JPH043398B2 - - Google Patents
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- C07D205/00—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07D477/00—Heterocyclic compounds containing 1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. carbapenicillins, thienamycins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulphur-containing hetero ring
- C07D477/10—Heterocyclic compounds containing 1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. carbapenicillins, thienamycins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulphur-containing hetero ring with hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached in position 4, and with a carbon atom having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. an ester or nitrile radical, directly attached in position 2
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- C07D477/10—Heterocyclic compounds containing 1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. carbapenicillins, thienamycins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulphur-containing hetero ring with hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached in position 4, and with a carbon atom having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. an ester or nitrile radical, directly attached in position 2
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Description
この発明は、6−(1′−フルオロメチル)−およ
び6−(1′−フルオロ−1′−メチルエチル)カル
バペネム、その製造法およびその化学療法剤とし
ての使用に関するものである。 ヨーロツパ特許出願第1628号は、抗菌活性を有
する広範囲のカルバペネム誘導体を開示している
が、この発明のフルオロアルキル化合物およびそ
のすぐれた抗菌作用については何も述べていな
い。 さらに詳細に述べると、この発明は、式() [式中、R1は水素またはメチル、R2はアミノ、
低級アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノ、低
級アシルアミノおよびカルボキシから選ばれた置
換基でモノまたはジ置換されているこもある低級
アルキル、あるいは式(c) −(CH2)p−R7 (c) (式中、R7は低級アルキルおよびカルボキシ
から選ばれた置換基でモノもしくはジ置換されて
いることもある、OおよびNから選ばれた複素原
子を1〜4個含む5員または6員飽和もしくは不
飽和複素環、pは0、1、2または3を示す)、
または下式 (式中、R4、R5およびR6は、同一または異な
つて、それぞれ水素または低級アルキル、mは2
または3、nは1、2または3を示す)で示され
る基を示す。但し、R1が水素でそれを含む基が
R−配位を有する場合には、R2はアセチルアミ
ノエチル以外の基であるものとする] で示される化合物、またはその−OH、−NH2ま
たは−COOHに関する保護体、もしくはその生
理的に加水分解され得る許容されるエステル体、
遊離酸、塩または両性イオンに関するものであ
る。 上記目的化合物()のうち、好ましい化合物
の例として、R1が水素またはメチル、R2がアミ
ノ、低級アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミ
ノ、低級アシルアミノ、カルボキシ、イミノ、低
級アルキルイミノ、メチルテトラゾリルおよびモ
ルホリニルから選ばれた置換基によつてモノまた
はジ置換されていることもある低級アルキルであ
るもの、特に(5RS,6RS)−1−アザ−6−(1
(RS)−フルオロエチル)−3−(N−ジメチル−
N′−メチルアミジノメチルチオ)−7−オキソビ
シクロ[3.2.0]ヘプタ−2−エン−2−カルボ
ン酸および(5RS,6RS)−1−アザ−6−(1
(RS)−フルオロエチル)−3−(N−ジメチルア
ミジノメチルチオ)−7−オキソビシクロ
[3.2.0]ヘプタ−2−エン−2−カルボン酸を挙
げることができる。 上記目的化合物()は、 A 式 () [式中、R1は前記と同意義。R8は脱離基であ
る。] で示される化合物、またはその−OH、−NH2
または−COOHに関する保護体、もしくはそ
の生理的に加水分解され得る許容されるエステ
ル体、遊離酸、塩または両性イオンに基−S−
R2 [式中、R2は前記と同意義。] の導入試薬と反応させるか、 B 式 () [式中、R1およびR2は前記と同意義。] で示される化合物、またはその−OH、−NH2ま
たは−COOHに関する保護体、もしくはその生
理的に加水分解され得る許容されるエステル体、
遊離酸、塩または両性イオンに、水酸基をフツ素
原子に変換し得る試薬を反応させることによつ
て、製造することができる。 方法A)は、常法にしたがつて、例えば芳香族
炭化水素、例えばベンゼン、またはアセトニトリ
ルのような不活性溶媒中、好ましくは例えば約0
℃の低温で実施することができる。 方法B)は、常法にしたがつて、例えばジエチ
