JPH04337449A - 気体センサ - Google Patents

気体センサ

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JPH04337449A
JPH04337449A JP4031644A JP3164492A JPH04337449A JP H04337449 A JPH04337449 A JP H04337449A JP 4031644 A JP4031644 A JP 4031644A JP 3164492 A JP3164492 A JP 3164492A JP H04337449 A JPH04337449 A JP H04337449A
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マルティン ホラント
Botho Ziegenbein
ボト ツィーゲンバイン
Guenther Stecher
ギュンター シュテッヒャー
Detlef Baresel
デトレフ バレゼル
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    • G01N27/02Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は請求項1の上位概念に記
載の気体センサを前提とする。
【0002】
【従来技術】ヨーロッパ特許出願公報第0323937
号に、支持体を有する気体センサが示されており、この
場合この支持体上にセンサエレメントが薄膜技術により
または厚膜技術によっても被着されている。支持体とし
て、例えばガラス,酸化シリコンまたはセラミックのよ
うな電気絶縁材料から成るデイスクが用いられる。この
支持体は次のように設けられている切欠を有する。即ち
中央領域と外側領域とが互いに結合されるように切欠が
設けられている。中央領域の上にまず最初に、センサエ
レメントの加熱のために用いられる抵抗層が被着される
。この抵抗層の上に電気絶縁層が折出されている。この
上に2つの互いに対向して配置される電極が被着されて
おり、それらの電気接続は、電極上方の中央領域の上に
折出されている感応層により、形成されている。抵抗層
とこの層構成体の両方の電極との電気接触接続は、連結
体上に折出された導体路を介して外側領域上へ導びかれ
る。この刊行物に示されている気体センサにおいては連
結体が直線状に形成されている。支持体の外側領域から
の中央領域の良好な熱絶縁を得る目的で、連結体は著し
く薄く形成する必要がある。何故ならばこの連結体も著
しく短かいからである。ここに示されているセンサエレ
メントの電極は長方形のないし点状の面として形成され
ている。この種のセンサエレメントは著しく高いオーム
値を有するため、気体センサの測定領域へ不利に作用す
る。
【0003】
【発明の効果】請求項1の特徴部分に示された構成を有
する本発明による気体センサは、著しく簡単な構成によ
り特徴づけられている。少なくとも1つの加熱装置を支
持体の中央領域の下側に被着したことにより、および電
極とセンサエレメントの感応層を支持体の中央領域の直
接上側に被着したことにより、センサの製造が従来技術
に比較して簡単化される。加熱装置とセンサエレメント
との間の電気絶縁層としての支持体基板そのものの選択
は、薄いセラミック基板の使用の場合に著しく簡単にな
る、何故ならばこの場合は前側と後側との間の熱交換が
著しく迅速に行なわれるからである。支持体基板の直接
上側へのセンサエレメントの被着は次の理由でも有効で
ある。即ちこれにより、厚膜センサエレメント例えばS
nO2センサエレメントも薄膜センサエレメント例えば
フタルシアニンセンサエレメントも被着できるため有効
である。中央領域を中心とする連結体のらせん状の構成
体が、中央領域と外側領域の加熱装置およびセンサエレ
メントとの著しく良好な熱的な減結合を行なわせる。連
結体は著しく長いためこの連結体は著しく大きな強度で
安定化されて設計できる。さらに連結体のらせん構成が
センサの所要スペースを著しく小さくすることを保証す
る。互いに入り組み合うくし形構成体としてセンサエレ
メントの電極の構造は著しく有利である、何故ならばこ
れにより多数の抵抗エレメントの並列接続体が形成され
、これによりこの上に設けられるセンサ層の全抵抗が著
しく低減される。これによりセンサエレメントの全抵抗
は、測定のために良好に進入できる抵抗領域の中での有
害気体の吸着の場合に、変化する。
【0004】請求項2以下に示された構成により、請求
項1に示されたセンサの種々の構成が可能となる。特に
有利であるのは、正確な温度調整のために必要な温度測
定抵抗も中央領域の下側に設けたことである。製造のた
めに著しく有利であるのは、加熱装置を熱抵抗として実
現し、この場合、熱抵抗と温度測定抵抗をまず最初に途
切れない厚膜面としてプリントし、続いてレーザ切削に
より構造化したことである。抵抗装置と加熱調整器の適
切な選択により、センサエレメント上での均質な温度分
