JPH043442A - Bump structure of tab inner lead and manufacture thereof - Google Patents
Bump structure of tab inner lead and manufacture thereofInfo
- Publication number
- JPH043442A JPH043442A JP10417690A JP10417690A JPH043442A JP H043442 A JPH043442 A JP H043442A JP 10417690 A JP10417690 A JP 10417690A JP 10417690 A JP10417690 A JP 10417690A JP H043442 A JPH043442 A JP H043442A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- inner lead
- chip
- punch
- die
- guide hole
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title 1
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 48
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 38
- 238000004080 punching Methods 0.000 claims description 11
- 230000035515 penetration Effects 0.000 abstract 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 9
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野]
本発明は、半導体素子の実装に用いられるTAB(Ta
pe Automated Bonding)用テープ
キャリアのインナーリード先端部に形成するバンプ構造
および機械的なプレス加工によりバンプを形成する方法
に関する。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to TAB (Ta
The present invention relates to a bump structure formed at the tip of an inner lead of a tape carrier for (Automated Bonding) and a method of forming the bump by mechanical pressing.
〔従来の技術]
一般に、半導体素子をTAB用テープキャリアに実装す
るには、半導体素子の電極部またはテープキャリアのイ
ンナーリード先端部のいずれか一方に、バンプとなる突
起を形成する必要がある。半導体素子の電極部にバンプ
を形成する方法には、例工ば、「アイビーエムジャーナ
ル(IBM Journal)J第8巻(1964年)
102頁に記載のように電極部に直接バンプとなる突起
をメツキ法により形成する方法や、「エレクトロニック
・パッケージング・アンド・プロダクション(Elec
tronic Packaging &Product
ion)J、 1984年12月号、33〜39頁に記
載のようにエツチング技術を用いたペデスタル法、すな
わちバンプを形成する部分をマスキングしておき、他の
インナーリード部分をハーフエツチングすることにより
、30〜40μmの高さの突起を形成する方法がある。[Prior Art] Generally, in order to mount a semiconductor element on a TAB tape carrier, it is necessary to form protrusions that serve as bumps on either the electrode portion of the semiconductor element or the inner lead end portion of the tape carrier. For example, there is a method for forming bumps on the electrode portion of a semiconductor device, as described in "IBM Journal, Vol. 8, 1964.
As described on page 102, there is a method of forming protrusions that will become bumps directly on the electrode portion by plating method, and a method of forming bumps directly on the electrode portion, and
tronic Packaging &Product
ion) J, December 1984 issue, pages 33-39, the pedestal method using etching technology, that is, by masking the part where the bump will be formed and half-etching the other inner lead parts. There is a method of forming protrusions with a height of 30 to 40 μm.
しかし、これらの方法でバンプを形成するには、高価な
露光装置やメツキ装置などの設備が必要となるだけでな
く、パターンニングのためのりソゲラフイエ程やエツチ
ング工程が必要になるためバンプ形成工程に長時間を要
する。However, forming bumps using these methods not only requires expensive exposure equipment, plating equipment, and other equipment, but also requires a glue glazing process and an etching process for patterning, which makes the bump formation process difficult. It takes a long time.
このため、特公昭64−10094号公報に記載のよう
に、金型を用いた機械的なプレス成形加工技術を用いて
インナーリード先端部にペデスタルを製作する方法が提
案されている。この方法は、第4図(a)に示すように
下型32ヘフイルム33とインナーリード18とが一体
となったテープキャリア34を装着し、上方からインナ
ーリード18の幅よりも大きな凸部27を有する上型2
8を降下させ、第4図(ロ)、(C)に示すようにイン
ナーリード18の先端部に凸部27のプレス加工によっ
て凹部30を形成し、バンプとなるペデスタル29をイ
ンナーリード先端部に形成する方法である。なお、上型
28の凸部27により押圧されたインナーリード18の
凹部30の材料の逃げのため、幅方向に切欠き31が設
けられている。Therefore, as described in Japanese Patent Publication No. Sho 64-10094, a method has been proposed in which a pedestal is manufactured at the tip of the inner lead using a mechanical press forming technique using a mold. In this method, as shown in FIG. 4(a), a tape carrier 34 in which a film 33 and an inner lead 18 are integrated is attached to a lower mold 32, and a convex portion 27 larger than the width of the inner lead 18 is inserted from above. Upper mold 2 with
8 is lowered, and as shown in FIGS. 4(B) and 4(C), a concave portion 30 is formed by pressing the convex portion 27 at the tip of the inner lead 18, and a pedestal 29, which will become a bump, is formed at the tip of the inner lead. This is a method of forming. Note that a notch 31 is provided in the width direction to allow the material of the recess 30 of the inner lead 18 pressed by the projection 27 of the upper mold 28 to escape.
