JPH04348302A - 反射鏡 - Google Patents
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
ランプと組合わせて使われる反射鏡に関するものである
。
れが高輝度のものになるほど発熱も著しく、したがって
、ランプと組み合わせて使用される反射鏡の温度上昇も
激しい。特に、近年はランプの高輝度化と小型化が多く
の分野で進んでおり、反射鏡部分で550℃を超えるこ
ともあるようになった。反射鏡は基材とその表面にコー
ティングされた反射膜からなり、そのいずれもが反射鏡
の耐熱性を支配することは言うまでもないが、基材部分
の耐熱性について考えると、最高使用温度と耐熱衝撃性
の二つが重要である。基材としてよく使われるガラスの
場合、最高使用温度は転移点以下の温度となるため、最
高度の耐熱性を有するパイレックス級ガラスでも550
℃以下でしか使用できず、耐熱衝撃性はムク棒(直径5
mm)による試験でも温度差250℃が限界であるから
、上述のような苛酷な条件では安心して使用することが
できない。また、基材の耐熱限界によってランプや反射
鏡の小型化が制限されてしまうことになる。
、散乱光を生じさせるのが難しかった。すなわち、散乱
光を生じさせるには基材の段階で反射膜蒸着面を粗面に
しておかなければならないが、それには成形用金型に微
細な凹凸を設けておいて反射膜蒸着面に転写するしかな
く、多数の金型の加工に多大の費用を必要とするばかり
か粗面化度の変更にも金型を変える必要があるという問
題点があった。さらに、いわゆるコールドミラーの場合
、光源ランプが発する赤外線のうち反射鏡方向に向かっ
たものの大部分は反射膜を透過し次いで反射鏡基材を透
過して後方に放射されるが、ガラス基材は透過赤外線を
あまり散乱させないので、集中的に放射される赤外線に
よる危険な温度上昇を避ける必要上、反射鏡中央部分の
背面に機械部品等を配置する場合は十分な距離をとる必
要があり、装置小型化の妨げとなるという問題点があっ
た。一方、セラミックスは、一般に耐熱性は優れている
が、十分な光学特性を備えた反射鏡を製造するのに必要
な高精度曲面を形成することが難しく、反射鏡基材とし
て実用化された例はない。
光が容易に得られ、しかも背面に放射される赤外線も散
乱光となって背面中央部近傍の局所的温度上昇を回避で
きる耐熱性反射鏡を提供することにある。
成功した耐熱性反射鏡は、β−スポジュウメン固溶体も
しくはβ−ユークリプタイト固溶体を含有する結晶化ガ
ラスからなる光散乱性基材に薄膜多層反射膜を蒸着して
なるものである。
O3−4SiO2)およびβ−ユークリプタイト固溶体
(Li2O−Al2O3−2SiO2)を含有する結晶
化ガラスは、Li2O、Al2O3およびSiO2の3
成分を基本成分とする低熱膨張率ガラスを熱処理して結
晶化させることにより得られる周知の耐熱性材料である
。しかしながら、この材料を基材に用いて反射鏡を製造
することは従来行われていない。結晶化ガラスは、原料
ガラスの成形体をいかに平滑面に仕上げておいても、β
−スポジュウメン固溶体やβ−ユウクリプタイト固溶体
を生成させる結晶化工程において表面が粗面化するのが
普通である(平均粗さが0.1μm前後、場所によって
は0.5μmを超える粗さになる。なお、パイレックス
ガラス系反射鏡基材の反射面は、通常、平均粗さが約0
.001〜0.003μmになるまで研磨される。ただ
し、“平均粗さ”はJIS B0601の「中心線平均
粗さRa」である。)。したがって、結晶化後に再度研
磨しなければ高反射率反射鏡の基材として使用すること
はできないと予想された。ただし、その研磨は他のセラ
ミックスと同様に至難である。
した表面が意外にもそのまま薄膜多層反射膜を蒸着可能
なものであり、形成される多層反射膜は多くの用途にお
いて好ましいとされる散乱光を反射し、しかも反射率そ
のものは高い水準にあることを見いだした。また、赤外
線はよく透過させ、そのさい結晶化ガラスの多結晶構造
が透過赤外線を強く散乱させ、反射鏡背面に置かれた物
体の温度上昇を少なくすることを知った。本発明はこれ
