JPH0434399Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0434399Y2 JPH0434399Y2 JP4284786U JP4284786U JPH0434399Y2 JP H0434399 Y2 JPH0434399 Y2 JP H0434399Y2 JP 4284786 U JP4284786 U JP 4284786U JP 4284786 U JP4284786 U JP 4284786U JP H0434399 Y2 JPH0434399 Y2 JP H0434399Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- inner case
- furnace
- heating chamber
- heat treatment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Powder Metallurgy (AREA)
- Furnace Details (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
この考案は、セラミツクス、金属粉末等を焼結
するための焼結炉や脱脂炉等の熱処理炉に関する
ものである。
するための焼結炉や脱脂炉等の熱処理炉に関する
ものである。
「従来の技術」
この種の熱処理炉では、焼結、脱脂処理中に被
処理物から発生するワツクス等の不純物のガスを
炉内から充分に除去することが、焼結製品の品質
や炉の保守管理上極めて重要である。すなわち、
それらのガスが充分に除去されないと、それらが
加熱室や炉体の内壁面で冷却されて液化あるいは
固化して付着してしまい、次の処理時に再蒸発し
て被処理物を汚染したり、真空引きに要する時間
が長くなつてしまうという問題を生じる。
処理物から発生するワツクス等の不純物のガスを
炉内から充分に除去することが、焼結製品の品質
や炉の保守管理上極めて重要である。すなわち、
それらのガスが充分に除去されないと、それらが
加熱室や炉体の内壁面で冷却されて液化あるいは
固化して付着してしまい、次の処理時に再蒸発し
て被処理物を汚染したり、真空引きに要する時間
が長くなつてしまうという問題を生じる。
このため、従来より第2図に示すような熱処理
炉が提案されている。この熱処理炉は、真空を保
持可能な炉体1の内部に断熱材によつて加熱室2
を設けるとともに、その内部にさらにインナーケ
ース3を設けた構成とされている。そして、イン
ナーケース3の周囲に配設したヒーター4によつ
て、インナーケース3内に装入した被処理物5を
間接的に加熱して、焼結あるいは脱脂等の熱処理
を行うものである。この熱処理炉では、加熱室2
の本体とその蓋6との間、およびインナーケース
3の本体とその蓋7との間に、それぞれ隙間8,
9を確保しており、キヤリアガス導入管10によ
つて炉体1内に吹き込んだキヤリアガスを、図中
の矢印で示すように、それらの隙間8,9を通し
てインナーケース3内に導入するようになつてい
る。そして、そのキヤリアガスとともに、処理中
に発生した不純物のガスを排出管11によつて排
出口12から吸引することにより、ガスをインナ
ーケース3内から直接的に排出するようにしてい
る。
炉が提案されている。この熱処理炉は、真空を保
持可能な炉体1の内部に断熱材によつて加熱室2
を設けるとともに、その内部にさらにインナーケ
ース3を設けた構成とされている。そして、イン
ナーケース3の周囲に配設したヒーター4によつ
て、インナーケース3内に装入した被処理物5を
間接的に加熱して、焼結あるいは脱脂等の熱処理
を行うものである。この熱処理炉では、加熱室2
の本体とその蓋6との間、およびインナーケース
3の本体とその蓋7との間に、それぞれ隙間8,
9を確保しており、キヤリアガス導入管10によ
つて炉体1内に吹き込んだキヤリアガスを、図中
の矢印で示すように、それらの隙間8,9を通し
てインナーケース3内に導入するようになつてい
る。そして、そのキヤリアガスとともに、処理中
に発生した不純物のガスを排出管11によつて排
出口12から吸引することにより、ガスをインナ
ーケース3内から直接的に排出するようにしてい
る。
なお、上記の加熱室2の蓋6と、インナーケー
ス3の蓋7とは一体とされ、これらは炉体1の炉
蓋13に連結部材14によつて連結されている。
ス3の蓋7とは一体とされ、これらは炉体1の炉
蓋13に連結部材14によつて連結されている。
「考案が解決しようとする問題点」
ところが、上記の熱処理炉では、排出口12の
近傍のガスは吸引されるが、排出口12から遠い
ところに拡散したガスは充分に吸引することがで
きず、したがつて、インナーケース3内からのガ
スの排出は必ずしも充分になされないものであつ
た。そして、排出されないガスが、キヤリアガス
の流通路として確保している隙間9,8から加熱
室2内や炉体1内に流出してしまう恐れがあつ
た。
近傍のガスは吸引されるが、排出口12から遠い
ところに拡散したガスは充分に吸引することがで
きず、したがつて、インナーケース3内からのガ
