JPH04338657A - Connecting structure connecting method and connecting device between chip part and substrate - Google Patents
Connecting structure connecting method and connecting device between chip part and substrateInfo
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Abstract
Description
【0001】0001
【産業上の利用分野】本発明は、基板上の配線導体への
チップ部品の溶融金属による接続構造、接続方法および
接続装置に関し、更に詳しくは、半田バンプ等溶融金属
バンプを利用したIC、LSI等チップ部品の基板上へ
の高密度接続構造、接続方法および接続装置に関する。[Field of Industrial Application] The present invention relates to a connection structure, a connection method, and a connection device of a chip component to a wiring conductor on a board using molten metal. The present invention relates to a high-density connection structure, connection method, and connection device for chip components on a substrate.
【0002】0002
【従来の技術】近年、IC、LSI等チップ部品の小型
化、高集積化および多ピン化に伴い、基板に対するこれ
らチップ部品の高密度接続技術の確立が不可欠となって
いる。2. Description of the Related Art In recent years, as chip components such as ICs and LSIs have become smaller, more highly integrated, and have more pins, it has become essential to establish high-density connection technology for these chip components to substrates.
【0003】従来より、セラミック基板、ガラス基板、
エポキシ樹脂基板等に形成された配線導体へのIC等チ
ップ部品の接続方法としては、半田バンプを利用したリ
フローによるセルフアライメント接続法が一般に用いら
れている。この方法では、チップ部品の接続パッド上若
しくは基板上に形成された配線導体上に予めほぼ球形の
半田バンプが形成され、基板の配線導体上に半田バンプ
を介してチップ部品を載せた状態で基板を介して半田バ
ンプが加熱され、溶融した半田バンプの表面張力の作用
でチップ部品が配線導体上に位置決めされる。一方、フ
ィルム基板上へのIC等チップ部品の接続方法としては
、金バンプと錫メッキパターンとを高温高圧下で熱圧着
させる熱圧着法又はワイヤボンディング法が一般に用い
られている。Conventionally, ceramic substrates, glass substrates,
As a method for connecting chip components such as ICs to wiring conductors formed on an epoxy resin substrate or the like, a self-alignment connection method using reflow using solder bumps is generally used. In this method, approximately spherical solder bumps are formed in advance on connection pads of chip components or wiring conductors formed on a board, and the chip components are placed on the wiring conductors of the board via the solder bumps. The solder bump is heated through the molten solder bump, and the chip component is positioned on the wiring conductor by the action of the surface tension of the molten solder bump. On the other hand, as a method for connecting chip components such as ICs to a film substrate, a thermocompression method or a wire bonding method is generally used in which gold bumps and tin plating patterns are thermocompression bonded under high temperature and pressure.
【0004】0004
【発明が解決しようとする課題】リフロー方式の接続方
法では、半田バンプはチップ部品の自重による加圧力を
受けるため、図5(a) に示すように、チップ部品1
の接続パッド2上の半田バンプ3は溶融時に基板(図示
省略)上の配線導体4とチップ部品1上の接続パッド2
との間で樽状に押しつぶされた状態で冷却固化される。
このため、隣接するバンプ3,3同士が接触してブリッ
ジを形成する危険性が高くなる。バンプ3,3同士の接
触を回避するためには接続パッド2および配線導体4の
配設ピッチ間隔を広げる必要があるため、高密度接続化
が困難となっている。[Problem to be Solved by the Invention] In the reflow connection method, since the solder bumps are subjected to pressing force due to the weight of the chip component, as shown in FIG.
When melted, the solder bumps 3 on the connection pads 2 connect to the wiring conductors 4 on the substrate (not shown) and the connection pads 2 on the chip component 1.
It is cooled and solidified while being crushed into a barrel shape. Therefore, there is a high risk that the adjacent bumps 3, 3 will come into contact with each other and form a bridge. In order to avoid contact between the bumps 3, 3, it is necessary to widen the arrangement pitch of the connection pads 2 and the wiring conductors 4, making it difficult to achieve high-density connections.
【0005】また、チップ部品と基板とを半田等の溶融
金属で接続した構造においては、温度サイクル負荷をか
けたときのチップ部品と基板との熱膨張係数の差に起因
した熱疲労の問題を考える必要があるが、リフロー方式
の接続法で形成される樽状の接続半田3は横断面積に対
する接続高さ比が小さいため、熱疲労による導通不良が
早期に発生しやすく、高信頼性の確保が困難となってい
る。[0005] Furthermore, in a structure in which a chip component and a board are connected using molten metal such as solder, the problem of thermal fatigue caused by the difference in the coefficient of thermal expansion between the chip component and the board when subjected to a temperature cycle load can be avoided. Although it is necessary to consider this, the barrel-shaped connection solder 3 formed by the reflow connection method has a small connection height ratio to the cross-sectional area, so conduction failure due to thermal fatigue is likely to occur early, and high reliability can be ensured. is becoming difficult.
【0006】さらに、基板上に接続したIC、LSI等
チップ部品は、導体表面の酸化防止、絶縁性確保、耐衝
撃性向上等の目的で一般に樹脂で封止されるが、リフロ
ー方式の接続法で形成される樽状の接続半田3は上述し
たように横断面積に対する接続高さ比が小さいため、チ
ップ部品1と基板との間のギャップへの樹脂の回り込み
が悪くなり、該ギャップ内に気泡や空隙が残って十分な
封止効果が得られなくなるという問題が生じている。Furthermore, chip components such as ICs and LSIs connected to a substrate are generally sealed with resin for the purpose of preventing oxidation of the conductor surface, ensuring insulation, and improving impact resistance, but reflow connection methods are not recommended. As mentioned above, the barrel-shaped connection solder 3 formed by the connection solder 3 has a small connection height ratio to the cross-sectional area, so the resin does not easily wrap around the gap between the chip component 1 and the board, causing air bubbles to form in the gap. A problem has arisen in that a sufficient sealing effect cannot be obtained due to the remaining voids.
【0007】一方、上述した熱圧着法においては、配線
ピッチ間隔が100μm程度の高密度接続が可能である
が、IC、LSI等チップ部品に高温高圧によるダメー
ジを与える危険性があり、また金バンプを用いるためコ
ストが高くなる欠点がある。さらに高精度高剛性の装置
が必要で、300ピン以上の多ピン同時接続となると加
圧荷重が大きすぎて実現困難になるという問題がある。
また、図5(b) に示すように、チップ部品1上の接
続パッド2と基板(図示省略)上の配線導体4とを接続
する金バンプ5は高圧下で板上若しくは膜状に押しつぶ
されるため、温度サイクル負荷をかけたときのチップ部
品1と基板との熱膨張係数の差に起因した熱疲労や、樹
脂による封止の点についてはリフロー方式の接続法と同
様の問題が生じている。On the other hand, with the above-mentioned thermocompression bonding method, high-density connections with a wiring pitch of about 100 μm are possible, but there is a risk of damaging chip components such as ICs and LSIs due to high temperature and high pressure. The disadvantage is that the cost is high due to the use of Furthermore, a high-precision, high-rigidity device is required, and there is a problem in that simultaneous connection of 300 or more pins would require too large a pressurizing load and would be difficult to realize. Further, as shown in FIG. 5(b), the gold bumps 5 connecting the connection pads 2 on the chip component 1 and the wiring conductors 4 on the substrate (not shown) are crushed into a plate or film under high pressure. Therefore, the same problems as the reflow connection method occur with respect to thermal fatigue due to the difference in thermal expansion coefficient between the chip component 1 and the substrate when subjected to temperature cycle load, and sealing with resin. .
【0008】ワイヤボンディング法はボンディングを1
本ずつ行うため、ボンディング作業に長時間を要する。
したがって、多ピンチップ部品の接続には適していない
。[0008] The wire bonding method performs bonding in one
The bonding process takes a long time because it is done one by one. Therefore, it is not suitable for connecting multi-pin chip components.
【0009】上記従来技術の問題点に鑑み、本発明の目
的は、配線ピッチ間隔の短縮化による高密度接続が可能
で低コストで高信頼性のチップ部品と基板との接続構造
を提供することにある。In view of the above-mentioned problems of the prior art, an object of the present invention is to provide a low-cost and highly reliable connection structure between a chip component and a board, which enables high-density connection by shortening the wiring pitch interval. It is in.
【0010】本発明の他の目的は、配線ピッチ間隔の短
縮化による高密度接続が可能で高信頼性のチップ部品と
基板との接続構造を低コストで実現できるチップ部品と
基板との接続方法および接続装置を提供することにある
。Another object of the present invention is to provide a method for connecting a chip component to a substrate, which enables high-density connection by shortening the wiring pitch interval and realizes a highly reliable connection structure between the chip component and the substrate at low cost. and to provide connecting devices.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明は
、チップ部品上又は基板上の配線導体上に形成された溶
融金属バンプを介してチップ部品と基板上の配線導体と
を接続するチップ部品と基板との接続構造において、前
記溶融金属バンプが前記チップ部品と前記基板との間で
略直胴状若しくは鼓状をなして固化していることを特徴
とする。[Means for Solving the Problems] The invention as set forth in claim 1 connects a chip component and a wiring conductor on a substrate via molten metal bumps formed on the chip component or on the wiring conductor on the substrate. In the connection structure between a chip component and a substrate, the molten metal bump is solidified between the chip component and the substrate to form a substantially straight body shape or a drum shape.