ところが、このよプなプレス加工方法によりインナーリ
ード先端部に成形されたバンプは、インナーリードの外
形部分を金型を用いて成形した断面形状が中実構造のバ
ンプのため、半導体素子とバンプとを熱圧着で接合する
工程において作用させる圧縮荷重に対して、これがほぼ
剛体として作用する。このため個々のバンプの高さにバ
ラツキがあると、半導体素子とバンプとを一括で接合す
るとき、すべてのバンプを均一に接合することができず
、電気的に接続不良が発生するという課題がある。した
がって、接続不良を発生させないためには、バンプの高
さ精度を少なくとも0.5μm以下程度と高精度にバン
プを形成するか、あるいは高温において変形が生じ易い
材料をバンプ材料として用い、半導体素子とバンプの接
合時にバンプ高さを矯正する等の処理が必要となる。第
4図(b)。However, the bumps formed on the tips of the inner leads using this type of pressing method have a solid cross-sectional shape obtained by molding the outer shape of the inner leads using a mold, so there is no connection between the semiconductor element and the bumps. This acts almost as a rigid body against the compressive load applied in the process of joining by thermocompression bonding. For this reason, if there are variations in the height of individual bumps, when bonding semiconductor elements and bumps all at once, it will not be possible to bond all the bumps uniformly, resulting in electrical connection failures. be. Therefore, in order to prevent connection failures, it is necessary to form bumps with high accuracy such that the height accuracy of the bumps is at least 0.5 μm or less, or to use a material that easily deforms at high temperatures as the bump material, and to Processing such as correcting the bump height is required when bonding the bumps. Figure 4(b).
(c)に示した従来のバンプ構造では、インナーリード
上に機械加工により直接バンプ形成を行うため、バンプ
材料を任意に選ぶことは困難であった。したがって、従
来法によるときには極めて高精度にバンプを形成するこ
とが要求されていた。In the conventional bump structure shown in (c), the bumps are formed directly on the inner lead by machining, so it is difficult to arbitrarily select the bump material. Therefore, when using the conventional method, it is required to form bumps with extremely high precision.
本発明の目的はこのような従来の課題を解決し、バンプ
形成工程が簡単で、バンプ高さのバラツキが存在しても
十分な接合強度で、しかも信頼性高く半導体素子との接
合が達成できるTABインナーリードのバンプ構造およ
びその形成方法を提供することにある。The purpose of the present invention is to solve these conventional problems, to simplify the bump formation process, to achieve sufficient bonding strength even with variations in bump height, and to achieve highly reliable bonding with semiconductor elements. An object of the present invention is to provide a bump structure for a TAB inner lead and a method for forming the same.
[課題を解決するための手段]
前記目的を達成するため、本発明に係るTABインナー
リードのバンプ構造においては、TAB用テープキャリ
アのインナーリードと、チップとの組合せからなる、T
ABインナーリードのバンプ構造であって、
前記TAB用テープキャリアのインナーリードは、その
先端部近傍にガイド穴を有するものであり、前記チップ
は、インナーリードに熱圧着可能な素材からなり、その
先端をインナーリードから張出させてインナーリードの
ガイド穴に圧入されたものである。[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, in the TAB inner lead bump structure according to the present invention, a TAB inner lead bump structure consisting of a combination of an inner lead of a TAB tape carrier and a chip is provided.
