JPH04331741A - ガラス組成物および高性能マイクロチャンネルプレートの製法 - Google Patents
ガラス組成物および高性能マイクロチャンネルプレートの製法Info
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- JPH04331741A JPH04331741A JP2416065A JP41606590A JPH04331741A JP H04331741 A JPH04331741 A JP H04331741A JP 2416065 A JP2416065 A JP 2416065A JP 41606590 A JP41606590 A JP 41606590A JP H04331741 A JPH04331741 A JP H04331741A
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Classifications
-
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- G—PHYSICS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、マイクロチャンネルプ
レートを製作する際に使用するのに好適なガラス組成物
に関し、より詳細には、増大された電子増幅能力を有す
る改良マイクロチャンネルプレートを生ずる本質上二酸
化ケイ素（ＳｉＯ２ ）、酸化鉛（ＰｂＯ）、酸化ビス
マス（Ｂｉ２ Ｏ３）、酸化ホウ素（Ｂ２ Ｏ３ ）、
酸化アルミニウム（Ａｌ２ Ｏ３ ）、酸化バリウム（
ＢａＯ）および酸化セシウム（Ｃｓ２ Ｏ）からなるガ
ラス組成物（マイクロチャンネルの表面抵抗率は水素ガ
スで処理する時に既知の従来のガラス組成物以上に実質
上改良される）に適用される。
レートを製作する際に使用するのに好適なガラス組成物
に関し、より詳細には、増大された電子増幅能力を有す
る改良マイクロチャンネルプレートを生ずる本質上二酸
化ケイ素（ＳｉＯ２ ）、酸化鉛（ＰｂＯ）、酸化ビス
マス（Ｂｉ２ Ｏ３）、酸化ホウ素（Ｂ２ Ｏ３ ）、
酸化アルミニウム（Ａｌ２ Ｏ３ ）、酸化バリウム（
ＢａＯ）および酸化セシウム（Ｃｓ２ Ｏ）からなるガ
ラス組成物（マイクロチャンネルの表面抵抗率は水素ガ
スで処理する時に既知の従来のガラス組成物以上に実質
上改良される）に適用される。
【０００２】
【従来の技術】マイクロチャンネルプレートを製作する
際に使用するのに好適なガラス組成物は、技術上周知で
ある。かかるガラス組成物の一例は、１９８３年５月１
６日出願の英国特許出願ＧＢ第２ １２０ ２３２
Ａ号明細書に開示されている。
際に使用するのに好適なガラス組成物は、技術上周知で
ある。かかるガラス組成物の一例は、１９８３年５月１
６日出願の英国特許出願ＧＢ第２ １２０ ２３２
Ａ号明細書に開示されている。
【０００３】また、クラッドガラスおよびコアガラスを
具備するガラス繊維光学素子を作ることは、技術上既知
である。かかるガラス繊維光学素子の例は、米国特許第
３，５８９，７９３号明細書および米国特許第３，７５
３，６７２号明細書に開示されている。米国特許第３，
７５３，６７２号明細書は、クラッドガラスおよびコア
ガラスから形成されるガラス繊維を作るための装置およ
び方法を開示している。
具備するガラス繊維光学素子を作ることは、技術上既知
である。かかるガラス繊維光学素子の例は、米国特許第
３，５８９，７９３号明細書および米国特許第３，７５
３，６７２号明細書に開示されている。米国特許第３，
７５３，６７２号明細書は、クラッドガラスおよびコア
ガラスから形成されるガラス繊維を作るための装置およ
び方法を開示している。
【０００４】マイクロチャンネルプレートの形成および
その製法は、技術上周知である。かかる技術の例は、米
国特許第４，８５３，０２０号明細書、第４，７３７，
０１３号明細書および第４，６２９，４８６号明細書に
開示されている。
その製法は、技術上周知である。かかる技術の例は、米
国特許第４，８５３，０２０号明細書、第４，７３７，
０１３号明細書および第４，６２９，４８６号明細書に
開示されている。
【０００５】マイクロチャンネルプレートの操作の説明
は、技術上既知である。マイクロチャンネルプレートの
操作を記載している従来技術の一例は、ＩＡＡＡトラン
スアクションズ・オン・サイエンス、Ｂｏｌ．ＮＳ−３
１，Ｎｏ． １，１９８４年２月，第３９９頁〜第４０
３頁に現われるＳ．マツウラ、Ｓ．ウメバヤシ、Ｃ．オ
クヤマおよびＫ．オーバによる文献「マイクロチャンネ
ルプレートの現状」である。 サイエンティフィック
・アメリカン，１９８１年１１月，第６２頁〜第７１頁
に現われるミカエル・ラムプトンによる別の文献「マイ
クロチャンネルイメージインテンシファイアー」も、マ
イクロチャンネルプレート操作を記載している。 マ
イクロチャンネルプレートを電子増倍器として使用する
ことも、技術上周知である。マイクロチャンネルプレー
トを利用するかかる素子は、米国特許第４，７１４，８
６１号明細書、第３，３４１，７３０号明細書および第
３，１２８，４０８号明細書に開示されている。チャン
ネル型電子増倍器の製法は、米国特許第４，８５３，０
２０号明細書に開示されている。
は、技術上既知である。マイクロチャンネルプレートの
操作を記載している従来技術の一例は、ＩＡＡＡトラン
スアクションズ・オン・サイエンス、Ｂｏｌ．ＮＳ−３
１，Ｎｏ． １，１９８４年２月，第３９９頁〜第４０
３頁に現われるＳ．マツウラ、Ｓ．ウメバヤシ、Ｃ．オ
クヤマおよびＫ．オーバによる文献「マイクロチャンネ
ルプレートの現状」である。 サイエンティフィック
・アメリカン，１９８１年１１月，第６２頁〜第７１頁
に現われるミカエル・ラムプトンによる別の文献「マイ
クロチャンネルイメージインテンシファイアー」も、マ
イクロチャンネルプレート操作を記載している。 マ
イクロチャンネルプレートを電子増倍器として使用する
ことも、技術上周知である。マイクロチャンネルプレー
トを利用するかかる素子は、米国特許第４，７１４，８
６１号明細書、第３，３４１，７３０号明細書および第
３，１２８，４０８号明細書に開示されている。チャン
ネル型電子増倍器の製法は、米国特許第４，８５３，０
２０号明細書に開示されている。
【０００６】操作中、マイクロチャンネルプレート電子
増倍器素子は、電磁放射線源および／または電子源と併
用されている。素子によって受け取られた電磁放射線は
、適当な変換素子によって電子に変換され、そして電子
は、チャンネル型マルチチャンネル素子を利用する電子
増倍器に入力として利用される。マルチチャンネル素子
は、薄いガラスプレートを通しての複数の連続パスまた
はマイクロチャンネルからなる。マイクロチャンネルパ
スは、放出層を形成するために化学的および熱的に処理
された壁を有する。二次電子放出性が、かかる処理の結
果として、壁に付与される。マイクロチャンネルの一端
で受け取られた電子は、パスまたはマイクロチャンネル
を通して輸送される。その通過時に、各電子は、続いて
、電子放出処理表面との多重衝突のため大多数の自由電
子を発生する。
増倍器素子は、電磁放射線源および／または電子源と併
用されている。素子によって受け取られた電磁放射線は
、適当な変換素子によって電子に変換され、そして電子
は、チャンネル型マルチチャンネル素子を利用する電子
増倍器に入力として利用される。マルチチャンネル素子
は、薄いガラスプレートを通しての複数の連続パスまた
はマイクロチャンネルからなる。マイクロチャンネルパ
スは、放出層を形成するために化学的および熱的に処理
された壁を有する。二次電子放出性が、かかる処理の結
果として、壁に付与される。マイクロチャンネルの一端
で受け取られた電子は、パスまたはマイクロチャンネル
を通して輸送される。その通過時に、各電子は、続いて
、電子放出処理表面との多重衝突のため大多数の自由電
子を発生する。
【０００７】既知のガラス組成物およびガラスに存在す
る成分は、或る程度までは、マイクロチャンネルが製造