布が得られる。次の構成は特に有利である、即ち支持体
の裏側上に被着された抵抗の電気接触接続を、支持体1
0の中の貫通接触接続を用いて例えば厚膜技術により支
持体の表面へ導びくのである。これにより構成技術の著
しい簡単化が達せられる。本発明の構造により加熱電力
がしたがって加熱調整器の損失電力が著しくわずかに維
持される。これにより電力ユニットを有する加熱調整器
もおよび評価回路の少なく一部を外側領域における支持
体上に被着できるようになる。そのため有利なスペース
節約となる。厚膜技術によるおよび/または薄膜技術に
よる本発明のセンサの全体のまたは少なくとも一部の構
成は、コスト的に有利でありかつ操作が簡単である。
【0005】本発明の気体センサの良好な熱的な減結合
が、複数個の各種のセンサエレメントと評価回路との支
持体基板の上への統合化を可能にする。個々のセンサエ
レメントの間のおよび基板からの良好な熱的な減結合は
、熱力学的な理由から著しく重要である、何故ならばセ
ンサエレメントはそれらの抵抗値を、有害気体の例えば
CO,NOxの吸収の際に変化してその結果を、高めら
れた温度(約150℃〜500℃)の場合に増幅する目
的で作動されるからである。
【0006】有利であるのは、完成したセンサモジュー
ルを加熱調整器および評価回路のセンサエレメントと共
に複数個の部分室を有する1つのケーシングの中に設け
ることである。そのため評価回路をケーシングの閉鎖さ
れた部分の中に設置し、他方、各々のセンサエレメント
はケーシングの送風される部分の中に設けられる。この
場合に著しく有利であるのは、検査されるべき空気を濾
過器を介して導びくことである。この濾過器は各々のセ
ンサエレメントに対して、検査されるべき空気の特別の
成分を濾過する。ケーシングの中に統合される、送風モ
ータを有する送風器は有利である。何故ならばこの送風
器は、気体流ないし粒子流を一定速度でセンサエレメン
トを介して導びくからである。濾過器と必要に応じて、
送風モータを有する送風器との一体化が、気体センサの
コンパクトな構成を可能にする。
【0007】
【実施例】次に本発明の実施例を図面を用いて説明する
【0008】図1において電気絶縁材料からたとえばセ
ラミックまたはガラスから成る支持体が10で示されて
いる。支持体10は切欠14を有しており、この切欠は
、次のように設けられている。即ちそれぞれ3つの切欠
14が1つの中央領域12を囲むようにし、次にこの中
央領域が帯状体13だけを介して外側領域11と接続さ
れている様に、設けられている。切欠14は、帯状体1
3が領域12を中心としてらせん状に形成されるように
、寸法が選定されて配置されている。これにより、スト
ラクチャの高い強度と、支持体10の外側領域11から
の、中央領域12の効果的な熱的絶縁を保証する著しく
スペースの節約された長い保持アームが構成できる。 切欠14は例えば支持体10の中へのレーザ切り込みに
より、制作することができる;この場合、図2に示され
ている様な簡単な切り込みにされるか、または図1に示
されている様な支持体材料からのセグメントの切り出し
除去にされる。さらに切欠を、焼結されない(緑の)セ
ラミックからの打ち抜き除去することもできる。
【0009】図3に、図1においてストラクチャ化され
た支持体10の横断面が示されている。この支持体は複
数個の回路エレメントを、気体センサの機能に応じて有
している。支持体10の中央領域12の上側に、2つの
電極201と202が互いに対向するように設けられて
いる。この上に感ガス層21が分離配置されている。こ
の感ガス層は、両方の電極201と202との間の導電
接続を形成する。中央領域12の下側に、加熱抵抗25
と温度測定抵抗26が被着されている。中央領域12は
切欠14により外側領域11から分離されており、さら
にらせん状に形成された帯状体13だけを介して外側領
域11と接続されている。帯状体13の上側および下側
に導体路311,312が、外側領域11まで分離配置
されている。これらの導体路311,312を介して、
両方の電極201,202ならびに熱抵抗25と温度測
定抵抗26が接触接続可能である。図3に示されている
気体センサの実施例の場合、支持体10の外側領域11
において貫通接触体32が設けられている。この貫通接
触体を介して、中央領域12の下側に被着されている回
路エレメントが、この実施例の場合は抵抗25と26が
、支持体10の上側から電気接触接続可能となる。評価
回路30も、図3には示されていない加熱抵抗35も、
外側領域11において支持体10の上側へ被着されてい
る。支持体10の上への個々の回路エレメントの被着は
、図3に示されている様に厚膜−または薄膜技術により
実施できる。そのため例えば、加熱抵抗25と温度測定
抵抗26をまず最初に、閉じた厚膜抵抗面として支持体
10の中央領域12の下側へプリントし、続いてレーザ
切り込みによりストラクチャ化することができる。 本来のセンサエレメントの両方のコンポーネントのため
には、即ち電極201,202および感ガス層21のた
