を得られな
いおそれがある。また、フォトレジスト膜の感度が低い
場合、長時間、現像を行わなければならないので、フォ
トレジスト膜全体が薄くなってしまうので、ピット等が
浅くなってしまい信号レベルに悪影響を及ぼすおそれも
ある。本発明は上記従来の問題点に着目してなされたも
のであり、作業が煩雑化せず、常に適正なピット等をえ
ることができ、しかもピット等が浅くなってしまうおそ
れのない光ディスク原盤の露光方法を提供することを目
的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、原盤のフォト
レジスト膜が形成されている面のうち情報を記録する情
報記録領域以外の部分である光量決定領域に段階的に光
量を変化させた露光光を照射して複数の潜像を形成し前
記潜像を現像して基準凹部を形成する工程と、前記基準
凹部から適正な露光光の光量を判断し、判断された適正
な光量の露光光によって前記情報記録領域の露光を行う
工程を有する光ディスク原盤の露光方法である。
レジスト膜が形成されている面のうち情報を記録する情
報記録領域以外の部分である光量決定領域に段階的に光
量を変化させた露光光を照射して複数の潜像を形成し前
記潜像を現像して基準凹部を形成する工程と、前記基準
凹部から適正な露光光の光量を判断し、判断された適正
な光量の露光光によって前記情報記録領域の露光を行う
工程を有する光ディスク原盤の露光方法である。
【0007】
【作用】本発明によれば、光量決定領域に段階的に光量
を変化させた露光光を照射し、複数の潜像を形成する。 そしてこの潜像を現像し、基準凹部を形成し、この基準
凹部から適正な、露光光の光量を判断する。そして、こ
の判断された適正な光量の露光光によって情報記録領域
の露光を行う。
を変化させた露光光を照射し、複数の潜像を形成する。 そしてこの潜像を現像し、基準凹部を形成し、この基準
凹部から適正な、露光光の光量を判断する。そして、こ
の判断された適正な光量の露光光によって情報記録領域
の露光を行う。
【0008】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面にしたがって説
明する。符号10は、光ディスク原盤を示す。この光デ
ィスク原盤10は、図2に示すようにガラス基板1上に
密着剤層2さらに、この密着剤層2上にレジスト膜3が
形成されて構成されている。光ディスク原盤10は図1
において一点鎖線αを境にして外側の光量決定領域Aと
内側の記録領域Bに分かれている。記録領域Bには必要
な情報が書き込まれ、光量決定領域Aには情報の書き込
みは行われない。
明する。符号10は、光ディスク原盤を示す。この光デ
ィスク原盤10は、図2に示すようにガラス基板1上に
密着剤層2さらに、この密着剤層2上にレジスト膜3が
形成されて構成されている。光ディスク原盤10は図1
において一点鎖線αを境にして外側の光量決定領域Aと
内側の記録領域Bに分かれている。記録領域Bには必要
な情報が書き込まれ、光量決定領域Aには情報の書き込
みは行われない。
【0009】次に、光ディスク原盤10の露光方法につ
いて説明する。光ディスク原盤10をターンテーブル4
上に設置し、露光装置15によってレーザ光を光量決定
領域Aに照射し、潜像11、12、13を形成する。こ
れら潜像11、12、13を形成するレーザ光は、それ
ぞれ光量を段階的に変えて照射する。そして現像液を含
んだ物を露光部上に置き、潜像12、13、14を現像
し、フォトレジスト膜3を凹ませて、基準凹部としての
ピットまたはグルーブ形成する。そして目視で判断を行
う。目視による場合は、一定の光沢を発する部分が適切
な形状のピット等が形成されていることになるので、当
該部分を露光した光量が適切な光量ということになる。 したがって例えば潜像12を現像して得られたピット等
が形成されている部分が一定の光沢を発している場合、
潜像12を形成した光量の露光光によって記録領域Bに
情報を記録する。
いて説明する。光ディスク原盤10をターンテーブル4
上に設置し、露光装置15によってレーザ光を光量決定
領域Aに照射し、潜像11、12、13を形成する。こ
れら潜像11、12、13を形成するレーザ光は、それ
ぞれ光量を段階的に変えて照射する。そして現像液を含
んだ物を露光部上に置き、潜像12、13、14を現像
し、フォトレジスト膜3を凹ませて、基準凹部としての
ピットまたはグルーブ形成する。そして目視で判断を行
う。目視による場合は、一定の光沢を発する部分が適切
な形状のピット等が形成されていることになるので、当
該部分を露光した光量が適切な光量ということになる。 したがって例えば潜像12を現像して得られたピット等
が形成されている部分が一定の光沢を発している場合、
潜像12を形成した光量の露光光によって記録領域Bに
情報を記録する。
【0010】また、光量決定部Aを露光した後、光ディ
スク原盤10をターンテーブル4から外し、現像装置を
用いたり、デッピング(現像液の噴霧)などの手段によ
ってて潜像11、12、13を現像して、その後、目視
によって適切な露光光の光量を判断してもよい。
スク原盤10をターンテーブル4から外し、現像装置を
用いたり、デッピング(現像液の噴霧)などの手段によ
ってて潜像11、12、13を現像して、その後、目視
によって適切な露光光の光量を判断してもよい。
【0011】以下に説明するように回折光検出装置によ
ってピット等が適正な形状となっているか否かを検査し
てもよい。図3、図4に示すように光ディスク原盤10
の下面側に潜像11、12、13を現像して得られたピ
ット等に対応してLD15、16、17を配置し、光デ
ィスク原盤10の上面側にCCDアレイ20、21、2
2を配置して、LD15、16、17から検知光を光デ
ィスク原盤10のピット等に向かって照射し、各ピット
等の回折の程度を判断する。なお適正な形状のピット等
がどの程度の回折率を示すかは、予め実験的に求められ