ルアミノサルフアトリフルオライドのようなジア
ルキルアミノサルフアトリフルオライドを用いて
実施することができる。 保護基の脱離は、常法にしたがつて、得られた
生成物の単離精製法と同様に行なわれる。 エステル、保護体および塩の製造および交換
は、常法によつて行なわれる。 種々の形のカルバペネムの製造法は、例えばヨ
ーロツパ特許出願公開第1628、10316、17992、
37080、37081、388869、50334、33209、44142、
60612、61231、44170、59478、58317号に記載さ
れており、適当な場合にはこの発明の化合物の製
造に同じように適用することができる。 式()の出発原料は新規であり、式() (式中、R1、R3は前記の意味) に基R8(R8は前記の意味)を導入することにより
製造することができる。 脱離基R8の例は、ヒドロキシ基と燐酸エステ
ルクロライド、例えば燐酸ジフエニルエステルク
ロライド、またはスルホン酸、例えばp−トルエ
ンスルホン酸の反応により形成されたものであ
る。 式()の化合物は、式(a) の化合物から上記方法A)と同様に製造すること
ができる。 この方法は常法であり、基R8の導入後基−S
−R2を導入するものである。 式()の化合物もまた新規であり、例えば下
記反応式によるか、または上記反応式と同様の方
法により製造することができる。 上記反応式中に示される反応は、そのタイプの
反応で慣用される方法を用いて実施することがで
きる。例えば閉環反応は、芳香族炭化水素、例え
ばベンゼンのような不活性溶媒中で遷移金属触媒
の存在下に行なうことができる。遷移金属触媒の
例としては、酢酸ロジウム()または銅アセチ
ルアセトネートが含まれる。 式()および(a)の化合物は、下記互変
形で存在することができる。 その他の中間体は公知であるか、または公知方
法および/または後記実施例の方法と同様にして
製造することができる。 この発明のカルバペネムは、環内に2個のキラ
ル中心(5、6位)を含む。 これらは、6R、5R−、6S、5S、6S、5R−、
6R、5S−異性体またはその混合物のような種々
の配置で存在し得る。使用した出発原料が特定の
配置をもつ場合には、得られた最終産物は同じ配
置をもち、混合物の出発原料からは混合物の最終
産物を生ずる。このように、これらの化合物の配
置は上記A)またはB)のような反応中に変るこ
とはない。異性体混合物は、分別結晶化のような
慣用方法により分割することができる。 生物活性は、5位がR−配置である化合物に属
することが知られている。 別のキラル中心が、R1が水素の場合に存在し、
これもまた上記A)のような反応によつて影響さ
れない。しかし、B)のような反応においてふつ
素が導入される場合には逆転が起る。すなわち、
8−R−ヒドロキシ出発原料のふつ素によつて8
−S−フルオロ最終産物が得られ、逆も同様であ
る。 式()の化合物の遊離体または容易に脱離で
きるエステル体は、種々の細菌、例えばシユード
モナス・エルギノーザ、エンテロバクテル・クロ
アカエ、エンテロバクテル・アグロメランス、ス
タフイロコツカス・エピデルミデイス、ストレプ
トコツカス・アロンソン、ストレプトコツカス・
ニユーモニアエ、エアロコツカス・ビリダンス、
スタフイロコツカス・アウレウス、ストレプトコ
ツカス・ピオゲネス、ストレプトコツカス・フエ
カリス、エシエリヒア・コリ、ブロテウス・ブル
ガリス、ブロテウス・ミラビリス、ブロテウス・
モルガニ、クレブシーラ・ニユーモニアエ、セラ
チア・マルケセンス、サルモネラ・ライフイムリ
ウムに対して、例えば0.001ないし50μg/mlの濃
度における試験管内系列希釈試験、および例えば
約0.1ないし100mg/動物体重Kgの用量におけるマ
ウスの生体内試験において阻止効果を示し、化学
療法活性、特に抗菌活性を有する。 また、上記化合物は0.1ないし10μg/mlの濃度
でβ−ラクタマーゼに対して阻害作用を示す。グ
ラム陽性菌およびグラム陰性菌のβ−ラクタマー
ゼ製剤の抗菌活性は、色素産生性基質ニトロセフ
インを用いて試験することができる(文献:オカ
ラガン等、色素産生性セフアロスポリン基質を用
いるβ−ラクタマーゼの新検出法、アンテイミク
ロバイアル・エンジエンツ・アンド・ケモセラピ
ー第1巻第4号第283−288頁、1972年)。β−ラ
クタマーゼの阻害は、同じ基質を用いて0.1M燐
酸緩衝液中で試験される。酵素を適当な濃度の阻
害剤と共に25℃で予備インキユベートするか、ま
たは阻害剤と基質(ニトロセフイン)を同時に加
え、阻害剤による基質加水分解の阻害を非阻害加
水分解と比較して測定する。活性は、阻害率%ま
たはIC50(酵素を50%阻害する阻害剤濃度)で表
わされる。 またこの阻害効果は、β−ラクタマーゼ生産菌
に対して他のβ−ラクタム抗生物質と併用したと
きの顕著な相乗効果によつても知ることができ
る。この発明の化合物は、β−ラクタマーゼに対
して安定である。 したがつて、この発明の化合物は、化学療法
剤、特に抗菌活性を有する抗生物質として有用で
ある。 用途において、適当な1日合計用量は約1ない
し6gであり、約250ないし3000mgの用量で1日
2ないし4回投与するか、または特効性製剤とし
て投与する。式()の化合物は、この適応症に
用いる公知の標準品、例えばセフオタキシムと同
様に投与することができる。個々の化合物におけ
る適当な1日用量はその相対力価のような多数の
要因によつて変る。例えば、この発明の好適な化
合物である(5RS,6RS)−1−アザ−6−〔1−
(RS)−フルオロエチル〕−3−〔N,N,N′−ト
リメチルカルバミドメチル〕チオ−7−オキソビ
シクロ〔3.2.0〕ヘプタ−2−エン−2−カルボ
ン酸、および(5RS,6RS)−1−アザ−6−〔1
(RS)−フルオロエチル〕−3−〔N,N−ジメチ
ルカルバミドメチル〕チオ−7−オキソビシクロ
〔3.2.0〕ヘプタ−2−エン−2−カルボン酸は、
マウスのストレプトコツカス敗血症モデルにおい
て、約4mg/Kgの治療用量を示したのに対して、
セフオタキシムは5mg/Kgであつた。したがつ
て、これらの化合物は、従来用いられるセフオタ
キシムと同一またはそれより低い用量で投与し得
ることがわかつた。 遊離の塩形成基を含む化合物は、その形のま
ま、または化学療法上許容される塩の形で使用す
ることができ、これは遊離形と同じオーダーの活
性を有する。適当な塩は、アルカリもしくはアル
カリ土類金属塩およびアンモニウム塩またはアミ
ノ酸塩である。 上記化合物は、常用の化学療法上許容される希
釈剤および担体と混合することができ、錠剤、カ
