JPH04334900A - 荷電粒子位置測定装置及び真空ダクト - Google Patents
荷電粒子位置測定装置及び真空ダクトInfo
- Publication number
- JPH04334900A JPH04334900A JP10616991A JP10616991A JPH04334900A JP H04334900 A JPH04334900 A JP H04334900A JP 10616991 A JP10616991 A JP 10616991A JP 10616991 A JP10616991 A JP 10616991A JP H04334900 A JPH04334900 A JP H04334900A
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- Japan
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- charged particle
- vacuum duct
- measuring device
- position measuring
- duct
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は真空ダクト中を通過する
荷電粒子の通過位置を非接触によって測定する荷電粒子
位置測定装置、及びこの荷電粒子位置測定装置を用いた
真空ダクトに関するものである。
荷電粒子の通過位置を非接触によって測定する荷電粒子
位置測定装置、及びこの荷電粒子位置測定装置を用いた
真空ダクトに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図８は、たとえば雑誌（Ｊ．Ｂｏｒｅｒ
著「Ｄｉａｇｎｏｓｔｉｃｓ（ＣＥＲＮ／ＬＥＰ−ＢＩ
／８４−１４）」）に示された、従来のビ−ム位置測定
装置を示す図であり、図において、１は真空ダクト、２
は電極、３は荷電粒子ビーム、４は出力ケーブル、５は
信号処理装置である。
著「Ｄｉａｇｎｏｓｔｉｃｓ（ＣＥＲＮ／ＬＥＰ−ＢＩ
／８４−１４）」）に示された、従来のビ−ム位置測定
装置を示す図であり、図において、１は真空ダクト、２
は電極、３は荷電粒子ビーム、４は出力ケーブル、５は
信号処理装置である。
【０００３】次に動作について説明する。荷電粒子が真
空ダクト１中を進行する際、ダクト壁面に取り付けられ
た電極２上に、電極２とビーム３の通過位置との距離に
応じた誘導電荷を生じる。この誘導電荷は出力ケーブル
４を通じて放電され、信号処理装置５の入力抵抗の両端
に電圧が生じる。複数の電極から得られる電圧信号を信
号処理装置で演算処理する事によって、真空ダクト中の
荷電粒子ビームの通過位置を測定する事ができる。
空ダクト１中を進行する際、ダクト壁面に取り付けられ
た電極２上に、電極２とビーム３の通過位置との距離に
応じた誘導電荷を生じる。この誘導電荷は出力ケーブル
４を通じて放電され、信号処理装置５の入力抵抗の両端
に電圧が生じる。複数の電極から得られる電圧信号を信
号処理装置で演算処理する事によって、真空ダクト中の
荷電粒子ビームの通過位置を測定する事ができる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来の荷電粒子位置測
定装置は以上のように構成されているので位置モニタが
設置されている断面での荷電粒子の通過位置の情報しか
得られないという問題点があった。
定装置は以上のように構成されているので位置モニタが
設置されている断面での荷電粒子の通過位置の情報しか
得られないという問題点があった。
【０００５】本発明は上記のような問題点を解決するた
めになされたもので、真空ダクトに沿った長い距離にわ
たる荷電粒子ビームの通過位置の情報を得られる装置を
得ることを目的とする。
めになされたもので、真空ダクトに沿った長い距離にわ
たる荷電粒子ビームの通過位置の情報を得られる装置を
得ることを目的とする。
【０００６】また、このような位置測定装置を有効に利
用できる真空ダクトを提供することを目的とする。
用できる真空ダクトを提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明に係わる荷電粒子
位置測定装置は、ダクト壁面に、真空ダクトの軸方向に
沿った複数のストリップラインを設け、上記複数のスト
リップラインの出力信号の時間変化によって軸方向と径
方向の位置の情報を得るものである。
位置測定装置は、ダクト壁面に、真空ダクトの軸方向に
沿った複数のストリップラインを設け、上記複数のスト
リップラインの出力信号の時間変化によって軸方向と径
方向の位置の情報を得るものである。
【０００８】また、本発明の別の発明に係わる荷電粒子