AB inner lead bump structure, wherein the inner lead of the TAB tape carrier has a guide hole near its tip, and the tip is made of a material that can be thermocompressed to the inner lead, and the tip is made of a material that can be thermocompressed to the inner lead. is made to protrude from the inner lead and is press-fitted into the guide hole of the inner lead.
また、本発明に係るTABインナーリードのバンプ構造
は、打抜工程と、ガイド穴形成工程と、チップ形成工程
と、圧入工程とを含み、TAB用テープキャリアのイン
ナーリード及びチップの組合せからなるTABインナー
リードのバンプ構造の形成方法であって、
前記打抜工程は、対をなすポンチと第1のダイスとの間
にリボン状チップ材料を配置し、該ポンチと第1のダイ
スとによりリボン状チップ材料を打抜いて貫通孔を形成
するものであり、前記ガイド穴形成工程は、前記第1の
ダイスの下方にインナーリードを配置し、かつ該インナ
ーリードの下方に第2のダイスを前記第1のダイスと細
心を一致させて配置し、前工程にてリボン状チップ材料
に打抜加工された貫通孔に前記ポンチを通して該ポンチ
と前記第2のダイスとによりインナーリードをプレス成
形しインナーリードにガイド穴を形成するものであり、
前記チップ形成工程は、前記ポンチと第1のダイスとの
間に送り込まれたリボン状チップ材料の打抜加工されて
いない領域をポンチと第1のダイスとにより打抜加工し
て柱状チップを形成するものであり、
前記圧入工程は、前記チップ形成工程にて加工された柱
状チップをインナーリードのガイド穴に圧入するもので
あり、
前記柱状チップは、インナーリードのガイド穴に圧入さ
れてその先端がインナーリードより張り出す長さをもつ
ものであり、
最初にTABインナーリードのバンプ構造を形成するに
あたっては、打抜工程、ガイド穴形成工程。Further, the bump structure of the TAB inner lead according to the present invention includes a punching process, a guide hole forming process, a chip forming process, and a press-fitting process, and the TAB inner lead and the chip are formed by combining the inner lead and the chip of the TAB tape carrier. A method for forming a bump structure on an inner lead, wherein the punching step includes arranging a ribbon-shaped chip material between a pair of punches and a first die, and using the punch and the first die to form a ribbon-shaped chip material. A through hole is formed by punching out a chip material, and the guide hole forming step includes arranging an inner lead below the first die, and placing a second die below the inner lead. The inner lead is press-formed by inserting the punch into the through hole punched in the ribbon-shaped chip material in the previous step and press-forming the inner lead using the punch and the second die. A guide hole is formed in the chip forming step, and in the chip forming step, an unpunched region of the ribbon-shaped chip material fed between the punch and the first die is formed between the punch and the first die. A columnar chip is formed by punching with It is press-fitted into the guide hole of the lead and its tip has a length that extends beyond the inner lead.The first step in forming the bump structure of the TAB inner lead is a punching process and a guide hole forming process.
チップ形成工程、圧入工程を連続して行い、次回以降は
、打抜工程を省略して、ガイド穴形成工程。The chip forming process and the press-fitting process are performed continuously, and from the next time onwards, the punching process is omitted and the guide hole forming process is performed.
チップ形成工程、圧入工程を繰り返す形成方法により得
られる。It is obtained by a forming method that repeats a chip forming process and a press-fitting process.
[作用]
本発明のインナーリード先端部近傍に形成するバンプ構
造では、第1図に示すようにガイド穴21に柱状チップ
23の一部が埋め込まれた構造である。[Function] The bump structure formed near the tip of the inner lead of the present invention has a structure in which a part of the columnar chip 23 is embedded in the guide hole 21, as shown in FIG.
柱状チップ23とインナーリード18は、摩擦力を利用
して接合する。このためバンプ形成時には、チップ23
とインナーリード18の接合強度は不十分であるが、第
3図に示すように半導体素子24の電極25とチップ2
3を熱圧着法により接合する際に、同時にガイド穴21
とチップ23を熱圧着できるため、TABインナーリー
ドのバンプとして十分な強度を達成することができる。The columnar chip 23 and the inner lead 18 are joined using frictional force. Therefore, when forming bumps, the chip 23
Although the bonding strength between the inner leads 18 and the electrodes 25 of the semiconductor element 24 is insufficient, as shown in FIG.
