JPH04337097A - 溶融塩Al電気めっき方法 - Google Patents
溶融塩Al電気めっき方法Info
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- JPH04337097A JPH04337097A JP11044091A JP11044091A JPH04337097A JP H04337097 A JPH04337097 A JP H04337097A JP 11044091 A JP11044091 A JP 11044091A JP 11044091 A JP11044091 A JP 11044091A JP H04337097 A JPH04337097 A JP H04337097A
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- plating bath
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、耐食性や耐熱性の改善
を目的として、鋼板などの金属材上にアルミニウムまた
はアルミニウム合金( 以下Alと総称することもある
) を電気めっきする溶融塩Al電気めっき方法に関す
る。
を目的として、鋼板などの金属材上にアルミニウムまた
はアルミニウム合金( 以下Alと総称することもある
) を電気めっきする溶融塩Al電気めっき方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】Alめっき製品は優れた耐食性、美麗さ
、無毒性など、数多くの利点を有しているが、水溶液か
らの電析が不可能なため、現在は主として溶融金属浸漬
めっき法にて製造されている。しかしながら、この溶融
金属浸漬めっき法では薄めっきが困難であり、また操作
温度が700 ℃を超えるため、母材とめっき皮膜との
間に合金層を生成したり、母材へ悪影響を与えるなど、
問題が多い。
、無毒性など、数多くの利点を有しているが、水溶液か
らの電析が不可能なため、現在は主として溶融金属浸漬
めっき法にて製造されている。しかしながら、この溶融
金属浸漬めっき法では薄めっきが困難であり、また操作
温度が700 ℃を超えるため、母材とめっき皮膜との
間に合金層を生成したり、母材へ悪影響を与えるなど、
問題が多い。
【0003】そこで、最近は、この溶融金属浸漬めっき
法に代えて電気めっき法によって上記の問題点を解消し
てAl電気めっきの工業化への道をひらくという研究開
発が進められてきている。上述の如く電気Alめっきは
単なる水溶液からの電析が不可能であるので、電析の可
能な溶融塩浴による電気めっき方法が考えられ、これを
基本とした数多くの電気Alめっき法の提案がなされ実
用化が進められている。Alの電気めっきに溶融塩浴、
例えばAlCl3−XCl(X:アルカリ金属) の2
成分系あるいは3成分系の溶融塩浴を用いる方法は、操
作温度が150 〜200 ℃と溶融金属浸漬法に較べ
て格段に低いので、合金層の生成や母材への悪影響がな
く、かつ薄めっきも可能であり、上述の問題は一応解決
されるに至った。
法に代えて電気めっき法によって上記の問題点を解消し
てAl電気めっきの工業化への道をひらくという研究開
発が進められてきている。上述の如く電気Alめっきは
単なる水溶液からの電析が不可能であるので、電析の可
能な溶融塩浴による電気めっき方法が考えられ、これを
基本とした数多くの電気Alめっき法の提案がなされ実
用化が進められている。Alの電気めっきに溶融塩浴、
例えばAlCl3−XCl(X:アルカリ金属) の2
成分系あるいは3成分系の溶融塩浴を用いる方法は、操
作温度が150 〜200 ℃と溶融金属浸漬法に較べ
て格段に低いので、合金層の生成や母材への悪影響がな
く、かつ薄めっきも可能であり、上述の問題は一応解決
されるに至った。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来提
案されてきた溶融塩浴によるAlの電気めっき法におい
ては、いずれも溶融塩めっき浴の経時劣化が大きく、こ
のためパウダー状析出等の電析不良が見られるという欠