位置測定装置は、真空ダクトの軸方向にコイルを介して
複数個取り付けられた電極で、コイルのインダクタンス
と電極のコンデンサ容量とによってＬＣ遅延回路を構成
し、このＬＣ遅延回路をダクト壁面に沿って複数設置し
、上記複数のＬＣ遅延回路の出力信号の時間変化によっ
て軸方向と径方向の位置の情報を得るものである。
位置測定装置は、真空ダクトの軸方向にコイルを介して
複数個取り付けられた電極で、コイルのインダクタンス
と電極のコンデンサ容量とによってＬＣ遅延回路を構成
し、このＬＣ遅延回路をダクト壁面に沿って複数設置し
、上記複数のＬＣ遅延回路の出力信号の時間変化によっ
て軸方向と径方向の位置の情報を得るものである。
【０００９】また、本発明の別の発明に係わる真空ダク
トは上記のいずれかの荷電粒子位置測定装置を、荷電粒
子を偏向するための磁石のギャップ間に設置するもので
ある。
トは上記のいずれかの荷電粒子位置測定装置を、荷電粒
子を偏向するための磁石のギャップ間に設置するもので
ある。
【００１０】さらに、本発明の別の発明に係わる真空ダ
クトは上記のいずれかの荷電粒子位置測定装置を、荷電
粒子を蛇行させるためのアンジュレータ中に設置するも
のである。
クトは上記のいずれかの荷電粒子位置測定装置を、荷電
粒子を蛇行させるためのアンジュレータ中に設置するも
のである。
【００１１】
【作用】本発明における荷電粒子位置測定装置では、各
ストリップラインまたはＬＣ遅延回路からは、測定する
端部から真空ダクトにそった距離におおじた遅れ時間を
もった位置信号がえられ、軸方向の情報が得られる。
ストリップラインまたはＬＣ遅延回路からは、測定する
端部から真空ダクトにそった距離におおじた遅れ時間を
もった位置信号がえられ、軸方向の情報が得られる。
【００１２】また、本発明による荷電粒子位置測定装置
を、偏向用真空ダクトあるいはアンジュレータ用真空ダ
クトに用いれば、真空ダクトに沿った各位置における荷
電粒子ビームの通過位置がわかるので、変化する荷電粒
子の進行状態が容易に観測できる。
を、偏向用真空ダクトあるいはアンジュレータ用真空ダ
クトに用いれば、真空ダクトに沿った各位置における荷
電粒子ビームの通過位置がわかるので、変化する荷電粒
子の進行状態が容易に観測できる。
【００１３】
実施例１．図１において、１は真空ダクト、２はダクト
内壁面に、真空ダクトの軸方向に沿って取り付けられた
ストリップライン、３は荷電粒子ビーム、４は出力ケー
ブル、５は信号処理装置である。
内壁面に、真空ダクトの軸方向に沿って取り付けられた
ストリップライン、３は荷電粒子ビーム、４は出力ケー
ブル、５は信号処理装置である。
【００１４】次に動作について説明する。荷電粒子が真
空ダクト１を進行する際、ストリップライン２上には、
ストリップラインとストリップラインに沿った各位置で
のビームの通過位置との距離に応じた誘導電荷の分布を
生じる。この誘導電荷はストリップライン中を伝搬速度
をもってストリップライン端部に移動し、端部に取り付
けられた出力ケーブル４を通じて逐次放電される。信号
処理装置の入力抵抗の両端では、電荷が誘導されたスト
リップラインの出力端子からの軸方向の位置に応じた遅
れ時間をもった電圧が生じる。ダクト壁面にはこのよう
なストリップライン２が複数設けられ、各ストリップラ
イン２から得られる電圧信号を信号処理装置で演算処理
する。例えば対向するストリップラインから得られる信
号の差分をとり、その時間変化を調べることによって、
真空ダクトにそった各位置における断面内での荷電粒子
ビームの通過位置を測定することができる。
空ダクト１を進行する際、ストリップライン２上には、
ストリップラインとストリップラインに沿った各位置で
のビームの通過位置との距離に応じた誘導電荷の分布を
生じる。この誘導電荷はストリップライン中を伝搬速度
をもってストリップライン端部に移動し、端部に取り付
けられた出力ケーブル４を通じて逐次放電される。信号
処理装置の入力抵抗の両端では、電荷が誘導されたスト
リップラインの出力端子からの軸方向の位置に応じた遅
れ時間をもった電圧が生じる。ダクト壁面にはこのよう
なストリップライン２が複数設けられ、各ストリップラ
イン２から得られる電圧信号を信号処理装置で演算処理
する。例えば対向するストリップラインから得られる信
号の差分をとり、その時間変化を調べることによって、
真空ダクトにそった各位置における断面内での荷電粒子
ビームの通過位置を測定することができる。
【００１５】実施例２．図２は上記のストリップライン
２とダクト壁面間に誘電体２０を挿入して、ストリップ
ライン中の信号の伝搬時間を変えるようにしたものであ
り、伝搬時間を長くでき、信号の観測が容易になる。
２とダクト壁面間に誘電体２０を挿入して、ストリップ