され且つ化学的および熱的に処理されて、大きい電子増
倍が生じうるように適当な抵抗率特性を有するようにす
る能力を決定する。
る成分は、或る程度までは、マイクロチャンネルが製造
され且つ化学的および熱的に処理されて、大きい電子増
倍が生じうるように適当な抵抗率特性を有するようにす
る能力を決定する。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本質上ガラスに下記モル
％範囲内で存在する下記成分 ＳｉＯ２
５８〜
６８ ＰｂＯ
１
０〜１５ Ｂｉ２ Ｏ３
０
．３〜２．１ Ｂ２ Ｏ３
２．０〜３．８ Ａｌ２ Ｏ３
０．９〜１．２ ＢａＯ
５．５〜１６．２ Ｃ
ｓ２ Ｏ
０．０〜１．９からなることを特徴
とするガラス組成物が、ここに開示される。
％範囲内で存在する下記成分 ＳｉＯ２
５８〜
６８ ＰｂＯ
１
０〜１５ Ｂｉ２ Ｏ３
０
．３〜２．１ Ｂ２ Ｏ３
２．０〜３．８ Ａｌ２ Ｏ３
０．９〜１．２ ＢａＯ
５．５〜１６．２ Ｃ
ｓ２ Ｏ
０．０〜１．９からなることを特徴
とするガラス組成物が、ここに開示される。
【０００９】既知のガラス組成物から作られたマイクロ
チャンネルプレートを製作する際に使用した既知のガラ
ス組成物は、マイクロチャンネルによって発生できる電
子の数がそこのガラス組成物および成分によって限定さ
れるプラトーに達する。
チャンネルプレートを製作する際に使用した既知のガラ
ス組成物は、マイクロチャンネルによって発生できる電
子の数がそこのガラス組成物および成分によって限定さ
れるプラトーに達する。
【００１０】本発明のガラス組成物は、高性能マイクロ
チャンネルプレートを製作するのに利用できる改良ガラ
ス組成物である。そのガラス組成物は、本質上ガラスに
下記モル％範囲内で存在する下記成分 ＳｉＯ２
５８〜
６８ ＰｂＯ
１
０〜１５ Ｂｉ２ Ｏ３
０
．３〜２．１ Ｂ２ Ｏ３
２．０〜３．８ Ａｌ２ Ｏ３
０．９〜１．２ ＢａＯ
５．５〜１６．２ Ｃ
ｓ２ Ｏ
０．０〜１．９からなる。
チャンネルプレートを製作するのに利用できる改良ガラ
ス組成物である。そのガラス組成物は、本質上ガラスに
下記モル％範囲内で存在する下記成分 ＳｉＯ２
５８〜
６８ ＰｂＯ
１
０〜１５ Ｂｉ２ Ｏ３
０
．３〜２．１ Ｂ２ Ｏ３
２．０〜３．８ Ａｌ２ Ｏ３
０．９〜１．２ ＢａＯ
５．５〜１６．２ Ｃ
ｓ２ Ｏ
０．０〜１．９からなる。
【００１１】本発明のガラス組成物は、ガラスチュービ
ングまたは造形非孔質チュービングをガラス組成物から
作った後、その内面を化学的および熱的に処理して放出
層を形成するように相互作用する成分の組み合わせを有
する。放出層の形成は、マイクロチャンネルプレートの
製法の一部分であり、この製法においては表面抵抗率が
大幅に減少または低下し、このことは表面伝導率を増大
し、次いで、かかるマイクロチャンネルプレートから作
られた電子増倍器によって大多数の電子を発生させる。
ングまたは造形非孔質チュービングをガラス組成物から
作った後、その内面を化学的および熱的に処理して放出
層を形成するように相互作用する成分の組み合わせを有
する。放出層の形成は、マイクロチャンネルプレートの
製法の一部分であり、この製法においては表面抵抗率が
大幅に減少または低下し、このことは表面伝導率を増大
し、次いで、かかるマイクロチャンネルプレートから作
られた電子増倍器によって大多数の電子を発生させる。
【００１２】それゆえ、本発明の一面は、ガラス組成物
が本質上ガラスに下記モル％範囲内で存在する下記成分
ＳｉＯ２
５８〜
６８ ＰｂＯ
１
０〜１５ Ｂｉ２ Ｏ３
０
．３〜２．１ Ｂ２ Ｏ３
２．０〜３．８ Ａｌ２ Ｏ３
０．９〜１．２ ＢａＯ
５．５〜１６．２ Ｃ
ｓ２ Ｏ
０．０〜１．９からなることである
。
が本質上ガラスに下記モル％範囲内で存在する下記成分
ＳｉＯ２
５８〜
６８ ＰｂＯ
１
０〜１５ Ｂｉ２ Ｏ３
０
．３〜２．１ Ｂ２ Ｏ３
２．０〜３．８ Ａｌ２ Ｏ３
０．９〜１．２ ＢａＯ
５．５〜１６．２ Ｃ
ｓ２ Ｏ
０．０〜１．９からなることである
。
【００１３】本発明の別の面は、少なくとも１種の成分
がＭｇＯおよびＣａＯからなる群から選ばれ、それとＢ
ａＯとの合計量がガラスに１０〜２０．４モル％で存在
できることである。
がＭｇＯおよびＣａＯからなる群から選ばれ、それとＢ
ａＯとの合計量がガラスに１０〜２０．４モル％で存在
できることである。
【００１４】本発明の別の面は、ガラス組成物がＲｂ２
ＯおよびＫ２ Ｏからなる群から選ばれる少なくとも
１種の化合物を更に含有でき、それとＣｓ２ Ｏとの合
計量がガラスに０〜３．０モル％で存在できることであ
る。
ＯおよびＫ２ Ｏからなる群から選ばれる少なくとも
１種の化合物を更に含有でき、それとＣｓ２ Ｏとの合
計量がガラスに０〜３．０モル％で存在できることであ
る。
【００１５】本発明の別の面は、ガラス組成物がガラス
に０．１〜１．１モル％で存在できるＳｂ２ Ｏ３ お
よびＡｓ２ Ｏ３からなる成分を含有できることである
。
に０．１〜１．１モル％で存在できるＳｂ２ Ｏ３ お
よびＡｓ２ Ｏ３からなる成分を含有できることである
。
【００１６】本発明の別の面は、ガラス組成物がガラス
に０〜０．５モル％で存在できるＳｂ２ Ｏ３ を更に
含有できることである。
に０〜０．５モル％で存在できるＳｂ２ Ｏ３ を更に
含有できることである。
【００１７】本発明の別の面は、ガラス組成物がガラス
に０〜０．６モル％で存在できるＡｓ２ Ｏ３ を更に
含有できることである。
に０〜０．６モル％で存在できるＡｓ２ Ｏ３ を更に
含有できることである。
【００１８】本発明の別の面は、ガラス組成物がガラス
に０〜０．５モル％で存在できるＲｂ２ Ｏを更に含有
できることである。
に０〜０．５モル％で存在できるＲｂ２ Ｏを更に含有
できることである。
【００１９】本発明の別の面は、ガラス組成物がガラス
に０〜３．０モル％で存在できるＫ２ Ｏを更に含有で
きることである。
に０〜３．０モル％で存在できるＫ２ Ｏを更に含有で
きることである。
【００２０】本発明の別の面は、ガラス組成物がガラス
に０〜３モル％で存在できる成分Ｃｓ２ Ｏ、Ｒｂ２
ＯおよびＫ２ Ｏを含有できることである。
に０〜３モル％で存在できる成分Ｃｓ２ Ｏ、Ｒｂ２
ＯおよびＫ２ Ｏを含有できることである。
【００２１】本発明の別の面は、ここに記載のような組
成を有するガラスからなる高性能マイクロチャンネルプ
レートを製作するためのガラス組成物が本発明によって
教示されることである。
成を有するガラスからなる高性能マイクロチャンネルプ
レートを製作するためのガラス組成物が本発明によって
教示されることである。
【００２２】本発明の別の面は、マイクロチャンネルプ
レートがここに記載のような成分からなるガラス組成物
から作られることが本発明によって教示されることであ
る。
レートがここに記載のような成分からなるガラス組成物
から作られることが本発明によって教示されることであ
る。
【００２３】本発明の別の面は、約５７０℃〜約６１０
℃の範囲内の転移温度を有する中空中心領域を具備する
非孔質ガラスチュービングの製法が本発明によって教示
されることである。液相線温度１０００℃未満を有する
熱安定性ガラス溶融物（組成物は本質上ここに記載の成
分からなり、ＳｉＯ２ ＋ＰｂＯ＋ＢａＯの合計モル％
は少なくとも７８である）を調製し；ガラスチュービン
グをガラスから成形し造形し；その後、ガラスを、ガラ
スの徐冷温度と少なくとも同じ位である初期温度範囲内
で、徐冷された細長いガラスチュービングを製造するの
に十分な時間熱的に徐冷する（ガラスチュービングは２
５℃と３００℃との間の温度で平均線熱膨張係数約６３
×１０−７／℃〜約８２×１０−７／℃を有する）こと
を特徴とする方法が、開示される。
℃の範囲内の転移温度を有する中空中心領域を具備する
非孔質ガラスチュービングの製法が本発明によって教示
されることである。液相線温度１０００℃未満を有する
熱安定性ガラス溶融物（組成物は本質上ここに記載の成
分からなり、ＳｉＯ２ ＋ＰｂＯ＋ＢａＯの合計モル％