点を有しており、これが電気Alめっきの工業化への重
大な問題とされてきた。この溶融塩めっき浴の経時劣化
の原因は、まだ十分には解明されていない点が多いが、
主なものは次の3点と考えられている。
案されてきた溶融塩浴によるAlの電気めっき法におい
ては、いずれも溶融塩めっき浴の経時劣化が大きく、こ
のためパウダー状析出等の電析不良が見られるという欠
点を有しており、これが電気Alめっきの工業化への重
大な問題とされてきた。この溶融塩めっき浴の経時劣化
の原因は、まだ十分には解明されていない点が多いが、
主なものは次の3点と考えられている。
【0005】■ 溶融塩めっき浴の吸湿によって、オ
キシクロライド等のめっきに有害なイオン種を生じる。 ■ めっき槽内においては、めっき母材からめっき浴
へ各種金属が溶け込む。これらの金属イオンは、一部の
ものを除いてほとんど全て有害である。中でもFeイオ
ンは特に有害とされており、その濃度の増加は鋼材のA
lめっきの場合、重大な問題となる。■ 陰極 (例
えば鋼板) でAl3+→Al°となって電析する段階
において、有害なAlの低原子価イオンを生じ、これが
電解の進行に伴って浴中に蓄積される。
キシクロライド等のめっきに有害なイオン種を生じる。 ■ めっき槽内においては、めっき母材からめっき浴
へ各種金属が溶け込む。これらの金属イオンは、一部の
ものを除いてほとんど全て有害である。中でもFeイオ
ンは特に有害とされており、その濃度の増加は鋼材のA
lめっきの場合、重大な問題となる。■ 陰極 (例
えば鋼板) でAl3+→Al°となって電析する段階
において、有害なAlの低原子価イオンを生じ、これが
電解の進行に伴って浴中に蓄積される。
【0006】これらの問題を解決する方法として、例え
ば浴中に乾燥HCl ガスを吹き込む方法が提案されて
いる。この方法によると、溶融塩めっき浴の脱水および
Alの低原子価イオンの除去には効果があるが、不純物
金属イオンの除去はできない。またこの方法は、腐食性
、作業性から考えて、かなり困難なプロセスとならざる
を得ず、実用的とは言えない。そこで、本発明者等は既
に特開昭61−243190号において、めっき浴にA
lパウダーを懸濁させることにより効果的に不純物金属
イオン除去の問題が解決できることを提案した。この方
法は極めて効果的であったが、その後の研究の結果、連
続的なめっきライン設備においては、めっき浴中に固体
が存在することは、ロールへのかみ込み、摺動部の損傷
、沈降の防止など不都合な点が多いことも判明した。
ば浴中に乾燥HCl ガスを吹き込む方法が提案されて
いる。この方法によると、溶融塩めっき浴の脱水および
Alの低原子価イオンの除去には効果があるが、不純物
金属イオンの除去はできない。またこの方法は、腐食性
、作業性から考えて、かなり困難なプロセスとならざる
を得ず、実用的とは言えない。そこで、本発明者等は既
に特開昭61−243190号において、めっき浴にA
lパウダーを懸濁させることにより効果的に不純物金属
イオン除去の問題が解決できることを提案した。この方
法は極めて効果的であったが、その後の研究の結果、連
続的なめっきライン設備においては、めっき浴中に固体
が存在することは、ロールへのかみ込み、摺動部の損傷
、沈降の防止など不都合な点が多いことも判明した。
【0007】また、前記■、■の問題は浴中のオキシク
ロライド濃度、Feイオン濃度の測定管理によってコン
トロールできるが、通電に伴って生じる■の問題は完全
に解決できず、例えば、大電流をめっきに流す場合には
、パウダー量が不足して、浴中にAlの低原子価イオン
などの不良イオン種が蓄積され、除々にめっき性状が劣
化する傾向もあることが判明した。なお、200 ℃以
下のめっき浴ではこの低原子価イオンは存在しないと考
えられてきたが、本発明者らの研究によれば200 ℃
以下でもそれらの低原子価イオンは存在している。
ロライド濃度、Feイオン濃度の測定管理によってコン
トロールできるが、通電に伴って生じる■の問題は完全
に解決できず、例えば、大電流をめっきに流す場合には
、パウダー量が不足して、浴中にAlの低原子価イオン
などの不良イオン種が蓄積され、除々にめっき性状が劣
化する傾向もあることが判明した。なお、200 ℃以