プセルまたは腸管外用製剤として投与することが
できる。これらの組成物も、この発明の一部を構
成する。 したがつて、この発明は、治療を必要とする対
象に式()の化合物またはその化学療法上許容
される塩および化学療法剤特に抗菌活性を有する
化合物の有効量を投与することからなる、細菌と
の闘争方法を提供するものである。 低級アルキル部分としては、1ないし6個(例
えば1−4個)、特に1または2個の炭素原子を
有するものが含まれる。対応するアルケニルおよ
びアルキニル部分としては、2ないし4個、特に
2または3個の炭素原子を有するものが含まれ
る。シクロアルキル基は、3ないし6個の炭素原
子を含むのが好ましい。 低級アシルアミノアルキルとしては、例えば−
CH2CH2NHCOC2H5,−CH3、−CH2CH2・
NHCOCH2C6H5、−
CH2CH2NHCOCH2CH2NH2、−
CH2CH2NHCOCH2NH2が含まれる。 R7の複素環としては、例えば
び6−(1′−フルオロ−1′−メチルエチル)カル
バペネム、その製造法およびその化学療法剤とし
ての使用に関するものである。 ヨーロツパ特許出願第1628号は、抗菌活性を有
する広範囲のカルバペネム誘導体を開示している
が、この発明のフルオロアルキル化合物およびそ
のすぐれた抗菌作用については何も述べていな
い。 さらに詳細に述べると、この発明は、式() [式中、R1は水素またはメチル、R2はアミノ、
低級アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノ、低
級アシルアミノおよびカルボキシから選ばれた置
換基でモノまたはジ置換されているこもある低級
アルキル、あるいは式(c) −(CH2)p−R7 (c) (式中、R7は低級アルキルおよびカルボキシ
から選ばれた置換基でモノもしくはジ置換されて
いることもある、OおよびNから選ばれた複素原
子を1〜4個含む5員または6員飽和もしくは不
飽和複素環、pは0、1、2または3を示す)、
または下式 (式中、R4、R5およびR6は、同一または異な
つて、それぞれ水素または低級アルキル、mは2
または3、nは1、2または3を示す)で示され
る基を示す。但し、R1が水素でそれを含む基が
R−配位を有する場合には、R2はアセチルアミ
ノエチル以外の基であるものとする] で示される化合物、またはその−OH、−NH2ま
たは−COOHに関する保護体、もしくはその生
理的に加水分解され得る許容されるエステル体、
遊離酸、塩または両性イオンに関するものであ
る。 上記目的化合物()のうち、好ましい化合物
の例として、R1が水素またはメチル、R2がアミ
ノ、低級アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミ
ノ、低級アシルアミノ、カルボキシ、イミノ、低
級アルキルイミノ、メチルテトラゾリルおよびモ
ルホリニルから選ばれた置換基によつてモノまた
はジ置換されていることもある低級アルキルであ
るもの、特に(5RS,6RS)−1−アザ−6−(1
(RS)−フルオロエチル)−3−(N−ジメチル−
N′−メチルアミジノメチルチオ)−7−オキソビ
シクロ[3.2.0]ヘプタ−2−エン−2−カルボ
ン酸および(5RS,6RS)−1−アザ−6−(1
(RS)−フルオロエチル)−3−(N−ジメチルア
ミジノメチルチオ)−7−オキソビシクロ
[3.2.0]ヘプタ−2−エン−2−カルボン酸を挙
げることができる。 上記目的化合物()は、 A 式 () [式中、R1は前記と同意義。R8は脱離基であ
る。] で示される化合物、またはその−OH、−NH2
または−COOHに関する保護体、もしくはそ
の生理的に加水分解され得る許容されるエステ
ル体、遊離酸、塩または両性イオンに基−S−
R2 [式中、R2は前記と同意義。] の導入試薬と反応させるか、 B 式 () [式中、R1およびR2は前記と同意義。] で示される化合物、またはその−OH、−NH2ま
たは−COOHに関する保護体、もしくはその生
理的に加水分解され得る許容されるエステル体、
遊離酸、塩または両性イオンに、水酸基をフツ素
原子に変換し得る試薬を反応させることによつ
て、製造することができる。 方法A)は、常法にしたがつて、例えば芳香族
炭化水素、例えばベンゼン、またはアセトニトリ
ルのような不活性溶媒中、好ましくは例えば約0
℃の低温で実施することができる。 方法B)は、常法にしたがつて、例えばジエチ
ルアミノサルフアトリフルオライドのようなジア
ルキルアミノサルフアトリフルオライドを用いて
実施することができる。 保護基の脱離は、常法にしたがつて、得られた
生成物の単離精製法と同様に行なわれる。 エステル、保護体および塩の製造および交換
は、常法によつて行なわれる。 種々の形のカルバペネムの製造法は、例えばヨ
ーロツパ特許出願公開第1628、10316、17992、
37080、37081、388869、50334、33209、44142、
60612、61231、44170、59478、58317号に記載さ
れており、適当な場合にはこの発明の化合物の製
造に同じように適用することができる。 式()の出発原料は新規であり、式() (式中、R1、R3は前記の意味) に基R8(R8は前記の意味)を導入することにより
製造することができる。 脱離基R8の例は、ヒドロキシ基と燐酸エステ
ルクロライド、例えば燐酸ジフエニルエステルク
ロライド、またはスルホン酸、例えばp−トルエ
ンスルホン酸の反応により形成されたものであ
る。 式()の化合物は、式(a) の化合物から上記方法A)と同様に製造すること
ができる。 この方法は常法であり、基R8の導入後基−S
−R2を導入するものである。 式()の化合物もまた新規であり、例えば下
記反応式によるか、または上記反応式と同様の方
法により製造することができる。 上記反応式中に示される反応は、そのタイプの
反応で慣用される方法を用いて実施することがで
きる。例えば閉環反応は、芳香族炭化水素、例え
ばベンゼンのような不活性溶媒中で遷移金属触媒
の存在下に行なうことができる。遷移金属触媒の
例としては、酢酸ロジウム()または銅アセチ
ルアセトネートが含まれる。 式()および(a)の化合物は、下記互変
形で存在することができる。 その他の中間体は公知であるか、または公知方
法および/または後記実施例の方法と同様にして
製造することができる。 この発明のカルバペネムは、環内に2個のキラ
ル中心(5、6位)を含む。 これらは、6R、5R−、6S、5S、6S、5R−、
6R、5S−異性体またはその混合物のような種々
の配置で存在し得る。使用した出発原料が特定の