3 by thermocompression bonding, at the same time the guide hole 21
Since the chip 23 and the chip 23 can be bonded by thermocompression, sufficient strength can be achieved as a bump for the TAB inner lead.
また、本発明のバンプ構造ではバンプ材料を任意に選ぶ
ことができるため、バンプ高さにバラツキが生じても、
半導体素子とインナーリードとを均一に接合することが
可能となる。In addition, in the bump structure of the present invention, the bump material can be arbitrarily selected, so even if there are variations in bump height,
It becomes possible to uniformly bond the semiconductor element and the inner lead.
本発明に係るTABインナーリードのバンプ形成方法で
は、まず第2図(a)に示すように、ポンチ13と第1
のダイス15によりリボン状チップ材料17を打ち抜き
、ポンチ13を元の位置に戻す。このときリボン状チッ
プ材料17には、ポンチ13の直径に等しい貫通孔20
が形成される。ついで第2図(ロ)に示すように、第1
のダイス15と第2のダイス16の間にインナーリード
18を配置し、ポンチ13を下方に移動する。第2図(
a)で形成したリボン状チップ材料17の貫通孔20を
ポンチ13が通過し、第2のダイス16とポンチ13に
よりインナーリード18をプレス成形し、ポンチ13の
直径に等しいガイド穴21を形成する。ついで第2図(
c)に示すように、リボン状チップ材料17を移動し、
貫通孔20の位置を移動する。最後に第2図(社)に示
すように、第1のダイス15とポンチ13によりリボン
状チップ材料17を打ち抜き、柱状のチップ23を形成
し、チップ23の一部をガイド穴21に埋め込む。In the TAB inner lead bump forming method according to the present invention, first, as shown in FIG. 2(a), the punch 13 and the first
The ribbon-shaped chip material 17 is punched out using the die 15, and the punch 13 is returned to its original position. At this time, the ribbon-shaped chip material 17 has a through hole 20 equal to the diameter of the punch 13.
is formed. Next, as shown in Figure 2 (b), the first
The inner lead 18 is placed between the second die 15 and the second die 16, and the punch 13 is moved downward. Figure 2 (
The punch 13 passes through the through hole 20 of the ribbon-shaped chip material 17 formed in step a), and the second die 16 and the punch 13 press-form the inner lead 18 to form a guide hole 21 having the same diameter as the punch 13. . Next, Figure 2 (
As shown in c), move the ribbon-shaped chip material 17,
The position of the through hole 20 is moved. Finally, as shown in FIG. 2, the ribbon-shaped chip material 17 is punched out using the first die 15 and the punch 13 to form a column-shaped chip 23, and a part of the chip 23 is embedded in the guide hole 21.
以上のようにして、第1図(a)、(ロ)に示すような
、バンプ構造を容易に形成することができる。ここで第
2図■〜(d)の工程において、ポンチ13、第2のダ
イス16およびガイド穴21の軸心は常に一致している
ため、チップ23をガイド穴21に埋め込む際に、ガイ
ド穴21とポンチ13との特別な位置決めを行う必要は
なく、第1図に示すようなTABインナーリードのバン
プ構造を容易に形成することができる。In the manner described above, a bump structure as shown in FIGS. 1(a) and 1(b) can be easily formed. Here, in the steps shown in FIG. There is no need for special positioning of the punch 21 and the punch 13, and the bump structure of the TAB inner lead as shown in FIG. 1 can be easily formed.
なお以後のバンプ形成においては、第2図(cl)の工
程によりリボン状チップ材料17にポンチ13と軸心が
一致した貫通孔20が形成されるため、第2図(a)の
工程は不要となり、第2図6)〜(社)の工程を繰り返
せば良い。In the subsequent bump formation, a through hole 20 whose axis coincides with the punch 13 is formed in the ribbon-shaped chip material 17 by the step shown in FIG. 2 (cl), so the step shown in FIG. 2 (a) is unnecessary. Therefore, it is sufficient to repeat the steps from 6) to (company) in Fig. 2.