【0012】上記構成において、好ましくは、溶融金属
バンプは半田バンプとされる。また、基板としてはフィ
ルム状基板、セラミック基板、ガラス基板又は樹脂基板
の何れかを用いることができる。[0012] In the above structure, preferably the molten metal bumps are solder bumps. Further, as the substrate, any one of a film substrate, a ceramic substrate, a glass substrate, or a resin substrate can be used.
【0013】請求項4に記載の発明は、チップ部品上又
は基板上の配線導体上に形成された溶融金属バンプを介
してチップ部品と基板上の配線導体とを当接させ、溶融
金属バンプを基板上の配線導体上で加熱し溶融させた後
に冷却し固化させることにより、チップ部品と基板上の
配線導体とを溶融金属バンプを介して接続するチップ部
品と基板との接続方法において、前記溶融金属バンプの
溶融時にチップ部品と基板との間のギャップを溶融前の
溶融金属バンプの高さ寸法以上に調節することを特徴と
する。The invention according to claim 4 brings the chip component into contact with the wiring conductor on the substrate through the molten metal bump formed on the chip component or the wiring conductor on the substrate, and the molten metal bump is brought into contact with the wiring conductor on the substrate. In a method for connecting a chip component and a substrate, the chip component and the wiring conductor on the substrate are connected via a molten metal bump by heating and melting the wiring conductor on the substrate and then cooling and solidifying the molten metal bump. The present invention is characterized in that, when the metal bumps are melted, the gap between the chip component and the substrate is adjusted to be greater than the height of the molten metal bumps before melting.
【0014】上記構成において、好ましくは、前記溶融
金属バンプの溶融時に、溶融金属バンプが略直胴状若し
くは鼓状をなすようにチップ部品と基板との間のギャッ
プが調節される。[0014] In the above structure, preferably, when the molten metal bump is melted, the gap between the chip component and the substrate is adjusted so that the molten metal bump has a substantially straight body shape or a drum shape.
【0015】請求項6に記載の発明は、チップ部品上又
は基板上の配線導体上に形成された溶融金属バンプを介
してチップ部品と基板上の配線導体とを当接させ、該溶
融金属バンプを加熱し溶融させた後に冷却し固化させる
ことにより、チップ部品と基板上の配線導体とを溶融金
属バンプを介して接続するチップ部品と基板との接続方
法において、前記溶融金属バンプを介した前記チップ部
品と前記配線導体との当接時に前記溶融金属バンプの頂
部に所定の加圧力を加えて全ての溶融金属バンプを同一
高さとし、その後前記溶融金属バンプを溶融温度へと加
熱する前に前記加圧力を減圧し若しくは無加圧状態にす
ることを特徴とする。[0015] According to the sixth aspect of the invention, the chip component and the wiring conductor on the substrate are brought into contact via the molten metal bump formed on the chip component or the wiring conductor on the substrate, and the molten metal bump is In a method for connecting a chip component and a substrate, in which the chip component and the wiring conductor on the substrate are connected via the molten metal bumps by heating and melting the molten metal bumps, and then cooling and solidifying the molten metal bumps. When the chip component and the wiring conductor come into contact, a predetermined pressure is applied to the tops of the molten metal bumps to make all the molten metal bumps the same height, and then before heating the molten metal bumps to a melting temperature, It is characterized by reducing the pressurizing force or making it in a non-pressurized state.
【0016】請求項7に記載の発明は、チップ部品と基
板のうちの一方を保持するボンディングステージと、チ
ップ部品と基板のうちの他方を押圧し、チップ部品上又
は基板上の配線導体上に形成された溶融金属バンプを介
してチップ部品と基板上の配線導体とを当接させるボン
ディングツールと、チップ部品又は基板のうちの少なく
とも一方を介して溶融金属バンプを溶融温度まで加熱す
る加熱部とを備えたチップ部品と基板とを接続するため
の接続装置において、前記ボンディングステージ又は前
記ボンディングツールが、溶融金属バンプの溶融時にチ
ップ部品と基板との間のギャップを溶融前の溶融金属バ
ンプの高さ寸法以上に調節するための微調整機構を備え
ていることを特徴とする。[0016] The invention according to claim 7 includes a bonding stage that holds one of the chip component and the substrate, and a bonding stage that presses the other of the chip component and the substrate, and presses the other of the chip component and the substrate. a bonding tool that brings the chip component into contact with a wiring conductor on the board through the formed molten metal bump; and a heating unit that heats the molten metal bump to a melting temperature through at least one of the chip component or the board. In the connection device for connecting a chip component and a substrate, the bonding stage or the bonding tool reduces the height of the molten metal bump before melting by reducing the gap between the chip component and the substrate when the molten metal bump is melted. It is characterized by being equipped with a fine adjustment mechanism for adjusting the dimensions beyond the size.
【0017】上記構成の接続装置において、好ましくは
、前記ボンディングツールが溶融金属バンプの頂部に所
定の加圧力を加える加圧機構と、溶融金属バンプが溶融
温度へと加熱される前に加圧機構の加圧力を減圧し若し
くは無加圧状態にする減圧機構とを具備する。In the connecting device configured as described above, preferably, the bonding tool includes a pressurizing mechanism that applies a predetermined pressurizing force to the top of the molten metal bump, and a pressurizing mechanism that applies a predetermined pressurizing force to the top of the molten metal bump, and a pressurizing mechanism that applies a predetermined pressurizing force to the top of the molten metal bump. A pressure reducing mechanism is provided to reduce the pressure applied or to make it into a non-pressurized state.
【0018】さらに、請求項9に記載の発明は、チップ
部品と基板のうちの一方を保持するボンディングステー
ジと、チップ部品と基板のうちの他方を押圧し、チップ
部品上又は基板上の配線導体上に形成された溶融金属バ
ンプを介してチップ部品と基板上の配線導体とを当接さ
せるボンディングツールと、チップ部品又は基板のうち
の少なくとも一方を介して溶融金属バンプを溶融温度ま
で加熱する加熱部とを備えたチップ部品と基板とを接続
するための接続装置において、前記ボンディングツール
が溶融金属バンプの頂部に所定の加圧力を加える加圧機
構と、溶融金属バンプが溶融温度へと加熱される前に加
圧機構の加圧力を減圧し若しくは無加圧状態にする減圧
機構とを備えていることを特徴とする。Furthermore, the invention according to claim 9 includes a bonding stage that holds one of the chip component and the substrate, and a bonding stage that presses the other of the chip component and the substrate, and presses the other of the chip component and the substrate to bond the wiring conductor on the chip component or the substrate. A bonding tool that brings the chip component into contact with the wiring conductor on the board through the molten metal bump formed thereon, and heating that heats the molten metal bump to a melting temperature through at least one of the chip component or the board. A connecting device for connecting a chip component and a substrate, comprising: a pressurizing mechanism in which the bonding tool applies a predetermined pressurizing force to the top of the molten metal bump; and a pressurizing mechanism in which the molten metal bump is heated to a melting temperature. The present invention is characterized in that it includes a pressure reducing mechanism that reduces the pressure applied by the pressure mechanism or makes it in a non-pressurized state before the pressure is applied.
【0019】[0019]
【作用】請求項1に記載したチップ部品と基板との接続
構造においては、溶融金属バンプが前記チップ部品と前
記基板との間で溶融された後に略直胴状即ち中央部に膨
らみもくびれも生じていない形状若しくは鼓状に中央部
がくびれた形状をなして固化しているので、隣接する接
続パッド間若しくは配線導体間が溶融金属同士の接触に
より短絡する危険性がなくなり、配線ピッチ間隔の短縮
化による高密度接続が可能になる。また、同一体積の溶
融金属バンプを樽状に押しつぶして固化させた場合に比
べて溶融金属の横断面積に対する接続高さ比が増大する
ので、熱疲労による導通不良の発生を抑制することがで
きる。また、チップ部品と基板との間のギャップを増大
させることができるので、チップ部品の接続後にチップ
部品を樹脂で封止する場合には、該ギャップ内への樹脂
の回り込みが容易になり、完全封止が可能になる。[Operation] In the connection structure between the chip component and the substrate according to claim 1, after the molten metal bump is melted between the chip component and the substrate, it does not bulge or constrict in a substantially straight shape, that is, in the center. Since it is solidified in an unformed shape or a constricted center part like a drum, there is no risk of short circuits between adjacent connection pads or wiring conductors due to contact between molten metals, and the wiring pitch interval can be reduced. High-density connections are possible by shortening the length. Furthermore, since the connection height ratio to the cross-sectional area of the molten metal increases compared to the case where molten metal bumps of the same volume are crushed into a barrel shape and solidified, it is possible to suppress the occurrence of conduction failure due to thermal fatigue. In addition, since the gap between the chip component and the substrate can be increased, when sealing the chip component with resin after connecting the chip component, the resin can easily wrap around the gap and completely seal the chip component with resin. Enables sealing.
