JPH043496A - Forming method of viahole of multilayer ceramic board - Google Patents
Forming method of viahole of multilayer ceramic boardInfo
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は多層セラミック基板のバイヤ形成方法に係り、
特にバイヤ孔に導体を充填することにより各層間の電気
的接続を行うバイヤを形成する多層セラミック基板のバ
イヤ形成方法に関する。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a method for forming vias in a multilayer ceramic substrate.
In particular, the present invention relates to a method for forming vias in a multilayer ceramic substrate, in which vias for electrical connection between layers are formed by filling via holes with conductors.
一般に、半導体素子を搭載する回路基板としてセラミッ
ク基板か広く用いられている。セラミック基板は耐熱性
、放熱性、電気特性3機械的強度等の面で良好な特性を
有している。このセラミック基板はグリーンシートを焼
成することにより製造される。Generally, ceramic substrates are widely used as circuit boards on which semiconductor elements are mounted. Ceramic substrates have good properties in terms of heat resistance, heat dissipation, electrical properties, and mechanical strength. This ceramic substrate is manufactured by firing a green sheet.
また昨今では、半導体素子の高集積化か急速に行われて
お一す、これに対応するため導体パターンが形成された
薄いセラミック板を多層形成することにより導体パター
ンの高密度化を図った多層セラミック基板が提供されて
いる。この多層セラミック基板では多層された各セラミ
ック板間の電気的接続を図るためバイヤが形成されてい
る。このバイヤは、セラミック板に形成されたバイヤ孔
(セラミック板を上下に貫通する小径孔)に導体を充填
した構造を有し、各セラミック板間の電気的導通を図る
機能を奏する。よって、バイヤが適正に形成されないと
、各層間の電気的導通か図れなくなりセラミック基板と
して機能しなくなってしまう。In addition, in recent years, the integration of semiconductor devices has been rapidly increasing. A ceramic substrate is provided. In this multilayer ceramic substrate, vias are formed for electrical connection between the multilayered ceramic plates. This via has a structure in which a via hole (a small diameter hole passing vertically through the ceramic plate) formed in the ceramic plate is filled with a conductor, and functions to establish electrical continuity between the ceramic plates. Therefore, if the vias are not formed properly, electrical continuity between the layers will not be established and the ceramic substrate will no longer function.
そこて、高い信頼性を有するハイヤを形成し得るバイヤ
形成方法か望まれている。Therefore, there is a need for a via formation method that can form a hire car with high reliability.
第4図に従来におけるバイヤ(VIA)の形成方法を示
す。FIG. 4 shows a conventional method of forming a via.
従来バイヤを形成するには、先ず同図(A)に示すよう
にグリーンシート1 (ガラス粉、アルミナ粉、有機バ
インダ等から構成される)にマスクフィルム2を配設し
、続いてこの上部よりパンチングによりグリーンシート
1及びマスクフィルム2を共に穿孔し、同図(B)に示
すようにバイヤ孔3を形成する。Conventionally, in order to form a via, first a mask film 2 is placed on a green sheet 1 (composed of glass powder, alumina powder, an organic binder, etc.) as shown in FIG. Both the green sheet 1 and the mask film 2 are punched to form via holes 3 as shown in FIG.
バイヤ孔3か形成されると、同図(C)に示すようにゴ
ムスキージ7を用いてバイヤ孔3に導体4を充填する。Once the via hole 3 is formed, the conductor 4 is filled into the via hole 3 using a rubber squeegee 7, as shown in FIG.
従来ては、この導体4として銅粉と有機バインダとを混
合させた銅ペーストを用いていた。Conventionally, as the conductor 4, a copper paste made of a mixture of copper powder and an organic binder has been used.
上記のようにバイヤ孔3に導体4か充填されると、同図
(D)に示すようにグリーンシート1のマスクフィルム
2の配設面と異なる面にバイヤ孔3を塞ぐようにランド
5か形成され、続いて同図(E)に示すようにマスクフ
ィルム2をグリーンシートlから剥離させる。When the conductor 4 is filled in the via hole 3 as described above, a land 5 is placed on the surface of the green sheet 1 that is different from the surface on which the mask film 2 is disposed so as to close the via hole 3, as shown in FIG. The mask film 2 is then peeled off from the green sheet 1, as shown in FIG.