配置をもつ場合には、得られた最終産物は同じ配
置をもち、混合物の出発原料からは混合物の最終
産物を生ずる。このように、これらの化合物の配
置は上記A)またはB)のような反応中に変るこ
とはない。異性体混合物は、分別結晶化のような
慣用方法により分割することができる。 生物活性は、5位がR−配置である化合物に属
することが知られている。 別のキラル中心が、R1が水素の場合に存在し、
これもまた上記A)のような反応によつて影響さ
れない。しかし、B)のような反応においてふつ
素が導入される場合には逆転が起る。すなわち、
8−R−ヒドロキシ出発原料のふつ素によつて8
−S−フルオロ最終産物が得られ、逆も同様であ
る。 式()の化合物の遊離体または容易に脱離で
きるエステル体は、種々の細菌、例えばシユード
モナス・エルギノーザ、エンテロバクテル・クロ
アカエ、エンテロバクテル・アグロメランス、ス
タフイロコツカス・エピデルミデイス、ストレプ
トコツカス・アロンソン、ストレプトコツカス・
ニユーモニアエ、エアロコツカス・ビリダンス、
スタフイロコツカス・アウレウス、ストレプトコ
ツカス・ピオゲネス、ストレプトコツカス・フエ
カリス、エシエリヒア・コリ、ブロテウス・ブル
ガリス、ブロテウス・ミラビリス、ブロテウス・
モルガニ、クレブシーラ・ニユーモニアエ、セラ
チア・マルケセンス、サルモネラ・ライフイムリ
ウムに対して、例えば0.001ないし50μg/mlの濃
度における試験管内系列希釈試験、および例えば
約0.1ないし100mg/動物体重Kgの用量におけるマ
ウスの生体内試験において阻止効果を示し、化学
療法活性、特に抗菌活性を有する。 また、上記化合物は0.1ないし10μg/mlの濃度
でβ−ラクタマーゼに対して阻害作用を示す。グ
ラム陽性菌およびグラム陰性菌のβ−ラクタマー
ゼ製剤の抗菌活性は、色素産生性基質ニトロセフ
インを用いて試験することができる(文献:オカ
ラガン等、色素産生性セフアロスポリン基質を用
いるβ−ラクタマーゼの新検出法、アンテイミク
ロバイアル・エンジエンツ・アンド・ケモセラピ
ー第1巻第4号第283−288頁、1972年)。β−ラ
クタマーゼの阻害は、同じ基質を用いて0.1M燐
酸緩衝液中で試験される。酵素を適当な濃度の阻
害剤と共に25℃で予備インキユベートするか、ま
たは阻害剤と基質(ニトロセフイン)を同時に加
え、阻害剤による基質加水分解の阻害を非阻害加
水分解と比較して測定する。活性は、阻害率%ま
たはIC50(酵素を50%阻害する阻害剤濃度)で表
わされる。 またこの阻害効果は、β−ラクタマーゼ生産菌
に対して他のβ−ラクタム抗生物質と併用したと
きの顕著な相乗効果によつても知ることができ
る。この発明の化合物は、β−ラクタマーゼに対
して安定である。 したがつて、この発明の化合物は、化学療法
剤、特に抗菌活性を有する抗生物質として有用で
ある。 用途において、適当な1日合計用量は約1ない
し6gであり、約250ないし3000mgの用量で1日
2ないし4回投与するか、または特効性製剤とし
て投与する。式()の化合物は、この適応症に
用いる公知の標準品、例えばセフオタキシムと同
様に投与することができる。個々の化合物におけ
る適当な1日用量はその相対力価のような多数の
要因によつて変る。例えば、この発明の好適な化
合物である(5RS,6RS)−1−アザ−6−〔1−
(RS)−フルオロエチル〕−3−〔N,N,N′−ト
リメチルカルバミドメチル〕チオ−7−オキソビ
シクロ〔3.2.0〕ヘプタ−2−エン−2−カルボ
ン酸、および(5RS,6RS)−1−アザ−6−〔1
(RS)−フルオロエチル〕−3−〔N,N−ジメチ
ルカルバミドメチル〕チオ−7−オキソビシクロ
〔3.2.0〕ヘプタ−2−エン−2−カルボン酸は、
マウスのストレプトコツカス敗血症モデルにおい
て、約4mg/Kgの治療用量を示したのに対して、
セフオタキシムは5mg/Kgであつた。したがつ
て、これらの化合物は、従来用いられるセフオタ
キシムと同一またはそれより低い用量で投与し得
ることがわかつた。 遊離の塩形成基を含む化合物は、その形のま
ま、または化学療法上許容される塩の形で使用す
ることができ、これは遊離形と同じオーダーの活
性を有する。適当な塩は、アルカリもしくはアル
カリ土類金属塩およびアンモニウム塩またはアミ
ノ酸塩である。 上記化合物は、常用の化学療法上許容される希
釈剤および担体と混合することができ、錠剤、カ
プセルまたは腸管外用製剤として投与することが
できる。これらの組成物も、この発明の一部を構
成する。 したがつて、この発明は、治療を必要とする対
象に式()の化合物またはその化学療法上許容
される塩および化学療法剤特に抗菌活性を有する
化合物の有効量を投与することからなる、細菌と
の闘争方法を提供するものである。 低級アルキル部分としては、1ないし6個(例
えば1−4個)、特に1または2個の炭素原子を
有するものが含まれる。対応するアルケニルおよ
びアルキニル部分としては、2ないし4個、特に
2または3個の炭素原子を有するものが含まれ
る。シクロアルキル基は、3ないし6個の炭素原
子を含むのが好ましい。 低級アシルアミノアルキルとしては、例えば−
CH2CH2NHCOC2H5,−CH3、−CH2CH2・
NHCOCH2C6H5、−
CH2CH2NHCOCH2CH2NH2、−
CH2CH2NHCOCH2NH2が含まれる。 R7の複素環としては、例えば
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
およびモルホリノが含まれる。
保護基としては、抗生物質の化学において
OH、NH2およびCOOHの保護基に用いられるも
のが用いられ、例えばp−ニトロベンジル、p−
ニトロベンジルオキシカルボニル、第3級ブチル
ジメチルシリル、トリメチルシリルが含まれる。 生理的に加水分解される許容されるエステル基
(また容易に脱離できるエステル基でもある)と
は、生理的条件下で加水分解されて塩基を生じそ
れ自体が生理的に許容されるものを意味し、アセ
トキシメチル、1−アセトキシエチル、1−エト
キシカルボニルオキシエチル、5−インダニル、
または好ましくはビバロイルオキシメチル、ヘキ
サノイルオキシメチル、フタリジル、エトキシカ
ルボニルメトキシメチル、または3−エトキシカ
ルボニル−1−アセトニルがこれに含まれる。 ある種の保護基は生理的に加水分解される許容
される基であり、その逆の場合もある。 好ましい置換基は、 R1=a)H、b)CH3 R2=a)所望によりアミノ、モノもしくはジ
(低級)アルキルアミノ、アシルアミノ、カルボ
キシでモノもしくはジ置換された低級アルキル、