めには、厚膜による実現のほかに薄膜による実現も可能
である。何故ならばこれらのコンポーネントは、支持体
10の上へ直接被着されるからである。導体路311,
312も、厚膜−または必要に応じて薄膜技術により実
現できる。支持体10の中央領域12の下側に被着され
た抵抗25,26の電気接続用の貫通接触化は、厚膜技
術の標準の方法である。
【0010】図3に示されたセンサの測定の基本は次の
事象にもとづく、即ち感ガス層21の設けられた両方の
電極201,202の全抵抗が、この感ガス層21によ
り吸収される有害気体の量に応じて変化する事象にもと
づく。そのため、検査されるべき空気は支持体10の、
センサエレメントの被着された表面の上を導びかれる。 センサエレメントの抵抗変化が検出されて評価回路30
により評価される。熱力学的な理由から、センサエレメ
ントは、検出されるべき有害ガスの種類に応じて温度が
上昇する際に、約150℃〜500℃において作動され
る。センサエレメントの加熱は、支持体10の中央領域
12の下側の加熱抵抗25により行なわれる。しかし別
個の加熱装置により行なうこともできる。温度測定抵抗
26は正確な温度調整の目的で用いられる、何故ならば
測定結果の品質は、センサエレメント上の均質な温度分
布に決定的に依存するからである。帯状体13の本発明
によるストラクチャにより、支持体10の外側領域11
からの中央領域12の次のような良好な熱的な減結合が
達せられる、即ち別個に加熱可能なセンサエレメントが
、支持体の複数個の中央領域12の上に配置可能となり
、そのため各種の有害気体の検出の目的に使用可能とな
ることにより、達せられる。この良好な熱的な減結合が
評価回路を、ならびに電力ユニットを有する加熱調整器
を支持体10の残りの部分の上に、外側領域11の上に
も配置可能にする。
【0011】図4は電極201と202の有利な構成を
示す。本発明により、電極が互いに入り組むくし形スト
ラクチャとして形成され、次にこのストラクチャの上を
感ガス層21が分離配置される。この特別な構成は複数
個の均質な抵抗の並列接続体のように作用し、さらにセ
ンサエレメントの抵抗全体を、良好に測定可能な領域へ
移行させる目的に用いられる。その結果、抵抗変化の範
囲が正確に検出できる。  図5に50で、複数個の部
分室501,502,503および504を有するケー
シングが示されている。センサエレメント1,2ならび
に評価回路30と加熱調整器35を有する支持体10が
、次のようにケーシング50の中に組み込まれている。 即ち閉じられた部分室503の中に評価回路30と加熱
調整器35が設けられる様に、組み込まれている。この
閉じられた部分室503にセンサ用の端子プラグ57が
設けられている。2つの部分室501と502の中にそ
れぞれセンサエレメント1と2が設けられている。これ
らの部分室は、フアン53を用いて送風される。このフ
アンは、4番目の部分室504の中に設けられている送
風モータ54に接続されている。さらに部分室501と
502の外壁の中にそれぞれフイルタ51と52が設け
られている。これらのフイルタは必要に応じて、測定前
の検査されるべき空気の準備供給を引き受ける。ケーシ
ング50の中へ統合化されるフアン53とフアンモータ
54により、気体流ないし粒子流を一定速度で、センサ
エレメント1と2の上へ導びくことができる。図5に示
されたケーシングを有する本発明の気体センサは、著し
くコンパクトな容積により特徴づけられる。
【図面の簡単な説明】
【図1】ストラクチャ化された支持体の実施例を示す図
である。
【図2】ストラクチャ化された支持体の実施例を示す図
である。
【図3】回路エレメントを有するストラクチャ化された
支持体の横断面図である。
【図4】センサエレメントの電極配置の平面図である。
【図5】ケーシングを有する気体センサを示す図である
【符号の説明】
10    支持体 11    外側領域 12    中央領域 13    帯状体 14    切欠 21    感温層 25    加熱抵抗 26    温度測定抵抗 30    評価回路 35    加熱調整器 50    ケーシング 51,52    フイルタ 53    フアン 54    送風モータ 201,202    電極 311,312    導体路

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  電気絶縁材料から成る、切欠の設けら
    れたデイスク状の支持体を有し、該支持体は、連結体を
    介して互いに結合されている少なくとも1つの中央領域
    と外側領域を有しており、さらに支持体の該少なくとも
    1つの中央領域上に設けられたセンサエレメントを有し
    、該センサエレメントは2つの互いに対向して設けられ
    た電極を有しており、さらに電極間の伝導結合を形成す
    る感応層を有しており、少なくとも1つのセンサエレメ
    ント用の少なくとも1つの加熱装置を有し、さらに該少
    なくとも1つのセンサエレメントと該少なくとも1つの