下のめっき浴ではこの低原子価イオンは存在しないと考
えられてきたが、本発明者らの研究によれば200 ℃
以下でもそれらの低原子価イオンは存在している。
【0008】かくして、本発明の目的は、溶融塩浴によ
るAlまたAl合金の電気めっきにおいて、浴の吸湿な
らびに不純物金属イオン濃度の増加を抑制し、かつ通電
に伴う浴の経時劣化を有効に防止するとともに、連続プ
ロセスへの適用にあっても簡易で工業化に容易なめっき
浴を使った溶融塩Al電気めっき方法を提供することに
ある。 本発明の別の目的は、低原子価Al金属イオンの蓄積を
阻止してめっき性状の劣化を防止する溶融塩Al電気め
っき方法を提供することである。
るAlまたAl合金の電気めっきにおいて、浴の吸湿な
らびに不純物金属イオン濃度の増加を抑制し、かつ通電
に伴う浴の経時劣化を有効に防止するとともに、連続プ
ロセスへの適用にあっても簡易で工業化に容易なめっき
浴を使った溶融塩Al電気めっき方法を提供することに
ある。 本発明の別の目的は、低原子価Al金属イオンの蓄積を
阻止してめっき性状の劣化を防止する溶融塩Al電気め
っき方法を提供することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明者らはかかる課題
を解決すべく、吸湿しためっき浴もAlと接触すること
により水素ガスおよびアルミナを生成して脱水されるこ
と、浴中のAl以外の金属イオンはすべて有害であるこ
と、それらの金属はAlとの置換反応によって析出除去
できること、およびAlの低原子価イオンもAlとめっ
き浴との接触によって低減することに着目し、検討を重
ねたところ、一種の循環路によってめっき浴と連結され
た反応槽を設け、めっき通電期間中にこの反応槽におい
て連続してAlまたはAl合金にめっき浴を接触させる
ことが操作上有効であることを知った。
を解決すべく、吸湿しためっき浴もAlと接触すること
により水素ガスおよびアルミナを生成して脱水されるこ
と、浴中のAl以外の金属イオンはすべて有害であるこ
と、それらの金属はAlとの置換反応によって析出除去
できること、およびAlの低原子価イオンもAlとめっ
き浴との接触によって低減することに着目し、検討を重
ねたところ、一種の循環路によってめっき浴と連結され
た反応槽を設け、めっき通電期間中にこの反応槽におい
て連続してAlまたはAl合金にめっき浴を接触させる
ことが操作上有効であることを知った。
【0010】これらの点についてさらに検討を重ねたと
ころ、次のような知見を得て、本発明を完成した。すな
わち、前記■の吸湿、■のFeイオン等の問題はシール
法の改善、セル材質の改善等によってかなり抑制できる
ものであり、その除去すべき量も浴中濃度の測定で把握
することができる。しかし、前記■の低原子価Alイオ
ンは通電に伴うもので、電気量に応じてある割合で必然
的に、ある割合で発生すると考えられる。しかし、その
形態が明確でないため、濃度を定量することはできない
が、水分や不純物イオンの適正な管理下で、通電に伴っ
て徐々に顕著となるめっき不良の傾向に対し、Alまた
はAl合金を充填した反応槽へ一定量のめっき浴を循環
させることが改善に効果的であることが判明した。つま
り、通常の条件下ではめっき浴中の低原子価Alイオン
の濃度がめっき外観を支配していることから、常に一定
量のめっき浴を循環させアルミニウムまたはアルミニウ
ム合金に接触させることで、予想外にも比較的容易にめ
っき外観を改善できることを知り、本発明を完成した。
ころ、次のような知見を得て、本発明を完成した。すな
わち、前記■の吸湿、■のFeイオン等の問題はシール
法の改善、セル材質の改善等によってかなり抑制できる
ものであり、その除去すべき量も浴中濃度の測定で把握
することができる。しかし、前記■の低原子価Alイオ
ンは通電に伴うもので、電気量に応じてある割合で必然
的に、ある割合で発生すると考えられる。しかし、その
形態が明確でないため、濃度を定量することはできない
が、水分や不純物イオンの適正な管理下で、通電に伴っ
て徐々に顕著となるめっき不良の傾向に対し、Alまた
はAl合金を充填した反応槽へ一定量のめっき浴を循環