スの排出は必ずしも充分になされないものであつ
た。そして、排出されないガスが、キヤリアガス
の流通路として確保している隙間9,8から加熱
室2内や炉体1内に流出してしまう恐れがあつ
た。
この考案は上記の事情に鑑みてなされたもの
で、不純物のガスをインナーケース内から確実に
除去できる熱処理炉を提供することを目的とす
る。
で、不純物のガスをインナーケース内から確実に
除去できる熱処理炉を提供することを目的とす
る。
「問題点を解決するための手段」
この考案は、真空を保持可能な炉体の内部に加
熱室を配設し、その加熱室の内部にインナーケー
スを配設して、被処理物より発生するガスをその
インナーケース内より直接的に排出するように構
成した熱処理炉において、前記インナーケース
は、所定寸法離間して互いに対向する内部壁体お
よび外部壁体とにより構成されてそれらの間に中
空部が形成されており、前記内部壁体には前記ガ
スを前記中空部に導く多数のガス流通口が設けら
れている一方、その中空部に導かれたガスを前記
炉体の外部に排出するためのガス排出管が、その
先端を前記中空部に臨ませかつ前記加熱室および
前記炉体を貫通する状態で備えられていることを
特徴としている。
熱室を配設し、その加熱室の内部にインナーケー
スを配設して、被処理物より発生するガスをその
インナーケース内より直接的に排出するように構
成した熱処理炉において、前記インナーケース
は、所定寸法離間して互いに対向する内部壁体お
よび外部壁体とにより構成されてそれらの間に中
空部が形成されており、前記内部壁体には前記ガ
スを前記中空部に導く多数のガス流通口が設けら
れている一方、その中空部に導かれたガスを前記
炉体の外部に排出するためのガス排出管が、その
先端を前記中空部に臨ませかつ前記加熱室および
前記炉体を貫通する状態で備えられていることを
特徴としている。
「作用」
この考案の熱処理炉では、インナーケースの中
空部がガスの流通路となり、処理中に発生した不
純物のガスは、内部壁体に設けられている多数の
流通口を通つてこの中空部に導かれ、その中空部
を通つてガス排出管により炉体外部に排出され
る。
空部がガスの流通路となり、処理中に発生した不
純物のガスは、内部壁体に設けられている多数の
流通口を通つてこの中空部に導かれ、その中空部
を通つてガス排出管により炉体外部に排出され
る。
「実施例」
以下、この考案の一実施例を第1図を参照して
説明する。なお、この実施例の熱処理炉におい
て、上述した従来の熱処理炉と同様の構成要素に
ついては、第1図に第2図と同一符号を付して、
その詳細な説明は省略する。
説明する。なお、この実施例の熱処理炉におい
て、上述した従来の熱処理炉と同様の構成要素に
ついては、第1図に第2図と同一符号を付して、
その詳細な説明は省略する。
この熱処理炉では、従来の熱処理炉と同様に、
炉体1内に加熱室2が配設されており、その内部
にインナーケース20が配設された構成となつて
いる。
炉体1内に加熱室2が配設されており、その内部
にインナーケース20が配設された構成となつて
いる。
このインナーケース20は、外部壁体21と、
その外部壁体21の内側に固定部材22……によ
つて固定された内部壁体23とにより構成され、
それらは所定寸法離間して互いに対向し、それら
の間に中空部24が形成されている。すなわちこ
のインナーケース20は二重壁構造とされてい
て、その二重壁の内部の中空部24はガスの流通
路となるものである。それら外部壁体21と内部
壁体23相互の間隔は、ガスの流通量や流通抵抗
を勘案して設定することが望ましい。
その外部壁体21の内側に固定部材22……によ
つて固定された内部壁体23とにより構成され、
それらは所定寸法離間して互いに対向し、それら
の間に中空部24が形成されている。すなわちこ
のインナーケース20は二重壁構造とされてい
て、その二重壁の内部の中空部24はガスの流通
路となるものである。それら外部壁体21と内部
壁体23相互の間隔は、ガスの流通量や流通抵抗
を勘案して設定することが望ましい。
上記の外部壁体21、内部壁体23には、それ
ぞれ外蓋25、内蓋26が設けられていて、それ
らは互いに連結部材27,27により連結固定さ
れている。そして、連結された外蓋25と内蓋2
6は、前記加熱室2の蓋6に連結されており、こ
れにより、炉体1の炉蓋13を開閉することによ
つて加熱室2の蓋6と、インナーケース20の外
蓋25、内蓋26とを同時に開閉できるようにさ
れている。
ぞれ外蓋25、内蓋26が設けられていて、それ
らは互いに連結部材27,27により連結固定さ
れている。そして、連結された外蓋25と内蓋2
6は、前記加熱室2の蓋6に連結されており、こ
れにより、炉体1の炉蓋13を開閉することによ
つて加熱室2の蓋6と、インナーケース20の外
蓋25、内蓋26とを同時に開閉できるようにさ
れている。
また、上記の内部壁体23とその内蓋26に
は、内部壁体23の内側と中空部24とを連通す
る多数のガス流通口28……が、内部壁体23の
各壁面および内蓋26の全体にわたつてほぼ均等
に設けられている。これらのガス流通口28……