らの知見に基づき完成されたものである。以下、本発明
の反射鏡の製造法を説明する。
ウクリプタイト固溶体を生成させるのに適当なガラスを
常法により製造する。原料の好適酸化物組成は、SiO
2 50〜70%(重量%)、Al2O3 18〜30
%、Li2O 3〜8%、TiO2+ZrO2 3〜5
%、P2O5および(または)B2O3 が合計量とし
て8%以下、RO(ただしRはマグネシウム、カルシウ
ム、バリウム、亜鉛、鉛からなる群から選ばれた金属原
子を表す)およびR2O(ただしRはカリウム原子また
はナトリウム原子を表す)が合計量として10%以下で
ある。SiO2は、50%未満ではガラスが成形中に失
透し易く、70%を超えると溶融が困難になる。Al2
O3は17%未満では熱膨張係数が大きくなって耐熱衝
撃性が悪くなり、30%を超えると溶融が困難になる。 Li2Oは、3%未満では溶融が困難であり、8%を超
えると熱膨張係数が大きくなって耐熱性が低下する。T
iO2およびZrO2は結晶核形成剤として必要な成分
であって、これらの合計量が3%未満では結晶化に時間
がかかりすぎるが、8%を超えると、溶融が困難になる
とともにガラス成形中に失透を起こしやすくなる。その
他、P2O5、およびB2O3は溶融性と作業性の向上
に有効な成分であるが、多すぎると、失透、ガラス成形
体の変形等、好ましくない結果を生じるので、過剰量の
配合は避ける。P2O5およびB2O3は、単独では5
%を超えないことが望ましい。ROおよびR2Oは、ガ
ラスの溶融性、成形性の向上に有効であると同時に、結
晶化ガラスの結晶径、結晶量および表面凹凸の調整に有
効な成分であって、これらを加減することにより、最終
製品の光学特性を調整することができる。
同様に、ブロー法、プレス法、ロール法、キャスト法等
、任意の方法で、反射鏡基材の形状に成形する。その後
、反射膜コーティング面には、必要に応じて研磨仕上げ
を施す。次いでガラス成形体を加熱炉に入れ、結晶化の
ための2段の熱処理を施す。第一段の熱処理においては
、5〜20℃の昇温速度でガラスの変形温度以下の温度
、通常500〜600℃に昇温し、その温度に0.5〜
3時間保持する。これにより、β−ユークリプタイトま
たはβ−スポジュウメンの微結晶を均一に生成させるこ
とができる。その後、温度を約700〜900℃に上昇
させ、この温度に約1〜3時間保持して、β−ユークリ
プタイト固溶体またはβ−スポジュウメン固溶体を生成
させる。
および量は、ガラス組成、熱処理の温度および時間を調
節することにより制御可能である。まず結晶の大きさは
、熱処理の温度と時間に最も大きく依存する。結晶粒径
は第一段熱処理における結晶核形成速度が大きいほど小
さくなるが、結晶核形成速度と熱処理温度との関係はガ
ラス組成によって異なる。また、第二段熱処理の温度を
高くするほど、析出する結晶は大きくなる。熱処理の時
間を長くすることにより、結晶径を成長させることもで
きる。結晶の大きさは核形成剤の量によっても左右され
、核生成量が少なければ大きな結晶に発達するし、核生
成量が多ければ小さい結晶が多数発達する。結晶量は、
アルカリ金属およびアルカリ土類金属の量によっても左
右される。しかしながら、一般に結晶粒径は0.2〜2
.0μm程度であり結晶量は40〜90%程度である。 そして、これら結晶の生成状態に応じて、表面の平均粗
さが0.05〜0.5μmの結晶化ガラスが得られる(
一般に、大きな結晶が多量に生成するほど表面は粗くな
る。)。
膜を蒸着すれば、本発明の反射鏡が得られる。基材表面
の粗さは、ほぼそのまま、反射膜の表面粗さになる。こ
の反射鏡の使用時における表面反射光線の散乱度は、基
材の表面粗さを承継した反射面の表面粗さによって決ま
り、また、背面から放射される赤外線の散乱は結晶量に
依存する。基材がβ−スポジュウメン固溶体またはβ−
ユウクリプタイト固溶体からなる本発明の反射鏡は、耐
熱性および耐熱衝撃性にも優れ、650℃までの温度で
の連続使用に耐えるとともに約600℃までの温度急変
に耐える。
%、TiO2+ZrO2 4%、 P2O5 3%、B