[実施例] 以下、本発明について図面を用いて詳細に説明する。[Example] Hereinafter, the present invention will be explained in detail using the drawings.
第1図(a)、(ロ)は本発明の実施例によるTABイ
ンナーリードのバンプ構造を示す断面図、および斜視図
である。第2図(a)〜(d)は本発明の実施例に係る
TABインナーリードのバンプ形成方法を工程順に示す
部分断面図である。FIGS. 1A and 1B are a sectional view and a perspective view showing the bump structure of a TAB inner lead according to an embodiment of the present invention. FIGS. 2(a) to 2(d) are partial cross-sectional views showing, in order of steps, a method for forming bumps on a TAB inner lead according to an embodiment of the present invention.
第2図(a)〜(d)に示すように、外径6Mの円筒状
のポンチホルダ11の内面に先端直径が32pmである
ポンチ13を挿入し、ポンチホルダIIの上端とポンチ
13を固定した。ポンチホルダIIの一部は上下方向に
伸縮するバネ構造12となっている。ポンチホルダII
の下端の一部には、リボン状チップ材料17を挿入する
幅1.2mm、高さ50pmの断面を有するスリット状
のリボンガイド14が設けられている。リボンガイド1
4の下方に、直径35μm、深さ]OOIImの貫通ダ
イス穴を有する第1のダイス15を、ポンチホルダ11
と一体構造となるように構成した。第1のダイス15の
下方には、直径50μmのダイス穴を有する第2のダイ
ス16が配置されており、第1のダイス15と第2のダ
イス16の間に電解銅箔に金をlpmメツキしたインナ
ーリード18を配置した。As shown in FIGS. 2(a) to 2(d), a punch 13 having a tip diameter of 32 pm was inserted into the inner surface of a cylindrical punch holder 11 having an outer diameter of 6M, and the punch 13 was fixed to the upper end of the punch holder II. A part of the punch holder II has a spring structure 12 that expands and contracts in the vertical direction. Punch holder II
A slit-shaped ribbon guide 14 having a cross section of 1.2 mm in width and 50 pm in height into which the ribbon-shaped chip material 17 is inserted is provided at a part of the lower end. Ribbon guide 1
4, a first die 15 having a through die hole with a diameter of 35 μm and a depth of ]OOIIm is placed under the punch holder 11.
It was constructed to have an integrated structure. A second die 16 having a die hole with a diameter of 50 μm is placed below the first die 15, and between the first die 15 and the second die 16 an electrolytic copper foil is plated with gold. The inner leads 18 were arranged.
まず第2図(a)に示すように、リボン状チップ材料1
7を第1のダイス15とポンチ13により打ち抜き、リ
ボン状チップ材料17に直径35pmの貫通孔20を形
成した。ここで用いたリボン状チップ材料17は、幅1
mm、厚さ30μmの金からなる素材とした。次に第2
図(ハ)に示すように、インナーリード18を第1のダ
イス15と第2のダイス16との間に配置し、アクチュ
エータ19を下方に移動し、ポンチ13と第2のダイス
16によりインナーリード18をプレス形成し、直径3
5pm、深さ20pmのガイド穴21を形成した。First, as shown in FIG. 2(a), a ribbon-shaped chip material 1
7 was punched out using the first die 15 and punch 13 to form a through hole 20 with a diameter of 35 pm in the ribbon-shaped chip material 17. The ribbon-shaped chip material 17 used here has a width of 1
The material was made of gold and had a thickness of 30 μm. Then the second
As shown in FIG. 18 is press-formed and has a diameter of 3
A guide hole 21 with a diameter of 5 pm and a depth of 20 pm was formed.
ガイド穴21の裏面には、直径50pmの球面状凸部2
2が形成された。ここで、アクチュエータ19によりポ
ンチ13を下方に移動する際、ポンチ13は第2図(a
)で形成した貫通孔20を通過するため、リボン状チッ
プ材料17を打ち抜くことなく、インナーリード18の
みがプレス成形され、第2図(c)に示すようなガイド
穴21を形成することができる。A spherical convex portion 2 with a diameter of 50 pm is provided on the back side of the guide hole 21.
