JPH04337084A - カーボン硬質膜を被覆した部材 - Google Patents
カーボン硬質膜を被覆した部材Info
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- JPH04337084A JPH04337084A JP13339391A JP13339391A JPH04337084A JP H04337084 A JPH04337084 A JP H04337084A JP 13339391 A JP13339391 A JP 13339391A JP 13339391 A JP13339391 A JP 13339391A JP H04337084 A JPH04337084 A JP H04337084A
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、基材上に中間層を介し
てカーボン硬質膜を被覆した部材に関し、さらに詳しく
は耐食性に優れたカーボン硬質膜を被覆した部材に関す
るものである。
てカーボン硬質膜を被覆した部材に関し、さらに詳しく
は耐食性に優れたカーボン硬質膜を被覆した部材に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】カーボン硬質膜とは例えば炭化水素ガス
雰囲気中でのプラズマCVD処理により形成される水素
を結合した非結晶カーボン膜であり、ダイヤモンドに次
ぐ硬さと高い熱伝導性を示し、摩擦係数が極めて小さい
ことで知られている。
雰囲気中でのプラズマCVD処理により形成される水素
を結合した非結晶カーボン膜であり、ダイヤモンドに次
ぐ硬さと高い熱伝導性を示し、摩擦係数が極めて小さい
ことで知られている。
【0003】従来、基材上にカーボン硬質膜を被覆した
部材は、基材として炭化タングステン等の超硬材料上に
直接カーボン硬質膜を被覆していた。また、ステンレス
、鉄鋼、銅合金等の超硬以外の材料の基材に対してはカ
ーボン硬質膜が直接表面に密着しないので、超硬以外の
材料の場合中間層を介在させる必要があった。
部材は、基材として炭化タングステン等の超硬材料上に
直接カーボン硬質膜を被覆していた。また、ステンレス
、鉄鋼、銅合金等の超硬以外の材料の基材に対してはカ
ーボン硬質膜が直接表面に密着しないので、超硬以外の
材料の場合中間層を介在させる必要があった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
のカーボン硬質膜を被覆した部材は、基材が超硬やステ
ンレス材料の場合は機能的には満足できるが、材料自体
が非常に高価であり、加工性が非常に悪い。
のカーボン硬質膜を被覆した部材は、基材が超硬やステ
ンレス材料の場合は機能的には満足できるが、材料自体
が非常に高価であり、加工性が非常に悪い。
【0005】また、鉄、銅合金等の比較的耐食性の悪い
基材上に、中間層を介してカーボン硬質膜を被覆した部
材においてはカーボン硬質膜自体は耐食性には優れるが
、基材自体が比較的耐食性が悪いために、長期間使用し
ていると、基材から腐食が始まり、結果的にカーボン硬
質膜が剥離してしまうという欠点があった。
基材上に、中間層を介してカーボン硬質膜を被覆した部
材においてはカーボン硬質膜自体は耐食性には優れるが
、基材自体が比較的耐食性が悪いために、長期間使用し
ていると、基材から腐食が始まり、結果的にカーボン硬
質膜が剥離してしまうという欠点があった。
【0006】本発明の目的は、上記問題を解決し、超硬
材料上のカーボン硬質膜と同等な耐食性が得られ、安価
で加工性に富む、カーボン硬質膜を被覆した部材を提供
するものである。
材料上のカーボン硬質膜と同等な耐食性が得られ、安価
で加工性に富む、カーボン硬質膜を被覆した部材を提供
するものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、鉄、銅合金等
の比較的耐食性の悪い基材上に、中間層を介してカーボ
ン硬質膜を被覆した部材において、耐食性被膜からなる
被覆層を前記基材と中間層との間に介在させたことを特
徴とするものである。
の比較的耐食性の悪い基材上に、中間層を介してカーボ
ン硬質膜を被覆した部材において、耐食性被膜からなる
被覆層を前記基材と中間層との間に介在させたことを特
徴とするものである。
【0008】そして、中間層がシリコン、酸化シリコン
、ゲルマニウム、周期率表4a、5a、6a族元素の窒
化物、炭化物、窒炭化物、窒炭酸化物の中の少なくとも
1つよりなることが好ましい。