2O3 3%、ZnO+MgO 4%、K2O+Na2
O 2%の組成になるよう原料を調合し、1470℃で
溶融してガラス化し、これをプレス法により直径80m
mの反射鏡の基材形状に成形した。得られたガラス成形
体を630℃に1時間保持した後、毎分5℃の昇温速度
で800℃に昇温し、この温度で1時間保持してから冷
却した。熱処理前透明であった成形体は乳白色になって
おり、X線回折図から、β−スポジュウメン固溶体にな
ったことが確認された。熱膨張係数(室温〜400℃に
おける平均値)は12×10−7/℃、曲げ強度は12
00kgf/cm2、表面の平均粗さは0.2μmであ
った。次いで、製品の所定の位置にTa2O−SiO2
交互多層膜を蒸着して反射鏡を製造した。蒸着は、通常
の平滑ガラス面に対する処理の場合と同様の条件で容易
に行うことができた。
と同様にして熱処理と反射膜蒸着を行なった試験片につ
いて測定した反射膜蒸着面の可視光線反射率は、熱処理
を施さない平滑なガラス板に同じ反射膜を蒸着した表面
の反射率の約40%であって、表面の微細な凹凸により
反射光が強く散乱していることが確認された。また、同
じ試験片の赤外線全透過率(積分球で散乱光も集めて測
定された透過率)は1000〜2500nmの範囲で8
0%以上であったが、平行透過率は1000nmで1%
、1500nmで40%、2000nmで70%であっ
て、透過赤外線が強く散乱していることが確認された。
.3%、TiO2+ZrO2 5%、P2O5 3%、
B2O3 4%、BaO+CaO 3%、K2O+Na
2O0.5%の組成になるよう原料を調合し、1520
℃で溶融してガラス化し、これをプレス法により直径8
0mmの反射鏡の基材形状に成形した。得られたガラス
成形体を670℃に1時間保持した後、毎分3℃の昇温
速度で770℃に昇温し、この温度で1時間保持してか
ら冷却した。熱処理前透明であった成形体は乳白色にな
っており、X線回折図から、β−スポジュウメン固溶体
になったことが確認された。熱膨張係数は3×10−7
/℃、曲げ強度は900kgf/cm2、表面の平均粗
さは0.1μmであった。次いで、製品の所定の位置に
Ta2O−SiO2交互多層膜を蒸着して反射鏡を製造
した。蒸着は、通常の平滑ガラス面に対する処理の場合
と同様の条件で容易に行うことができた。
と同様にして熱処理と反射膜蒸着を行なった試験片につ
いて測定した反射膜蒸着面の可視光線反射率は、熱処理
を施さない平滑なガラス板に同じ反射膜を蒸着した表面
の反射率の約70%であった。また、同じ試験片の赤外
線全透過率は1000〜2500nmの範囲で80%以
上であったが、平行透過率は1000nmで2%、15
00nmで50%、2000nmで70%であった。
ユークリプタイト固溶体を含有する結晶化ガラスからな
る本質的に光散乱性の成形体を反射鏡基材として使用す
る本発明によれば、基材粗面化のための繁雑かつコスト
の高い成形工程における転写や後加工を要することなし
に、容易に、散乱光となる反射光線が得られる。本発明
の反射鏡においてはまた透過赤外線も散乱光になるから
、反射鏡背面中央部近傍の局所的温度上昇を回避でき、
機械器具に組込む場合に有利である。
Claims (1)
- 【請求項1】 β−スポジュウメン固溶体もしくはβ
−ユークリプタイト固溶体を含有する結晶化ガラスから
なる光散乱性基材に薄膜多層反射膜を蒸着してなる反射
鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3031315A JPH0792527B2 (ja) | 1991-02-01 | 1991-02-01 | 反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP3031315A JPH0792527B2 (ja) | 1991-02-01 | 1991-02-01 | 反射鏡 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
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