    加熱装置とを電気接続するために連結体上へ設けられた
    導体路とを有する気体センサにおいて、 −  連結体(13)が中央領域(12)から始まって
    らせん状に中央領域(13)を中心として形成されてお
    り、 −  両方の電極(201,202)と感応層(21)
    とを有するセンサエレメント(1,2)が中央領域(1
    2)の上側へ直接被着されており、 −  両方の電極(201,201)が互いに入り組む
    形構造体として形成されており、 −  さらに少なくとも1つの加熱装置(25)が中央
    領域(12)の下側へ被着されていることを特徴とする
    気体センサ。
  2. 【請求項2】  少なくとも1つの加熱装置(25)が
    少なくとも1つの加熱抵抗により実現されている請求項
    1記載の気体センサ。
  3. 【請求項3】  少なくとも1つの温度測定抵抗(26
    )が中央領域(12)の下側に設けられている請求項1
    又は2記載の気体センサ。
  4. 【請求項4】  少なくとも1つの加熱抵抗(25)お
    よび/または少なくとも1つの温度測定抵抗(26)が
    、支持体(10)の中へ設けられる貫通接触接続体(3
    2)により、支持体(10)の上側から電気接触接続さ
    れるようにした請求項1から3までのいずれか1項記載
    の気体センサ。
  5. 【請求項5】  評価回路(30)がおよび/または1
    つまたは複数個の加熱調整器(35)が支持体(10)
    の外側領域(11)の上に設けられている請求項1から
    4までのいずれか1項記載の気体センサ。
  6. 【請求項6】  少なくとも1つのセンサエレメント(
    1,2),少なくとも1つの加熱抵抗(25),少なく
    とも1つの温度測定抵抗(26),導体路(311,3
    12),貫通接触接続体(32),評価回路(30)お
    よび加熱調整器(35)が少なくとも部分的に厚膜技術
    によりおよび/または薄膜技術により実現されている請
    求項1から5までのいずれか1項記載の気体センサ。
  7. 【請求項7】  1つの支持体(10)の上に、別個に
    加熱可能なセンサエレメント(1,2)が、それぞれ中
    央領域(12)の上に設けられている請求項1から6ま
    でのいずれか1項記載の気体センサ。
  8. 【請求項8】  少なくとも1つのセンサエレメント(
    1,2),評価回路(30)および加熱調整器(35)
    を有する支持体(10)が、複数個の部分室(501,
    502,503,504)を有するケーシング(50)
    の中に設けられており、この場合、評価回路(30)と
    加熱調整器(35)が、空気案内から閉鎖される部分室
    (503)の中に設けられており、少なくとも1つのセ
    ンサエレメントが、検査されるべき空気の貫流する別の
    部分室(501,502)の中へ設けられている請求項
    1から7までのいずれか1項記載の気体センサ。
  9. 【請求項9】  少なくとも1つのセンサエレメント(
    1,2)への空気案内を調整可能にする目的で、送風モ
    ータ(54)を有する送風器(53)が設けられている
    請求項8記載の気体センサ。
  10. 【請求項10】  少なくとも1つの部分室(501,
    502)の中へ貫流する空気を濾過するために少なくと
    も1つのフィルタが設けられており、この場合、前記の
    部分室の中に少なくとも1つのセンサエレメント(1,
    2)が設けられている請求項8又は9記載の気体センサ
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008051854A (ja) * 2006-08-22 2008-03-06 Konica Minolta Business Technologies Inc 定着装置、及び画像形成装置

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5455475A (en) * 1993-11-01 1995-10-03 Marquette University Piezoelectric resonant sensor using the acoustoelectric effect
JP2582343B2 (ja) * 1993-12-04 1997-02-19 エルジー電子株式会社 低消費電力型薄膜ガスセンサ及びその製造方法
US6044689A (en) * 1997-04-24 2000-04-04 Ngk Insulators, Ltd. Apparatus for sensing low concentration NOx, chamber used for apparatus for sensing low concentration NOx; gas sensor element and method of manufacturing the same; and ammonia removing apparatus and NOx sensor utilizing this apparatus