上記のようにバイヤ孔3に導体4か充填されたグリーン
シート1は同図(F)に示されるように積層された上で
焼成処理され、多層セラミック基板か形成されていた。The green sheets 1 whose via holes 3 were filled with conductors 4 as described above were stacked and fired as shown in FIG.
しかるに上記従来のバイヤ形成方法では、焼成時にグリ
ーンシート1や導体4に含有される有機バインダがガス
化して(以下、このガスをバインダガスという)、これ
がガス状の残渣としてバイヤ孔3内に残ってしまう。こ
のガス状残渣によりバイヤ孔3に充填された導体4内に
空隙か発生し、導体4が断線したり抵抗値が増大してし
まい、バイヤの電気的導通性か低下してしまうという問
題点があった。However, in the conventional via forming method described above, the organic binder contained in the green sheet 1 and the conductor 4 is gasified during firing (hereinafter, this gas is referred to as binder gas), and this remains in the via hole 3 as a gaseous residue. It ends up. This gaseous residue creates a void in the conductor 4 filled in the via hole 3, causing the conductor 4 to break or increase its resistance value, resulting in a decrease in the electrical conductivity of the via. there were.
そこで、導体4として銅粉のみをバイヤ孔3に充填し、
導体4からバインダガスか発生しないよう構成すると共
に、グリーンシートlから発生するバインダガスを酸化
分解する酸化銅を合わせてバイヤ孔3に充填することに
よりガス状残渣の発生を防止する方法が考えられる。こ
の構成とした場合、焼成処理時にバイヤ孔3内にガス状
残渣か残ることはなくなり、バイヤの電気的接続性を向
上させることかできる。Therefore, only copper powder is filled into the via hole 3 as the conductor 4,
A conceivable method is to prevent the generation of gaseous residue by configuring the conductor 4 so that no binder gas is generated, and filling the via hole 3 with copper oxide that oxidizes and decomposes the binder gas generated from the green sheet 1. . With this configuration, no gaseous residue remains in the via hole 3 during the firing process, and the electrical connectivity of the via can be improved.
上記のように導体4として銅粉を用いることによりバイ
ヤの電気的接続性を向上させることができるか、導体4
を構成する銅及び酸化銅の粒径は小さく、このように粒
径か小さな粉体を細長いバイヤ孔3に充填した場合、孔
内における銅粉の流動性は悪く凝集か発生し易くなり、
バイヤ孔3内に間隙8が形成され導体4の充填密度が低
下してしまう。Is it possible to improve the electrical connectivity of the via by using copper powder as the conductor 4 as described above?
The particle size of the copper and copper oxide constituting the copper powder is small, and when the elongated via hole 3 is filled with powder with such a small particle size, the fluidity of the copper powder in the hole is poor and agglomeration is likely to occur.
A gap 8 is formed in the via hole 3 and the packing density of the conductor 4 is reduced.
このように導体4の充填密度か低下すると、バイヤの電
気的接続性が劣化し、最悪の場合には電気的導通が取れ
な(なり、多層セラミ・ツク基板として機能しなくなる
という課題かあった。If the packing density of the conductor 4 decreases in this way, the electrical connectivity of the via will deteriorate, and in the worst case, there will be no electrical continuity (and the multilayer ceramic board will no longer function). .
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、バイヤ
の電気的接続性を向上させうる多層セラミック基板のバ
イヤ形成方法を提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide a method for forming vias in a multilayer ceramic substrate that can improve the electrical connectivity of the vias.
上記課題を解決するために、本発明では、グリーンシー
ト(1)に孔空は加工を行いノくイヤ孔(3)を形成し
た後、このノくイヤ孔(3)に導体(4)を充填し、続
いて上記グリーンシート(1)を複数枚積層して焼成す
ることにより上記導体(4)をも焼成し各層間における
電気的導通を行うバイヤ(9)を形成する多層セラミッ
ク基板のバイヤ形成方法において、
上記導体(4)として銅粉を用いると共に、この導体(
4)にステアリン酸亜鉛または/およびチタニア(Ti
O2)を添加し上記ノくイヤ孔(3)に充填することを
特徴とするものである。In order to solve the above problems, in the present invention, holes are formed in the green sheet (1) to form ear holes (3), and then a conductor (4) is inserted into the ear holes (3). A via of a multilayer ceramic substrate, in which a plurality of green sheets (1) are laminated and fired, thereby also firing the conductor (4) to form a via (9) for electrical continuity between each layer. In the forming method, copper powder is used as the conductor (4), and this conductor (
4) Zinc stearate or/and titania (Ti
The method is characterized in that the above-mentioned ear hole (3) is filled with O2).