ライン中の信号の伝搬時間を変えるようにしたものであ
り、伝搬時間を長くでき、信号の観測が容易になる。
【００１６】実施例３．図３は上記ストリップライン２
に幾何学的な形状をつけて、幾何学的遅延回路を構成し
、信号の伝搬速度を変えるようにしたものであり、上記
実施例２と同様、伝搬時間が長くでき、信号の観測が容
易になる。
に幾何学的な形状をつけて、幾何学的遅延回路を構成し
、信号の伝搬速度を変えるようにしたものであり、上記
実施例２と同様、伝搬時間が長くでき、信号の観測が容
易になる。
【００１７】実施例４．図４はコンデンサ６とコイル７
によってＬＣ遅延回路を形成し、上記のストリップライ
ンと同等の作用を得るようにしたものである。すなわち
、ダクト壁面に、真空ダクトの軸方向にコイルを介して
複数個取り付けられた電極で、コイルのインダクタンス
と電極のコンデンサ容量とによってＬＣ遅延回路を構成
し、このＬＣ遅延回路をダクト壁面に沿って複数設置し
、上記複数のＬＣ遅延回路の出力信号の時間変化によっ
て軸方向と径方向の位置の情報を得るものである。
によってＬＣ遅延回路を形成し、上記のストリップライ
ンと同等の作用を得るようにしたものである。すなわち
、ダクト壁面に、真空ダクトの軸方向にコイルを介して
複数個取り付けられた電極で、コイルのインダクタンス
と電極のコンデンサ容量とによってＬＣ遅延回路を構成
し、このＬＣ遅延回路をダクト壁面に沿って複数設置し
、上記複数のＬＣ遅延回路の出力信号の時間変化によっ
て軸方向と径方向の位置の情報を得るものである。
【００１８】実施例５．図５は上記のストリップライン
２の出力ケーブル４にイオン除去用高圧電源８を接続す
ることによって、ストリップライン２をイオン除去電極
としても利用でき、構成物を減らすことができる。
２の出力ケーブル４にイオン除去用高圧電源８を接続す
ることによって、ストリップライン２をイオン除去電極
としても利用でき、構成物を減らすことができる。
【００１９】実施例６．図６は上記のストリップライン
型の位置測定装置を持つ真空ダクト１を荷電粒子を偏向
するための偏向用磁石９のギャップ中に設置したもので
あり、荷電粒子ビーム３が曲がっていく様子が観測でき
る。
型の位置測定装置を持つ真空ダクト１を荷電粒子を偏向
するための偏向用磁石９のギャップ中に設置したもので
あり、荷電粒子ビーム３が曲がっていく様子が観測でき
る。
【００２０】実施例７．図７は上記のストリップライン
型の位置測定装置を持つ真空ダクト１を荷電粒子を蛇行
させるアンジュレータ磁石１０のギャップ中に設置した
ものであり、荷電粒子ビームの蛇行の様子が直接観測で
きる。
型の位置測定装置を持つ真空ダクト１を荷電粒子を蛇行
させるアンジュレータ磁石１０のギャップ中に設置した
ものであり、荷電粒子ビームの蛇行の様子が直接観測で
きる。
【００２１】
【発明の効果】以上のように、本発明によればダクト壁
面に、真空ダクトの軸方向に沿って複数のストリップラ
インを設け、上記複数のストリップラインの出力信号の
時間変化によって軸方向と径方向の位置の情報を得るよ
うにしたので、真空ダクトに沿った長い距離にわたる荷
電粒子ビームの通過位置の情報が得られる効果がある。
面に、真空ダクトの軸方向に沿って複数のストリップラ
インを設け、上記複数のストリップラインの出力信号の
時間変化によって軸方向と径方向の位置の情報を得るよ
うにしたので、真空ダクトに沿った長い距離にわたる荷
電粒子ビームの通過位置の情報が得られる効果がある。
【００２２】また、真空ダクトの軸方向にコイルを介し
て複数個取り付けられた電極で、コイルのインダクタン
スと電極のコンデンサ容量とによってＬＣ遅延回路を構
成し、このＬＣ遅延回路をダクト壁面に沿って複数設置
し、上記複数のＬＣ遅延回路の出力信号の時間変化によ
って軸方向と径方向の位置の情報を得るようにしても、
上記荷電粒子位置測定装置と同様の効果がある。
て複数個取り付けられた電極で、コイルのインダクタン
スと電極のコンデンサ容量とによってＬＣ遅延回路を構
成し、このＬＣ遅延回路をダクト壁面に沿って複数設置
し、上記複数のＬＣ遅延回路の出力信号の時間変化によ
って軸方向と径方向の位置の情報を得るようにしても、
上記荷電粒子位置測定装置と同様の効果がある。
【００２３】また、上記のいずれかの荷電粒子位置測定
装置を、荷電粒子を偏向するための磁石のギャップ間に
設置すれば、荷電粒子ビームが曲がっていく様子が観測
できる。
装置を、荷電粒子を偏向するための磁石のギャップ間に
設置すれば、荷電粒子ビームが曲がっていく様子が観測
できる。
【００２４】また、上記のいずれかの荷電粒子位置測定
装置を、荷電粒子を蛇行させるためのアンジュレータ中
に設置すれば、荷電粒子ビームの蛇行の様子が直接観測
できる。