、ゲルマニウム、周期率表4a、5a、6a族元素の窒
化物、炭化物、窒炭化物、窒炭酸化物の中の少なくとも
1つよりなることが好ましい。
【0009】また、耐食性被膜がクロム、コバルト、ニ
ッケル、銅、パラジウム、白金、金の中の少なくとも1
つよりなるものであってもよい。
ッケル、銅、パラジウム、白金、金の中の少なくとも1
つよりなるものであってもよい。
【0010】
【実施例】以下本発明の実施例を図面に基づいて詳述す
る。図1は実施例を示すカーボン硬質膜を被覆した部材
の要部断面図である。
る。図1は実施例を示すカーボン硬質膜を被覆した部材
の要部断面図である。
【0011】鉄製の工具類を基材1とし、耐食性被膜2
、中間層3、カーボン硬質膜4の順で形成する。耐食性
被膜2は湿式電気メッキ法で金を0.3μm被覆する。 その後、中間層3は耐食性被膜2を形成した基材1を乾
式メッキ装置の真空槽にセットする。この場合は例えば
乾式メッキ法のなかのイオンプレーティング法の例で説
明する。
、中間層3、カーボン硬質膜4の順で形成する。耐食性
被膜2は湿式電気メッキ法で金を0.3μm被覆する。 その後、中間層3は耐食性被膜2を形成した基材1を乾
式メッキ装置の真空槽にセットする。この場合は例えば
乾式メッキ法のなかのイオンプレーティング法の例で説
明する。
【0012】真空槽内を1×10−5Torr以下の真
空度に排気し、耐食性被膜2を形成した基材1表面を充
分に清浄するために、アルゴンガスを導入し、アルゴン
プラズマをカソード電位に保たれた耐食性被膜2を形成
した基材1に照射し、イオンボンバードを行う。
空度に排気し、耐食性被膜2を形成した基材1表面を充
分に清浄するために、アルゴンガスを導入し、アルゴン
プラズマをカソード電位に保たれた耐食性被膜2を形成
した基材1に照射し、イオンボンバードを行う。
【0013】真空槽内にエチレンガスを導入しアルゴン
ガスとの混合ガスを反応ガスとして1〜5×10−3T
orrに保持する。そして、適当な加速電圧で発生する
電子ビームを蒸発源の金属チタンに照射し、発生するチ
タン蒸気とエチレンガスをプラズマ中でイオン化し、厚
さ0.5〜1μmの周期率表4a族元素の炭化物である
炭化チタンの中間層3を形成する。この場合化学量論的
な炭化チタンよりも炭素が多く含有している炭化チタン
のほうが密着性の面で好ましい。
ガスとの混合ガスを反応ガスとして1〜5×10−3T
orrに保持する。そして、適当な加速電圧で発生する
電子ビームを蒸発源の金属チタンに照射し、発生するチ
タン蒸気とエチレンガスをプラズマ中でイオン化し、厚
さ0.5〜1μmの周期率表4a族元素の炭化物である
炭化チタンの中間層3を形成する。この場合化学量論的
な炭化チタンよりも炭素が多く含有している炭化チタン
のほうが密着性の面で好ましい。
【0014】その後、基材1上に形成された耐食性被膜
2と中間層3上にカーボン硬質膜4を形成する。例えば
プラズマCVD法を用いた場合は、真空槽内にマッチン
グボックスを介して高周波電源と接続されているカソー
ド電極上に耐食性被膜2と中間層3が形成された基材1
をセットする。
2と中間層3上にカーボン硬質膜4を形成する。例えば
プラズマCVD法を用いた場合は、真空槽内にマッチン
グボックスを介して高周波電源と接続されているカソー
ド電極上に耐食性被膜2と中間層3が形成された基材1
をセットする。
【0015】真空槽内を排気後、ガス導入口より炭化水
素ガスのメタンガスを導入し、プラズマを発生させ、厚
さ1μmのカーボン硬質膜4を形成する。成膜条件とし
ては真空度0.1Torr、高周波13.56MHz、
高周波電力300Wで行った。
素ガスのメタンガスを導入し、プラズマを発生させ、厚
さ1μmのカーボン硬質膜4を形成する。成膜条件とし
ては真空度0.1Torr、高周波13.56MHz、
高周波電力300Wで行った。
【0016】このようにして形成した本発明のカーボン
硬質膜を被覆した部材と耐食性被膜2を形成していない
従来の部材とをキャス試験(JIS H8617)を
行った。結果は本発明のカーボン硬質膜を被覆した部材
は良好であったのに対し、耐食性被膜2を形成していな
い従来の部材は、カーボン硬質膜4が剥離し、基材1か
らサビが発生していた。
硬質膜を被覆した部材と耐食性被膜2を形成していない
従来の部材とをキャス試験(JIS H8617)を
行った。結果は本発明のカーボン硬質膜を被覆した部材
は良好であったのに対し、耐食性被膜2を形成していな
い従来の部材は、カーボン硬質膜4が剥離し、基材1か
らサビが発生していた。
【0017】なお、上記実施例では耐食性被膜2は0.