【0020】請求項4に記載したチップ部品と基板との
接続方法においては、溶融金属バンプの溶融時にチップ
部品と基板との間のギャップが溶融前の溶融金属バンプ
の高さ寸法以上に調節されるので、冷却により固化した
溶融金属バンプは溶融前の最大横断面積よりも小さな最
大横断面積を有することとなる。したがって、隣接する
接続パッド間若しくは配線導体間が溶融金属同士の接触
により短絡する危険性がなくなり、配線ピッチ間隔の短
縮化による高密度接続が可能になる。また、同一体積の
溶融金属バンプを樽状に押しつぶして固化させた場合に
比べて溶融金属の横断面積に対する接続高さ比が増大す
るので、耐熱疲労性に優れたチップ部品と基板との接続
構造を低コストで実現することができる。In the method for connecting a chip component and a substrate according to claim 4, when the molten metal bump is melted, the gap between the chip component and the substrate is adjusted to be greater than or equal to the height of the molten metal bump before melting. Therefore, the molten metal bump solidified by cooling has a maximum cross-sectional area smaller than the maximum cross-sectional area before melting. Therefore, there is no risk of short-circuiting between adjacent connection pads or wiring conductors due to contact between molten metals, and high-density connections can be achieved by shortening the wiring pitch interval. In addition, compared to the case where molten metal bumps of the same volume are crushed into a barrel shape and solidified, the ratio of connection height to the cross-sectional area of molten metal increases, resulting in a connection structure between chip components and substrates with excellent thermal fatigue resistance. can be realized at low cost.
【0021】上記方法において、溶融金属バンプの溶融
時に、溶融金属バンプが略直胴状若しくは鼓状をなすよ
うにチップ部品と基板との間のギャップを調節した場合
、チップ部品と基板との間で冷却固化される溶融金属バ
ンプは略直胴状若しくは鼓状のものになるので、更に高
密度接続が可能で耐熱疲労性に優れたチップ部品と基板
との接続構造を低コストで実現できることとなる。[0021] In the above method, when the gap between the chip component and the substrate is adjusted so that the molten metal bump has a substantially straight body shape or a drum shape when the molten metal bump is melted, the gap between the chip component and the substrate is adjusted. The molten metal bumps that are cooled and solidified become approximately straight-shaped or drum-shaped, making it possible to realize a connection structure between chip components and substrates that enables higher-density connections and has excellent thermal fatigue resistance at a lower cost. Become.
【0022】請求項6に記載した方法によれば、チップ
部品上に形成された溶融金属バンプと基板上の配線導体
とを当接させる際に、溶融金属バンプに加えられる所定
加圧力により、溶融金属バンプの高さばらつきをなくす
ることができるので、全ての溶融金属バンプを均一に加
熱することができる。また、溶融金属バンプが溶融温度
に加熱される前に前記加圧力を減圧し若しくは無加圧状
態にするので、溶融金属バンプ内の圧縮応力が極めて小
さいか若しくは圧縮応力の生じていない状態で溶融金属
バンプを溶融させることができる。したがって、溶融時
に溶融金属バンプの横への広がりを小さくし、隣接する
溶融金属バンプ同士が接触しブリッジを形成する危険性
を少なくすることができる。したがって、接続の信頼性
を更に高めることができる。また、溶融金属バンプの横
への広がりを小さく抑えることができるので、配線ピッ
チ間隔の短縮化による高密度接続が可能になる。さらに
また、溶融金属バンプの横への広がりを小さく抑えるこ
とにより、固化した溶融金属バンプの横断面積に対する
接続高さ比の低下を抑制することができるので、耐熱疲
労性に優れたチップ部品と基板との接続構造を実現でき
ることとなる。According to the method described in claim 6, when the molten metal bumps formed on the chip component are brought into contact with the wiring conductors on the substrate, a predetermined pressure applied to the molten metal bumps causes the molten metal bumps to melt. Since variations in the height of the metal bumps can be eliminated, all the molten metal bumps can be heated uniformly. In addition, since the pressurizing force is reduced or no pressure is applied before the molten metal bump is heated to the melting temperature, the compressive stress inside the molten metal bump is extremely small, or the molten metal bump is melted with no compressive stress occurring. Metal bumps can be melted. Therefore, it is possible to reduce the lateral spread of the molten metal bumps during melting, and to reduce the risk that adjacent molten metal bumps will come into contact with each other and form a bridge. Therefore, the reliability of the connection can be further improved. Further, since the lateral spread of the molten metal bumps can be suppressed to a small extent, high-density connections can be achieved by shortening the wiring pitch interval. Furthermore, by suppressing the lateral spread of the molten metal bumps, it is possible to suppress a decrease in the connection height ratio to the cross-sectional area of the solidified molten metal bumps, resulting in chip components and substrates with excellent thermal fatigue resistance. This makes it possible to realize a connection structure with.
【0023】請求項7に記載した接続装置においては、
溶融金属バンプの溶融時にチップ部品と基板との間のギ
ャップを溶融前の溶融金属バンプの高さ寸法以上に調節
するので、冷却により固化した溶融金属バンプは溶融前
の最大横断面積よりも小さな最大横断面積を有すること
となる。したがって、隣接する接続パッド間若しくは配
線導体間が溶融金属同士の接触により短絡する危険性が
少なくなり、配線ピッチ間隔の短縮化による高密度接続
が可能になる。また、同一体積の溶融金属バンプを樽状
に押しつぶして固化させた場合に比べて溶融金属の横断
面積に対する接続高さ比が増大するので、耐熱疲労性に
優れたチップ部品と基板との接続構造を低コストで実現
することができる。[0023] In the connection device according to claim 7,
When the molten metal bump is melted, the gap between the chip component and the substrate is adjusted to be greater than or equal to the height of the molten metal bump before melting, so the molten metal bump solidified by cooling has a maximum cross-sectional area smaller than the maximum cross-sectional area before melting. It has a cross-sectional area. Therefore, the risk of short-circuiting between adjacent connection pads or wiring conductors due to contact between molten metals is reduced, and high-density connections can be achieved by shortening the wiring pitch interval. In addition, compared to the case where molten metal bumps of the same volume are crushed into a barrel shape and solidified, the ratio of connection height to the cross-sectional area of molten metal increases, resulting in a connection structure between chip components and substrates with excellent thermal fatigue resistance. can be realized at low cost.
【0024】上記構成の装置において、ボンディングツ
ールが溶融金属バンプの頂部を所定加圧力で加圧する加
圧機構と、溶融金属バンプが溶融温度に加熱される前に
加圧機構の加圧力を減圧し若しくは無加圧状態にする減
圧機構とを具備する場合、加圧機構により加えられる所
定加圧力により、溶融金属バンプの高さばらつきをなく
して全ての溶融金属バンプを均一に加熱することができ
る。また、溶融金属バンプが溶融温度へと加熱される前
に減圧機構によって加圧機構の加圧力を減圧し若しくは
無加圧状態にするので、溶融金属バンプ内の圧縮応力が
極めて小さいか若しくは圧縮応力の生じていない状態で
溶融金属バンプを溶融させることができる。したがって
、溶融時に溶融金属バンプの横への広がりを小さくする
ことができ、隣接する溶融金属バンプ同士が接触しブリ
ッジを形成する危険性を少なくすることができる。した
がって、接続の信頼性を更に高めることができる。In the apparatus configured as described above, the bonding tool includes a pressure mechanism that presses the top of the molten metal bump with a predetermined pressure, and a pressure mechanism that reduces the pressure of the pressure mechanism before the molten metal bump is heated to the melting temperature. Alternatively, in the case where a decompression mechanism is provided to bring the pressure to a non-pressurized state, the predetermined pressure applied by the pressure mechanism can eliminate variations in the height of the molten metal bumps and uniformly heat all the molten metal bumps. In addition, before the molten metal bump is heated to the melting temperature, the pressurizing force of the pressurizing mechanism is reduced by the depressurizing mechanism or the compressive stress in the molten metal bump is extremely small, or the compressive stress inside the molten metal bump is extremely small. It is possible to melt the molten metal bump in a state where the molten metal bump is not generated. Therefore, the lateral spread of the molten metal bumps during melting can be reduced, and the risk of adjacent molten metal bumps coming into contact with each other to form a bridge can be reduced. Therefore, the reliability of the connection can be further improved.