させることが改善に効果的であることが判明した。つま
り、通常の条件下ではめっき浴中の低原子価Alイオン
の濃度がめっき外観を支配していることから、常に一定
量のめっき浴を循環させアルミニウムまたはアルミニウ
ム合金に接触させることで、予想外にも比較的容易にめ
っき外観を改善できることを知り、本発明を完成した。
【0011】ここに、本発明の要旨とするところは、塩
化アルミニウムを1成分とする溶融塩めっき浴を用いて
アルミニウムまたはアルミニウム合金を基体金属上に電
気めっきする方法であって、めっき通電期間中、前記溶
融塩めっき浴を反応槽に循環させ、該反応槽においてア
ルミニウムまたはアルミニウム合金に接触させることを
特徴とする溶融塩Al電気めっき方法である。本発明の
好適態様によれば、前記溶融塩めっき浴の前記反応槽へ
の循環量を次のように規定する方法である。
化アルミニウムを1成分とする溶融塩めっき浴を用いて
アルミニウムまたはアルミニウム合金を基体金属上に電
気めっきする方法であって、めっき通電期間中、前記溶
融塩めっき浴を反応槽に循環させ、該反応槽においてア
ルミニウムまたはアルミニウム合金に接触させることを
特徴とする溶融塩Al電気めっき方法である。本発明の
好適態様によれば、前記溶融塩めっき浴の前記反応槽へ
の循環量を次のように規定する方法である。
【0012】
L≧1×10−7×I/η
L: 反応槽への循環量 (m3/sec)I: 全め
っき電流 (A) η: 反応槽の反応効率 (−)
っき電流 (A) η: 反応槽の反応効率 (−)
【0013】
【作用】次に、添付図面を参照して本発明をさらに詳細
に説明する。図1は、本発明にかかる方法を実施するた
めの連続めっき装置の略式説明図であり、図中、鋼板1
はめっき槽2に連続的に装入されめっきされる。めっき
装置2には陽極3が対向されて配置されている。陽極3
は溶融塩めっき浴4に全体が浸漬されている。鋼板1は
通電ロール5を経てめっき浴内に送られ、対向して設け
られた陽極3の間を下向きに、デフレクタロール6を周
回してからは上向きに走行し、その間に直流電源7から
の電流供給によりめっきが行われる。
に説明する。図1は、本発明にかかる方法を実施するた
めの連続めっき装置の略式説明図であり、図中、鋼板1
はめっき槽2に連続的に装入されめっきされる。めっき
装置2には陽極3が対向されて配置されている。陽極3
は溶融塩めっき浴4に全体が浸漬されている。鋼板1は
通電ロール5を経てめっき浴内に送られ、対向して設け
られた陽極3の間を下向きに、デフレクタロール6を周
回してからは上向きに走行し、その間に直流電源7から
の電流供給によりめっきが行われる。
【0014】本発明によれば上記めっき槽2には適宜箇
所からの溶融塩浴循環回路8が設けられ、ポンプ9の作
用によって、制御された量のめっき浴が流量計10によ
って反応槽11に送られ、内部に充填されたAl粒12
に接触させられ、吸湿分の除去、Feなどの不純物イオ
ンのAlイオンへの置換析出、さらには低原子価Alの
除去が行われる。このように不純物金属イオンの置換な
どが行われためっき浴は次いで循環路8を経てめっき槽
2に戻される。めっき浴の循環量は目的とするめっき浴
の水分量、不純物金属イオン濃度、そして低原子価Al
濃度に応じて決定すればよい。
所からの溶融塩浴循環回路8が設けられ、ポンプ9の作
用によって、制御された量のめっき浴が流量計10によ
って反応槽11に送られ、内部に充填されたAl粒12
に接触させられ、吸湿分の除去、Feなどの不純物イオ
ンのAlイオンへの置換析出、さらには低原子価Alの
除去が行われる。このように不純物金属イオンの置換な
どが行われためっき浴は次いで循環路8を経てめっき槽
2に戻される。めっき浴の循環量は目的とするめっき浴
の水分量、不純物金属イオン濃度、そして低原子価Al
濃度に応じて決定すればよい。
【0015】本発明によれば反応槽11が循環路8を介
在させてめっき槽2から分離されているため、めっき浴
4の汚染はみられず、めっき浴の管理は効果的に行われ
る。反応槽2に充填されるAlの設置形態は特に制限さ
れず、例えば粉、粒、切片、線など適宜形態で充填され
ていてもよい。めっき浴との接触面積を可及的に広くで
