JPH04340408A - 螢光ｘ線膜厚測定装置 - Google Patents
螢光ｘ線膜厚測定装置Info
- Publication number
- JPH04340408A JPH04340408A JP11354691A JP11354691A JPH04340408A JP H04340408 A JPH04340408 A JP H04340408A JP 11354691 A JP11354691 A JP 11354691A JP 11354691 A JP11354691 A JP 11354691A JP H04340408 A JPH04340408 A JP H04340408A
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- JP
- Japan
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- rays
- calibration
- fluorescent
- sample
- ray
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- Pending
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- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、螢光Ｘ線を検出して
金属薄膜の膜厚を測定する螢光Ｘ線膜厚測定装置に関す
る。
金属薄膜の膜厚を測定する螢光Ｘ線膜厚測定装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来は、試料と同じ位置に校正試料を置
き換えて校正測定を実施するか、または、図２および図
３に示すような一次Ｘ線照射軸中に校正試料の配置を有
し、校正タイミングに自動的に、それを切り換えて自動
校正を実施していた。図２において、Ｘ線管球１より発
生した一次Ｘ線２は、コリメート機能を有するシャッタ
ー校正ブロック３により、コリメートされて試料４の所
定の位置を照射する。一次Ｘ線２の照射により試料４か
ら発生した螢光Ｘ線５は、比例計数管６の窓７に入射す
る。比例計数管により螢光Ｘ線５は検出される。
き換えて校正測定を実施するか、または、図２および図
３に示すような一次Ｘ線照射軸中に校正試料の配置を有
し、校正タイミングに自動的に、それを切り換えて自動
校正を実施していた。図２において、Ｘ線管球１より発
生した一次Ｘ線２は、コリメート機能を有するシャッタ
ー校正ブロック３により、コリメートされて試料４の所
定の位置を照射する。一次Ｘ線２の照射により試料４か
ら発生した螢光Ｘ線５は、比例計数管６の窓７に入射す
る。比例計数管により螢光Ｘ線５は検出される。
【０００３】次に、螢光Ｘ線膜厚測定装置を校正する場
合について述べる。シャッター校正ブロック３を回転さ
せ、シャッター校正ブロックに取り付けられた校正板３
−１に一次Ｘ線２を照射するようにし、校正板３−１か
ら発生する螢光Ｘ線８は、比例計数管６の窓７に入射す
る。これにより装置の校正がおこなわれる。
合について述べる。シャッター校正ブロック３を回転さ
せ、シャッター校正ブロックに取り付けられた校正板３
−１に一次Ｘ線２を照射するようにし、校正板３−１か
ら発生する螢光Ｘ線８は、比例計数管６の窓７に入射す
る。これにより装置の校正がおこなわれる。
【０００４】図３においては、コリメータ校正ブロック
３と比例計数管６が、図２と異なるだけである。コリメ
ータ校正ブロック３をスライドすることにより、一次Ｘ
線２は、シャッター校正ブロック３の校正板３−１を照
射することになり、校正板３−１より発生した螢光Ｘ線
８は、比例計数管６の窓７に入射する。窓７は、試料４
からの螢光Ｘ線５が入射する窓７と同一の窓７である。
３と比例計数管６が、図２と異なるだけである。コリメ
ータ校正ブロック３をスライドすることにより、一次Ｘ
線２は、シャッター校正ブロック３の校正板３−１を照
射することになり、校正板３−１より発生した螢光Ｘ線
８は、比例計数管６の窓７に入射する。窓７は、試料４
からの螢光Ｘ線５が入射する窓７と同一の窓７である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の方法の
前者は手動校正のため操作する者への負荷となり、さら
に、スループットの面でも試料交換等の時間を要してい
た。後者は、そのような問題を解決するため用意された
技術ではあるが、校正板３−１からの螢光Ｘ線８のビー
ム軸と試料４からの螢光Ｘ線５のビーム軸とが異なり、
これによって比例計数管６の芯線１０汚れ等の検出器劣
化を生じた場合の検出特性の挙動差を生じる問題があっ
た。
前者は手動校正のため操作する者への負荷となり、さら
に、スループットの面でも試料交換等の時間を要してい
た。後者は、そのような問題を解決するため用意された
技術ではあるが、校正板３−１からの螢光Ｘ線８のビー
ム軸と試料４からの螢光Ｘ線５のビーム軸とが異なり、
これによって比例計数管６の芯線１０汚れ等の検出器劣