は少なくとも７８である）を調製し；ガラスチュービン
グをガラスから成形し造形し；その後、ガラスを、ガラ
スの徐冷温度と少なくとも同じ位である初期温度範囲内
で、徐冷された細長いガラスチュービングを製造するの
に十分な時間熱的に徐冷する（ガラスチュービングは２
５℃と３００℃との間の温度で平均線熱膨張係数約６３
×１０−７／℃〜約８２×１０−７／℃を有する）こと
を特徴とする方法が、開示される。
【００２４】本発明の別の面は、ガラス管を成形し造形
する工程が、ガラス管をガラスから押出す工程を包含で
きることである。
する工程が、ガラス管をガラスから押出す工程を包含で
きることである。
【００２５】本発明の別の面は、ガラス管を成形し造形
する工程が、チュービングの中空中心領域を成形し造形
して所定の形状を有する断面を規定する方法を包含でき
ることである。
する工程が、チュービングの中空中心領域を成形し造形
して所定の形状を有する断面を規定する方法を包含でき
ることである。
【００２６】本発明の別の面は、ガラスチュービングが
外面を有し且つ成形し造形する工程が、チュービングの
外面および中空中心領域を円形断面に成形し造形して、
所定の壁厚を有する細長い円筒状管を規定することを包
含することである。
外面を有し且つ成形し造形する工程が、チュービングの
外面および中空中心領域を円形断面に成形し造形して、
所定の壁厚を有する細長い円筒状管を規定することを包
含することである。
【００２７】本発明の別の面は、その方法が細長い円筒
状タイプを所定の軸方向長物に切断する工程を包含する
ことである。
状タイプを所定の軸方向長物に切断する工程を包含する
ことである。
【００２８】本発明の別の面は、約５７０℃〜約６１０
℃の範囲内の転移温度および液相線温度１０００℃未満
を有する中空中心領域を具備する造形非孔質ガラスチュ
ービングであって、ガラスはここに記載の成分からなる
組成を有し、ＳｉＯ２ ＋ＰｂＯ＋ＢａＯの合計モル％
は少なくとも７８であり且つガラスチュービングは２５
℃と３００℃との間の温度で平均線熱膨張係数約６３×
１０−７／℃〜８２×１０−７／℃を有することを特徴
とする造形非孔質ガラスチュービングが示されることで
ある。
℃の範囲内の転移温度および液相線温度１０００℃未満
を有する中空中心領域を具備する造形非孔質ガラスチュ
ービングであって、ガラスはここに記載の成分からなる
組成を有し、ＳｉＯ２ ＋ＰｂＯ＋ＢａＯの合計モル％
は少なくとも７８であり且つガラスチュービングは２５
℃と３００℃との間の温度で平均線熱膨張係数約６３×
１０−７／℃〜８２×１０−７／℃を有することを特徴
とする造形非孔質ガラスチュービングが示されることで
ある。
【００２９】本発明の別の面は、高性能マイクロチャン
ネルプレートを製作する際に使用するためのコアガラス
用ガラス組成物（コアガラスは優秀なエッチング特性を
有し、且つ高性能マイクロチャンネルプレートを製作す
る際に使用する造形非孔質ガラスチュービング中のガラ
ス用のガラス組成物と実質上同じ線熱膨張係数を有する
）が開示されることである。
ネルプレートを製作する際に使用するためのコアガラス
用ガラス組成物（コアガラスは優秀なエッチング特性を
有し、且つ高性能マイクロチャンネルプレートを製作す
る際に使用する造形非孔質ガラスチュービング中のガラ
ス用のガラス組成物と実質上同じ線熱膨張係数を有する
）が開示されることである。
【００３０】
【実施例】マイクロチャンネルプレートの製作で使用す
るガラス組成物は、マイクロチャンネルプレートの二次
電子放出性および利得安定度を決定する。かかるマイク
ロチャンネルプレートにおいては、複数の並列マイクロ
チャンネルに入る電子の総数は、複数の電子が二次電子
放出のプロセスによってマイクロチャンネルまたはパス
中で内部的に放出されるように増倍される。各ガラスチ
ャンネルは、それ自体、それに衝突する各電子用のマイ
クロチャンネルを規定する。
るガラス組成物は、マイクロチャンネルプレートの二次
電子放出性および利得安定度を決定する。かかるマイク
ロチャンネルプレートにおいては、複数の並列マイクロ
チャンネルに入る電子の総数は、複数の電子が二次電子
放出のプロセスによってマイクロチャンネルまたはパス
中で内部的に放出されるように増倍される。各ガラスチ
ャンネルは、それ自体、それに衝突する各電子用のマイ
クロチャンネルを規定する。
【００３１】５８〜６８モル％の二酸化ケイ素（ＳｉＯ
２ ）、１０〜１５モル％の酸化鉛（ＰｂＯ）、５．５
〜１６．２モル％を有する酸化バリウム（ＢａＯ）およ
び、０．３〜２．１モル％を有する酸化ビスマス（Ｂｉ
２ Ｏ３ ）、２．０〜３．８モル％程度を有する酸化
ホウ素（Ｂ２ Ｏ３ ）、０．９〜１．２モル％を有す
る酸化アルミニウム（Ａｌ２ Ｏ３ ）および０．０〜
１．９モル％を有する酸化セシウム（Ｃｓ２ Ｏ）の他
の成分を有するガラスから作られ、組み立てられまたは
製作されたマイクロチャンネルプレートは、増大された
二次電子放出性および改善された利得安定度を有するマ
イクロチャンネルを生ずることが、本発明の１つの教示
である。
２ ）、１０〜１５モル％の酸化鉛（ＰｂＯ）、５．５
〜１６．２モル％を有する酸化バリウム（ＢａＯ）およ
び、０．３〜２．１モル％を有する酸化ビスマス（Ｂｉ
２ Ｏ３ ）、２．０〜３．８モル％程度を有する酸化
ホウ素（Ｂ２ Ｏ３ ）、０．９〜１．２モル％を有す
る酸化アルミニウム（Ａｌ２ Ｏ３ ）および０．０〜
１．９モル％を有する酸化セシウム（Ｃｓ２ Ｏ）の他
の成分を有するガラスから作られ、組み立てられまたは
製作されたマイクロチャンネルプレートは、増大された
二次電子放出性および改善された利得安定度を有するマ
イクロチャンネルを生ずることが、本発明の１つの教示
である。
【００３２】動作温度を増大するために、各種の追加成
分を、ガラス組成物に加えて、その二次電子放出性を含
めてガラスの動作温度および他の特性を変えることがで
きる。
分を、ガラス組成物に加えて、その二次電子放出性を含
めてガラスの動作温度および他の特性を変えることがで
きる。
【００３３】好ましくは、本発明のガラス組成物は、転
移温度約５７０℃〜約６１０℃を有する。ガラスは、液
相線温度１０００℃未満を有する。本発明のガラス組成
および性質を有するガラスは、２５℃と３００℃との間
の温度で６３×１０−７／℃〜約８２×１０−７／℃程
度の線熱膨張係数を有する。好ましくは、マイクロチャ
ンネルの水素焼成後、表面伝導率は、約１０１２〜約１
０１３オーム／平方程度であろう。物性は、５５０℃よ
りも高い焼成温度、転移温度（Ｔｇ）約５７０℃〜約６
１０℃およびリトルトン（Ｌｉｔｔｌｅｔｏｎ ）軟化
温度（Ｔ７．６）（ｎが１０７．６ である時には、約
７２０℃〜約７９０℃）を包含するであろう。動作温度
（その温度の時、ｎ＝１０４ ポアズ）は、約９４５℃
〜約１０００℃の範囲内である。
移温度約５７０℃〜約６１０℃を有する。ガラスは、液
相線温度１０００℃未満を有する。本発明のガラス組成
および性質を有するガラスは、２５℃と３００℃との間
の温度で６３×１０−７／℃〜約８２×１０−７／℃程
度の線熱膨張係数を有する。好ましくは、マイクロチャ
ンネルの水素焼成後、表面伝導率は、約１０１２〜約１
０１３オーム／平方程度であろう。物性は、５５０℃よ
りも高い焼成温度、転移温度（Ｔｇ）約５７０℃〜約６
１０℃およびリトルトン（Ｌｉｔｔｌｅｔｏｎ ）軟化
温度（Ｔ７．６）（ｎが１０７．６ である時には、約
７２０℃〜約７９０℃）を包含するであろう。動作温度
（その温度の時、ｎ＝１０４ ポアズ）は、約９４５℃
〜約１０００℃の範囲内である。
【００３４】好ましくは、化学的溶解度は、２０℃の１
０％塩酸溶液中で０．０５ｍｇ／ｃｍ２ ／ｈｒ未満で
ある。
０％塩酸溶液中で０．０５ｍｇ／ｃｍ２ ／ｈｒ未満で
ある。
【００３５】典型的には、好ましい態様における各種の
成分の化学組成範囲は、次の通りである：
チ
ャートＩ
化学組成範囲
モル％
ＳｉＯ２
５８〜６８
Ａｌ２ Ｏ３
０〜２
Ｋ２ Ｏ＋Ｒｂ２ Ｏ＋Ｃｓ２ Ｏ
０〜３ ＰｂＯ
１０〜１５ Ｂｉ２