きればよい。このように本発明は、AlまたはAl合金
を粉、粒、切片、線等の形態で反応槽に充填し、この反
応槽にめっき浴を循環させながら、めっきを行う点に特
徴があり、さらに好ましくは、通電電流値に応じ、必要
なめっき浴循環量を制御する点に特徴がある。
在させてめっき槽2から分離されているため、めっき浴
4の汚染はみられず、めっき浴の管理は効果的に行われ
る。反応槽2に充填されるAlの設置形態は特に制限さ
れず、例えば粉、粒、切片、線など適宜形態で充填され
ていてもよい。めっき浴との接触面積を可及的に広くで
きればよい。このように本発明は、AlまたはAl合金
を粉、粒、切片、線等の形態で反応槽に充填し、この反
応槽にめっき浴を循環させながら、めっきを行う点に特
徴があり、さらに好ましくは、通電電流値に応じ、必要
なめっき浴循環量を制御する点に特徴がある。
【0016】すなわち、本発明によれば、前記■の吸湿
によって生じた浴中の水分は反応槽でAlまたはAl合
金と反応して水素ガスと酸化物になって除去され、前記
■のFeイオン等の不純物イオンはAlまたはAl合金
と置換反応して析出し、そして、前記■の通電に伴って
発生するAl低原子価イオンは、その存在形態、反応は
明らかでないが、例えば、3Al+ +Al→Al3+
+3Al 等の不均化反応によって除去されるものと考
えられる。
によって生じた浴中の水分は反応槽でAlまたはAl合
金と反応して水素ガスと酸化物になって除去され、前記
■のFeイオン等の不純物イオンはAlまたはAl合金
と置換反応して析出し、そして、前記■の通電に伴って
発生するAl低原子価イオンは、その存在形態、反応は
明らかでないが、例えば、3Al+ +Al→Al3+
+3Al 等の不均化反応によって除去されるものと考
えられる。
【0017】反応に用いるAlまたはAl合金の形状は
前述のように、特に限定されるものではないが、液の流
通性、反応表面積、交換の容易性等を考慮して、目詰ま
りしない程度の粉、粒、切片、線等を用いるのが良い。 また、反応効率が低下した場合は交換する必要がある。 本発明方法で使用する溶融塩浴としては、通常用いられ
ているAlCl3−XCl(X:アルカリ金属) の2
成分または多成分系の混合溶融塩無水浴を用いる。なお
、この浴に、必要に応じて有機アミン、フッ化物、臭化
物、ヨウ化物、アルカリ土類金属塩等の添加を行ったも
のを用いてもよい。
前述のように、特に限定されるものではないが、液の流
通性、反応表面積、交換の容易性等を考慮して、目詰ま
りしない程度の粉、粒、切片、線等を用いるのが良い。 また、反応効率が低下した場合は交換する必要がある。 本発明方法で使用する溶融塩浴としては、通常用いられ
ているAlCl3−XCl(X:アルカリ金属) の2
成分または多成分系の混合溶融塩無水浴を用いる。なお
、この浴に、必要に応じて有機アミン、フッ化物、臭化
物、ヨウ化物、アルカリ土類金属塩等の添加を行ったも
のを用いてもよい。
【0018】ただし、Al合金めっきのため、他の金属
イオンを添加する場合は、nAl(パウダー等) +3
Mn+→3M+nAl3+ (Mは添加金属) の置換
反応により、金属イオンが除去されてしまう可能性のあ
るものは不可である。しかし、例えばAl−Mn合金め
っきにおけるMn2+やAl−Ti合金めっきにおける
Ti3+、Ti2+のように、ほとんど前記の置換反応
を起こさない種類の金属イオンの場合は何ら問題はない
。
イオンを添加する場合は、nAl(パウダー等) +3
Mn+→3M+nAl3+ (Mは添加金属) の置換
反応により、金属イオンが除去されてしまう可能性のあ
るものは不可である。しかし、例えばAl−Mn合金め
っきにおけるMn2+やAl−Ti合金めっきにおける
Ti3+、Ti2+のように、ほとんど前記の置換反応
を起こさない種類の金属イオンの場合は何ら問題はない
。
【0019】また、めっきすべき基体金属としては、鋼
、ステンレス鋼、銅、ニッケルなどどのような金属でも
よいし、形状も、板、棒、管など何ら限定されるもので
はない。次に、本発明の好適態様によれば、めっき浴の
循環量は次のようにして決定される。
、ステンレス鋼、銅、ニッケルなどどのような金属でも