【0025】請求項9に記載した装置構成によれば、チ
ップ部品上又は基板上の配線導体上に形成された溶融金
属バンプを介してチップ部品と基板上の配線導体とを当
接させる際に、加圧機構により加えられる所定加圧力に
より、溶融金属バンプの高さばらつきをなくして全ての
溶融金属バンプを均一に加熱することができる。また、
溶融金属バンプが溶融温度へと加熱される前に減圧機構
によって加圧機構の加圧力を減圧し若しくは無加圧状態
にするので、溶融金属バンプ内の圧縮応力が極めて小さ
いか若しくは圧縮応力の生じていない状態で溶融金属バ
ンプを溶融させることができる。したがって、溶融時に
溶融金属バンプの横への広がりを小さくすることができ
、隣接する溶融金属バンプ同士が接触しブリッジを形成
する危険性を少なくすることができる。したがって、接
続の信頼性を更に高めることができる。また、溶融金属
バンプの横への広がりを小さく抑えることができるので
、配線ピッチ間隔の短縮化による高密度接続が可能にな
る。さらにまた、溶融金属バンプの横への広がりを小さ
く抑えることにより、固化した溶融金属バンプの横断面
積に対する接続高さ比の低下を抑制することができるの
で、耐熱疲労性に優れたチップ部品と基板との接続構造
を実現できることとなる。According to the apparatus configuration described in claim 9, when the chip component and the wiring conductor on the board are brought into contact through the molten metal bumps formed on the chip component or the wiring conductor on the board, By applying a predetermined pressure force applied by the pressure mechanism, it is possible to eliminate variations in the height of the molten metal bumps and uniformly heat all the molten metal bumps. Also,
Before the molten metal bump is heated to the melting temperature, the pressurizing force of the pressurizing mechanism is reduced by the depressurizing mechanism or the pressure is left unpressurized, so the compressive stress in the molten metal bump is extremely small or no compressive stress occurs. It is possible to melt a molten metal bump without using a molten metal bump. Therefore, the lateral spread of the molten metal bumps during melting can be reduced, and the risk of adjacent molten metal bumps coming into contact with each other to form a bridge can be reduced. Therefore, the reliability of the connection can be further improved. Further, since the lateral spread of the molten metal bumps can be suppressed to a small extent, high-density connections can be achieved by shortening the wiring pitch interval. Furthermore, by suppressing the lateral spread of the molten metal bumps, it is possible to suppress a decrease in the connection height ratio to the cross-sectional area of the solidified molten metal bumps, resulting in chip components and substrates with excellent thermal fatigue resistance. This makes it possible to realize a connection structure with.
【0026】[0026]
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例につき
説明する。Embodiments Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
【0027】図1から図4までは本発明に従うチップ部
品と基板との接続構造の一実施例を示したものである。
はじめに図1および図2を参照すると、この実施例では
基板としてフィルム基板11が使用されており、フィル
ム基板11上には配線導体12が形成されている。所望
パターン形状の配線導体12を形成する方法としては、
特に限定はされないが、予め銅箔を接着剤13でフィル
ム基板11上に接着形成した後、マスクを介して銅箔を
エッチングする方法を採用することができる。また、配
線導体12の表面には予め半田等の溶融金属メッキを施
しておくことが好ましい。FIGS. 1 to 4 show an embodiment of a connection structure between a chip component and a substrate according to the present invention. First, referring to FIGS. 1 and 2, in this embodiment, a film substrate 11 is used as a substrate, and a wiring conductor 12 is formed on the film substrate 11. As a method for forming the wiring conductor 12 in a desired pattern shape,
Although not particularly limited, it is possible to employ a method in which a copper foil is bonded and formed on the film substrate 11 with the adhesive 13 in advance, and then the copper foil is etched through a mask. Further, it is preferable that the surface of the wiring conductor 12 be plated with molten metal such as solder in advance.
【0028】図1および図4に示すように、IC、LS
I等のチップ部品21は接続パッド22を有しており、
接続パッド22と配線導体12とが鼓状に中央部がくび
れた形状とされた半田バンプ23を介して接続されてい
る。半田バンプ23は予めチップ部品21の接続パッド
22上又は基板11上の配線導体12上に融着形成され
たものであり、接続パッド22上又は配線導体12上へ
の形成時に表面張力の作用でほぼ球形をなすものである
が、配線導体12上で加熱溶融された後、チップ部品2
1と基板11との間のギャップ調整により、ここでは略
鼓状に引き伸ばされた状態で冷却固化されている。一例
としてバンプ径が70〜80μmの半田バンプ23を使
用する場合、チップ部品21と基板11との間のギャッ
プを半田バンプ23の溶融時に20〜30μm又はそれ
以上増大させることにより、半田バンプ23を略鼓状に
形成することができる。As shown in FIGS. 1 and 4, IC, LS
The chip component 21 such as I has a connection pad 22,
The connection pad 22 and the wiring conductor 12 are connected via a solder bump 23 which is shaped like a drum and has a constricted center. The solder bumps 23 are formed in advance on the connection pads 22 of the chip components 21 or on the wiring conductors 12 on the substrate 11 by fusion bonding, and when they are formed on the connection pads 22 or the wiring conductors 12, the solder bumps 23 are bonded by surface tension. Although it has an almost spherical shape, after being heated and melted on the wiring conductor 12, the chip component 2
By adjusting the gap between the substrate 1 and the substrate 11, the substrate 11 is cooled and solidified in a stretched state in the shape of a drum. For example, when using solder bumps 23 with a bump diameter of 70 to 80 μm, the gap between the chip component 21 and the substrate 11 is increased by 20 to 30 μm or more when the solder bumps 23 are melted. It can be formed into a roughly drum shape.
【0029】上記実施例の接続構造においては、半田バ
ンプ23がチップ部品21と基板11との間で溶融され
た後に鼓状をなして固化しているので、隣接する接続パ
ッド22,22間若しくは配線導体12,12間が半田
バンプ23,23同士の接触により短絡する危険性がな
くなる。実験では、上記構成を採用することにより、配
線ピッチ間隔が100μm以下の場合であっても高い接
続信頼性が得られることが確認された。また、同一体積
の半田バンプを樽状に押しつぶして固化させた場合に比
べて半田の横断面積に対する接続高さ比が増大するので
、熱疲労による導通不良の発生を抑制することができる
。また、チップ部品21と基板11との間のギャップを
増大させることができるので、図3に示すように、チッ
プ部品21の接続後にチップ部品21を樹脂24で封止
する場合には、該ギャップ内への樹脂24の回り込みが
容易になり、完全封止が可能になる。In the connection structure of the above embodiment, since the solder bumps 23 are melted between the chip component 21 and the substrate 11 and then solidified into a drum shape, the solder bumps 23 are solidified in the shape of a drum. There is no risk of short circuit between the wiring conductors 12, 12 due to contact between the solder bumps 23, 23. In experiments, it was confirmed that by employing the above configuration, high connection reliability could be obtained even when the wiring pitch interval was 100 μm or less. Furthermore, since the ratio of the connection height to the solder cross-sectional area is increased compared to the case where solder bumps of the same volume are crushed into a barrel shape and solidified, it is possible to suppress the occurrence of conduction failure due to thermal fatigue. Furthermore, since the gap between the chip component 21 and the substrate 11 can be increased, as shown in FIG. The resin 24 can easily flow inside, making complete sealing possible.
【0030】なお、上記実施例では溶融金属バンプとし
て半田バンプを用いたが、半田と同程度の低融点合金か
らなる他の合金バンプを用いてもよい。また、半田バン
プ23はチップ部品21と基板11の配線導体12との
間で直胴状をなして固化されていてもよい。さらに、基
板としては上述したフィルム基板の他、セラミック基板
、ガラス基板、エポキシ等樹脂基板を用いることができ
る。Although solder bumps were used as the molten metal bumps in the above embodiments, other alloy bumps made of alloys with a melting point as low as solder may also be used. Further, the solder bump 23 may be solidified in a straight body shape between the chip component 21 and the wiring conductor 12 of the substrate 11. Further, as the substrate, in addition to the above-mentioned film substrate, a ceramic substrate, a glass substrate, and a resin substrate such as epoxy can be used.
【0031】図6は本発明に従うチップ部品と基板との
接続方法の一実施例を示す工程説明図である。なお、同
図において基板11上の配線導体12は誇張的に図示さ
れているが、例えば銅箔からなる配線導体12の厚みは
20〜30μm程度となる。図6を参照すると、この実
施例では、チップ部品21の接続パッド22上に形成さ
れた半田バンプ23をフィルム基板11上の配線導体1
2上で加熱し溶融させた後に冷却し固化させることによ
り、チップ部品21上の接続パッド22と基板11上の
配線導体12とが半田を介して接続されるが、半田バン
プ23の溶融時にチップ部品21と基板11との間のギ
ャップが溶融前の半田バンプ23の高さ寸法以上に調節
されることを特徴としている。FIG. 6 is a process diagram showing an embodiment of the method for connecting a chip component and a substrate according to the present invention. Although the wiring conductor 12 on the substrate 11 is illustrated in an exaggerated manner in the figure, the thickness of the wiring conductor 12 made of copper foil, for example, is about 20 to 30 μm. Referring to FIG. 6, in this embodiment, the solder bumps 23 formed on the connection pads 22 of the chip component 21 are connected to the wiring conductors 1 on the film substrate 11.
The connection pads 22 on the chip components 21 and the wiring conductors 12 on the substrate 11 are connected via solder by heating and melting the solder bumps 23 and then cooling and solidifying them. It is characterized in that the gap between the component 21 and the substrate 11 is adjusted to be greater than the height of the solder bump 23 before melting.
【0032】更に詳しく説明すると、この実施例では、
まずフィルム基板11が背後から加圧され(工程(a)
)、その加圧力によってフィルム基板11上の配線導
体12がチップ部品21の接続パッド22上に形成され
ている略球形の半田バンプ23に圧接される(工程(b
) )。上述したように、配線導体12の表面には予め
半田等の低融点金属メッキを施しておくことが好ましい
。
加圧工程において、半田バンプ23の頂部には所定の加
圧力が加えられ、これにより、半田バンプ23の高さば
らつきをなくすことができる。To explain in more detail, in this example,
First, the film substrate 11 is pressurized from behind (step (a)
), the wiring conductor 12 on the film substrate 11 is pressed against the approximately spherical solder bump 23 formed on the connection pad 22 of the chip component 21 (step (b)).