Ｏ３
０．３〜２．１ ＭｇＯ＋
ＣａＯ＋ＢａＯ １０〜２
０．４ Ｂ２ Ｏ３
０〜４ Ａｓ２ Ｏ３ ＋Ｓ
ｂ２ Ｏ３ ０．１〜１．１
成分の化学組成範囲は、次の通りである：
チ
ャートＩ
化学組成範囲
モル％
ＳｉＯ２
５８〜６８
Ａｌ２ Ｏ３
０〜２
Ｋ２ Ｏ＋Ｒｂ２ Ｏ＋Ｃｓ２ Ｏ
０〜３ ＰｂＯ
１０〜１５ Ｂｉ２
Ｏ３
０．３〜２．１ ＭｇＯ＋
ＣａＯ＋ＢａＯ １０〜２
０．４ Ｂ２ Ｏ３
０〜４ Ａｓ２ Ｏ３ ＋Ｓ
ｂ２ Ｏ３ ０．１〜１．１
【００３６】本発明を実施するための組成物および組成
物の例を下記のチャートＩＩＡおよびＢに示す。
物の例を下記のチャートＩＩＡおよびＢに示す。
【００３７】
チャートＩＩ
ガラス組成物の例
パートＡ成分
例１ 例２
例３ 例４ 例５ ＳｉＯ２
６
８．０ ６６．０ ６３．０ ６３
．８ ６１．０Ａｌ２ Ｏ３
１．０
１．０ １．２ １．２ ０
．９Ｋ２ Ｏ
３．０ １．０
− １．０ − Ｒｂ２ Ｏ
− − −
− ０．５Ｃｓ２ Ｏ
−
０．３ − ０．４
１．３ＰｂＯ
１０．０ １３．０
１３．０ １２．０ １２．０ＢａＯ
８．０ ９．８ １０．０
５．５ １５．４ＣａＯ
５．０
５．０ ５．０ ５．９
− ＭｇＯ
− −
− ５．０ ３．０Ｂｉ２
Ｏ３
２．０ ２．１ ２．１
１．５ １．０Ｂ２ Ｏ３
２．０
２．６ ３．０ ３．５
３．８Ａｓ２ Ｏ３
０．５ −
０．５ − ０．６Ｓ
ｂ２ Ｏ３
０．５ ０．１ ０．２
０．２ ０．５
線熱膨張係数（×１０−７
／℃） ７５ ６９
７０ ６３ ８２ （２５℃〜
３００℃） Ｔｇ
５７８ ５７３ ５９
９ ５７５ ５７６Ｔ７．６
７
４５ ７２８ ７８６ ７５
５ ７２５
チャートＩＩ
ガラス組成物の例
パートＡ成分
例１ 例２
例３ 例４ 例５ ＳｉＯ２
６
８．０ ６６．０ ６３．０ ６３
．８ ６１．０Ａｌ２ Ｏ３
１．０
１．０ １．２ １．２ ０
．９Ｋ２ Ｏ
３．０ １．０
− １．０ − Ｒｂ２ Ｏ
− − −
− ０．５Ｃｓ２ Ｏ
−
０．３ − ０．４
１．３ＰｂＯ
１０．０ １３．０
１３．０ １２．０ １２．０ＢａＯ
８．０ ９．８ １０．０
５．５ １５．４ＣａＯ
５．０
５．０ ５．０ ５．９
− ＭｇＯ
− −
− ５．０ ３．０Ｂｉ２
Ｏ３
２．０ ２．１ ２．１
１．５ １．０Ｂ２ Ｏ３
２．０
２．６ ３．０ ３．５
３．８Ａｓ２ Ｏ３
０．５ −
０．５ − ０．６Ｓ
ｂ２ Ｏ３
０．５ ０．１ ０．２
０．２ ０．５
線熱膨張係数（×１０−７
／℃） ７５ ６９
７０ ６３ ８２ （２５℃〜
３００℃） Ｔｇ
５７８ ５７３ ５９
９ ５７５ ５７６Ｔ７．６
７
４５ ７２８ ７８６ ７５
５ ７２５
【００３８】
チャートＩＩ
パートＢ成分
例６ 例７ 例８ 例９ 例１０ 例１
１ＳｉＯ２
６１．２ ６１．５ ６２．１ ６３
．０ ５８．０ ６１．９Ａｌ２ Ｏ３
０．９
１．２ ０．９ １．１ ２．０
１．１Ｋ２ Ｏ
− −
− − − − Ｒｂ２
Ｏ
０．５ ０．４ ０．５ ０．４
− ０．４Ｃｓ２ Ｏ
１．７ １．
７ １．７ １．２ ０．８ １
．５ＰｂＯ
１２．０ １１．８ １２．０ １
１．４ １５．０ １１．６ＢａＯ
１６．２
１２．０ １２．８ １２．０ ９．５
１２．０ＣａＯ
− ４．２ ３
．０ ４．３ ６．０ ４．１ＭｇＯ
２．５ ２．６ ３．０ ２．２
４．９ ２．７Ｂｉ２ Ｏ３
０．６ ０．
５ ０．３ ０．５ ０．６ ０
．５Ｂ２ Ｏ３
３．８ ３．８ ３．３
３．６ ３．０ ３．９Ａｓ２ Ｏ３
０．
６ ０．２ ０．４ ０．２ −
０．２Ｓｂ２ Ｏ３
０．１ ０．１
− ０．１ ０．２ ０．１
線熱膨張係数（×１０−７／℃） ７７
７８ ７９ ７７ ７４
７６ （２５℃〜３００℃） Ｔｇ
５９０ ５８７ ５８５ ５８
４ ５７３ ５８２Ｔ７．６
７３３
７４１ ７３９ ７５０ ７６２
７４３。
チャートＩＩ
パートＢ成分
例６ 例７ 例８ 例９ 例１０ 例１
１ＳｉＯ２
６１．２ ６１．５ ６２．１ ６３
．０ ５８．０ ６１．９Ａｌ２ Ｏ３
０．９
１．２ ０．９ １．１ ２．０
１．１Ｋ２ Ｏ
− −
− − − − Ｒｂ２
Ｏ
０．５ ０．４ ０．５ ０．４
− ０．４Ｃｓ２ Ｏ
１．７ １．
７ １．７ １．２ ０．８ １
．５ＰｂＯ
１２．０ １１．８ １２．０ １
１．４ １５．０ １１．６ＢａＯ
１６．２
１２．０ １２．８ １２．０ ９．５
１２．０ＣａＯ
− ４．２ ３
．０ ４．３ ６．０ ４．１ＭｇＯ
２．５ ２．６ ３．０ ２．２
４．９ ２．７Ｂｉ２ Ｏ３
０．６ ０．
５ ０．３ ０．５ ０．６ ０
．５Ｂ２ Ｏ３
３．８ ３．８ ３．３
３．６ ３．０ ３．９Ａｓ２ Ｏ３
０．
６ ０．２ ０．４ ０．２ −
０．２Ｓｂ２ Ｏ３
０．１ ０．１
− ０．１ ０．２ ０．１
線熱膨張係数（×１０−７／℃） ７７
７８ ７９ ７７ ７４
７６ （２５℃〜３００℃） Ｔｇ
５９０ ５８７ ５８５ ５８
４ ５７３ ５８２Ｔ７．６
７３３
７４１ ７３９ ７５０ ７６２
７４３。
【００３９】本発明の好ましい態様の組成物を前記表中
例９の欄に提示する。
例９の欄に提示する。
【００４０】前記ガラス組成物で利用する成分は、標準
溶融プラクティスによって特定量の酸化物成分に供給す
るために所定の割合の適当な原料から調製される。
溶融プラクティスによって特定量の酸化物成分に供給す
るために所定の割合の適当な原料から調製される。
【００４１】前記チャートＩＩ（Ｂ）中で例９で表わさ
れる好ましいガラス組成物に加えて、例１〜例８および
例１０および例１１で表される組成物も同様に、マイク
ロチャンネルプレートに製作した時に、改善された二次
電子放出および利得安定度に関して高性能特性を有する
ガラス組成物になる。
れる好ましいガラス組成物に加えて、例１〜例８および
例１０および例１１で表される組成物も同様に、マイク
ロチャンネルプレートに製作した時に、改善された二次
電子放出および利得安定度に関して高性能特性を有する
ガラス組成物になる。
【００４２】前記チャート中の例１〜例１１に記載のガ
ラス組成物は、本質上ガラスに下記モル％範囲内で存在
する下記成分からなるガラス組成物になる。 チャートＩＩＩ 高性能マルチチャンネルプレートを製作するための
ガラス組成物の最小成分 成分 モル％範囲
ＳｉＯ２
５８〜６８ＰｂＯ
１０〜１５Ｂｉ２ Ｏ３
０．３〜２．１Ｂ２ Ｏ３
２．０〜３．８Ａｌ２ Ｏ３ ０．９
〜１．２ＢａＯ ５．５〜１６
．２Ｃｓ２ Ｏ ０．０〜１．９
ラス組成物は、本質上ガラスに下記モル％範囲内で存在
する下記成分からなるガラス組成物になる。 チャートＩＩＩ 高性能マルチチャンネルプレートを製作するための
ガラス組成物の最小成分 成分 モル％範囲
ＳｉＯ２
５８〜６８ＰｂＯ
１０〜１５Ｂｉ２ Ｏ３
０．３〜２．１Ｂ２ Ｏ３
２．０〜３．８Ａｌ２ Ｏ３ ０．９
〜１．２ＢａＯ ５．５〜１６
．２Ｃｓ２ Ｏ ０．０〜１．９
【
００４３】図１のグラフは、温度（℃単位）の関数とし
てプロットした粘度〔ｌｏｇ ｎ（ポアズ）〕のプロッ
トである。実線２０は、前記チャートＩＩＢ中の例１１
である。粘度−温度曲線は、同じ組成のガラスの３種の
異なる溶融物を使用して測定した粘度の各種の測定値に
基づく。粘度−温度曲線２０は、それ自体、本発明のガ
ラス組成物の所望の特性を示す。ガラス組成物の好まし
い態様は、図示の例９である。例９の粘度−温度曲線を
点線２２で示す。
００４３】図１のグラフは、温度（℃単位）の関数とし
てプロットした粘度〔ｌｏｇ ｎ（ポアズ）〕のプロッ
トである。実線２０は、前記チャートＩＩＢ中の例１１
である。粘度−温度曲線は、同じ組成のガラスの３種の
異なる溶融物を使用して測定した粘度の各種の測定値に
基づく。粘度−温度曲線２０は、それ自体、本発明のガ
ラス組成物の所望の特性を示す。ガラス組成物の好まし
い態様は、図示の例９である。例９の粘度−温度曲線を
点線２２で示す。
【００４４】例９および１１の粘度−温度曲線に基づい
て、液相線温度段階での粘度は、１０４ 未満であるこ