化を生じた場合の検出特性の挙動差を生じる問題があっ
た。
【０００６】螢光Ｘ線膜厚測定装置においては、Ｘ線検
出器としてガス封入型の比例計数管６を採用するのが一
般的であるが、比例計数管６の円筒中心に張られた金属
細線の芯線１０が内部ガス不純物等の付着によって汚染
される現象があり、特にＸ線照射領域でこれが発生する
。このため、比例計数管６は試料４からの螢光Ｘ線５と
校正板３−１からの螢光Ｘ線８の検出能が異なってくる
ガスフロー型の比例計数管の場合、芯線巻き取り機構に
より対応する手段もあるが、螢光Ｘ線膜厚測定装置では
、その使用の手軽さや小型化の理由によりガス封入型比
例計数管に制限される。
出器としてガス封入型の比例計数管６を採用するのが一
般的であるが、比例計数管６の円筒中心に張られた金属
細線の芯線１０が内部ガス不純物等の付着によって汚染
される現象があり、特にＸ線照射領域でこれが発生する
。このため、比例計数管６は試料４からの螢光Ｘ線５と
校正板３−１からの螢光Ｘ線８の検出能が異なってくる
ガスフロー型の比例計数管の場合、芯線巻き取り機構に
より対応する手段もあるが、螢光Ｘ線膜厚測定装置では
、その使用の手軽さや小型化の理由によりガス封入型比
例計数管に制限される。
【０００７】そこで、この発明の目的は、従来のこのよ
うな課題を解決するため、試料からの螢光Ｘ線入射部と
校正ビーム入射部を一致させて、検出特性を同一条件と
した校正を可能にすることである。
うな課題を解決するため、試料からの螢光Ｘ線入射部と
校正ビーム入射部を一致させて、検出特性を同一条件と
した校正を可能にすることである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、この発明は螢光Ｘ線膜厚測定装置において、試料か
らの螢光Ｘ線ビームの入射部と、校正用Ｘ線ビームの入
射部とが一致するよう比例計数管を回転させる機構を有
し、正確な装置校正の実現を図る。
に、この発明は螢光Ｘ線膜厚測定装置において、試料か
らの螢光Ｘ線ビームの入射部と、校正用Ｘ線ビームの入
射部とが一致するよう比例計数管を回転させる機構を有
し、正確な装置校正の実現を図る。
【０００９】
【作用】上記のように構成された螢光Ｘ線膜厚測定装置
の装置校正において、通常は試料方向を向いて比例計数
管が配置されており、校正のタイミングになると試料側
のシャッター閉じられ、校正板側に一次Ｘ線が照射され
、試料側螢光Ｘ線ビームとは異なる角度から校正用Ｘ線
が発生するため、その校正用Ｘ線ビーム軸に向くように
比例計数管を回転させることによって、両Ｘ線ビーム入
射部の一致を図ることとなる。
の装置校正において、通常は試料方向を向いて比例計数
管が配置されており、校正のタイミングになると試料側
のシャッター閉じられ、校正板側に一次Ｘ線が照射され
、試料側螢光Ｘ線ビームとは異なる角度から校正用Ｘ線
が発生するため、その校正用Ｘ線ビーム軸に向くように
比例計数管を回転させることによって、両Ｘ線ビーム入
射部の一致を図ることとなる。
【００１０】
【実施例】以下に、この発明の実施例を図に基づいて説
明する。図１は本発明の一実施例であり、校正板３−１
の位置を試料照射用一次Ｘ線２の軸から外した例である
。もちろん図２および図３の従来配置で、比例計数管を
回転させても良い。
明する。図１は本発明の一実施例であり、校正板３−１
の位置を試料照射用一次Ｘ線２の軸から外した例である
。もちろん図２および図３の従来配置で、比例計数管を
回転させても良い。
【００１１】図１において、Ｘ線管球より発生した一次
Ｘ線２は、シャッター１３により、試料４に向かうビー
ムと校正板３−１に向かうビームに切り換えられる。つ
まり、一方向に開放された場合は他方向に一次Ｘ線２の
ビームは遮蔽される。シャッター１３が一次Ｘ線２のビ
ームが試料４の方向に開放されている場合、一次Ｘ線２
は、試料用コリメータ１１によりコリメートされて試料
４を照射する。一次Ｘ線２の照射により試料４から発生
した螢光Ｘ線５は、比例計数管６の窓７に入射し、検出
される。比例計数管６の窓７は、試料４の方向に向かっ
ている。
Ｘ線２は、シャッター１３により、試料４に向かうビー
ムと校正板３−１に向かうビームに切り換えられる。つ
まり、一方向に開放された場合は他方向に一次Ｘ線２の
ビームは遮蔽される。シャッター１３が一次Ｘ線２のビ
ームが試料４の方向に開放されている場合、一次Ｘ線２
は、試料用コリメータ１１によりコリメートされて試料
４を照射する。一次Ｘ線２の照射により試料４から発生
した螢光Ｘ線５は、比例計数管６の窓７に入射し、検出
される。比例計数管６の窓７は、試料４の方向に向かっ
ている。
【００１２】次に、シャッター１３を、一次Ｘ線２のビ
ームが試料４の方向には遮蔽し、校正板３−１方向に開
放する位置にした場合、一次Ｘ線は校正用コリメータ１
２によりコリメートされ、校正用コリメータ１３の下部
に取りつけられた校正板３−１を照射する。このとき、
比例計数管６は、その窓７が、校正板３−１方向に向か
うように、回転される。
ームが試料４の方向には遮蔽し、校正板３−１方向に開
放する位置にした場合、一次Ｘ線は校正用コリメータ１