US5880354A (en) * 1997-06-11 1999-03-09 Cts Corporation Gas sensor with orientation insensitivity
DE19736824C1 (de) 1997-08-23 1999-04-29 Bosch Gmbh Robert Sensoreinheit, insbesondere zur Luftgütemessung
US6596236B2 (en) 1999-01-15 2003-07-22 Advanced Technology Materials, Inc. Micro-machined thin film sensor arrays for the detection of H2 containing gases, and method of making and using the same
DE112005000248B4 (de) * 2004-01-27 2015-04-30 H2Scan Corp. Verfahren und Vorrichtung zur thermischen Isolation eines Gassensors
DE112005000251B4 (de) * 2004-01-27 2016-03-10 H2Scan Corp. Isolierte Gassensoranordnung
US20180128774A1 (en) * 2016-11-07 2018-05-10 Epistar Corporation Sensing device

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5853862B2 (ja) * 1978-02-20 1983-12-01 松下電器産業株式会社 可燃性ガス検知素子
DE3019387C2 (de) * 1980-05-21 1986-01-23 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Dünnschicht-Halbleiter-Gassensor mit einem in den Sensoraufbau integrierten Heizelement
JPS61275648A (ja) * 1985-05-31 1986-12-05 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> マイクロガスセンサ
US4706493A (en) * 1985-12-13 1987-11-17 General Motors Corporation Semiconductor gas sensor having thermally isolated site
FR2615287B1 (fr) * 1987-05-12 1989-10-06 Suisse Electronique Microtech Micro-capteur a technologie integree pour la detection de la presence de certains gaz
US4847783A (en) * 1987-05-27 1989-07-11 Richard Grace Gas sensing instrument
FR2625561B1 (fr) * 1988-01-04 1993-08-06 Coreci Structure de support pour capteur de gaz
FI82774C (fi) * 1988-06-08 1991-04-10 Vaisala Oy Integrerad uppvaermbar sensor.
JPH0320658A (ja) * 1989-03-30 1991-01-29 Ricoh Co Ltd 多ガス識別ガス検出装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008051854A (ja) * 2006-08-22 2008-03-06 Konica Minolta Business Technologies Inc 定着装置、及び画像形成装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP3083622B2 (ja) 2000-09-04
US5211053A (en) 1993-05-18
DE4105025C1 (ja) 1992-07-02
GB2253060A (en) 1992-08-26
GB9203641D0 (en) 1992-04-08
GB2253060B (en) 1995-01-18

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