は、熱処理中に被処理物5から発生する不純物の
ガスを中空部24へ導くものである。
は、内部壁体23の内側と中空部24とを連通す
る多数のガス流通口28……が、内部壁体23の
各壁面および内蓋26の全体にわたつてほぼ均等
に設けられている。これらのガス流通口28……
は、熱処理中に被処理物5から発生する不純物の
ガスを中空部24へ導くものである。
また、インナーケース20の内部壁体23には
キヤリアガス導入口29が設けられ、このキヤリ
アガス導入口29にはキヤリアガス導入管30が
接続されている。さらに、外部壁体21には、ガ
ス排出口31が設けられ、このガス排出口31に
は、その先端が中空部24に臨み、かつ、加熱室
2および炉体1を貫通しているガス排出管32が
接続されている。キヤリアガス導入管30は、図
示しない供給源からキヤリアガスを直接インナー
ケース20内(内部壁体23内)に導入するため
のものであり、またガス排出管32は、図示しな
い真空排出装置によつて、中空部24に導かれた
不純物のガスをキヤリアガスとともに吸引して、
炉体1の外部に排出するためのものである。
キヤリアガス導入口29が設けられ、このキヤリ
アガス導入口29にはキヤリアガス導入管30が
接続されている。さらに、外部壁体21には、ガ
ス排出口31が設けられ、このガス排出口31に
は、その先端が中空部24に臨み、かつ、加熱室
2および炉体1を貫通しているガス排出管32が
接続されている。キヤリアガス導入管30は、図
示しない供給源からキヤリアガスを直接インナー
ケース20内(内部壁体23内)に導入するため
のものであり、またガス排出管32は、図示しな
い真空排出装置によつて、中空部24に導かれた
不純物のガスをキヤリアガスとともに吸引して、
炉体1の外部に排出するためのものである。
以上でこの熱処理炉の構成を説明したが、次に
その使用方法を説明する。まず、被処理物5をイ
ンナーケース20内に装入して、炉体1の炉蓋1
3、加熱室2の蓋6、インナーケース20の外蓋
25、内蓋26を閉じ、内部を真空とする。そし
て、ヒーター4によつて被処理物5を加熱する。
被処理物5を400〜500℃程度に加熱すると、その
被処理物5よりワツクス(不純物)が蒸発してそ
のガスがインナーケース20内に放散されるの
で、その時点でキヤリアガスガス導入管30によ
つてキヤリアガスをインナーケース20内に導入
するとともに、真空排気装置(図示略)に駆動す
る。これにより、ガスはキヤリアガスとともに、
図中の矢印で示すようにガス流通口28……から
中空部24に吸引されて流出し、その中空部24
内をガス排出口31に向かつて流れ、排出管32
によつて炉体1外に排出される。
その使用方法を説明する。まず、被処理物5をイ
ンナーケース20内に装入して、炉体1の炉蓋1
3、加熱室2の蓋6、インナーケース20の外蓋
25、内蓋26を閉じ、内部を真空とする。そし
て、ヒーター4によつて被処理物5を加熱する。
被処理物5を400〜500℃程度に加熱すると、その
被処理物5よりワツクス(不純物)が蒸発してそ
のガスがインナーケース20内に放散されるの
で、その時点でキヤリアガスガス導入管30によ
つてキヤリアガスをインナーケース20内に導入
するとともに、真空排気装置(図示略)に駆動す
る。これにより、ガスはキヤリアガスとともに、
図中の矢印で示すようにガス流通口28……から
中空部24に吸引されて流出し、その中空部24
内をガス排出口31に向かつて流れ、排出管32
によつて炉体1外に排出される。
以上で述べたように、この熱処理炉によれば、
被処理物5から発生する不純物のガスを内部壁体
23の全体にわたつて設けられている流通口28
……から吸引するので、インナーケース20の内
部各位置から均等にガスを排出でき、インナーケ
ース20内全体に拡散したガスを完全に排出する
ことができる。
被処理物5から発生する不純物のガスを内部壁体
23の全体にわたつて設けられている流通口28
……から吸引するので、インナーケース20の内
部各位置から均等にガスを排出でき、インナーケ
ース20内全体に拡散したガスを完全に排出する
ことができる。
また、この熱処理炉では、内部壁体23とその
内蓋26との間の隙間からガスが流出したとして
も、そのガスは中空部24に入つてそこから吸引
されて排出されるから、外部壁体21の外まで、
すなわち加熱室2や炉体1には流出することがな
い。
内蓋26との間の隙間からガスが流出したとして
も、そのガスは中空部24に入つてそこから吸引
されて排出されるから、外部壁体21の外まで、
すなわち加熱室2や炉体1には流出することがな
い。
また、この熱処理炉では、充分に均一な排気を
行うことができるため、必ずしもキヤリアガスを
用いることはない。したがつて、キヤリアガスを
導入することなく、高真空度を確保したままで充
分な排気を行うことが可能である。
行うことができるため、必ずしもキヤリアガスを
用いることはない。したがつて、キヤリアガスを
導入することなく、高真空度を確保したままで充
分な排気を行うことが可能である。
なお、各ガス流通口28……の設置位置やそれ
らの大きさは、ガスの流通抵抗等を勘案して適宜