とが容易に明らかである。５５０℃よりも高い焼成温度
においては、ガラスの粘度は、１０１３ポアズをはるか
に超える。リトルトン軟化点（Ｔ７．６ ）においては
、温度は、約７２０℃〜約７９０℃の範囲内である。動
作温度約９４５℃〜約１０００℃においては、ガラスの
粘度は、約１０３ 〜約１０５ ポアズの範囲内である
。
て、液相線温度段階での粘度は、１０４ 未満であるこ
とが容易に明らかである。５５０℃よりも高い焼成温度
においては、ガラスの粘度は、１０１３ポアズをはるか
に超える。リトルトン軟化点（Ｔ７．６ ）においては
、温度は、約７２０℃〜約７９０℃の範囲内である。動
作温度約９４５℃〜約１０００℃においては、ガラスの
粘度は、約１０３ 〜約１０５ ポアズの範囲内である
。
【００４５】図２の透視図は、本発明のガラス組成物か
ら形成される一般に２８で示されるガラスクラッド管を
示す。ガラスクラッド管２８は、末端３０および３２で
示される２個の末端を有する。ガラスクラッド管は、形
状が円筒であり且つ中空中心領域３４および内面３６を
有する。中空中心領域３４の断面形状は、好ましくは断
面が円形である。また、ガラスクラッド管２８の外面４
０は、円形である。外面４０および中空中心領域３４は
、それ自体、中空ガラス管２８を形成するために厚い壁
３８を規定する。中空中心領域３４は、ガラス管２８の
中心を通して軸方向に延出している。
ら形成される一般に２８で示されるガラスクラッド管を
示す。ガラスクラッド管２８は、末端３０および３２で
示される２個の末端を有する。ガラスクラッド管は、形
状が円筒であり且つ中空中心領域３４および内面３６を
有する。中空中心領域３４の断面形状は、好ましくは断
面が円形である。また、ガラスクラッド管２８の外面４
０は、円形である。外面４０および中空中心領域３４は
、それ自体、中空ガラス管２８を形成するために厚い壁
３８を規定する。中空中心領域３４は、ガラス管２８の
中心を通して軸方向に延出している。
【００４６】図３は、一般に４６で示すコアガラス棒の
透視図である。ガラス棒４６は、化学的にエッチングす
ることができる数種の既知のガラスコア組成物のいずれ
か１つから形成できる。相容性コアガラスの数例は、下
記組成を有することができる ：
チャートＩＶ
コアガラス例
モル％
例Ａ 例Ｂ
例Ｃ 例Ｄ ＳｉＯ
２ ３５．０
３５．１ ４２．１
３９．３ Ｂ２ Ｏ３
２６．１ ２６．１
２２．７ ２６．１ Ｃ
ａＯ −
６．５ −
− Ｂ２ Ｏ
２７．３ ２０．９
３１．２ ２４．６
ＺｎＯ
− − −
２．６ Ｙ２ Ｏ３
−
− １．２ １．４
Ｒｅ２ Ｏ３ ★
１０．４ １０．４ ２．３
５．７ Ａｓ２ Ｏ３
０．６ ０
．５ − −
Ｓｂ２ Ｏ３
０．６ ０．６ ０．５
０．４ ★Ｒｅ２ Ｏ３ は適当な例で明記のようなランタン族
希土類酸化物の１種以上を意味する。
透視図である。ガラス棒４６は、化学的にエッチングす
ることができる数種の既知のガラスコア組成物のいずれ
か１つから形成できる。相容性コアガラスの数例は、下
記組成を有することができる ：
チャートＩＶ
コアガラス例
モル％
例Ａ 例Ｂ
例Ｃ 例Ｄ ＳｉＯ
２ ３５．０
３５．１ ４２．１
３９．３ Ｂ２ Ｏ３
２６．１ ２６．１
２２．７ ２６．１ Ｃ
ａＯ −
６．５ −
− Ｂ２ Ｏ
２７．３ ２０．９
３１．２ ２４．６
ＺｎＯ
− − −
２．６ Ｙ２ Ｏ３
−
− １．２ １．４
Ｒｅ２ Ｏ３ ★
１０．４ １０．４ ２．３
５．７ Ａｓ２ Ｏ３
０．６ ０
．５ − −
Ｓｂ２ Ｏ３
０．６ ０．６ ０．５
０．４ ★Ｒｅ２ Ｏ３ は適当な例で明記のようなランタン族
希土類酸化物の１種以上を意味する。
【００４７】これらのガラスコア組成物は、優秀なエッ
チング特性を有し且つガラスクラッド管２８に使用した
ガラス組成物と実質上同じ線熱膨張係数を有する。
チング特性を有し且つガラスクラッド管２８に使用した
ガラス組成物と実質上同じ線熱膨張係数を有する。
【００４８】高性能マイクロチャンネルプレートを製作
する際に使用するためのコアガラス用ガラス組成物は、
本質上下記組成（モル％範囲）
チャートＶ
コアガラス範囲
モル％
ＳｉＯ２
３５〜４３
Ｂ２ Ｏ３ ２２〜２８
ＣａＯ
０〜６．５
ＢａＯ
２０〜３２
ＺｎＯ ０〜
３ Ｙ２ Ｏ
３ ０〜１．４
Ａｓ２ Ｏ３
０．５〜０．６
Ｓｂ２ Ｏ３ ０．
４〜０．６
Ｒｅ２ Ｏ３ ２．３〜１０．４から
なり、Ｒｅ２ Ｏ３ はランタン族希土類酸化物の１種
以上からなり、その合計モル％はＲｅ２ Ｏ３ の場合
の前記のモル％範囲内である。
する際に使用するためのコアガラス用ガラス組成物は、
本質上下記組成（モル％範囲）
チャートＶ
コアガラス範囲
モル％
ＳｉＯ２
３５〜４３
Ｂ２ Ｏ３ ２２〜２８
ＣａＯ
０〜６．５
ＢａＯ
２０〜３２
ＺｎＯ ０〜
３ Ｙ２ Ｏ
３ ０〜１．４
Ａｓ２ Ｏ３
０．５〜０．６
Ｓｂ２ Ｏ３ ０．
４〜０．６
Ｒｅ２ Ｏ３ ２．３〜１０．４から
なり、Ｒｅ２ Ｏ３ はランタン族希土類酸化物の１種
以上からなり、その合計モル％はＲｅ２ Ｏ３ の場合
の前記のモル％範囲内である。
【００４９】コアガラス棒４６は、中実端５０によって
示すように断面が中実である。外面４８によって規定さ
れるガラス棒４６の外部形状は、一般に断面が円形であ
る。ガラス棒４６の直径は、図２のガラス管２８で規定
のように中空中心領域３４の直径よりも小さい。図２は
、中空中心領域３４が図３のガラス棒の外面４８から離
間するであろう内面３６を規定することを示す。
示すように断面が中実である。外面４８によって規定さ
れるガラス棒４６の外部形状は、一般に断面が円形であ
る。ガラス棒４６の直径は、図２のガラス管２８で規定
のように中空中心領域３４の直径よりも小さい。図２は
、中空中心領域３４が図３のガラス棒の外面４８から離
間するであろう内面３６を規定することを示す。
【００５０】図４は、ガラスクラッド管２８の断面の詳
細を示す図２の断面線４−４に沿って取られた断面図で
ある。ガラスクラッド管２８は、外面４０、中空中心領
域３４、内面３６および厚い壁３８を有する。
細を示す図２の断面線４−４に沿って取られた断面図で
ある。ガラスクラッド管２８は、外面４０、中空中心領
域３４、内面３６および厚い壁３８を有する。
【００５１】図５は、ガラス棒４６の断面５０が断面円
形であり且つ外面４８を有することを示す図３の断面線
５−５に沿って取られた断面図である。
形であり且つ外面４８を有することを示す図３の断面線
５−５に沿って取られた断面図である。
【００５２】図６は、図２のガラスクラッド管２８の中
空中心領域３４に挿入された図３のコアガラス棒４６の
絵画断面図である。図６は、ガラス棒４６の外面４８が
ガラスクラッド管２８の厚い壁３８の内面３６から所定
距離離間されていることを図示する。それらの間の距離
は、空間６０と称され且つガラスクラッド管２８の内部
内にガラス棒４６の相対移動を可能にするための手段を
与える。その間隔の幅は、約０．００１インチ（約０．
０２５４ｍｍ）〜約０．０１０インチ（約０．２５４ｍ
ｍ）程度であることができる。間隔幅は、多数の因子、
例えば、ガラス棒４６の湾曲部、ガラスクラッド管２８
の中空中心領域３４の公差などによって決定される。
空中心領域３４に挿入された図３のコアガラス棒４６の
絵画断面図である。図６は、ガラス棒４６の外面４８が
ガラスクラッド管２８の厚い壁３８の内面３６から所定
距離離間されていることを図示する。それらの間の距離
は、空間６０と称され且つガラスクラッド管２８の内部
内にガラス棒４６の相対移動を可能にするための手段を
与える。その間隔の幅は、約０．００１インチ（約０．
０２５４ｍｍ）〜約０．０１０インチ（約０．２５４ｍ
ｍ）程度であることができる。間隔幅は、多数の因子、
例えば、ガラス棒４６の湾曲部、ガラスクラッド管２８
の中空中心領域３４の公差などによって決定される。
【００５３】図７は、ガラスクラッド管２８とガラス棒
４６との間の関係を示す絵画断面図である。その組み合
わせは、クラッド／コアガラス組立体５２と称する。典
型的には、ガラスクラッド管２８およびガラス棒４６は