2 was formed. Here, when the punch 13 is moved downward by the actuator 19, the punch 13 is moved downward as shown in FIG.
), only the inner leads 18 are press-molded without punching out the ribbon-shaped chip material 17, making it possible to form guide holes 21 as shown in FIG. 2(c). .
次いで、第2図(c)に示すように、リボン状チップ材
料17を移送し、貫通孔20の位置を移動した。Next, as shown in FIG. 2(c), the ribbon-shaped chip material 17 was transferred and the position of the through hole 20 was moved.
最後に第2図(ハ)に示すようにアクチュエータ19に
よりポンチ13を下方に移動し、リボン状チップ材料1
7をポンチ13と第1のダイス15により打ち抜き、直
径35pm、高さ30pmの柱状チップ23を形成し、
バンプ23の一部を第2図(ハ)で形成したガイド穴2
1に埋め込んだ。ガイド穴21に埋め込んだチップ23
のインナーリード上面からの高さは約25±lpmであ
った。Finally, as shown in FIG. 2(C), the punch 13 is moved downward by the actuator 19, and the ribbon-shaped chip material 1
7 is punched out using a punch 13 and a first die 15 to form a columnar chip 23 with a diameter of 35 pm and a height of 30 pm,
Guide hole 2 where a part of the bump 23 is formed as shown in FIG. 2 (c)
Embedded in 1. Chip 23 embedded in guide hole 21
The height from the top surface of the inner lead was about 25±lpm.
以上のようにしてTABテープの複数のインナーリード
18に第1図に示すようなチップ23を形成し、第3図
に示すように半導体素子24のAQ電極25と低温ボン
ディング法(素子加熱温度=150℃、加圧用ツール2
6の温度:500℃、圧カニ 60gf/リード、接合
時間1秒)により接合した結果、強度的(リード1本当
たりのせん断強度60gf以上)にも電気的にも良好な
接続が達成された。As described above, the chips 23 as shown in FIG. 1 are formed on the plurality of inner leads 18 of the TAB tape, and as shown in FIG. 150℃, pressure tool 2
6 (temperature: 500° C., pressure crab 60 gf/lead, bonding time 1 second), a good connection was achieved both in terms of strength (shear strength of 60 gf or more per lead) and electrically.
上記のように第1図に示すバンプ構造で十分な接合強度
を達成できたのは、チップ23とインナーリード18と
を同時に熱圧着できたためである。なお、熱圧着後のバ
ンプ高さは20μmと十分な高さであり、TABインナ
ーリードのバンプとして十分に使用できることを確認し
た。また、バンプ高さに±lIImのバラツキがあるに
もかかわらず、良好な接続を達成できたのは高温で変形
が生じやすい金リボンをバンプ材料として使用したため
である。The reason why sufficient bonding strength was achieved with the bump structure shown in FIG. 1 as described above is that the chip 23 and the inner leads 18 could be bonded together by thermocompression at the same time. The bump height after thermocompression bonding was 20 μm, which was a sufficient height, and it was confirmed that it could be used as a bump for a TAB inner lead. Furthermore, despite the variation in bump height of ±lIIm, good connection was achieved because gold ribbon, which easily deforms at high temperatures, was used as the bump material.
f発明の効果〕
以上説明したように、本発明のTABインナーリードの
バンプ構造では、バンプ高さに一バラツキが生じても、
バンプと半導体素子の電極部と機械的にも電気的にも良
好に接続できる効果がある。[Effects of the Invention] As explained above, in the bump structure of the TAB inner lead of the present invention, even if there is a slight variation in the bump height,
This has the effect of allowing good mechanical and electrical connection between the bump and the electrode portion of the semiconductor element.
また、本発明のTABインナーリードのバンプ形成方法
では、上記のようなバンプを機械的プレス法により、容
易に形成できる効果がある。Furthermore, the TAB inner lead bump forming method of the present invention has the advantage that the bumps described above can be easily formed by a mechanical pressing method.
