JPH04348302A - 反射鏡 - Google Patents

反射鏡

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JPH04348302A
JPH04348302A JP3031315A JP3131591A JPH04348302A JP H04348302 A JPH04348302 A JP H04348302A JP 3031315 A JP3031315 A JP 3031315A JP 3131591 A JP3131591 A JP 3131591A JP H04348302 A JPH04348302 A JP H04348302A
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    • C03C10/0018Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and monovalent metal oxide as main constituents
    • C03C10/0027Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and monovalent metal oxide as main constituents containing SiO2, Al2O3, Li2O as main constituents
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、照明器具において光源
ランプと組合わせて使われる反射鏡に関するものである
【0002】
【従来の技術】照明装置、映写機等の光源ランプは、そ
れが高輝度のものになるほど発熱も著しく、したがって
、ランプと組み合わせて使用される反射鏡の温度上昇も
激しい。特に、近年はランプの高輝度化と小型化が多く
の分野で進んでおり、反射鏡部分で550℃を超えるこ
ともあるようになった。反射鏡は基材とその表面にコー
ティングされた反射膜からなり、そのいずれもが反射鏡
の耐熱性を支配することは言うまでもないが、基材部分
の耐熱性について考えると、最高使用温度と耐熱衝撃性
の二つが重要である。基材としてよく使われるガラスの
場合、最高使用温度は転移点以下の温度となるため、最
高度の耐熱性を有するパイレックス級ガラスでも550
℃以下でしか使用できず、耐熱衝撃性はムク棒(直径5
mm)による試験でも温度差250℃が限界であるから
、上述のような苛酷な条件では安心して使用することが
できない。また、基材の耐熱限界によってランプや反射
鏡の小型化が制限されてしまうことになる。
【0003】ガラスからなる基材を用いた反射鏡はまた
、散乱光を生じさせるのが難しかった。すなわち、散乱
光を生じさせるには基材の段階で反射膜蒸着面を粗面に
しておかなければならないが、それには成形用金型に微
細な凹凸を設けておいて反射膜蒸着面に転写するしかな
く、多数の金型の加工に多大の費用を必要とするばかり
か粗面化度の変更にも金型を変える必要があるという問
題点があった。さらに、いわゆるコールドミラーの場合
、光源ランプが発する赤外線のうち反射鏡方向に向かっ
たものの大部分は反射膜を透過し次いで反射鏡基材を透
過して後方に放射されるが、ガラス基材は透過赤外線を
あまり散乱させないので、集中的に放射される赤外線に
よる危険な温度上昇を避ける必要上、反射鏡中央部分の
背面に機械部品等を配置する場合は十分な距離をとる必
要があり、装置小型化の妨げとなるという問題点があっ
た。一方、セラミックスは、一般に耐熱性は優れている
が、十分な光学特性を備えた反射鏡を製造するのに必要
な高精度曲面を形成することが難しく、反射鏡基材とし
て実用化された例はない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、散乱
光が容易に得られ、しかも背面に放射される赤外線も散
乱光となって背面中央部近傍の局所的温度上昇を回避で
きる耐熱性反射鏡を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明が提供することに
成功した耐熱性反射鏡は、β−スポジュウメン固溶体も
しくはβ−ユークリプタイト固溶体を含有する結晶化ガ
ラスからなる光散乱性基材に薄膜多層反射膜を蒸着して
なるものである。
【0006】
【作用】β−スポジュウメン固溶体(Li2O−Al2
O3−4SiO2)およびβ−ユークリプタイト固溶体
(Li2O−Al2O3−2SiO2)を含有する結晶
化ガラスは、Li2O、Al2O3およびSiO2の3
成分を基本成分とする低熱膨張率ガラスを熱処理して結
晶化させることにより得られる周知の耐熱性材料である
。しかしながら、この材料を基材に用いて反射鏡を製造