) ). As described above, it is preferable that the surface of the wiring conductor 12 be plated with a low melting point metal such as solder in advance. In the pressurizing process, a predetermined pressurizing force is applied to the top of the solder bump 23, thereby making it possible to eliminate variations in the height of the solder bump 23.
【0033】次に、半田バンプ23に加えられていた加
圧力が減圧され若しくは無加圧状態とされた後、半田バ
ンプ23が溶融温度まで加熱されることにより、半田バ
ンプ23が溶融される(工程(c) )。Next, after the pressure applied to the solder bumps 23 is reduced or no pressure is applied, the solder bumps 23 are heated to a melting temperature, thereby melting the solder bumps 23 ( Step (c)).
【0034】この加熱工程において、半田バンプ23は
基板11又はチップ部品21の少なくとも何れか一方を
介して加熱されるが、上述したように、予め全ての半田
バンプ23が同一高さに揃えられているので、全ての半
田バンプ23が均一に加熱され、均一な温度で溶融され
ることとなる。また、この実施例では、半田バンプ23
が加圧工程を経て溶融されるので、リフロー方式の半田
接続では必要とされるフラックスを省略しても、半田バ
ンプ23を配線導体12に対し確実に接合させることが
できる。In this heating step, the solder bumps 23 are heated through at least either the substrate 11 or the chip component 21, but as described above, all the solder bumps 23 are aligned at the same height in advance. Therefore, all the solder bumps 23 are uniformly heated and melted at a uniform temperature. Further, in this embodiment, the solder bump 23
Since the solder bumps 23 are melted through a pressurizing process, the solder bumps 23 can be reliably bonded to the wiring conductors 12 even if flux, which is required in reflow solder connections, is omitted.
【0035】さらに、この実施例では、上述したように
、半田バンプ23に加えられていた加圧力が減圧され若
しくは無加圧状態とされた後、半田バンプ23が溶融温
度まで加熱されるので、半田バンプ23内の圧縮応力が
きわめて小さいか若しくは圧縮応力の生じていない状態
で半田バンプ23を溶融させることができる。したがっ
て、溶融した半田バンプ23の横への広がりを小さくし
、隣接する半田バンプ同士が接触しブリッジを形成する
危険性を少なくすることができる。Furthermore, in this embodiment, as described above, after the pressure applied to the solder bumps 23 is reduced or no pressure is applied, the solder bumps 23 are heated to the melting temperature. The solder bump 23 can be melted while the compressive stress within the solder bump 23 is extremely small or no compressive stress is generated. Therefore, the lateral spread of the melted solder bumps 23 can be reduced, and the risk of adjacent solder bumps coming into contact with each other and forming a bridge can be reduced.
【0036】図7は半田バンプ23に加圧力を加えたま
ま半田バンプ23を溶融温度まで加熱した場合の例を、
上記実施例との比較のために示したものである。この比
較例における加圧工程(工程(a) および(b) )
は図6に示す工程(a) および(b) と同様である
が、この比較例では、加熱工程(工程(c) )おいて
半田バンプ23に加圧力が加えられたまま半田バンプ2
3が溶融されるので、半田バンプ23は横に大きく広が
り、隣接する半田バンプとの接触の危険性が高くなるこ
とが判る。FIG. 7 shows an example in which the solder bump 23 is heated to the melting temperature while applying pressure to the solder bump 23.
This is shown for comparison with the above example. Pressure step (steps (a) and (b)) in this comparative example
is the same as steps (a) and (b) shown in FIG. 6, but in this comparative example, the solder bump 23 is heated while the pressure is applied to the solder bump 23 in the heating step (step (c)).
3 is melted, the solder bump 23 widens laterally, increasing the risk of contact with adjacent solder bumps.
【0037】なお、本発明方法の上記実施例において、
チップ部品への熱影響を最小限度に抑えるため、加熱方
法としてはパルスヒート加熱を用いることが好ましい。
また、溶融温度までの加熱時間を短縮させるため、チッ
プ部品21を予加熱しておくことが好ましい。[0037] In the above embodiments of the method of the present invention,
In order to minimize the thermal influence on the chip components, it is preferable to use pulse heat heating as the heating method. Further, it is preferable to preheat the chip component 21 in order to shorten the heating time to the melting temperature.
【0038】更に図6を参照すると、本発明方法の上記
実施例では、半田バンプ23が溶融したときに、基板1
1又はチップ部品21(この実施例ではチップ部品21
)が微動されて、チップ部品21と基板11との間のギ
ャップが溶融前の半田バンプ23の高さ寸法以上となる
ように調節され、好ましくは、半田バンプ23が略直胴
状若しくは鼓状をなすようにチップ部品21と基板11
との間のギャップが調節される(工程(d) )。そし
て、調整されたギャップ寸法を保ったまま、半田バンプ
23は冷却されて固化される。Still referring to FIG. 6, in the above embodiment of the method of the present invention, when the solder bumps 23 melt, the substrate 1
1 or chip component 21 (in this embodiment, chip component 21
) is adjusted so that the gap between the chip component 21 and the substrate 11 is equal to or larger than the height of the solder bump 23 before melting. The chip component 21 and the substrate 11 are
(step (d)). Then, the solder bumps 23 are cooled and solidified while maintaining the adjusted gap size.
【0039】このように、この実施例においては、半田
バンプ23の溶融時にチップ部品21と基板11との間
のギャップが溶融前の半田バンプ23の高さ寸法以上に
調節されるので、冷却により固化した半田バンプ23は
溶融前の最大横断面積よりも小さな最大横断面積を有す
ることとなる。したがって、隣接する接続パッド22,
22間若しくは配線導体12,12間が半田バンプ同士
の接触により短絡する危険性がなくなり、配線ピッチ間
隔の短縮化による高密度接続が可能になる。また、同一
体積の半田バンプを樽状に押しつぶして固化させた場合
に比べて半田の横断面積に対する接続高さ比が増大する
ので、耐熱疲労性に優れたチップ部品と基板との接続構
造を低コストで実現することができる。As described above, in this embodiment, when the solder bumps 23 are melted, the gap between the chip component 21 and the substrate 11 is adjusted to be greater than the height of the solder bumps 23 before melting, so that the gap is adjusted to be greater than the height of the solder bumps 23 before melting. The solidified solder bump 23 has a maximum cross-sectional area smaller than the maximum cross-sectional area before melting. Therefore, adjacent connection pads 22,
22 or between the wiring conductors 12 and 12 due to contact between solder bumps, and high-density connection is possible by shortening the wiring pitch interval. In addition, compared to the case where solder bumps of the same volume are crushed and solidified into a barrel shape, the ratio of the connection height to the cross-sectional area of the solder increases, making it possible to reduce the connection structure between chip components and the board, which has excellent thermal fatigue resistance. This can be achieved at low cost.
【0040】特に、この実施例のように、半田バンプ2
3が略直胴状若しくは鼓状をなすようにチップ部品21
と基板11との間のギャップを調節した場合、チップ部
品21と基板11との間で冷却固化される半田バンプ2
3が略直胴状若しくは鼓状をなしたものになるので、更
に高密度接続が可能で耐熱疲労性に優れたチップ部品と
基板との接続構造を低コストで実現できることとなる。In particular, as in this embodiment, the solder bump 2
The chip part 21 is arranged so that 3 has a substantially straight body shape or a drum shape.
When the gap between the chip component 21 and the substrate 11 is adjusted, the solder bump 2 is cooled and solidified between the chip component 21 and the substrate 11.
3 has a substantially straight body shape or a drum shape, it is possible to realize a connection structure between a chip component and a substrate that can be connected at a higher density and has excellent thermal fatigue resistance at a low cost.
【0041】なお、本発明方法の一態様においては、予
めチップ部品21上又は基板11の配線導体12上に半
田バンプ23が均一高さに形成されている場合には、図
6に示すバンプ加圧工程(工程(b) )を省略するこ
とができる。また、本発明方法の他の態様においては、
図6に示す微動工程(工程(d) )を省略してもよい
。後者の態様の場合、上述した半田バンプ23の引張り
による配線ピッチ間隔の短縮効果や接続高さ比の増大効
果は得られないが、溶融した半田バンプ23の横への広
がりを小さく抑えることができ、隣接する半田バンプ同
士が接触しブリッジを形成する危険性を少なくすること
ができるので、接続の信頼性を高めることができる。ま
た、半田バンプ23の横への広がりを小さく抑えること
ができるので、配線ピッチ間隔の短縮化による高密度接
続が可能になる。さらにまた、半田バンプ23の横への
広がりを小さく抑えることにより、固化した半田バンプ
23の横断面積に対する接続高さ比の低下を抑制するこ
とができるので、耐熱疲労性に優れたチップ部品と基板
との接続構造を実現できることとなる。Note that in one embodiment of the method of the present invention, if the solder bumps 23 are previously formed to a uniform height on the chip component 21 or on the wiring conductor 12 of the substrate 11, the bump processing shown in FIG. The pressure step (step (b)) can be omitted. Furthermore, in another aspect of the method of the present invention,
The fine movement step (step (d)) shown in FIG. 6 may be omitted. In the case of the latter embodiment, the above-mentioned effect of shortening the wiring pitch interval or increasing the connection height ratio due to the tension of the solder bumps 23 cannot be obtained, but the horizontal spread of the melted solder bumps 23 can be suppressed to a small extent. Since the risk of adjacent solder bumps contacting each other and forming a bridge can be reduced, the reliability of the connection can be increased. Furthermore, since the lateral spread of the solder bumps 23 can be suppressed to a small extent, high-density connections can be achieved by shortening the wiring pitch interval. Furthermore, by suppressing the lateral spread of the solder bumps 23 to a small extent, it is possible to suppress a decrease in the connection height ratio to the cross-sectional area of the solidified solder bumps 23, thereby improving chip components and substrates with excellent thermal fatigue resistance. This makes it possible to realize a connection structure with.