２によりコリメートされ、校正用コリメータ１３の下部
に取りつけられた校正板３−１を照射する。このとき、
比例計数管６は、その窓７が、校正板３−１方向に向か
うように、回転される。
【００１３】ただし、図２および図３の従来配置では、
一次Ｘ線２のビームとして、試料までの距離より校正板
３−１の位置が近すぎるため、ビーム立体角の一致を図
ることが困難となる。しかしながら、装置校正を目的に
するかぎり、入射部の一致のみならずビームの立体角を
一致させておくことが望まれる。図１の本発明の実施例
では、Ｘ線管球から発生する一次Ｘ線は校正用コリメー
タ１２である程度強度的に絞られ、校正板３−１で校正
のための螢光Ｘ線８に変換され、その後は全方向にある
程度拡がる。この配置の場合、試料４からの螢光Ｘ線５
の立体角と校正板３−１からの校正螢光Ｘ線８の立体角
を一致させることができ、さらに比例計数管６が回転し
て入射部の一致を図る。
一次Ｘ線２のビームとして、試料までの距離より校正板
３−１の位置が近すぎるため、ビーム立体角の一致を図
ることが困難となる。しかしながら、装置校正を目的に
するかぎり、入射部の一致のみならずビームの立体角を
一致させておくことが望まれる。図１の本発明の実施例
では、Ｘ線管球から発生する一次Ｘ線は校正用コリメー
タ１２である程度強度的に絞られ、校正板３−１で校正
のための螢光Ｘ線８に変換され、その後は全方向にある
程度拡がる。この配置の場合、試料４からの螢光Ｘ線５
の立体角と校正板３−１からの校正螢光Ｘ線８の立体角
を一致させることができ、さらに比例計数管６が回転し
て入射部の一致を図る。
【００１４】
【発明の効果】この発明は、以上説明したように検出器
の劣化、特に芯線の汚染等による検出効率や検出ゲイン
の変化に対して、正確な校正を可能とし、さらには装置
校正の自動化を図ることなど、数多くの効果がある。
の劣化、特に芯線の汚染等による検出効率や検出ゲイン
の変化に対して、正確な校正を可能とし、さらには装置
校正の自動化を図ることなど、数多くの効果がある。
【図１】本発明の実施例の断面図である。
【図２】従来の実施例の断面図である。
【図３】従来の実施例の断面図である。
Claims (1)
- 【請求項１】 測定対象物にＸ線を照射し、励起され
た螢光Ｘ線にもとづいてメッキ被膜等の膜厚を測定する
螢光Ｘ線膜厚測定装置において、一次Ｘ線を発生する管
球と、前記Ｘ線管球から発生する一次Ｘ線を、直下の試
料方向と、斜下のＸ線検出器方向のいずれかを開放し又
は遮蔽するシャッター手段と、前記一次Ｘ線が直下の試
料を照射した場合に生ずる螢光Ｘ線を検出するＸ線検出
手段と、前記シャッター手段が校正側が開になった場合
、その一次Ｘ線をコリメートする校正用コリメータと、
前記校正用コリメータを通過した一次Ｘ線によって励起
され、装置校正のための校正情報としての螢光Ｘ線を発
生するための校正板と、校正タイミングで試料側螢光Ｘ
線方向に配置されたＸ線検出器を校正用コリメータに向
けて回転させることによって校正用Ｘ線を検出せしめる
検出器回転手段と、を有することを特徴とする螢光Ｘ線
膜厚測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11354691A JPH04340408A (ja) | 1991-05-17 | 1991-05-17 | 螢光ｘ線膜厚測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11354691A JPH04340408A (ja) | 1991-05-17 | 1991-05-17 | 螢光ｘ線膜厚測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04340408A true JPH04340408A (ja) | 1992-11-26 |
Family
ID=14615054
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11354691A Pending JPH04340408A (ja) | 1991-05-17 | 1991-05-17 | 螢光ｘ線膜厚測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04340408A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013231693A (ja) * | 2012-05-01 | 2013-11-14 | Earthnics Corp | γ線反射型計測装置 |
-
1991
- 1991-05-17 JP JP11354691A patent/JPH04340408A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013231693A (ja) * | 2012-05-01 | 2013-11-14 | Earthnics Corp | γ線反射型計測装置 |
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