することは従来行われていない。結晶化ガラスは、原料
ガラスの成形体をいかに平滑面に仕上げておいても、β
−スポジュウメン固溶体やβ−ユウクリプタイト固溶体
を生成させる結晶化工程において表面が粗面化するのが
普通である(平均粗さが0.1μm前後、場所によって
は0.5μmを超える粗さになる。なお、パイレックス
ガラス系反射鏡基材の反射面は、通常、平均粗さが約0
.001〜0.003μmになるまで研磨される。ただ
し、“平均粗さ”はJIS B0601の「中心線平均
粗さRa」である。)。したがって、結晶化後に再度研
磨しなければ高反射率反射鏡の基材として使用すること
はできないと予想された。ただし、その研磨は他のセラ
ミックスと同様に至難である。
【0007】本発明者らは、この結晶化ガラスの粗面化
した表面が意外にもそのまま薄膜多層反射膜を蒸着可能
なものであり、形成される多層反射膜は多くの用途にお
いて好ましいとされる散乱光を反射し、しかも反射率そ
のものは高い水準にあることを見いだした。また、赤外
線はよく透過させ、そのさい結晶化ガラスの多結晶構造
が透過赤外線を強く散乱させ、反射鏡背面に置かれた物
体の温度上昇を少なくすることを知った。本発明はこれ
らの知見に基づき完成されたものである。以下、本発明
の反射鏡の製造法を説明する。
【0008】まず、β−スポジュウメン固溶体やβ−ユ
ウクリプタイト固溶体を生成させるのに適当なガラスを
常法により製造する。原料の好適酸化物組成は、SiO
2 50〜70%(重量%)、Al2O3 18〜30
%、Li2O 3〜8%、TiO2+ZrO2 3〜5
%、P2O5および(または)B2O3 が合計量とし
て8%以下、RO(ただしRはマグネシウム、カルシウ
ム、バリウム、亜鉛、鉛からなる群から選ばれた金属原
子を表す)およびR2O(ただしRはカリウム原子また
はナトリウム原子を表す)が合計量として10%以下で
ある。SiO2は、50%未満ではガラスが成形中に失
透し易く、70%を超えると溶融が困難になる。Al2
O3は17%未満では熱膨張係数が大きくなって耐熱衝
撃性が悪くなり、30%を超えると溶融が困難になる。 Li2Oは、3%未満では溶融が困難であり、8%を超
えると熱膨張係数が大きくなって耐熱性が低下する。T
iO2およびZrO2は結晶核形成剤として必要な成分
であって、これらの合計量が3%未満では結晶化に時間
がかかりすぎるが、8%を超えると、溶融が困難になる
とともにガラス成形中に失透を起こしやすくなる。その
他、P2O5、およびB2O3は溶融性と作業性の向上
に有効な成分であるが、多すぎると、失透、ガラス成形
体の変形等、好ましくない結果を生じるので、過剰量の
配合は避ける。P2O5およびB2O3は、単独では5
%を超えないことが望ましい。ROおよびR2Oは、ガ
ラスの溶融性、成形性の向上に有効であると同時に、結
晶化ガラスの結晶径、結晶量および表面凹凸の調整に有
効な成分であって、これらを加減することにより、最終
製品の光学特性を調整することができる。
【0009】得られたガラスは、通常のガラスの場合と
同様に、ブロー法、プレス法、ロール法、キャスト法等
、任意の方法で、反射鏡基材の形状に成形する。その後
、反射膜コーティング面には、必要に応じて研磨仕上げ
を施す。次いでガラス成形体を加熱炉に入れ、結晶化の
ための2段の熱処理を施す。第一段の熱処理においては
、5〜20℃の昇温速度でガラスの変形温度以下の温度
、通常500〜600℃に昇温し、その温度に0.5〜
3時間保持する。これにより、β−ユークリプタイトま
たはβ−スポジュウメンの微結晶を均一に生成させるこ
とができる。その後、温度を約700〜900℃に上昇
させ、この温度に約1〜3時間保持して、β−ユークリ
プタイト固溶体またはβ−スポジュウメン固溶体を生成
させる。
【0010】生じる結晶化ガラスにおける結晶の大きさ
および量は、ガラス組成、熱処理の温度および時間を調
節することにより制御可能である。まず結晶の大きさは
、熱処理の温度と時間に最も大きく依存する。結晶粒径
は第一段熱処理における結晶核形成速度が大きいほど小
さくなるが、結晶核形成速度と熱処理温度との関係はガ
ラス組成によって異なる。また、第二段熱処理の温度を
高くするほど、析出する結晶は大きくなる。熱処理の時
間を長くすることにより、結晶径を成長させることもで
きる。結晶の大きさは核形成剤の量によっても左右され
、核生成量が少なければ大きな結晶に発達するし、核生
成量が多ければ小さい結晶が多数発達する。結晶量は、
アルカリ金属およびアルカリ土類金属の量によっても左
右される。しかしながら、一般に結晶粒径は0.2〜2
.0μm程度であり結晶量は40〜90%程度である。 そして、これら結晶の生成状態に応じて、表面の平均粗
さが0.05〜0.5μmの結晶化ガラスが得られる(
一般に、大きな結晶が多量に生成するほど表面は粗くな