、透明ガラスから作り、ガラス棒４６のガラス組成物は
適当なエッチング液によって化学エッチングを受けやす
い。
４６との間の関係を示す絵画断面図である。その組み合
わせは、クラッド／コアガラス組立体５２と称する。典
型的には、ガラスクラッド管２８およびガラス棒４６は
、透明ガラスから作り、ガラス棒４６のガラス組成物は
適当なエッチング液によって化学エッチングを受けやす
い。
【００５４】マイクロチャンネルプレートを製作する際
に利用する出発繊維プレフォームを製造するためには、
クラッド／コアガラス組立体５２を、図８に図示する加
熱炉の絵画図に従ってガラス繊維に延伸する。
に利用する出発繊維プレフォームを製造するためには、
クラッド／コアガラス組立体５２を、図８に図示する加
熱炉の絵画図に従ってガラス繊維に延伸する。
【００５５】ガラス繊維を形成するためには、クラッド
／コアガラス組立体５２を、炉５６に下方向にゆっくり
と供給する。図８中、コアガラス組立体５２は、サブア
センブリー５２を支持し炉５６に下方向に輸送するため
にホルダー５４をその上部に有する。図８の例において
は、炉５６は、入力端子６４を通して電気エネルギーを
印加することによって加熱する加熱コイル５８を包含す
る。炉５６内の加熱コイル５８は、点６２でクラッド／
コアガラス組立体５２の下端を加熱する。サブアセンブ
リーを下方向に供給すると、ガラスは、粘性流れを開始
する。ガラスは、粘性流れを示して、図８に図示するよ
うな円錐６６を形成する。
／コアガラス組立体５２を、炉５６に下方向にゆっくり
と供給する。図８中、コアガラス組立体５２は、サブア
センブリー５２を支持し炉５６に下方向に輸送するため
にホルダー５４をその上部に有する。図８の例において
は、炉５６は、入力端子６４を通して電気エネルギーを
印加することによって加熱する加熱コイル５８を包含す
る。炉５６内の加熱コイル５８は、点６２でクラッド／
コアガラス組立体５２の下端を加熱する。サブアセンブ
リーを下方向に供給すると、ガラスは、粘性流れを開始
する。ガラスは、粘性流れを示して、図８に図示するよ
うな円錐６６を形成する。
【００５６】図８中、ガラス溶融は、ガラス棒を円錐６
６から成形するか引き、棒を炉５６の底を過ぎて延出す
ることによって開始し、そこで棒は次いで硬化し始める
。棒を取り出し、次いで、ガラスを下方向に延伸してガ
ラス繊維６８を形成する。繊維６８を、粘稠円錐６６か
ら連続的に引き取る。
６から成形するか引き、棒を炉５６の底を過ぎて延出す
ることによって開始し、そこで棒は次いで硬化し始める
。棒を取り出し、次いで、ガラスを下方向に延伸してガ
ラス繊維６８を形成する。繊維６８を、粘稠円錐６６か
ら連続的に引き取る。
【００５７】クラッド／コアガラスサブアセンブリー５
２は、その下端が一定の温度で連続的に加熱され維持さ
れるように炉にゆっくりと供給する。ガラス繊維６８は
、連続的に加熱されたサブアセンブリーを連続速度で引
き取って、均一な直径の繊維に形成する。更に、クラッ
ド管およびガラスコアは、繊維が融解外部コーティング
を有する中実中心コアからなるように一緒に融解される
。中心コアは、外部コアと同様に均一な直径を有し且つ
外部コアは破壊、亀裂などなしに完全に被覆される。
２は、その下端が一定の温度で連続的に加熱され維持さ
れるように炉にゆっくりと供給する。ガラス繊維６８は
、連続的に加熱されたサブアセンブリーを連続速度で引
き取って、均一な直径の繊維に形成する。更に、クラッ
ド管およびガラスコアは、繊維が融解外部コーティング
を有する中実中心コアからなるように一緒に融解される
。中心コアは、外部コアと同様に均一な直径を有し且つ
外部コアは破壊、亀裂などなしに完全に被覆される。
【００５８】図９は、マルチ繊維組立体に成形された６
８で示す複数の延伸繊維６８の絵画図である。図９に図
示のように、繊維は、例えば、４，０００対１程度の所
望の大きさに縮小された個々の円柱棒である。各繊維６
８は、外周がガラスクラッド層によって囲まれたガラス
コアを包含する。
８で示す複数の延伸繊維６８の絵画図である。図９に図
示のように、繊維は、例えば、４，０００対１程度の所
望の大きさに縮小された個々の円柱棒である。各繊維６
８は、外周がガラスクラッド層によって囲まれたガラス
コアを包含する。
【００５９】前記のように、繊維６８の各々のコアは、
マイクロチャンネルプレートを形成するために爾後の加
工時にコアガラスを除去できるような適当なエッチング
液中でコアガラスがエッチングできるような材料から作
る。ガラスクラッド管は、ガラスコアの軟化温度と実質
上同じ軟化温度を有するガラス組成物から作る。典型的
には、クラッド管のガラス材料は、ガラスクラッド管が
コアガラス材料をエッチングするのに使用する条件下で
非エッチング性にさせるより高い鉛含量を有する点で、
コアガラスのガラス材料とは異なる。クラッド管は、そ
れ自体、ガラスコアの化学エッチング後に残り、且つク
ラッドガラスの中空中心領域内に規定される化学的およ
び熱的処理チャンネルの形態で電子用通路を規定する手
段となる。
マイクロチャンネルプレートを形成するために爾後の加
工時にコアガラスを除去できるような適当なエッチング
液中でコアガラスがエッチングできるような材料から作
る。ガラスクラッド管は、ガラスコアの軟化温度と実質
上同じ軟化温度を有するガラス組成物から作る。典型的
には、クラッド管のガラス材料は、ガラスクラッド管が
コアガラス材料をエッチングするのに使用する条件下で
非エッチング性にさせるより高い鉛含量を有する点で、
コアガラスのガラス材料とは異なる。クラッド管は、そ
れ自体、ガラスコアの化学エッチング後に残り、且つク
ラッドガラスの中空中心領域内に規定される化学的およ
び熱的処理チャンネルの形態で電子用通路を規定する手
段となる。
【００６０】図９に図示の数千の繊維６８を、単一繊維
の長さに切断し、次いで、これらの単一繊維を一緒に締
結し、次いで、ガラスの適当な延伸温度で加熱延伸して
、図１０に図示の六角形アレイ７０を形成する。
の長さに切断し、次いで、これらの単一繊維を一緒に締
結し、次いで、ガラスの適当な延伸温度で加熱延伸して
、図１０に図示の六角形アレイ７０を形成する。
【００６１】複数の六角形アレイ７０（各々は数千の単
一繊維を有する）は、マルチ組立体に組み立てる。マル
チ組立体は、環状外部リング内で六角形の形状を維持す
るように、炉中で適当な温度において一緒に融解する。 融解されたマルチ組立体は、最後に個々のウェーハに切
断して、マイクロチャンネルプレート８０を形成する。
一繊維を有する）は、マルチ組立体に組み立てる。マル
チ組立体は、環状外部リング内で六角形の形状を維持す
るように、炉中で適当な温度において一緒に融解する。 融解されたマルチ組立体は、最後に個々のウェーハに切
断して、マイクロチャンネルプレート８０を形成する。
【００６２】図１１は、マルチチャンネルプレートを形
成するのに利用される、その中に複数のマルチ組立体７
０を有するウェーハ８０の絵画図である。その後、ウェ
ーハは、更に他の加工に付して、マイクロチャンネルに
形成する。
成するのに利用される、その中に複数のマルチ組立体７
０を有するウェーハ８０の絵画図である。その後、ウェ
ーハは、更に他の加工に付して、マイクロチャンネルに
形成する。
【００６３】図１２に図示のように、マイクロチャンネ
ルは、コアガラスを領域７６から化学的にエッチングす
ることにより、好ましくは希薄酸でエッチングすること
により形成する。エッチング後、クラッドガラス７４は
残って、図１３に図示のマイクロチャンネルを形成する
。また、クラッドガラス７４は、中実のままであり且つ
図１１に図示のウェーハ８０用の機械的支持を与える。
ルは、コアガラスを領域７６から化学的にエッチングす
ることにより、好ましくは希薄酸でエッチングすること
により形成する。エッチング後、クラッドガラス７４は
残って、図１３に図示のマイクロチャンネルを形成する
。また、クラッドガラス７４は、中実のままであり且つ
図１１に図示のウェーハ８０用の機械的支持を与える。
【００６４】エッチング後、マイクロチャンネルプレー