【0042】図8から図10までは上述した接続方法を
実施するための接続装置の一実施例を示したものである
。はじめに図8および図9を参照すると、接続装置はチ
ップ部品21を保持するボンディングステージ31を備
えており、ボンディングステージ31の上方には帯状の
フィルム基板11がチップ部品21と向き合った状態で
ガイドローラ32,33等を介して緊張状態に保持され
ている。フィルム基板11の上方にはフィルム基板11
を背後から押圧してチップ部品21の接続パッド22上
に形成された溶融金属バンプ23と基板11上の配線導
体12とを当接させるボンディングツール34が設けら
れている。FIGS. 8 to 10 show an embodiment of a connecting device for carrying out the above-described connecting method. First, referring to FIGS. 8 and 9, the connecting device is equipped with a bonding stage 31 that holds a chip component 21. Above the bonding stage 31, a guide roller is placed with a band-shaped film substrate 11 facing the chip component 21. 32, 33, etc., to maintain tension. Above the film substrate 11 is a film substrate 11.
A bonding tool 34 is provided for pressing from behind to bring the molten metal bumps 23 formed on the connection pads 22 of the chip component 21 into contact with the wiring conductors 12 on the substrate 11.
【0043】ボンディングツール34は加圧機構をなす
加圧シリンダ35と、この加圧シリンダ35の可動ロッ
ド35aの先端に設けられたボンディングヘッド36と
、可動ロッド35aをチャッキングしてその移動を停止
させるロック機構35bとを備えており、更に、ボンデ
ィングツール34にはボンディングヘッド36およびフ
ィルム基板11を介して半田バンプ23を溶融温度まで
パルスヒート加熱するためのパルスヒート加熱部37が
組み込まれている。The bonding tool 34 chucks a pressure cylinder 35 forming a pressure mechanism, a bonding head 36 provided at the tip of a movable rod 35a of this pressure cylinder 35, and stops the movement of the movable rod 35a. The bonding tool 34 further includes a pulse heat heating section 37 for pulse heat heating the solder bump 23 to a melting temperature via the bonding head 36 and the film substrate 11. .
【0044】ボンディングステージ31はチップ部品2
1を搭載するボンディング台38と、ボンディング台3
8をボンディングヘッド36に対しX軸方向に位置調整
するためのX軸調整機構39と、ボンディング台38を
ボンディングヘッド36に対しY軸方向に位置調整する
ためのY軸調整機構40と、半田バンプ23の溶融時に
チップ部品21をZ軸方向に微動させてチップ部品21
とフィルム基板11との間のギャップを溶融前の溶融金
属バンプ23の高さ寸法以上に調節するためのZ軸微調
整機構41とを備えている。また、この実施例ではボン
ディング台38内にはチップ部品21を予加熱するため
の予加熱部(図示せず)が組み込まれている。ここでは
Z軸微調整機構41は、パルスモータ41aおよび該モ
ータの回転を直線運動に変換するボールねじ軸・ナット
機構(図示せず)を用いたものとなっており、X軸・Y
軸調整機構39,40を介してボンディング台38を微
動させる構成となっているが、カムの回転を利用してZ
軸方向の微動を行わせるものであってもよい。[0044] The bonding stage 31
1 and the bonding table 38 on which the bonding table 3 is mounted.
8 with respect to the bonding head 36 in the X-axis direction, a Y-axis adjustment mechanism 40 with which to adjust the position of the bonding table 38 in the Y-axis direction with respect to the bonding head 36, and a solder bump. The chip component 21 is slightly moved in the Z-axis direction when the chip component 23 is melted.
and a Z-axis fine adjustment mechanism 41 for adjusting the gap between the molten metal bump 23 and the film substrate 11 to be greater than the height of the molten metal bump 23 before melting. Further, in this embodiment, a preheating section (not shown) for preheating the chip component 21 is incorporated in the bonding table 38. Here, the Z-axis fine adjustment mechanism 41 uses a pulse motor 41a and a ball screw shaft/nut mechanism (not shown) that converts the rotation of the motor into linear motion,
The bonding table 38 is configured to be slightly moved through the shaft adjustment mechanisms 39 and 40, and the Z
It may also be one that allows slight movement in the axial direction.
【0045】図10(a) を参照すると、加圧シリン
ダ35の内部は上室と下室とに区画されており、加圧シ
リンダ35に対する駆動制御系は、加圧空気供給源42
と、上室に対する加圧空気の給排を制御する第1切換弁
43と、下室に対する加圧空気の給排を制御する第2切
換弁44とを備えており、第2切換弁44は、半田バン
プ23が溶融温度に加熱される前に加圧シリンダ35の
加圧力を減圧し若しくは無加圧状態にするための減圧機
構を構成している。Referring to FIG. 10(a), the inside of the pressurizing cylinder 35 is divided into an upper chamber and a lower chamber, and the drive control system for the pressurizing cylinder 35 is controlled by a pressurized air supply source 42.
, a first switching valve 43 that controls the supply and discharge of pressurized air to and from the upper chamber, and a second switching valve 44 that controls the supply and discharge of pressurized air to and from the lower chamber. , constitutes a pressure reduction mechanism for reducing the pressure applied by the pressure cylinder 35 or making it non-pressurized before the solder bump 23 is heated to the melting temperature.
【0046】次に、図8〜図10を参照して、図6に示
す接続方法を実施する場合の上記接続装置の作動工程を
説明する。まず、図10(a) に示すように、第1切
換弁43を介してシリンダ35の上室に加圧空気を供給
し、シリンダ35の下室は大気に開放させる。これによ
り可動ロッド35aが下降し、フィルム基板11が可動
ロッド先端のボンディングヘッド36により押圧されて
基板11上の配線導体12(図9)がチップ部品21上
の半田バンプ23に当接される。そして、図10(b)
に示すように、半田バンプ23には所定加圧力Fが加
えられる。Next, with reference to FIGS. 8 to 10, the operating steps of the above connection device when implementing the connection method shown in FIG. 6 will be described. First, as shown in FIG. 10(a), pressurized air is supplied to the upper chamber of the cylinder 35 via the first switching valve 43, and the lower chamber of the cylinder 35 is opened to the atmosphere. As a result, the movable rod 35a descends, the film substrate 11 is pressed by the bonding head 36 at the tip of the movable rod, and the wiring conductor 12 (FIG. 9) on the substrate 11 comes into contact with the solder bump 23 on the chip component 21. And FIG. 10(b)
As shown in FIG. 2, a predetermined pressing force F is applied to the solder bumps 23.
【0047】その後、図10(c) に示すように、第
2切換弁44を介してシリンダ35の下室に加圧空気が
供給されることにより、半田バンプ23に加えられてい
た加圧力が減圧され若しくは無加圧状態とされる。そし
て、図10(d) に示すように、可動ロッド35aが
ロック機構35bによってロックされた状態でパルスヒ
ート加熱部37(図8)が通電されることにより、半田
バンプ23が溶融温度に達するまでパルスヒート加熱さ
れる。次いで、半田バンプ23が溶融状態となったとき
に、図10(e) に示すように、チップ部品21がZ
軸微調整機構41(図8)により下方に微動されて、チ
ップ部品21と基板11との間のギャップが調整される
。こうして半田バンプ23は上下方向に引き伸ばされた
まま冷却され固化する。Thereafter, as shown in FIG. 10(c), pressurized air is supplied to the lower chamber of the cylinder 35 through the second switching valve 44, so that the pressurizing force applied to the solder bumps 23 is reduced. The pressure is reduced or the pressure is not applied. Then, as shown in FIG. 10(d), the pulse heat heating section 37 (FIG. 8) is energized with the movable rod 35a locked by the locking mechanism 35b until the solder bump 23 reaches the melting temperature. Heated by pulse heat. Next, when the solder bumps 23 are in a molten state, the chip component 21 is in the Z state as shown in FIG. 10(e).
It is finely moved downward by the axis fine adjustment mechanism 41 (FIG. 8) to adjust the gap between the chip component 21 and the substrate 11. In this way, the solder bumps 23 are cooled and solidified while being stretched in the vertical direction.