第1図(ωは本発明のTABインナーリードのバンプ構
造を示す断面図、(ロ)は同斜視図、第2図(a)〜(
へ)は本発明のTABインナーリードのバンプ形成方法
を工程順に示す断面図、第3図は本発明により形成した
バンプと半導体素子の電極部との接合方法を示す断面図
、第4図(a)は従来法の課題を説明する断面図、(ロ
)は同平面図、(c)は同側面図である。
11・・・ポンチホルダ 12・・・バネ13・
・・ポンチ 14・・・リボンガイド15
・・・第1のダイス
17・・・リボン状チップ材料
19・・・アクチュエータ
21・・・ガイド穴
23・・・柱状チップ
25・・・AQ電極Fig. 1 (ω is a cross-sectional view showing the bump structure of the TAB inner lead of the present invention, (b) is a perspective view thereof, and Figs. 2 (a) to (
Fig. 3 is a cross-sectional view showing a method for forming a bump on a TAB inner lead according to the present invention in the order of steps; ) is a sectional view illustrating the problem of the conventional method, (b) is a plan view of the same, and (c) is a side view of the same. 11... Punch holder 12... Spring 13.
... Punch 14 ... Ribbon guide 15
... First die 17 ... Ribbon-shaped chip material 19 ... Actuator 21 ... Guide hole 23 ... Columnar chip 25 ... AQ electrode
Claims (2)
ップとの組合せからなる、TABインナーリードのバン
プ構造であって、 前記TAB用テープキャリアのインナーリードは、その
先端部近傍にガイド穴を有するものであり、前記チップ
は、インナーリードに熱圧着可能な素材からなり、その
先端をインナーリードから張出させてインナーリードの
ガイド穴に圧入されたものであることを特徴とするTA
Bインナーリードのバンプ構造。(1) A TAB inner lead bump structure consisting of a combination of an inner lead of a TAB tape carrier and a chip, wherein the inner lead of the TAB tape carrier has a guide hole near its tip. The chip is made of a material that can be thermocompression bonded to the inner lead, and the tip is press-fitted into the guide hole of the inner lead with its tip protruding from the inner lead.
B Inner lead bump structure.
程と、圧入工程とを含み、TAB用テープキャリアのイ
ンナーリード及びチップの組合せからなるTABインナ
ーリードのバンプ構造の形成方法であって、 前記打抜工程は、対をなすポンチと第1のダイスとの間
にリボン状チップ材料を配置し、該ポンチと第1のダイ
スとによりリボン状チップ材料を打抜いて貫通孔を形成
するものであり、 前記ガイド穴形成工程は、前記第1のダイスの下方にイ
ンナーリードを配置し、かつ該インナーリードの下方に
第2のダイスを前記第1のダイスと軸心を一致させて配
置し、前工程にてリボン状チップ材料に打抜加工された
貫通孔に前記ポンチを通して該ポンチと前記第2のダイ
スとによりインナーリードをプレス成形しインナーリー
ドにガイド穴を形成するものであり、 前記チップ形成工程は、前記ポンチと第1のダイスとの
間に送り込まれたリボン状チップ材料の打抜加工されて
いない領域をポンチと第1のダイスとにより打抜加工し
て柱状チップを形成するものであり、 前記圧入工程は、前記チップ形成工程にて加工された柱
状チップをインナーリードのガイド穴に圧入するもので
あり、 前記柱状チップは、インナーリードのガイド穴に圧入さ
れてその先端がインナーリードより張り出す長さをもつ
ものであり、 最初にTABインナーリードのバンプ構造を形成するに
あたっては、打抜工程、ガイド穴形成工程、チップ形成
工程、圧入工程を連続して行い、次回以降は、打抜工程
を省略して、ガイド穴形成工程、チップ形成工程、圧入
工程を繰り返すことを特徴とするTABインナーリード
のバンプ構造の形成方法。(2) A method for forming a bump structure of a TAB inner lead consisting of a combination of an inner lead and a chip of a TAB tape carrier, including a punching process, a guide hole forming process, a chip forming process, and a press-fitting process, In the punching step, a ribbon-shaped chip material is placed between a pair of punches and a first die, and the ribbon-shaped chip material is punched with the punch and the first die to form a through hole. The guide hole forming step includes arranging an inner lead below the first die, and arranging a second die below the inner lead so that its axis coincides with that of the first die. and inserting the punch into the through hole punched in the ribbon-shaped chip material in the previous step, and press-forming the inner lead using the punch and the second die to form a guide hole in the inner lead, In the chip forming step, the unpunched region of the ribbon-shaped chip material fed between the punch and the first die is punched using the punch and the first die to form a columnar chip. In the press-fitting step, the columnar chip processed in the chip-forming step is press-fitted into the guide hole of the inner lead, and the columnar chip is press-fitted into the guide hole of the inner lead and its tip end is press-fitted into the guide hole of the inner lead. The bump structure of the TAB inner lead is first formed by sequentially performing a punching process, a guide hole forming process, a chip forming process, and a press-fitting process. Thereafter, the method for forming a bump structure of a TAB inner lead is characterized in that the punching step is omitted and the guide hole forming step, chip forming step, and press fitting step are repeated.