b)−(CH2)P−R7、c)、aまたはb、
好ましくはa R4、R5、R6=a)H、アルキル、特にメチル、
b)閉環 R7=a)前記各複素環 b)メチルテトラゾリル、モルホリニル P=0、1、2、3、好ましくは0または2 m=2または3、好ましくは2 n=1、2、または3、好ましくは1である。 これらの定義およびその好ましい例の組合わせ
は特に有用である。その例は、R1=水素または
メチル、R2=所望によりアミノ、アルキルアミ
ノ、ジアルキルアミノ、アシルアミノ、カルボキ
シ、イミノ、アルキルイミノおよび/またはメチ
ルテトラゾリルまたはモルホリニルでモノもしく
はジ置換された低級アルキルである。 式()に属する一群の化合物の例は、R1が
水素、R2が水素、低級アルキル、低級アルケニ
ル、シクロアルキル(これらはアミノ、モノもし
くはジ(低級)アルキルアミノ、低級アシルアミ
ノ、カルボキシ、低級アルコキシカルボニルまた
はカルバモイルで置換されていてもよく、シクロ
アルキル基がアミノまたはモノもしくはジ(低
級)アルキルアミノで置換されている場合には、
その窒素原子が環の一部を形成していてもよい)、
または式()もしくは(a)の基(式中、
R4、R5およびR6は同一または異なつて水素また
は低級アルキルを示し、mおよびnは上記の意
味)であり、2位のカルボキシ基が遊離形、保護
形、容易に脱離できるエステル形、または有機も
しくは無機カチオンとの塩形のものである。〔化
合物群P1(2))〕 別の一群の化合物は、R1が水素またはメチル、
R2が水素、低級アルキル、低級アルケニル、シ
クロアルキル(これらはアミノ、モノもしくはジ
(低級)アルキルアミノ、低級アシルアミノ、カ
ルボキシ、低級アルコキシカルボニルまたはカル
バモイルで置換されていてもよく、シクロアルキ
ル基がアミノまたはモノもしくはジ(低級)アル
キルアミノで置換されている場合には、その窒素
原子が環の一部を形成していてもよい)、または
式−(CH2)P−R7(式中、Pは0、1、2また
は3であり、R7はフエニル、またはO、Sおよ
び/またはNから選ばれた複素原子を1個または
2個以上含む5員または6員飽和または不飽和複
素環を示す)、または式()もしくは(a)
の基(式中、R4、R5およびR6は同一または異な
つて水素または低級アルキルを示し、mおよびn
は上記の意味)であり、2位のカルボキシ基が遊
離形、保護形、容易に脱離できるエステル形、ま
たは有機もしくは無機カチオンとの塩形のもので
ある。〔化合物群P3〕 特に好適な個々の化合物の例は、(5RS,6RS)
−1−アザ−6−(1(RS)−フルオロエチル)−
3−(N−ジメチル−N′−メチルアミジノメチル
チオ)−7−オキソビシクロ〔3.2.0〕ヘプタ−2
−エン−2−カルボン酸、および(5RS,6RS)
−1−アザ−6−(1−(RS)フルオロエチル)−
3−(N−ジメチルアミジノメチルチオ)−7−オ
キソビシクロ〔3.2.0〕ヘプタ−2−エン−2−
カルボン酸である。 以下に示す実施例はこの発明を説明するもので
あり、温度は摂氏の度を示す。 実施例 1 (5RS,6RS)−1−アザ−6−〔1−(RS)−
フルオロエチル〕−3−(2−(4−ニトロベン
ジルオキシカルボニル)アミノエチルチオ〕−
7−オキソビシクロ〔3.2.0〕ヘプタ−2−エ
ン−2−カルボン酸・4−ニトロベンジルエス
テル(方法a) (5RS,6RS)−1−アザ−3,7−ジオキソ
−6−〔1−(RS)−フルオロエチル〕ビシクロ
〔3.2.0〕ヘブタン−2−カルボン酸・4−ニトロ
ベンジルエステル90mgと無水アセトニトリル20ml
の溶液を氷冷し、ジイソプロピルアミン0.06mlを
加え、次いで燐酸ジフエニルエステルクロライド
0.06mlを加える。0℃で15分間経過後、さらにジ
イソプロピルアミン0.06mlを加え、次いで4−ニ
トロベンジルオキシカルボニルシステアミン73mg
と無水アセトニトリル5mlの溶液を加える。0℃
で1時間撹拌し、反応混合物を酢酸エチルと飽和
NaCl水溶液間に分配する。有機層をMgSO4で乾
燥し、濃縮乾固し、残留物をシリカゲルでクロマ
トグラフイー(溶離剤:酢酸エチル/ジイソプロ
ピルエーテル=9/1)に付す。NMR
(CDCl3):1.52(dd,3,J=25.6Hz);2.7−3.6
(m,7);4.26(tm,1,J=7Hz);4.98(dq,
1,J=48,7Hz);5.22(s,2);5.26(d,
1,J=13.5Hz);5.52(d,1,J=13.5Hz);
7.53(d,2,J=9Hz);7.68(d,2,J=
9Hz);8.25(d,4,J=9Hz). 保護基の脱離による(5RS,6RS)−3−(2−
アミノエチルチオ)−1−アザ−6−〔1(RS)−
フルオロエチル〕−7−オキソビシクロ〔3.2.0〕
ヘプタ−2−エン−2−カルボン酸の製造は、次
のようにして実施することができる。 (5RS,6RS)−1−アザ−6−〔1−(RS)−
フルオロエチル〕−3−〔2−(4−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル)アミノエチルチオ〕−7−
オキソビシクロ〔3.2.0〕ヘプタ−2−エン−2
−カルボン酸・4−ニトロベンジルエステル50mg
および10%パラジウム炭素50mgと、テトラヒドロ
フラン20mlおよび水10mlのけんだく液を、室温、
水素圧3バールで、0.5M−モルホリノプロパン
スルホン酸緩衝液(PH7)5mlの存在下に水素添
加する。触媒を去し、残留物を水洗し、液を
合わせて酢酸エチルで抽出し、水層を凍結乾燥す
る。凍結乾燥物をXAD2でクロマトグラフイー
(溶離剤:水)に付して精製する。 300nmで紫外線吸収するフラクシヨンを合わせて
凍結乾燥し、標記化合物を得る。 UV(PH7緩衝液):λnax=295nm (ε=8000) 実施例 2 (5RS,6RS)−3−(2−アセチルアミノエチ
ルチオ)−1−アザ−6−〔1−フルオロ−1−
メチルエチル〕7−オキソビシクロ〔3.2.0〕
ヘプタ−2−エン−2−カルボン酸・4−ニト
ロベンジルエステル(方法a) (5RS,6RS)−1−アザ−3,7−ジオキサ
ソ−6−〔1−フルオロ−1−メチルエチル〕ビ
シクロ〔3.2.0〕ヘプタン−2−カルボン酸・4
−ニトロベンジルエステル150mgと無水アセトニ
トリル10mlの溶液を氷冷し、N−エチルジイソプ
ロピルアミン0.11mlを加え、次いで燐酸ジフエニ
ルエステルクロライド0.13mlを加える。0℃で15
分間経過後、さらにN−エチルジイソプロピルア
ミン0.22mlを加え、次いでN−アセチルシステア