【0048】図11は半田バンプ23に加圧力を加えた
まま半田バンプ23を加熱溶融させる場合の工程を、上
記装置による作動工程との比較のために示したものであ
る。図11(b) 〜(c) に示すように、半田バン
プ23に加圧力Fを加えたまま可動ロッド35aをロッ
ク機構35bによってチャッキングすると、チャッキン
グ部より下方の可動ロッド35a等の内部に圧縮応力が
残存するため、図11(d) に示すように、その後シ
リンダ35の下室に加圧空気を供給したとしても、半田
バンプ23には残圧負荷fが加わることとなり、このた
め、溶融した半田バンプ23は横に大きく広がってしま
う。FIG. 11 shows the process of heating and melting the solder bump 23 while applying pressure to the solder bump 23, for comparison with the operation process of the above-described apparatus. As shown in FIGS. 11(b) to 11(c), when the movable rod 35a is chucked by the locking mechanism 35b while applying the pressure F to the solder bump 23, the inside of the movable rod 35a etc. below the chucking portion is Since compressive stress remains, even if pressurized air is subsequently supplied to the lower chamber of the cylinder 35, a residual pressure load f will be applied to the solder bump 23, as shown in FIG. 11(d). The melted solder bumps 23 spread widely laterally.
【0049】これに対し、本発明の上記実施例装置によ
れば、図10(c) および(d) に示すような減圧
若しくは無加圧化を行うことにより、半田バンプ23の
広がりを防止することができ、隣接する半田バン間のブ
リッジ形成を防止できるのである。In contrast, according to the apparatus of the embodiment of the present invention, spreading of the solder bumps 23 can be prevented by reducing or not applying pressure as shown in FIGS. 10(c) and 10(d). This makes it possible to prevent the formation of bridges between adjacent solder buns.
【0050】そして、上記実施例装置によれば、上述し
た図10(e) の工程を経ることにより、半田バンプ
23は溶融前の最大横断面積よりも小さな最大横断面積
を有することとなり、好ましくは直胴状若しくは鼓状に
中央部がくびれた柱形状となる。したがって、隣接する
接続パッド22間若しくは配線導体12間が半田同士の
接触により短絡する危険性が少なくなり、配線ピッチ間
隔の短縮化による高密度接続が可能になる。また、同一
体積の半田バンプを樽状に押しつぶして固化させた場合
に比べて溶融金属の横断面積に対する接続高さ比が増大
するので、耐熱疲労性に優れたチップ部品と基板との接
続構造を低コストで実現することができる。According to the apparatus of the above embodiment, by going through the process shown in FIG. It has a columnar shape with a constricted center like a straight trunk or a drum. Therefore, the risk of short-circuiting between adjacent connection pads 22 or wiring conductors 12 due to contact between solders is reduced, and high-density connections can be achieved by shortening the wiring pitch interval. Additionally, compared to the case where solder bumps of the same volume are crushed into a barrel shape and solidified, the ratio of the connection height to the cross-sectional area of the molten metal increases, so the connection structure between chip components and the board with excellent thermal fatigue resistance can be achieved. It can be realized at low cost.
【0051】なお、上記実施例装置ではボンディングス
テージ31側にZ軸方向の微調整機構41が備えられて
いるが、代替的にボンディングツール34側に同様の微
調整機構を設けてもよい。また、パルスモータとロード
セル等の圧力センサとを用いて加圧機構および減圧機構
を構成してもよく、さらに、フィルム基板11を下から
チップ部品21に向けて押圧するように、ボンディング
ステージ31とボンディングツール34を上記実施例と
は上下反対に配置してもよい。また、基板としてセラミ
ック基板、ガラス基板、樹脂基板等を用いる場合、基板
をボンディングツールに保持させるとともに、該基板を
チップ部品に向けて押圧させるように構成してもよい。[0051] In the above embodiment, the fine adjustment mechanism 41 in the Z-axis direction is provided on the bonding stage 31 side, but a similar fine adjustment mechanism may be provided on the bonding tool 34 side instead. Further, the pressure applying mechanism and the depressurizing mechanism may be configured using a pulse motor and a pressure sensor such as a load cell. Furthermore, the bonding stage 31 may be used to press the film substrate 11 from below toward the chip component 21. The bonding tool 34 may be arranged upside down from the above embodiment. Furthermore, when a ceramic substrate, a glass substrate, a resin substrate, or the like is used as the substrate, the bonding tool may hold the substrate and press the substrate toward the chip component.
【0052】[0052]
【発明の効果】以上の説明から明かなように、請求項1
に記載の構成によれば、配線ピッチ間隔の短縮化による
高密度接続が可能で低コストで信頼性の高いチップ部品
と基板との接続構造を提供することができる。[Effect of the invention] As is clear from the above explanation, claim 1
According to the configuration described in , it is possible to provide a low-cost and highly reliable connection structure between a chip component and a substrate, which enables high-density connection by shortening the wiring pitch interval.
【0053】また、請求項4および請求項6に記載の構
成によれば、高密度接続が可能で信頼性の高いチップ部
品と基板との接続構造を低コストで実現できるチップ部
品と基板との接続方法を提供することができる。Further, according to the configurations described in claims 4 and 6, a connection structure between a chip component and a substrate that enables high-density connection and realizes a highly reliable connection structure between the chip component and the substrate at low cost. A connection method can be provided.
【0054】さらに、請求項7および請求項9に記載の
構成によれば、高密度接続が可能で信頼性の高いチップ
部品と基板との接続構造を低コストで実現できるチップ
部品と基板とを接続するための接続装置を提供すること
ができる。Furthermore, according to the configurations described in claims 7 and 9, a chip component and a substrate can be connected to each other, which enables high-density connection and realizes a highly reliable connection structure between the chip component and the substrate at low cost. A connecting device can be provided for connecting.
【図1】 本発明に従うチップ部品と基板との接続構
造の一実施例を示す概略側面図。FIG. 1 is a schematic side view showing an embodiment of a connection structure between a chip component and a substrate according to the present invention.
【図2】 図1に示す接続構造を上方より見た概略平
面図。FIG. 2 is a schematic plan view of the connection structure shown in FIG. 1, viewed from above.
【図3】 図1に示す接続構造のチップ部品を樹脂で
封止した例を示す概略側面図。3 is a schematic side view showing an example in which the chip component of the connection structure shown in FIG. 1 is sealed with resin.
【図4】 図1に示す接続構造の基板上の配線導体と
チップ部品との間の半田接続関係を示す要部斜視図。4 is a perspective view of a main part showing the solder connection relationship between the wiring conductor on the board and the chip component of the connection structure shown in FIG. 1; FIG.
【図5】 従来のチップ部品と基板との接続構造にお
ける基板上の配線導体とチップ部品との接続状態を示す
要部斜視図であって、(a) はリフロー方式の半田接
続方法で形成された接続構造例を示し、(b) は金バ
ンプを用いた熱圧着法で形成された接続状態を示す。FIG. 5 is a perspective view of a main part showing a connection state between a wiring conductor on a board and a chip component in a conventional connection structure between a chip component and a board, in which (a) is formed by a reflow soldering method; (b) shows a connection formed by thermocompression bonding using gold bumps.
【図6】 本発明に従うチップ部品と基板との接続方
法の一実施例を示す工程説明図。FIG. 6 is a process explanatory diagram showing an example of a method for connecting a chip component and a substrate according to the present invention.
【図7】 チップ部品と基板との接続方法の比較例を
示す工程説明図。FIG. 7 is a process explanatory diagram showing a comparative example of a method of connecting a chip component and a board.
【図8】 本発明に従うチップ部品と基板とを接続す
るための接続装置の一実施例を示す要部概略斜視図。FIG. 8 is a schematic perspective view of a main part showing an embodiment of a connecting device for connecting a chip component and a substrate according to the present invention.
【図9】 図8に示す装置でチップ部品上の溶融金属
バンプと基板上の配線導体とを圧接させた状態を概略的
に示す一部断面側面図。9 is a partially cross-sectional side view schematically showing a state in which the molten metal bump on the chip component and the wiring conductor on the substrate are brought into pressure contact with each other using the apparatus shown in FIG. 8;
【図10】 図8に示す装置でチップ部品上の溶融金
属バンプと基板上の配線導体とを接続するまでの作業工
程を示す工程説明図。10 is a process explanatory diagram showing the work steps up to connecting the molten metal bumps on the chip component and the wiring conductors on the board using the apparatus shown in FIG. 8;
【図11】 接続装置の比較例においてチップ部品上
の溶融金属バンプと基板上の配線導体とを接続するまで
の作業工程を示す工程説明図。FIG. 11 is a process explanatory diagram showing the work steps up to connecting the molten metal bumps on the chip component and the wiring conductors on the board in a comparative example of the connection device.
11 フィルム基板 1
2 配線導体21 チップ部品
22 接続パッド23 半田バンプ
31 ボンディン
グステージ
34 ボンディングツール 35
加圧シリンダ(加圧機構)
37 パルスヒート加熱部 41
Z軸微調整機構
43 第1切換弁
44 第2切換弁(減圧機構)11 Film substrate 1
2 Wiring conductor 21 Chip component
22 Connection pad 23 Solder bump 31 Bonding stage 34 Bonding tool 35
Pressure cylinder (pressure mechanism) 37 Pulse heat heating section 41
Z-axis fine adjustment mechanism 43 first switching valve
44 Second switching valve (pressure reducing mechanism)
Claims (9)
基板上の配線導体とを接続するチップ部品と基板との接
続構造において、前記溶融金属バンプが前記チップ部品
と前記基板との間で略直胴状若しくは鼓状をなして固化
していることを特徴とする基板とチップ部品との接続構
造。1. A connection structure between a chip component and a substrate in which a chip component and a wiring conductor on a substrate are connected via a molten metal bump, wherein the molten metal bump is connected substantially directly between the chip component and the substrate. A connection structure between a substrate and a chip component, characterized by being solidified in the shape of a drum or drum.