よいし、形状も、板、棒、管など何ら限定されるもので
はない。次に、本発明の好適態様によれば、めっき浴の
循環量は次のようにして決定される。
【0020】反応槽の容量および循環量は除去すべき反
応種の濃度と反応速度によって決定される。すなわち、
Feイオンなどの除去すべき量は浴中濃度の測定で把握
することができる。しかし、低原子価Alイオンは通電
に伴うもので、電気量に応じてある割合で必然的に、あ
る割合で発生すると考えられるが、その形態が明確でな
いため、めっき浴中の濃度を定量することはできない。 しかし、本発明によれば、この循環量は、 L>1×10−7×I/η L: 反応槽への循環量 (m3/sec)I: 全め
っき電流 (A) η: 反応槽の反応効率 (−) で与えられる。ここに全めっき電流とは一つのめっき液
系に流しためっき通電総量であり、反応槽の反応効率は
Al低原子価イオンの不均化反応に着目したときの一循
環当りの反応割合である。
応種の濃度と反応速度によって決定される。すなわち、
Feイオンなどの除去すべき量は浴中濃度の測定で把握
することができる。しかし、低原子価Alイオンは通電
に伴うもので、電気量に応じてある割合で必然的に、あ
る割合で発生すると考えられるが、その形態が明確でな
いため、めっき浴中の濃度を定量することはできない。 しかし、本発明によれば、この循環量は、 L>1×10−7×I/η L: 反応槽への循環量 (m3/sec)I: 全め
っき電流 (A) η: 反応槽の反応効率 (−) で与えられる。ここに全めっき電流とは一つのめっき液
系に流しためっき通電総量であり、反応槽の反応効率は
Al低原子価イオンの不均化反応に着目したときの一循
環当りの反応割合である。
【0021】特に本発明によれば通常の条件下ではめっ
き浴におけるAl低原子価イオンの濃度がめっき外観を
支配するため、めっき外観を損なわない最大濃度以下に
抑制するための必要循環量が上式で規定されるのである
。 換言すれば上述の循環量が確保されればめっき浴の水分
、Feイオンなどの不純物イオンの影響は解消される。
き浴におけるAl低原子価イオンの濃度がめっき外観を
支配するため、めっき外観を損なわない最大濃度以下に
抑制するための必要循環量が上式で規定されるのである
。 換言すれば上述の循環量が確保されればめっき浴の水分
、Feイオンなどの不純物イオンの影響は解消される。
【0022】循環量は多い程良いのは当然だが、設備が
大規模となるため、必要最少限の量を把握し、この値を
基準に抑制管理することが最も好適である。浴の管理を
循環量で行うのは次の理由による。通常不純物等の管理
はその濃度を用いて行われる。本発明の場合も同様であ
る。しかし、めっき不良となるイオン種の特定とその定
量が現在の技術において不可能な場合は循環量で制御す
ることが好ましい。すなわち、良好なめっきを阻害する
特定イオン種の濃度をC(g/m3)、良好限界濃度を
CL (g/m3)、めっき電流をI(A) 、反応槽
への循環量をL(m3/sec)、特定イオンの発生率
をα(g/クーロン) 、反応槽の反応効率をη (−
) とすると、
大規模となるため、必要最少限の量を把握し、この値を
基準に抑制管理することが最も好適である。浴の管理を
循環量で行うのは次の理由による。通常不純物等の管理
はその濃度を用いて行われる。本発明の場合も同様であ
る。しかし、めっき不良となるイオン種の特定とその定
量が現在の技術において不可能な場合は循環量で制御す
ることが好ましい。すなわち、良好なめっきを阻害する
特定イオン種の濃度をC(g/m3)、良好限界濃度を
CL (g/m3)、めっき電流をI(A) 、反応槽
への循環量をL(m3/sec)、特定イオンの発生率
をα(g/クーロン) 、反応槽の反応効率をη (−
) とすると、
【0023】
【化1】
【0024】αの値およびCL の値が特定できない場
合も反応槽の反応時間を十分にとればη=1(−) と
なるから、Lを変化させてα/CL の値は実験的に求
めることが可能である。Al低原子価イオンの場合につ
いて本発明者等は検討の結果、α/CL =1×10−
7を得た。本発明によれば上記特定イオン種としてAl