ているので、回折の程度を検出することによって、形成
されたピット等が適正な形状となっているか否かが判断
でき、適正な露光光の光量を判断することができる。そ
して上記の場合と同様にして、適正な光量の露光光で記
録領域Bに情報を記録する。
ってピット等が適正な形状となっているか否かを検査し
てもよい。図3、図4に示すように光ディスク原盤10
の下面側に潜像11、12、13を現像して得られたピ
ット等に対応してLD15、16、17を配置し、光デ
ィスク原盤10の上面側にCCDアレイ20、21、2
2を配置して、LD15、16、17から検知光を光デ
ィスク原盤10のピット等に向かって照射し、各ピット
等の回折の程度を判断する。なお適正な形状のピット等
がどの程度の回折率を示すかは、予め実験的に求められ
ているので、回折の程度を検出することによって、形成
されたピット等が適正な形状となっているか否かが判断
でき、適正な露光光の光量を判断することができる。そ
して上記の場合と同様にして、適正な光量の露光光で記
録領域Bに情報を記録する。
【0012】第2実施例について説明する。図5に示す
ように、潜像31、32、33を検出可能なように一定
間隔以上をおいて形成する。これら潜像31、32、3
3も段階的に光量を変化させ形成し、潜像31、32、
33を現像する。また回折光検査装置としては、LD1
8とCCDアレイ25を一つずつ配置し、さらにこれら
LD18とCCDアレイ25とによって、適正なピット
等が示す回折値が検出された場合に、それを表示するブ
ザー等の手段を設ける。本装置では、ブザーが鳴ったと
きに検出していたピット等を形成するのに用いた露光光
の光量が最も適切なものと判断できる。このように記録
領域Bに情報を書き込むための露光光の光量を適正な値
に調整するので、潜像の現像段階においての現像時間等
の調整を行う必要がなくなる。したがってピット等が浅
くなることはない。
ように、潜像31、32、33を検出可能なように一定
間隔以上をおいて形成する。これら潜像31、32、3
3も段階的に光量を変化させ形成し、潜像31、32、
33を現像する。また回折光検査装置としては、LD1
8とCCDアレイ25を一つずつ配置し、さらにこれら
LD18とCCDアレイ25とによって、適正なピット
等が示す回折値が検出された場合に、それを表示するブ
ザー等の手段を設ける。本装置では、ブザーが鳴ったと
きに検出していたピット等を形成するのに用いた露光光
の光量が最も適切なものと判断できる。このように記録
領域Bに情報を書き込むための露光光の光量を適正な値
に調整するので、潜像の現像段階においての現像時間等
の調整を行う必要がなくなる。したがってピット等が浅
くなることはない。
【0013】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、簡単な作
業で、常に適正なピット等を形成することができる。ま
た現像時間等は一定とするので、ピット等が浅くなって
しまうおそれもなくなる。
業で、常に適正なピット等を形成することができる。ま
た現像時間等は一定とするので、ピット等が浅くなって
しまうおそれもなくなる。
【図1】本発明の実施例にかかる光ディスク原盤の平面
図である。
図である。
【図2】図1の光ディスク原盤のIーI断面図である。
【図3】第1実施例にかかる光ディスク原盤の露光方法
を実施するための回折光検出装置の構成を示す図である
。
を実施するための回折光検出装置の構成を示す図である
。
【図4】第3図の回折光検出装置による検査を説明する
ための図である。
ための図である。
【図5】第2実施例にかかる光ディスク原盤の露光方法
を実施するための回折光検出装置の構成を示す図である
。
を実施するための回折光検出装置の構成を示す図である
。
1 ガラス基板
2 密着剤層
3 レジスト膜
10 光ディスク原盤
A 光量決定領域
B 情報記録領域
Claims (1)
- 【請求項1】原盤のフォトレジスト膜が形成されている
面のうち情報を記録する情報記録領域以外の部分である
光量決定領域に段階的に光量を変化させた露光光を照射
して複数の潜像を形成し前記潜像を現像して基準凹部を
形成する工程と、前記基準凹部から適正な露光光の光量
を判断し、判断された適正な光量の露光光によって前記
情報記録領域の露光を行う工程を有する光ディスク原盤
の露光方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2403891A JPH04330652A (ja) | 1991-01-24 | 1991-01-24 | 光ディスク原盤の露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2403891A JPH04330652A (ja) | 1991-01-24 | 1991-01-24 | 光ディスク原盤の露光方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04330652A true JPH04330652A (ja) | 1992-11-18 |
Family
ID=12127331
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2403891A Pending JPH04330652A (ja) | 1991-01-24 | 1991-01-24 | 光ディスク原盤の露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04330652A (ja) |
-
1991
- 1991-01-24 JP JP2403891A patent/JPH04330652A/ja active Pending
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