求項1記載の接続構造。2. The connection structure according to claim 1, wherein the molten metal bumps are solder bumps.
板、ガラス基板又は樹脂基板の何れかである請求項1記
載の接続構造。3. The connection structure according to claim 1, wherein the substrate is any one of a film substrate, a ceramic substrate, a glass substrate, or a resin substrate.
体上に形成された溶融金属バンプを介してチップ部品と
基板上の配線導体とを当接させ、溶融金属バンプを加熱
し溶融させた後に冷却し固化させることにより、チップ
部品と基板上の配線導体とを溶融金属バンプを介して接
続するチップ部品と基板との接続方法において、前記溶
融金属バンプの溶融時にチップ部品と基板との間のギャ
ップを溶融前の溶融金属バンプの高さ寸法以上に調節す
ることを特徴とするチップ部品と基板との接続方法。4. The chip component and the wiring conductor on the board are brought into contact via molten metal bumps formed on the chip component or the wiring conductor on the board, and the molten metal bump is heated and melted, and then cooled. In a method for connecting a chip component and a substrate, in which a chip component and a wiring conductor on a substrate are connected via a molten metal bump by solidifying the molten metal bump, a gap between the chip component and the substrate is formed when the molten metal bump is melted. A method for connecting a chip component and a substrate, characterized in that the height of the molten metal bump is adjusted to be greater than or equal to the height of the molten metal bump before melting.
金属バンプが略直胴状若しくは鼓状をなすようにチップ
部品と基板との間のギャップを調節することを特徴とす
る請求項4記載の接続方法。5. The gap between the chip component and the substrate is adjusted so that when the molten metal bump is melted, the molten metal bump has a substantially straight shape or a drum shape. Connection method.
に形成された溶融金属バンプを介してチップ部品と基板
上の配線導体とを当接させ、溶融金属バンプを加熱し溶
融させた後に冷却し固化させることにより、チップ部品
と基板上の配線導体とを溶融金属バンプを介して接続す
るチップ部品と基板との接続方法において、前記溶融金
属バンプを介した前記チップ部品と前記配線導体との当
接時に前記溶融金属バンプに所定の加圧力を加えて全て
の溶融金属バンプを同一高さとし、その後前記溶融金属
バンプを溶融温度へと加熱する前に前記加圧力を減圧し
若しくは無加圧状態にすることを特徴とするチップ部品
と基板との接続方法。6. The chip component and the wiring conductor on the substrate are brought into contact via the molten metal bumps formed on the chip component or the wiring conductor on the substrate, and the molten metal bump is heated and melted, and then cooled. In a method for connecting a chip component and a wiring conductor on a board via a molten metal bump, the chip component and the wiring conductor are connected via the molten metal bump by solidifying the chip component and the wiring conductor on the board. At the time of contact, a predetermined pressure is applied to the molten metal bumps to make all the molten metal bumps the same height, and then, before heating the molten metal bumps to the melting temperature, the pressure is reduced or the pressure is not applied. A method for connecting a chip component and a board, characterized by:
するボンディングステージと、チップ部品と基板のうち
の他方を押圧し、チップ部品上又は基板の配線導体上に
形成された溶融金属バンプを介してチップ部品と基板上
の配線導体とを当接させるボンディングツールと、チッ
プ部品又は基板のうちの少なくとも一方を介して溶融金
属バンプを溶融温度まで加熱する加熱部とを備え、前記
ボンディングステージ又は前記ボンディングツールが、
溶融金属バンプの溶融時にチップ部品と基板との間のギ
ャップを溶融前の溶融金属バンプの高さ寸法以上に調節
するための微調整機構を備えていることを特徴とする、
チップ部品と基板とを接続するための接続装置。7. A bonding stage that holds one of the chip component and the substrate, and a bonding stage that presses the other of the chip component and the substrate, and a bonding stage that presses the other of the chip component and the substrate, and a molten metal bump formed on the chip component or the wiring conductor of the substrate. a bonding tool that brings the chip component and the wiring conductor on the board into contact with each other; and a heating section that heats the molten metal bump to a melting temperature via at least one of the chip component or the board, The bonding tool
characterized by having a fine adjustment mechanism for adjusting the gap between the chip component and the substrate to be greater than the height dimension of the molten metal bump before melting when the molten metal bump is melted,
Connection device for connecting chip components and substrates.
ンプの頂部に所定の加圧力を加える加圧機構と、溶融金
属バンプが溶融温度へと加熱される前に加圧機構の加圧
力を減圧し若しくは無加圧状態にする減圧機構とを備え
ている請求項7記載の接続装置。8. The bonding tool comprises a pressurizing mechanism that applies a predetermined pressurizing force to the top of the molten metal bump, and the pressurizing force of the pressurizing mechanism is reduced or eliminated before the molten metal bump is heated to a melting temperature. 8. The connection device according to claim 7, further comprising a pressure reduction mechanism that brings the device into a pressurized state.
するボンディングステージと、チップ部品と基板のうち
の他方を押圧し、チップ部品上又は基板上の配線導体上
に形成された溶融金属バンプを介してチップ部品と基板
上の配線導体とを当接させるボンディングツールと、チ
ップ部品又は基板のうちの少なくとも一方を介して溶融
金属バンプを溶融温度まで加熱する加熱部とを備え、前
記ボンディングツールが溶融金属バンプの頂部に所定の
加圧力を加える加圧機構と、溶融金属バンプが溶融温度
へと加熱される前に加圧機構の加圧力を減圧し若しくは
無加圧状態にする減圧機構とを備えていることを特徴と
するチップ部品と基板のための接続装置。9. A bonding stage that holds one of the chip component and the substrate and presses the other of the chip component and the substrate to bond the molten metal bumps formed on the chip component or the wiring conductor on the substrate. a bonding tool that brings a chip component into contact with a wiring conductor on a board through the substrate; and a heating section that heats the molten metal bump to a melting temperature through at least one of the chip component or the board, the bonding tool comprising: A pressure mechanism that applies a predetermined pressure to the top of the molten metal bump, and a pressure reduction mechanism that reduces the pressure of the pressure mechanism or puts it into a non-pressurized state before the molten metal bump is heated to the melting temperature. A connection device for a chip component and a board, characterized in that:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3139809A JP2659630B2 (en) | 1991-05-15 | 1991-05-15 | Connection method between chip components and substrate |
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|---|---|---|---|
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|---|---|---|---|
| JP9005486A Division JP2837145B2 (en) | 1997-01-16 | 1997-01-16 | Connection method and connection device between chip component and substrate |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04338657A true JPH04338657A (en) | 1992-11-25 |
| JP2659630B2 JP2659630B2 (en) | 1997-09-30 |
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1056039A (en) * | 1996-08-08 | 1998-02-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Bonding method of work with bump |
| JP2008066383A (en) * | 2006-09-05 | 2008-03-21 | Saxa Inc | Laminating device |
| JP2020528660A (en) * | 2017-07-18 | 2020-09-24 | ルーメンス カンパニー リミテッド | Light emitting diode module manufacturing equipment and method |
| JP2021500981A (en) * | 2017-10-31 | 2021-01-14 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. | Ultrasonic scanner assembly |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57206037A (en) * | 1981-06-12 | 1982-12-17 | Hitachi Ltd | Device for positioning of flip chip |
| JPS61156745A (en) * | 1984-12-28 | 1986-07-16 | Fujitsu Ltd | Chip mounting method |
| JPH0210844A (en) * | 1988-06-29 | 1990-01-16 | Seiko Epson Corp | Device for mounting of flip-chip |
| JPH02235352A (en) * | 1989-03-08 | 1990-09-18 | Sharp Corp | Connection method for semiconductor device |
-
1991
- 1991-05-15 JP JP3139809A patent/JP2659630B2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57206037A (en) * | 1981-06-12 | 1982-12-17 | Hitachi Ltd | Device for positioning of flip chip |
| JPS61156745A (en) * | 1984-12-28 | 1986-07-16 | Fujitsu Ltd | Chip mounting method |
| JPH0210844A (en) * | 1988-06-29 | 1990-01-16 | Seiko Epson Corp | Device for mounting of flip-chip |
| JPH02235352A (en) * | 1989-03-08 | 1990-09-18 | Sharp Corp | Connection method for semiconductor device |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1056039A (en) * | 1996-08-08 | 1998-02-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Bonding method of work with bump |
| JP2008066383A (en) * | 2006-09-05 | 2008-03-21 | Saxa Inc | Laminating device |
| JP2020528660A (en) * | 2017-07-18 | 2020-09-24 | ルーメンス カンパニー リミテッド | Light emitting diode module manufacturing equipment and method |
| JP2021500981A (en) * | 2017-10-31 | 2021-01-14 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. | Ultrasonic scanner assembly |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2659630B2 (en) | 1997-09-30 |
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