ミン70mgと無水アセトニトリル5mlの溶液を加え
る。0℃で1時間撹拌し、反応混合物を酢酸エチ
ルと飽和NaCl水溶液間に分配する。有機層を
MgSO4で乾燥し、濃縮乾固し、残留物をシリカ
ゲルでクロマトグラフイー(溶離剤:酢酸エチ
ル/アセトン=7/3)に付す。 実施例 3 (5RS,6RS)−3−(2−アセチルアミノエチ
ルチオ)−1−アザ−6−(1−フルオロ−1−
メチルエチル)−7−オキソビシクロ〔3.2.0〕
ヘプタ−2−エン−2−カルボン酸・4−ニト
ロベンジルエステル(方法b) ジエチルアミノサルフアトリフルオライド0.12
mlおよびふつ化カリウム75mgと無水ジクロロメタ
ン5mlの溶液を−78℃に冷却し、(5RS,6RS)−
3−(2−アセチルアミノエチルチオ)−1−アザ
−6−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−7
−オキソビシクロ〔3.2.0〕ヘプタ−2−エン−
2−カルボン酸・4−ニトロベンジルエステル
150mgと無水ジクロロメタン5mlの溶液を加える。
混合物を−78℃で15分間撹拌し、水と混合する。
さらにジクロロメタンを加えた後分液し、有機層
を飽和NaCl溶液で洗浄し、MgSO4で乾燥し、濃
縮乾固する。残留物をシリカゲルでクロマトグラ
フイー(酢酸エチル/アセトン=7/3)に付し
て標記化合物を得る。mp206−210℃。 これらの実施例と同様の方法または前述した方
法により、式()に属する下記化合物を製造す
ることができる。(配置:6RS、5RS、R3=Hの
場合8RS)
OH、NH2およびCOOHの保護基に用いられるも
のが用いられ、例えばp−ニトロベンジル、p−
ニトロベンジルオキシカルボニル、第3級ブチル
ジメチルシリル、トリメチルシリルが含まれる。 生理的に加水分解される許容されるエステル基
(また容易に脱離できるエステル基でもある)と
は、生理的条件下で加水分解されて塩基を生じそ
れ自体が生理的に許容されるものを意味し、アセ
トキシメチル、1−アセトキシエチル、1−エト
キシカルボニルオキシエチル、5−インダニル、
または好ましくはビバロイルオキシメチル、ヘキ
サノイルオキシメチル、フタリジル、エトキシカ
ルボニルメトキシメチル、または3−エトキシカ
ルボニル−1−アセトニルがこれに含まれる。 ある種の保護基は生理的に加水分解される許容
される基であり、その逆の場合もある。 好ましい置換基は、 R1=a)H、b)CH3 R2=a)所望によりアミノ、モノもしくはジ
(低級)アルキルアミノ、アシルアミノ、カルボ
キシでモノもしくはジ置換された低級アルキル、
b)−(CH2)P−R7、c)、aまたはb、
好ましくはa R4、R5、R6=a)H、アルキル、特にメチル、
b)閉環 R7=a)前記各複素環 b)メチルテトラゾリル、モルホリニル P=0、1、2、3、好ましくは0または2 m=2または3、好ましくは2 n=1、2、または3、好ましくは1である。 これらの定義およびその好ましい例の組合わせ
は特に有用である。その例は、R1=水素または
メチル、R2=所望によりアミノ、アルキルアミ
ノ、ジアルキルアミノ、アシルアミノ、カルボキ
シ、イミノ、アルキルイミノおよび/またはメチ
ルテトラゾリルまたはモルホリニルでモノもしく
はジ置換された低級アルキルである。 式()に属する一群の化合物の例は、R1が
水素、R2が水素、低級アルキル、低級アルケニ
ル、シクロアルキル(これらはアミノ、モノもし
くはジ(低級)アルキルアミノ、低級アシルアミ
ノ、カルボキシ、低級アルコキシカルボニルまた
はカルバモイルで置換されていてもよく、シクロ
アルキル基がアミノまたはモノもしくはジ(低
級)アルキルアミノで置換されている場合には、
その窒素原子が環の一部を形成していてもよい)、
または式()もしくは(a)の基(式中、
R4、R5およびR6は同一または異なつて水素また
は低級アルキルを示し、mおよびnは上記の意
味)であり、2位のカルボキシ基が遊離形、保護
形、容易に脱離できるエステル形、または有機も
しくは無機カチオンとの塩形のものである。〔化
合物群P1(2))〕 別の一群の化合物は、R1が水素またはメチル、
R2が水素、低級アルキル、低級アルケニル、シ
クロアルキル(これらはアミノ、モノもしくはジ
(低級)アルキルアミノ、低級アシルアミノ、カ
ルボキシ、低級アルコキシカルボニルまたはカル
バモイルで置換されていてもよく、シクロアルキ
ル基がアミノまたはモノもしくはジ(低級)アル
キルアミノで置換されている場合には、その窒素
原子が環の一部を形成していてもよい)、または
式−(CH2)P−R7(式中、Pは0、1、2また
は3であり、R7はフエニル、またはO、Sおよ
び/またはNから選ばれた複素原子を1個または
2個以上含む5員または6員飽和または不飽和複
素環を示す)、または式()もしくは(a)
の基(式中、R4、R5およびR6は同一または異な
つて水素または低級アルキルを示し、mおよびn
は上記の意味)であり、2位のカルボキシ基が遊
離形、保護形、容易に脱離できるエステル形、ま
たは有機もしくは無機カチオンとの塩形のもので
ある。〔化合物群P3〕 特に好適な個々の化合物の例は、(5RS,6RS)
−1−アザ−6−(1(RS)−フルオロエチル)−
3−(N−ジメチル−N′−メチルアミジノメチル
チオ)−7−オキソビシクロ〔3.2.0〕ヘプタ−2
−エン−2−カルボン酸、および(5RS,6RS)
−1−アザ−6−(1−(RS)フルオロエチル)−
3−(N−ジメチルアミジノメチルチオ)−7−オ
キソビシクロ〔3.2.0〕ヘプタ−2−エン−2−
カルボン酸である。 以下に示す実施例はこの発明を説明するもので
あり、温度は摂氏の度を示す。 実施例 1 (5RS,6RS)−1−アザ−6−〔1−(RS)−
フルオロエチル〕−3−(2−(4−ニトロベン
ジルオキシカルボニル)アミノエチルチオ〕−
7−オキソビシクロ〔3.2.0〕ヘプタ−2−エ
ン−2−カルボン酸・4−ニトロベンジルエス
テル(方法a) (5RS,6RS)−1−アザ−3,7−ジオキソ
−6−〔1−(RS)−フルオロエチル〕ビシクロ
〔3.2.0〕ヘブタン−2−カルボン酸・4−ニトロ
ベンジルエステル90mgと無水アセトニトリル20ml
の溶液を氷冷し、ジイソプロピルアミン0.06mlを
加え、次いで燐酸ジフエニルエステルクロライド
0.06mlを加える。0℃で15分間経過後、さらにジ
イソプロピルアミン0.06mlを加え、次いで4−ニ
トロベンジルオキシカルボニルシステアミン73mg
と無水アセトニトリル5mlの溶液を加える。0℃
で1時間撹拌し、反応混合物を酢酸エチルと飽和