トは、水素ガスの雰囲気中で熱処理し、それによって酸
化鉛などの或る還元性酸化物は還元されて、クラッド管
チャンネル内面を電子伝導性にさせる。このようにして
、半導体層が、ガラスクラッド内面の各々において形成
され、且つ後者はマイクロチャンネル７６を規定する表
面から内方に延出する。
トは、水素ガスの雰囲気中で熱処理し、それによって酸
化鉛などの或る還元性酸化物は還元されて、クラッド管
チャンネル内面を電子伝導性にさせる。このようにして
、半導体層が、ガラスクラッド内面の各々において形成
され、且つ後者はマイクロチャンネル７６を規定する表
面から内方に延出する。
【００６５】図１３は、二次電子放出を受けやすい内面
を作るために化学的および熱的に処理された内面を有す
るマイクロチャンネル７６の絵画図である。電子ｅ−
がマイクロチャンネル７６に入る時には、電子ｅ− は
、二次電子放出性内面と衝突して、他の電子、例えば、
線８０によって示す電子を生じて、二次電子放出表面か
ら放出される。第一衝突によって放出された電子ｅ−
は、二次電子放出性表面と再度衝突して、線８４によっ
て示す追加の電子を生じ、その結果マイクロチャンネル
７６を通して輸送する時に電子ｅ− の増幅を生ずる。 電子ｅ− は、増幅されて、図１３の８６で示すＮｅ−
電子の形態で放出される電子によって示されるような
Ｎｅ− を生ずる。
を作るために化学的および熱的に処理された内面を有す
るマイクロチャンネル７６の絵画図である。電子ｅ−
がマイクロチャンネル７６に入る時には、電子ｅ− は
、二次電子放出性内面と衝突して、他の電子、例えば、
線８０によって示す電子を生じて、二次電子放出表面か
ら放出される。第一衝突によって放出された電子ｅ−
は、二次電子放出性表面と再度衝突して、線８４によっ
て示す追加の電子を生じ、その結果マイクロチャンネル
７６を通して輸送する時に電子ｅ− の増幅を生ずる。 電子ｅ− は、増幅されて、図１３の８６で示すＮｅ−
電子の形態で放出される電子によって示されるような
Ｎｅ− を生ずる。
【００６６】マイクロチャンネルプレートは、各種の応
用、例えば、荷電粒子の検出、ＵＶ光子検出、Ｘ線およ
びイオン検出およびナイトビジョンガラスの応用に使用
できることが意図される。
用、例えば、荷電粒子の検出、ＵＶ光子検出、Ｘ線およ
びイオン検出およびナイトビジョンガラスの応用に使用
できることが意図される。
【図１】ガラスの２個の試料（その１つはガラス試料の
数種の分析に基づく）の場合の温度（℃）の関数として
プロットした粘度〔ｌｏｇ （ポアズ）〕のプロットを
示すグラフである。
数種の分析に基づく）の場合の温度（℃）の関数として
プロットした粘度〔ｌｏｇ （ポアズ）〕のプロットを
示すグラフである。
【図２】本発明のガラス組成物から形成されたガラスク
ラッド管の透視図である。
ラッド管の透視図である。
【図３】ガラスクラッドチュービングと併用するために
作られたコアガラス棒の透視図である。
作られたコアガラス棒の透視図である。
【図４】図２の断面線４−４に沿って取られた断面図で
ある。
ある。
【図５】図３の断面線５−５に沿って取られた断面図で
ある。
ある。
【図６】図２のガラスクラッド管の中空中心領域に挿入
された図３のコアガラス棒の絵画断面図である。
された図３のコアガラス棒の絵画断面図である。
【図７】クラッド／コアガラス組立体を形成するガラス
クラッド管とコアガラスとそれらの間の間隔との関係を
示す絵画断面図である。
クラッド管とコアガラスとそれらの間の間隔との関係を
示す絵画断面図である。
【図８】ガラス繊維を図７のガラスクラッド／コアガラ
ス組立体から作るために利用する加熱炉の絵画図である
。
ス組立体から作るために利用する加熱炉の絵画図である
。
【図９】繊維束に成形される複数の単一繊維の絵画図で
ある。
ある。
【図１０】図９に図示するガラス繊維から作られる多繊
維形態の絵画図である。
維形態の絵画図である。
【図１１】図１０に図示する多繊維形態から形成される
マルチチャンネルプレートの絵画図である。
マルチチャンネルプレートの絵画図である。
【図１２】コアガラスがパスまたはマイクロチャンネル
を形成するために除去されている図１１に図示のマイク
ロチャンネルプレートに形成された複数のマイクロチャ
ンネルの絵画図である。
を形成するために除去されている図１１に図示のマイク
ロチャンネルプレートに形成された複数のマイクロチャ
ンネルの絵画図である。
【図１３】放出材料を調製するためにその内面が化学的
および熱的に処理され、且つそれによって受け取られた
電子（ｅ− ）がマイクロチャンネルを通して輸送され
て出力として複数の「Ｎ」電子（Ｎｅ− ）を生ずる単
一のマイクロチャンネルの絵画図である。
および熱的に処理され、且つそれによって受け取られた
電子（ｅ− ）がマイクロチャンネルを通して輸送され
て出力として複数の「Ｎ」電子（Ｎｅ− ）を生ずる単
一のマイクロチャンネルの絵画図である。
２８ ガラスクラッド管
３４ 中空中心領域
４０ 外面
４６ コアガラス棒
７６ マイクロチャンネル
８０ マイクロチャンネルプレート
Claims (45)
- 【請求項１】本質上ガラスに下記モル％範囲内で存在す
る下記成分 ＳｉＯ２
５８〜
６８ ＰｂＯ
１
０〜１５ Ｂｉ２ Ｏ３
０．３〜２．１ Ｂ２ Ｏ３
２．０〜３．８
Ａｌ２ Ｏ３
０．９〜１．２
ＢａＯ
５．５
〜１６．２ Ｃｓ２ Ｏ
０．０〜１．９からなることを特徴とするガラ
ス組成物。 - 【請求項２】ＭｇＯおよびＣａＯからなる群から選ばれ
る少なくとも１種の成分を更に含有し、それとＢａＯと
の合計量がガラスに１０〜２０．４モル％で存在する、
請求項１に記載のガラス組成物。 - 【請求項３】Ｒｂ２ ＯおよびＫ２ Ｏからなる群から
選ばれる少なくとも１種の化合物を更に含有し、それと
Ｃｓ２ Ｏとの合計がガラスに０〜３モル％で存在する
、請求項１に記載のガラス組成物。 - 【請求項４】成分Ｓｂ２ Ｏ３ およびＡｓ２ Ｏ３
が、ガラスに０．１〜１．１モル％で存在する、請求項
１に記載のガラス組成物。 - 【請求項５】ガラスに０〜０．５モル％で存在するＳｂ
２ Ｏ３ を更に含有する、請求項１に記載のガラス組
成物。 - 【請求項６】ガラスに０〜０．６モル％で存在するＡｓ
２ Ｏ３ を更に含有する、請求項１に記載のガラス組
成物。 - 【請求項７】ガラスに０〜０．５モル％で存在するＲｂ
２ Ｏを更に含有する、請求項２に記載のガラス組成物
。 - 【請求項８】ガラスに０〜３．０モル％で存在するＫ２
Ｏを更に含有する、請求項７に記載のガラス組成物。 - 【請求項９】成分Ｃｓ２ Ｏ、Ｒｂ２ ＯおよびＫ２
Ｏが、ガラスに０〜３モル％で存在する、請求項８に記
載のガラス組成物。 - 【請求項１０】本質上下記組成（モル％範囲内）
ＳｉＯ２
５８．０〜６８．０
ＰｂＯ
１０．０〜１５．
０ Ｂｉ２ Ｏ３
０．３〜
２．１ Ｂ２ Ｏ３
２
．０〜３．８ Ａｌ２ Ｏ３
０．９〜１．２ ＢａＯ
５．５〜１６．２ Ｃｓ２
Ｏ
０．０〜１．９からなることを特徴とする
、高性能マイクロチャンネルプレートを製作するための
ガラス組成物。 - 【請求項１１】ガラスが、大体下記組成（モル％）Ｓｉ
Ｏ２
６３．０ＰｂＯ
１１．４Ｂｉ２
Ｏ３
０．５Ｂ２ Ｏ３
３．６Ａ
ｌ２ Ｏ３
１．１ＢａＯ
１２．０Ｃ
ｓ２ Ｏ
１．２Ｓｂ２ Ｏ３
０．１
Ａｓ２ Ｏ３
０．２Ｒｂ２ Ｏ
０．
４ＣａＯ
４．３ＭｇＯ
２
．２からなる、請求項１０に記載のガラス組成物。 - 【請求項１２】ガラスが、大体下記組成（モル％）Ｓｉ
Ｏ２
６２．１ＰｂＯ
１２．０Ｂｉ２
Ｏ３
０．３Ｂ２ Ｏ３
３．３Ａ
ｌ２ Ｏ３
０．９ＢａＯ
１２．８Ｃ
ｓ２ Ｏ
１．７Ｓｂ２ Ｏ３
０．１
Ａｓ２ Ｏ３
０．４Ｒｂ２ Ｏ
０．
５ＣａＯ
３．０ＭｇＯ
３
．０からなる、請求項１０に記載のガラス組成物。 - 【請求項１３】本質上ガラス中の下記モル％範囲内の下
記成分 ＳｉＯ２
５８〜
６８ ＰｂＯ
１
０〜１５ Ｂｉ２ Ｏ３
０
．３〜２．１ Ｂ２ Ｏ３
２．０〜３．８ Ａｌ２ Ｏ３
０．９〜１．２ ＢａＯ