る。)。
【0011】得られた反射鏡基材に常法により多層反射
膜を蒸着すれば、本発明の反射鏡が得られる。基材表面
の粗さは、ほぼそのまま、反射膜の表面粗さになる。こ
の反射鏡の使用時における表面反射光線の散乱度は、基
材の表面粗さを承継した反射面の表面粗さによって決ま
り、また、背面から放射される赤外線の散乱は結晶量に
依存する。基材がβ−スポジュウメン固溶体またはβ−
ユウクリプタイト固溶体からなる本発明の反射鏡は、耐
熱性および耐熱衝撃性にも優れ、650℃までの温度で
の連続使用に耐えるとともに約600℃までの温度急変
に耐える。
【0012】
【実施例】
実施例1 SiO2 56%、Al2O3 21%、Li2O 6
%、TiO2+ZrO2 4%、 P2O5 3%、B
2O3 3%、ZnO+MgO 4%、K2O+Na2
O 2%の組成になるよう原料を調合し、1470℃で
溶融してガラス化し、これをプレス法により直径80m
mの反射鏡の基材形状に成形した。得られたガラス成形
体を630℃に1時間保持した後、毎分5℃の昇温速度
で800℃に昇温し、この温度で1時間保持してから冷
却した。熱処理前透明であった成形体は乳白色になって
おり、X線回折図から、β−スポジュウメン固溶体にな
ったことが確認された。熱膨張係数(室温〜400℃に
おける平均値)は12×10−7/℃、曲げ強度は12
00kgf/cm2、表面の平均粗さは0.2μmであ
った。次いで、製品の所定の位置にTa2O−SiO2
交互多層膜を蒸着して反射鏡を製造した。蒸着は、通常
の平滑ガラス面に対する処理の場合と同様の条件で容易
に行うことができた。
【0013】ガラスの成形形状を板状にしたほかは上記
と同様にして熱処理と反射膜蒸着を行なった試験片につ
いて測定した反射膜蒸着面の可視光線反射率は、熱処理
を施さない平滑なガラス板に同じ反射膜を蒸着した表面
の反射率の約40%であって、表面の微細な凹凸により
反射光が強く散乱していることが確認された。また、同
じ試験片の赤外線全透過率(積分球で散乱光も集めて測
定された透過率)は1000〜2500nmの範囲で8
0%以上であったが、平行透過率は1000nmで1%
、1500nmで40%、2000nmで70%であっ
て、透過赤外線が強く散乱していることが確認された。
【0014】実施例2 SiO2 52%、Al2O3 27%、Li2O 5
.3%、TiO2+ZrO2 5%、P2O5 3%、
B2O3 4%、BaO+CaO 3%、K2O+Na
2O0.5%の組成になるよう原料を調合し、1520
℃で溶融してガラス化し、これをプレス法により直径8
0mmの反射鏡の基材形状に成形した。得られたガラス
成形体を670℃に1時間保持した後、毎分3℃の昇温
速度で770℃に昇温し、この温度で1時間保持してか
ら冷却した。熱処理前透明であった成形体は乳白色にな
っており、X線回折図から、β−スポジュウメン固溶体
になったことが確認された。熱膨張係数は3×10−7
/℃、曲げ強度は900kgf/cm2、表面の平均粗
さは0.1μmであった。次いで、製品の所定の位置に
Ta2O−SiO2交互多層膜を蒸着して反射鏡を製造
した。蒸着は、通常の平滑ガラス面に対する処理の場合
と同様の条件で容易に行うことができた。
【0015】ガラスの成形形状を板状にしたほかは上記
と同様にして熱処理と反射膜蒸着を行なった試験片につ
いて測定した反射膜蒸着面の可視光線反射率は、熱処理
を施さない平滑なガラス板に同じ反射膜を蒸着した表面
の反射率の約70%であった。また、同じ試験片の赤外
線全透過率は1000〜2500nmの範囲で80%以
上であったが、平行透過率は1000nmで2%、15
00nmで50%、2000nmで70%であった。
【0016】
【発明の効果】β−スポジュウメン固溶体もしくはβ−
ユークリプタイト固溶体を含有する結晶化ガラスからな
る本質的に光散乱性の成形体を反射鏡基材として使用す
る本発明によれば、基材粗面化のための繁雑かつコスト
の高い成形工程における転写や後加工を要することなし
に、容易に、散乱光となる反射光線が得られる。本発明
の反射鏡においてはまた透過赤外線も散乱光になるから
、反射鏡背面中央部近傍の局所的温度上昇を回避でき、
機械器具に組込む場合に有利である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  β−スポジュウメン固溶体もしくはβ
    −ユークリプタイト固溶体を含有する結晶化ガラスから
    なる光散乱性基材に薄膜多層反射膜を蒸着してなる反射
    鏡。
JP3031315A 1991-02-01 1991-02-01 反射鏡 Expired - Lifetime JPH0792527B2 (ja)

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