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10417690A JPH043442A (en) | 1990-04-19 | 1990-04-19 | Bump structure of tab inner lead and manufacture thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10417690A JPH043442A (en) | 1990-04-19 | 1990-04-19 | Bump structure of tab inner lead and manufacture thereof |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH043442A true JPH043442A (en) | 1992-01-08 |
Family
ID=14373710
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10417690A Pending JPH043442A (en) | 1990-04-19 | 1990-04-19 | Bump structure of tab inner lead and manufacture thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH043442A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07226401A (en) * | 1993-12-14 | 1995-08-22 | Nec Corp | Bump forming apparatus and bump forming method |
-
1990
- 1990-04-19 JP JP10417690A patent/JPH043442A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07226401A (en) * | 1993-12-14 | 1995-08-22 | Nec Corp | Bump forming apparatus and bump forming method |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5437915A (en) | Semiconductor leadframe and its production method and plastic encapsulated semiconductor device | |
| JPH10275827A (en) | Lead frame for face down bonding | |
| JPH043442A (en) | Bump structure of tab inner lead and manufacture thereof | |
| JPH03252148A (en) | Bump structure of tab inner lead and its formation | |
| KR100480455B1 (en) | Bonding tool capable of bonding inner leads of TAB tapes to electrode pads in high quality and high productivity and bonding method | |
| JPS6231497B2 (en) | ||
| JP2687775B2 (en) | TAB tape | |
| JP2000260921A (en) | Lead frame, resin-sealed semiconductor device using the same, and method of manufacturing the same | |
| JPH043441A (en) | Method and device for forming bump of tab inner lead | |
| JP4042400B2 (en) | Punching die | |
| JPH0671034B2 (en) | Method and jig for forming metal projection | |
| JPS63311732A (en) | Method of packaging semiconductor element | |
| JPH0671033B2 (en) | Method and jig for forming metal projection | |
| JPH04127546A (en) | Manufacture of semiconductor device | |
| JPH04225245A (en) | Method and substrate for forming bump of tab inner lead | |
| JP2707153B2 (en) | Lead frame manufacturing method | |
| JPH07114206B2 (en) | Method for forming metal projection and jig for forming metal projection | |
| JP2780407B2 (en) | Punch for TAB inner lead bump formation | |
| JPH05283473A (en) | Film carrier semiconductor device and manufacture thereof | |
| JP2001257305A (en) | Resin-sealed semiconductor device and method of manufacturing the same | |
| KR930005495B1 (en) | Lead frame and manufacturing thereof | |
| JP3314516B2 (en) | Preformed film carrier and method for manufacturing the same, and electronic element and method for manufacturing the same | |
| JPH01147847A (en) | Manufacture of semiconductor device | |
| JPH0435040A (en) | Method of forming bump for tab inner lead | |
| JPS6388833A (en) | Tape-carrier mounting tape |