変更して良く、たとえば、ガス排出口31から遠
い位置ほど設置個数を多くしたり、あるいはガス
排出口31の近傍に設けるガス流通口28の径を
遠い位置に設けるものに比して小さくするように
すれば、より均等な排出を行うことが可能とな
る。
らの大きさは、ガスの流通抵抗等を勘案して適宜
変更して良く、たとえば、ガス排出口31から遠
い位置ほど設置個数を多くしたり、あるいはガス
排出口31の近傍に設けるガス流通口28の径を
遠い位置に設けるものに比して小さくするように
すれば、より均等な排出を行うことが可能とな
る。
また、この考案の熱処理炉では、キヤリアガス
を用いなくても充分にガスを排出できることか
ら、キヤリアガスを導入するための導入管30は
省略しても良い。
を用いなくても充分にガスを排出できることか
ら、キヤリアガスを導入するための導入管30は
省略しても良い。
「考案の効果」
以上詳細に説明したように、この考案によれば
インナーケースを外部壁体と内部壁体により構成
し、それらの間に中空部を設けてその中空部から
ガスを排出するように構成したので、熱処理に伴
つて発生する不純物のガスをインナーケース内の
各位置から均等に排出することが可能であり、イ
ンナーケースの外部にガスを流出させることな
く、完全に排出することができるという効果を奏
する。
インナーケースを外部壁体と内部壁体により構成
し、それらの間に中空部を設けてその中空部から
ガスを排出するように構成したので、熱処理に伴
つて発生する不純物のガスをインナーケース内の
各位置から均等に排出することが可能であり、イ
ンナーケースの外部にガスを流出させることな
く、完全に排出することができるという効果を奏
する。
第1図はこの実施例の熱処理炉の概略構成を示
す側断面図、第2図は従来の熱処理炉の概略構成
を示す側断面図である。 1……炉体、2……加熱室、5……被処理物、
20……インナーケース、21……外部壁体、2
3……内部壁体、24……中空部、28……ガス
流通口、32……ガス排出管。
す側断面図、第2図は従来の熱処理炉の概略構成
を示す側断面図である。 1……炉体、2……加熱室、5……被処理物、
20……インナーケース、21……外部壁体、2
3……内部壁体、24……中空部、28……ガス
流通口、32……ガス排出管。
Claims (1)
- 真空を保持可能な炉体の内部に加熱室を配設
し、その加熱室の内部にインナーケースを配設し
て、被処理物より発生するガスをそのインナーケ
ース内より直接的に排出するように構成した熱処
理炉において、前記インナーケースは、所定寸法
離間して互いに対向する内部壁体および外部壁体
とにより構成されてそれらの間に中空部が形成さ
れており、前記内部壁体には前記ガスを前記中空
部に導く多数のガス流通口が設けられている一
方、その中空部に導かれたガスを前記炉体の外部
に排出するためのガス排出管が、その先端を前記
中空部に臨ませかつ前記加熱室および前記炉体を
貫通する状態で備えられていることを特徴とする
熱処理炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4284786U JPH0434399Y2 (ja) | 1986-03-24 | 1986-03-24 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4284786U JPH0434399Y2 (ja) | 1986-03-24 | 1986-03-24 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62154398U JPS62154398U (ja) | 1987-09-30 |
| JPH0434399Y2 true JPH0434399Y2 (ja) | 1992-08-17 |
Family
ID=30859152
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4284786U Expired JPH0434399Y2 (ja) | 1986-03-24 | 1986-03-24 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0434399Y2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03204586A (ja) * | 1989-12-30 | 1991-09-06 | Shimadzu Corp | 焼結炉 |
| JP2504345B2 (ja) * | 1991-06-04 | 1996-06-05 | 株式会社島津製作所 | 真空焼結炉 |
-
1986
- 1986-03-24 JP JP4284786U patent/JPH0434399Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62154398U (ja) | 1987-09-30 |
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