NaCl水溶液間に分配する。有機層をMgSO4で乾
燥し、濃縮乾固し、残留物をシリカゲルでクロマ
トグラフイー(溶離剤:酢酸エチル/ジイソプロ
ピルエーテル=9/1)に付す。NMR
(CDCl3):1.52(dd,3,J=25.6Hz);2.7−3.6
(m,7);4.26(tm,1,J=7Hz);4.98(dq,
1,J=48,7Hz);5.22(s,2);5.26(d,
1,J=13.5Hz);5.52(d,1,J=13.5Hz);
7.53(d,2,J=9Hz);7.68(d,2,J=
9Hz);8.25(d,4,J=9Hz). 保護基の脱離による(5RS,6RS)−3−(2−
アミノエチルチオ)−1−アザ−6−〔1(RS)−
フルオロエチル〕−7−オキソビシクロ〔3.2.0〕
ヘプタ−2−エン−2−カルボン酸の製造は、次
のようにして実施することができる。 (5RS,6RS)−1−アザ−6−〔1−(RS)−
フルオロエチル〕−3−〔2−(4−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル)アミノエチルチオ〕−7−
オキソビシクロ〔3.2.0〕ヘプタ−2−エン−2
−カルボン酸・4−ニトロベンジルエステル50mg
および10%パラジウム炭素50mgと、テトラヒドロ
フラン20mlおよび水10mlのけんだく液を、室温、
水素圧3バールで、0.5M−モルホリノプロパン
スルホン酸緩衝液(PH7)5mlの存在下に水素添
加する。触媒を去し、残留物を水洗し、液を
合わせて酢酸エチルで抽出し、水層を凍結乾燥す
る。凍結乾燥物をXAD2でクロマトグラフイー
(溶離剤:水)に付して精製する。 300nmで紫外線吸収するフラクシヨンを合わせて
凍結乾燥し、標記化合物を得る。 UV(PH7緩衝液):λnax=295nm (ε=8000) 実施例 2 (5RS,6RS)−3−(2−アセチルアミノエチ
ルチオ)−1−アザ−6−〔1−フルオロ−1−
メチルエチル〕7−オキソビシクロ〔3.2.0〕
ヘプタ−2−エン−2−カルボン酸・4−ニト
ロベンジルエステル(方法a) (5RS,6RS)−1−アザ−3,7−ジオキサ
ソ−6−〔1−フルオロ−1−メチルエチル〕ビ
シクロ〔3.2.0〕ヘプタン−2−カルボン酸・4
−ニトロベンジルエステル150mgと無水アセトニ
トリル10mlの溶液を氷冷し、N−エチルジイソプ
ロピルアミン0.11mlを加え、次いで燐酸ジフエニ
ルエステルクロライド0.13mlを加える。0℃で15
分間経過後、さらにN−エチルジイソプロピルア
ミン0.22mlを加え、次いでN−アセチルシステア
ミン70mgと無水アセトニトリル5mlの溶液を加え
る。0℃で1時間撹拌し、反応混合物を酢酸エチ
ルと飽和NaCl水溶液間に分配する。有機層を
MgSO4で乾燥し、濃縮乾固し、残留物をシリカ
ゲルでクロマトグラフイー(溶離剤:酢酸エチ
ル/アセトン=7/3)に付す。 実施例 3 (5RS,6RS)−3−(2−アセチルアミノエチ
ルチオ)−1−アザ−6−(1−フルオロ−1−
メチルエチル)−7−オキソビシクロ〔3.2.0〕
ヘプタ−2−エン−2−カルボン酸・4−ニト
ロベンジルエステル(方法b) ジエチルアミノサルフアトリフルオライド0.12
mlおよびふつ化カリウム75mgと無水ジクロロメタ
ン5mlの溶液を−78℃に冷却し、(5RS,6RS)−
3−(2−アセチルアミノエチルチオ)−1−アザ
−6−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−7
−オキソビシクロ〔3.2.0〕ヘプタ−2−エン−
2−カルボン酸・4−ニトロベンジルエステル
150mgと無水ジクロロメタン5mlの溶液を加える。
混合物を−78℃で15分間撹拌し、水と混合する。
さらにジクロロメタンを加えた後分液し、有機層
を飽和NaCl溶液で洗浄し、MgSO4で乾燥し、濃
縮乾固する。残留物をシリカゲルでクロマトグラ
フイー(酢酸エチル/アセトン=7/3)に付し
て標記化合物を得る。mp206−210℃。 これらの実施例と同様の方法または前述した方
法により、式()に属する下記化合物を製造す
ることができる。(配置:6RS、5RS、R3=Hの
場合8RS)
【表】
【表】
【表】
\
N(CH3)2
N(CH3)2
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 式 () [式中、R1は水素またはメチル、R2はアミノ、
低級アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノ、低
級アシルアミノおよびカルボキシから選ばれた置
換基でモノまたはジ置換されているこもある低級
アルキル、あるいは式(c) −(CH2)p−R7 (c) (式中、R7は低級アルキルおよびカルボキシ
から選ばれた置換基でモノもしくはジ置換されて
いることもある、OおよびNから選ばれた複素原
子を1〜4個含む5員または6員飽和もしくは不
飽和複素環、pは0、1、2または3を示す)、
または下式 (式中、R4、R5およびR6は、同一または異な
つて、それぞれ水素または低級アルキル、mは2
または3、nは1、2または3を示す)で示され
る基を示す。但し、R1が水素でそれを含む基が
R−配位を有する場合には、R2はアセチルアミ
ノエチル以外の基であるものとする] で示される化合物、または−OH、−NH2または
−COOHに関する保護体、もしくはその生理的
に加水分解され得る許容されるエステル体、遊離
酸、塩または両性イオン。 2 R1が水素またはメチル、R2がアミノ、低級
アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノ、低級ア
シルアミノ、カルボキシ、イミノ、低級アルキル
イミノ、メチルテトラゾリルおよびモルホリニル
から選ばれた置換基によつてモノまたはジ置換さ
れていることもある低級アルキルである、特許請
求の範囲第1項記載の化合物。 3 (5RS,6RS)−1−アザ−6−(1(RS)−
フルオロエチル)−3−(N−ジメチル−N′−メ
チルアミジノメチルチオ)−7−オキソビシクロ
[3.2.0]ヘプタ−2−エン−2−カルボン酸およ
び(5RS,6RS)−1−アザ−6−(1(RS)−フ
ルオロエチル)−3−(N−ジメチルアミジノメチ
ルチオ)−7−オキソビシクロ[3.2.0]ヘプタ−
2−エン−2−カルボン酸である、特許請求の範
囲第2項記載の化合物。 4 式 () [式中、R1は水素またはメチル、R2はアミノ、
低級アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノ、低