装置を、荷電粒子を蛇行させるためのアンジュレータ中
に設置すれば、荷電粒子ビームの蛇行の様子が直接観測
できる。
【図１】図１は本発明の実施例１を示す構成図である。
【図２】図２は本発明の実施例２を示す構成図である。
【図３】図３は本発明の実施例３を示す構成図である。
【図４】図４は本発明の実施例４を示す構成図である。
【図５】図５は本発明の実施例５を示す構成図である。
【図６】図６は本発明の実施例６を示す構成図である。
【図７】図７は本発明の実施例７を示す構成図である。
【図８】図８は従来の荷電粒子位置測定装置を示す構成
図である。
図である。
１ 真空ダクト
２ ストリップライン
３ 荷電粒子ビーム
４ 出力ケーブル
５ 信号処理装置
６ コンデンサ
７ コイル
９ 偏向用磁石
１０ アンジュレータ磁石
Claims (4)
- 【請求項１】 真空ダクト中を通過する荷電粒子の通
過位置を非接触によって測定する荷電粒子位置測定装置
において、ダクト壁面に、上記真空ダクトの軸方向に沿
った複数のストリップラインを設け、上記複数のストリ
ップラインの出力信号の時間変化によって軸方向と径方
向の荷電粒子の位置の情報を得ることを特徴とする荷電
粒子位置測定装置。 - 【請求項２】 真空ダクト中を通過する荷電粒子の通
過位置を非接触によって測定する荷電粒子位置測定装置
において、上記真空ダクトの軸方向にコイルを介して複
数個取り付けられた電極で、コイルのインダクタンスと
電極のコンデンサ容量とによってＬＣ遅延回路を構成し
、このＬＣ遅延回路をダクト壁面に沿って複数設置し、
上記複数のＬＣ遅延回路の出力信号の時間変化によって
軸方向と径方向の荷電粒子の位置の情報を得ることを特
徴とする荷電粒子位置測定装置。 - 【請求項３】 荷電粒子を偏向するための磁石、及び
この磁石のギャップ間に設置された請求項１または２記
載の荷電粒子位置測定装置を備えた真空ダクト。 - 【請求項４】 荷電粒子を蛇行させるためのアンジュ
レータ、及びこのアンジュレータ中に設置された請求項
１または２記載の荷電粒子位置測定装置を備えた真空ダ
クト。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10616991A JPH04334900A (ja) | 1991-05-13 | 1991-05-13 | 荷電粒子位置測定装置及び真空ダクト |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10616991A JPH04334900A (ja) | 1991-05-13 | 1991-05-13 | 荷電粒子位置測定装置及び真空ダクト |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04334900A true JPH04334900A (ja) | 1992-11-20 |
Family
ID=14426767
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10616991A Pending JPH04334900A (ja) | 1991-05-13 | 1991-05-13 | 荷電粒子位置測定装置及び真空ダクト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04334900A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016533505A (ja) * | 2013-09-20 | 2016-10-27 | テヒニシェ・ウニヴェルジテート・ドレスデン | 放射線治療に関する放射線装置の粒子放射の飛程制御のための方法及び装置 |
| CN106501840A (zh) * | 2016-11-13 | 2017-03-15 | 中国科学院近代物理研究所 | 一种质子重离子束流纵向束团形状测量探测器 |
-
1991
- 1991-05-13 JP JP10616991A patent/JPH04334900A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016533505A (ja) * | 2013-09-20 | 2016-10-27 | テヒニシェ・ウニヴェルジテート・ドレスデン | 放射線治療に関する放射線装置の粒子放射の飛程制御のための方法及び装置 |
| CN106501840A (zh) * | 2016-11-13 | 2017-03-15 | 中国科学院近代物理研究所 | 一种质子重离子束流纵向束团形状测量探测器 |
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