５．５〜１６．２ Ｃ
ｓ２ Ｏ
０．０〜１．９からなることを特徴
とする、ガラス組成物から作られたマイクロチャンネル
プレート。 - 【請求項１４】ガラス組成物が、ＭｇＯおよびＣａＯか
らなる群から選ばれる少なくとも１種の成分を更に含有
し、それとＢａＯとの合計量がガラスに１０〜２０．４
モル％で存在する、請求項１３に記載のマイクロチャン
ネルプレート。 - 【請求項１５】ガラス組成物が、Ｒｂ２ ＯおよびＫ２
Ｏからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物を
更に含有し、それとＣｓ２Ｏとの合計がガラスに０〜３
モル％で存在する、請求項１３に記載のマイクロチャン
ネルプレート。 - 【請求項１６】ガラス組成物が、成分Ｓｂ２ Ｏ３ お
よびＡｓ２ Ｏ３ をガラスに０．１〜１．１モル％で
更に含有する、請求項１３に記載のマイクロチャンネル
プレート。 - 【請求項１７】ガラス組成物が、ガラスに０〜０．５モ
ル％で存在するＳｂ２ Ｏ３ を更に含有する、請求項
１３に記載のマイクロチャンネルプレート。 - 【請求項１８】ガラス組成物が、ガラスに０〜０．６モ
ル％で存在するＡｓ２ Ｏ３ を更に含有する、請求項
１３に記載のマイクロチャンネルプレート。 - 【請求項１９】ガラス組成物が、ガラスに０〜０．５モ
ル％で存在するＲｂ２ Ｏを更に含有する、請求項１４
に記載のマイクロチャンネルプレート。 - 【請求項２０】ガラス組成物が、ガラスに０〜３．０モ
ル％で存在するＫ２Ｏを更に含有する、請求項１９に記
載のマイクロチャンネルプレート。 - 【請求項２１】成分Ｃｓ２ Ｏ、Ｒｂ２ ＯおよびＫ２
Ｏが、ガラスに０〜３．０モル％で存在する、請求項
２０に記載のマイクロチャンネルプレート。 - 【請求項２２】本質上ガラス中の下記モル％範囲内の下
記成分 ＳｉＯ２
５８〜
６８ ＰｂＯ
１
０〜１５ Ｂｉ２ Ｏ３
０
．３〜２．１ Ｂ２ Ｏ３
２．０〜３．８ Ａｌ２ Ｏ３
０．９〜１．２ ＭｇＯ＋
ＣａＯ＋ＢａＯ
１０〜２０．４ Ｃｓ２ Ｏ
０．０〜１．９ Ａｓ２ Ｏ３
＋Ｓｂ２ Ｏ３
０．１〜１．１からなることを特徴とする、ガラス組成
物から作られたマイクロチャンネルプレート。 - 【請求項２３】ガラスが、本質上下記組成（モル％）Ｓ
ｉＯ２
６３．０ＰｂＯ
１１．４Ｂｉ
２ Ｏ３
０．５Ｂ２ Ｏ３
３．６
Ａｌ２ Ｏ３
１．１ＢａＯ
１２．０
Ｃｓ２ Ｏ
１．２からなる、請求項２２に記
載のマイクロチャンネルプレート。 - 【請求項２４】液相線温度１０００℃未満および本質上
ガラスに下記モル％範囲内で存在する下記成分
ＳｉＯ２
５８〜６８
ＰｂＯ
１０〜１５
Ｂｉ２ Ｏ３
０．３〜２
．１ Ｂ２ Ｏ３
２．
０〜３．８ Ａｌ２ Ｏ３
０．９〜１．２ ＢａＯ
５．５〜１６．２ Ｃｓ２ Ｏ
０．０〜１．９からなる組成を有する熱安定
性ガラス溶融物（ＳｉＯ２ ＋ＰｂＯ＋ＢａＯの合計モ
ル％は少なくとも７８である）を調製し、ガラスチュー
ビングを前記ガラスから成形し造形し、その後、前記ガ
ラスチュービングを、ガラスの徐冷温度と少なくとも同
じ位である初期温度範囲内で、徐冷された細長いガラス
チュービングを製造するのに十分な時間熱的に徐冷する
（前記ガラスチュービングは２５℃と３００℃との間の
温度で平均線熱膨張係数約６３×１０−７／℃〜約８２
×１０−７／℃を有する）ことを特徴とする、約５７０
℃〜約６１０℃の範囲内の転移温度を有する中空中心領
域を具備する非孔質ガラスチュービングの製法。 - 【請求項２５】ガラス管を成形し造形する工程が、ガラ
ス管を前記ガラスから押出す工程を包含する、請求項２
４に記載の方法。 - 【請求項２６】ガラス管を成形し造形する工程が、チュ
ービングの中空中心領域を成形し造形して円形断面を有
するようにする工程を包含する、請求項２４に記載の方
法。 - 【請求項２７】ガラスチュービングが外面を有し且つ成
形し造形する工程がチュービングの外面を円形断面に成
形し造形して、所定の壁厚を有する細長い円筒状管を規
定することを包含する、請求項２６に記載の方法。 - 【請求項２８】細長い円筒状管を所定の軸方向長物に切
断する工程を更に具備する、請求項２７に記載の方法。 - 【請求項２９】約５７０℃〜約６１０℃の範囲内の転移
温度および液相線温度１０００℃未満を有する中空中心
領域を具備する造形非孔質ガラスチュービングであって
、前記ガラスはガラスに下記モル％で存在する下記成分 ＳｉＯ２
５８〜
６８ ＰｂＯ
１
０〜１５ Ｂｉ２ Ｏ３
０
．３〜２．１ Ｂ２ Ｏ３
２．０〜３．８ Ａｌ２ Ｏ３
０．９〜１．２ ＢａＯ
５．５〜１６．２ Ｃ
ｓ２ Ｏ
０．０〜１．９からなる組成を有し
、ＳｉＯ２ ＋ＰｂＯ＋ＢａＯの合計モル％は少なくと
も７８であり且つ前記ガラスチュービングは２５℃と３
００℃との間の温度で平均線熱膨張係数約６３×１０−
７／℃〜約８２×１０−７／℃を有することを特徴とす
る造形非孔質ガラスチュービング。 - 【請求項３０】ＭｇＯおよびＣａＯからなる群から選ば
れる少なくとも１種の成分を更に含有し、それとＢａＯ
との合計量がガラスに１０〜２０．４モル％で存在する
、請求項２９に記載のガラス組成物。 - 【請求項３１】Ｒｂ２ ＯおよびＫ２ Ｏからなる群か
ら選ばれる少なくとも１種の化合物を更に含有し、それ
とＣｓ２ Ｏとの合計がガラスに０〜３モル％で存在す
る、請求項２９に記載のガラス組成物。 - 【請求項３２】成分Ｓｂ２ Ｏ３ およびＡｓ２ Ｏ３
が、ガラスに０．１〜１．１モル％で存在する、請求
項２９に記載のガラス組成物。 - 【請求項３３】ガラスに０〜０．５モル％で存在するＳ
ｂ２ Ｏ３を更に含有する、請求項２９に記載のガラス
組成物。 - 【請求項３４】ガラスに０〜０．６モル％で存在するＡ
ｓ２ Ｏ３を更に含有する、請求項２９に記載のガラス
組成物。 - 【請求項３５】ガラスに０〜０．５モル％で存在するＲ
ｂ２ Ｏを更に含有する、請求項３０に記載のガラス組
成物。 - 【請求項３６】ガラスに０〜３．０モル％で存在するＫ
２ Ｏを更に含有する、請求項３５に記載のガラス組成
物。 - 【請求項３７】成分Ｃｓ２ Ｏ、Ｒｂ２ ＯおよびＫ２
Ｏが、ガラスに０〜３モル％で存在する、請求項８に
記載のガラス組成物。 - 【請求項３８】本質上ガラスに下記モル％範囲内で存在
する下記成分 ＳｉＯ２
３５〜４３
Ｂ２ Ｏ３
２２〜２
８ ＣａＯ
０〜
６．５ ＢａＯ
２０
〜３２ ＺｎＯ
０〜３ Ｙ２ Ｏ３
０〜１．４ Ａｓ２ Ｏ３
０
．５〜０．６ Ｓｂ２ Ｏ３
０
．４〜０．６ Ｒｅ２ Ｏ３
２
．３〜１０．４からなり、Ｒｅ２ Ｏ３ はランタン族
土類酸化物の１種以上からなり、その合計モル％はＲｅ
２ Ｏ３ の場合の前記モル％範囲内であることを特徴
とするガラス組成物。 - 【請求項３９】Ｒｅ２ Ｏ３ が、１０．４モル％を有
する、請求項３８に記載のガラス組成物。 - 【請求項４０】Ｒｅ２ Ｏ３ が、２．３モル％を有す
る、請求項３８に記載のガラス組成物。 - 【請求項４１】Ｒｅ２ Ｏ３ が、５．７モル％を有す
る、請求項３８に記載のガラス組成物。 - 【請求項４２】本質上下記組成（モル％範囲内）
ＳｉＯ２
３５〜４３
Ｂ２ Ｏ３
２２〜２８
ＣａＯ
０〜６．５
ＢａＯ
２０〜３２
ＺｎＯ
０〜３
Ｙ２ Ｏ３
０〜
１．４ Ａｓ２ Ｏ３
０．５〜
０．６ Ｓｂ２ Ｏ３
０．４〜
０．６ Ｒｅ２ Ｏ３
２．３〜
１０．４からなり、Ｒｅ２ Ｏ３ はランタン族土類酸
化物の１種以上からなり、その合計モル％はＲｅ２ Ｏ
３ の場合の前記モル％範囲内であることを特徴とする
、高性能マイクロチャンネルプレートを製作する際に使
用するためのコアガラス用ガラス組成物。 - 【請求項４３】Ｒｅ２ Ｏ３ が、１０．４モル％を有
する、請求項４２に記載のガラス組成物。 - 【請求項４４】Ｒｅ２ Ｏ３ が、２．３モル％を有す
る、請求項４２に記載のガラス組成物。 - 【請求項４５】Ｒｅ２ Ｏ３ が、５．７モル％を有す
る、請求項４２に記載のガラス組成物。
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