5μmの金を被覆したが、これに代えて、銅0.5μm
とニッケル0.3μmの2層被膜、0.5μmのニッケ
ル−パラジウム合金被膜、0.4μmクロム被膜でもキ
ャス試験の結果は良好であった。また、これ以外のクロ
ム、コバルト、ニッケル、銅、パラジウム、白金、金の
中の1つよりなる耐食性被膜2であってもよい。
5μmの金を被覆したが、これに代えて、銅0.5μm
とニッケル0.3μmの2層被膜、0.5μmのニッケ
ル−パラジウム合金被膜、0.4μmクロム被膜でもキ
ャス試験の結果は良好であった。また、これ以外のクロ
ム、コバルト、ニッケル、銅、パラジウム、白金、金の
中の1つよりなる耐食性被膜2であってもよい。
【0018】膜厚については、耐摩耗性、耐衝撃性等の
機能面を考慮すると1μm以下であることが好ましく、
1μm以下であっても十分な耐食性が得られる。耐食性
被膜2の形成法は真空蒸着法、スパッタリング法、イオ
ンプレーティング法などのPVD法やCVD法の乾式メ
ッキ法でも可能である。
機能面を考慮すると1μm以下であることが好ましく、
1μm以下であっても十分な耐食性が得られる。耐食性
被膜2の形成法は真空蒸着法、スパッタリング法、イオ
ンプレーティング法などのPVD法やCVD法の乾式メ
ッキ法でも可能である。
【0019】また、中間層3は炭化チタンの他に、シリ
コン、酸化シリコン、ゲルマニウム、周期率表4a、5
a、6a族元素の窒化物、炭化物、窒炭化物、窒炭酸化
物の中の少なくとも1つよりなるものでもよい。
コン、酸化シリコン、ゲルマニウム、周期率表4a、5
a、6a族元素の窒化物、炭化物、窒炭化物、窒炭酸化
物の中の少なくとも1つよりなるものでもよい。
【0020】そして、耐食性被膜2、中間層3、カーボ
ン硬質膜4を形成する装置は密着性を考慮すると、でき
れば、同一装置で形成することが好ましい。もちろん別
の装置で各々形成してもよいことはいうまでもない。
ン硬質膜4を形成する装置は密着性を考慮すると、でき
れば、同一装置で形成することが好ましい。もちろん別
の装置で各々形成してもよいことはいうまでもない。
【0021】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
よれば、鉄、銅合金等の比較的耐食性の悪い基材上に、
耐食性被膜と中間層を介してカーボン硬質膜を被覆する
ことによって、超硬やステンレス材料上のカーボン硬質
膜と同等な耐食性が得られ、安価で加工性に富む、カー
ボン硬質膜を被覆した部材を提供することができる。
よれば、鉄、銅合金等の比較的耐食性の悪い基材上に、
耐食性被膜と中間層を介してカーボン硬質膜を被覆する
ことによって、超硬やステンレス材料上のカーボン硬質
膜と同等な耐食性が得られ、安価で加工性に富む、カー
ボン硬質膜を被覆した部材を提供することができる。
【図1】本発明の実施例を示すカーボン硬質膜を被覆し
た部材の要部断面図である。
た部材の要部断面図である。
1 基材
2 耐食性被膜
3 中間層
4 カーボン硬質膜
Claims (3)
- 【請求項1】 鉄、銅合金等の比較的耐食性の悪い基
材上に、中間層を介してカーボン硬質膜を被覆した部材
において、耐食性被膜からなる被覆層を前記基材と中間
層との間に介在させたことを特徴とするカーボン硬質膜
を被覆した部材。 - 【請求項2】 中間層がシリコン、酸化シリコン、ゲ
ルマニウム、周期率表4a、5a、6a族元素の窒化物
、炭化物、窒炭化物、窒炭酸化物の中の少なくとも1つ
よりなることを特徴とする請求項1記載のカーボン硬質
膜を被覆した部材。 - 【請求項3】 耐食性被膜がクロム、コバルト、ニッ
ケル、銅、パラジウム、白金、金の中の少なくとも1つ
よりなることを特徴とする請求項1記載のカーボン硬質
膜を被覆した部材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13339391A JPH04337084A (ja) | 1991-05-10 | 1991-05-10 | カーボン硬質膜を被覆した部材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13339391A JPH04337084A (ja) | 1991-05-10 | 1991-05-10 | カーボン硬質膜を被覆した部材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04337084A true JPH04337084A (ja) | 1992-11-25 |
Family
ID=15103701
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13339391A Pending JPH04337084A (ja) | 1991-05-10 | 1991-05-10 | カーボン硬質膜を被覆した部材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04337084A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112725680A (zh) * | 2020-12-17 | 2021-04-30 | 重庆新启派电子科技有限公司 | 一种铜钯涂层性复合材料 |
| JP2022507435A (ja) * | 2018-11-14 | 2022-01-18 | エリコン・サーフェス・ソリューションズ・アクチェンゲゼルシャフト,プフェフィコーン | プラスチック加工用途において性能および寿命を向上させるためのコーティング |
-
1991
- 1991-05-10 JP JP13339391A patent/JPH04337084A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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