低原子価イオンを想定し、めっき浴中でのその濃度がめ
っき外観の支配因子と考え上述のようにめっき浴循環量
を規定するのである。
合も反応槽の反応時間を十分にとればη=1(−) と
なるから、Lを変化させてα/CL の値は実験的に求
めることが可能である。Al低原子価イオンの場合につ
いて本発明者等は検討の結果、α/CL =1×10−
7を得た。本発明によれば上記特定イオン種としてAl
低原子価イオンを想定し、めっき浴中でのその濃度がめ
っき外観の支配因子と考え上述のようにめっき浴循環量
を規定するのである。
【0025】
【実施例】図1に示す装置を使用して下記条件で鋼板の
溶融塩浴Al電気めっきを行った。 めっき浴 : AlCl3−NaCl−KCl (モ
ル比 61:26:13)にMnCl2 3000pp
m 添加100 ℃、200 リットルめっき条件:
板厚 0.5mm、幅 150mmの鋼板コイルを通板
し、これに電流値500〜2000A でめっきを行い
、この間の経時変化を調べた。 Al反応槽 : 直径 200mmの反応カラムに直
径10mmのAl粒を高さ600 mmに充填し、この
カラムにめっき浴をめっき通電と同時に循環させた。 めっき性状の評価は平滑性、パウダー析出の有無等を総
合した外観評価にて5段階評価で行った。
溶融塩浴Al電気めっきを行った。 めっき浴 : AlCl3−NaCl−KCl (モ
ル比 61:26:13)にMnCl2 3000pp
m 添加100 ℃、200 リットルめっき条件:
板厚 0.5mm、幅 150mmの鋼板コイルを通板
し、これに電流値500〜2000A でめっきを行い
、この間の経時変化を調べた。 Al反応槽 : 直径 200mmの反応カラムに直
径10mmのAl粒を高さ600 mmに充填し、この
カラムにめっき浴をめっき通電と同時に循環させた。 めっき性状の評価は平滑性、パウダー析出の有無等を総
合した外観評価にて5段階評価で行った。
【0026】図2は電流値2000Aにてそれぞれケー
スA、B、C、Dの循環条件でそれぞれ5時間の連続め
っきを行った結果を示すグラフである。なお本例におけ
る循環量は次の通りであった。 ケースA: 3×10−4m3/sec、ケースB:
2×10−4m3/sec、ケースC: 1×10−4
m3/sec、そしてケースD: 循環なし この反応カラムの効率は、ほぼη=1(−) %であり
、先述の(1) 式で見ると、α/CL ×I/η=2
×10−4m3/secであり、ケースA、Bに示すよ
うに循環量を規定することによる本発明の効果が明らか
である。
スA、B、C、Dの循環条件でそれぞれ5時間の連続め
っきを行った結果を示すグラフである。なお本例におけ
る循環量は次の通りであった。 ケースA: 3×10−4m3/sec、ケースB:
2×10−4m3/sec、ケースC: 1×10−4
m3/sec、そしてケースD: 循環なし この反応カラムの効率は、ほぼη=1(−) %であり
、先述の(1) 式で見ると、α/CL ×I/η=2
×10−4m3/secであり、ケースA、Bに示すよ
うに循環量を規定することによる本発明の効果が明らか
である。
【0027】図3は、同一条件での溶融塩浴電気めっき
において、循環量を1×10−4m3/secと一定に
して、電流値を変化させたものである。ケースEが50
0A、ケースFが1000A 、ケースGが2000A
である。この電流値で式(1) α/CL ×I/η
の値はケースEが0.5 ×10−5m3/sec、ケ
ースFが1.0 ×10−4m3/sec、ケースGが
2×10−4m3/secであり、やはり本発明による
循環量規定の効果は明らかである。
において、循環量を1×10−4m3/secと一定に
して、電流値を変化させたものである。ケースEが50
0A、ケースFが1000A 、ケースGが2000A
である。この電流値で式(1) α/CL ×I/η
の値はケースEが0.5 ×10−5m3/sec、ケ
ースFが1.0 ×10−4m3/sec、ケースGが
2×10−4m3/secであり、やはり本発明による
循環量規定の効果は明らかである。
【0028】
【発明の効果】本発明によって溶融塩Al電気めっき方
法が初めて実用化可能となったのであり、特に長時間の