級アシルアミノおよびカルボキシから選ばれる置
換基でモノまたはジ置換されていることもある低
級アルキル、あるいは式(c) −(CH2)p−R7 (c) (式中、R7は低級アルキルおよびカルボキシ
から選ばれた置換基でモノもしくはジ置換されて
いることもある、OおよびNから選ばれた複素原
子を1〜4個含む5員または6員飽和もしくは不
飽和複素環、pは0、1、2または3を示す)、
または下式 (式中、R4、R5およびR6は、同一または異な
つて、それぞれ水素または低級アルキル、mは2
または3、nは1、2または3を示す)で示され
る基を示す。但し、R1が水素でそれを含む基が
R−配位を有する場合には、R2はアセチルアミ
ノエチル以外の基であるものとする] で示される化合物、またはその−OH、−NH2ま
たは−COOHに関する保護体、もしくはその生
理的に加水分解され得る許容されるエステル体、
遊離酸、塩または両性イオンを製造するにあた
り、式() [式中、R1は前記と同意義。R8は脱離基であ
る。] で示される化合物、またはその−OH、−NH2ま
たは−COOHに関する保護体、もしくはその生
理的に加水分解され得る許容されるエステル体、
遊離酸、塩または両性イオンに基−S−R2 [式中、R2は前記と同意義。] の導入試薬を反応させることを特徴とする方法。 5 式 () [式中、R1は水素またはメチル、R2はアミノ、
低級アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノ、低
級アシルアミノおよびカルボキシから選ばれた置
換基でモノまたはジ置換されているこもある低級
アルキル、あるいは式(c) −(CH2)p−R7 (c) (式中、R7は低級アルキルおよびカルボキシ
から選ばれた置換基でモノもしくはジ置換されて
いることもある、OおよびNから選ばれた複素原
子を1〜4個含む5員または6員飽和もしくは不
飽和複素環、pは0、1、2または3を示す)、
または下式 (式中、R4、R5およびR6は、同一または異な
つて、それぞれ水素または低級アルキル、mは2
または3、nは1、2または3を示す)で示され
る基を示す。但し、R1が水素でそれを含む基が
R−配位を有する場合には、R2はアセチルアミ
ノエチル以外の基であるものとする] で示される化合物、またはその−OH、−NH2ま
たは−COOHに関する保護体、もしくはその生
理的に加水分解され得る許容されるエステル体、
遊離酸、塩または両性イオンを製造するにあた
り、 式 () [式中、R1およびR2は前記と同意義。] で示される化合物、またはその−OH、−NH2ま
たは−COOHに関する保護体、もしくはその生
理的に加水分解され得る許容されるエステル体、
遊離酸、塩または両性イオンに、水酸基をフツ素
原子に変換し得る試薬を反応させることを特徴と
する方法。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH453982 | 1982-07-26 | ||
| CH4539/82 | 1982-07-26 | ||
| CH5654/82 | 1982-09-24 | ||
| CH7648/82 | 1982-12-31 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5984886A JPS5984886A (ja) | 1984-05-16 |
| JPH043398B2 true JPH043398B2 (ja) | 1992-01-23 |
Family
ID=4277971
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58136688A Granted JPS5984886A (ja) | 1982-07-26 | 1983-07-25 | フルオロアルキルカルバペネム誘導体 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5984886A (ja) |
| BE (1) | BE897351A (ja) |
| FR (1) | FR2541279B1 (ja) |
| ZA (1) | ZA835468B (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6317859A (ja) * | 1986-07-11 | 1988-01-25 | Sagami Chem Res Center | フルオロアゼチジノン誘導体 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4318912A (en) * | 1979-01-02 | 1982-03-09 | Merck & Co., Inc. | 6-(1-Hydroxyethyl)-3-substituted-1-azabicyclo(3.2.0)-hept-2-en-7-one-2-carboxylic acid |
| US4235922A (en) * | 1979-06-15 | 1980-11-25 | Merck & Co., Inc. | 3-(2-Aminoethylthio)-6-ethyl-7-oxo-1-azabicyclo [3.2.0]hept-2-ene-2-carboxylic acid |
-
1983
- 1983-07-22 BE BE1/10835A patent/BE897351A/fr not_active IP Right Cessation
- 1983-07-25 JP JP58136688A patent/JPS5984886A/ja active Granted
- 1983-07-26 ZA ZA835468A patent/ZA835468B/xx unknown
- 1983-12-05 FR FR8319624A patent/FR2541279B1/fr not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ZA835468B (en) | 1985-03-27 |
| BE897351A (fr) | 1984-01-23 |
| JPS5984886A (ja) | 1984-05-16 |
| FR2541279B1 (fr) | 1987-01-16 |
| FR2541279A1 (fr) | 1984-08-24 |
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