連続操業が可能になったことから今日その実現が望まれ
ているAl−Mnめっきの実用化を可能にするなど、本
発明の意義は大きい。
法が初めて実用化可能となったのであり、特に長時間の
連続操業が可能になったことから今日その実現が望まれ
ているAl−Mnめっきの実用化を可能にするなど、本
発明の意義は大きい。
【図1】本発明にかかる方法を実施するめっき装置の概
要図である。
要図である。
【図2】本発明の実施例の結果を示すグラフである。
【図3】本発明の実施例の結果を示すグラフである。
1 : 鋼帯
2 : めっきセル 3 : 陽極 4 : 溶融塩めっき浴 5 : 通
電ロール 6 : デフレクタロール 7 : 直流電源 8
: 溶融塩浴循環回路 9 : ポンプ 10 : 流量計 1
1 : 反応槽 12 : Al
粒
2 : めっきセル 3 : 陽極 4 : 溶融塩めっき浴 5 : 通
電ロール 6 : デフレクタロール 7 : 直流電源 8
: 溶融塩浴循環回路 9 : ポンプ 10 : 流量計 1
1 : 反応槽 12 : Al
粒
Claims (2)
- 【請求項1】 塩化アルミニウムを1成分とする溶融
塩めっき浴を用いてアルミニウムまたはアルミニウム合
金を基体金属上に電気めっきする方法であって、めっき
通電期間中、前記溶融塩めっき浴を反応槽に循環させ、
該反応槽においてアルミニウムまたはアルミニウム合金
に接触させることを特徴とする溶融塩Al電気めっき方
法。 - 【請求項2】前記溶融塩めっき浴の前記反応槽への循環
量を次のように規定する請求項1記載の方法。 L≧1×10−7×I/η L: 反応槽への循環量 (m3/sec)I: 全め
っき電流 (A) η: 反応槽の反応効率 (−)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11044091A JPH04337097A (ja) | 1991-05-15 | 1991-05-15 | 溶融塩Al電気めっき方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11044091A JPH04337097A (ja) | 1991-05-15 | 1991-05-15 | 溶融塩Al電気めっき方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04337097A true JPH04337097A (ja) | 1992-11-25 |
Family
ID=14535777
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11044091A Pending JPH04337097A (ja) | 1991-05-15 | 1991-05-15 | 溶融塩Al電気めっき方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04337097A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20190095289A (ko) | 2016-12-16 | 2019-08-14 | 가부시키가이샤 유에이씨제이 | 전해 알루미늄박의 제조방법 및 제조장치 |
-
1991
- 1991-05-15 JP JP11044091A patent/JPH04337097A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20190095289A (ko) | 2016-12-16 | 2019-08-14 | 가부시키가이샤 유에이씨제이 | 전해 알루미늄박의 제조방법 및 제조장치 |
| US11519090B2 (en) | 2016-12-16 | 2022-12-06 | Uacj Corporation | Method and apparatus for producing electrolytic aluminum foil |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19981027 |