ステアリン酸亜鉛は導体(4)をノくイヤ孔(3)に充
填する際、その流動性を向上させる機能を奏する。また
、チタニアは導体(4)をノくイヤ孔(3)に充填する
際、その分散性を向上させる機能を奏する。よって、ス
テアリン酸亜鉛、チタニアを導体(4)に添加すること
により、導体(4)の充填密度を高めることかできる。Zinc stearate functions to improve the fluidity of the conductor (4) when it is filled into the ear hole (3). Furthermore, titania has the function of improving the dispersibility of the conductor (4) when it is filled into the ear hole (3). Therefore, by adding zinc stearate and titania to the conductor (4), the packing density of the conductor (4) can be increased.
次に本発明方法の第1実施例について図面と共に説明す
る。第1図は本発明の一実施例である多層セラミック基
板のバイヤ形成方法を示す工程図である。尚、同図(A
)、(B)、 (E)〜(G)に示す工程は従来にお
けるバイヤの形成方法と全く同一である。このため、各
図に示される工程は簡単に説明する。Next, a first embodiment of the method of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a process diagram showing a method for forming vias in a multilayer ceramic substrate according to an embodiment of the present invention. In addition, the same figure (A
), (B), and (E) to (G) are completely the same as the conventional via forming method. Therefore, the steps shown in each figure will be briefly explained.
バイヤを形成するには、先ずグリーンシート1にマスク
フィルム2を配設しく同図(A)に示す)、続いてこの
上部よりパンチングによりグリーンシートl及びマスク
フィルム2を共に穿孔してバイヤ孔3を形成する(同図
(B)に示す)。To form a via, first place a mask film 2 on a green sheet 1 (as shown in FIG. (shown in Figure (B)).
この、グリーンシートlはガラス粉とアルミナ粉を混合
したものに有機バインダを含有させたものであり、また
バイヤ孔3の径寸法は50〜200μm程度とされてい
る。This green sheet 1 is made of a mixture of glass powder and alumina powder containing an organic binder, and the diameter of the via hole 3 is about 50 to 200 μm.
バイヤ孔3が形成された後に行われる、同図(C)、(
D)に示される工程は本発明方法の特徴となる工程であ
る。各図に示される工程はバイヤ孔3に導体4を充填す
る工程である。(C) and (2) are performed after the via hole 3 is formed.
The step shown in D) is a characteristic step of the method of the present invention. The process shown in each figure is the process of filling the via hole 3 with the conductor 4.
第1実施例では、バイヤ孔3に充填する導体4として銅
粉を用いると共に、この導体4に加えてステアリン酸亜
鉛を添加したことを特徴とするものである。この銅粉の
粒径は特定の流動分布を有するように、例えば平均1.
1μm程度に選定されている。また、ステアリン酸亜鉛
の充填量は0.3〜3. Owt%程度に選定されてい
る。更に、上記構成とされた導体4をバイヤ孔3に充填
する際、合わせてアルミナ粉も充填される。このアルミ
ナ粉はその粒径を0.3〜3μmに選定されており、ま
たその充填量は5〜1ovo1%とされている。The first embodiment is characterized in that copper powder is used as the conductor 4 filled in the via hole 3, and in addition to the conductor 4, zinc stearate is added. The particle size of this copper powder is set to have a specific flow distribution, for example, an average of 1.
The thickness is selected to be approximately 1 μm. Moreover, the filling amount of zinc stearate is 0.3 to 3. It is selected to be approximately Owt%. Further, when filling the via hole 3 with the conductor 4 having the above structure, alumina powder is also filled. The particle size of this alumina powder is selected to be 0.3 to 3 μm, and the filling amount is set to 5 to 1 ovo 1%.
上記ステアリン酸亜鉛は、銅粉の充填時における流動性
を向上させるものである。ステアリン酸亜鉛は潤滑剤と
して知られており、このステアリン酸亜鉛を銅粉と混ぜ
てバイヤ孔3に充填することにより、ステアリン酸亜鉛
は銅粉の各粉体の表面にコーティングされバイヤ孔3内
における銅粉の流動性は向上する。このため、銅粉が充
填時に凝集してしまうことは無(なり、導体4の充填密
度を向上させることかできる。尚、アルミナ粉は異常粒
成長を抑制するために充填される。The above-mentioned zinc stearate improves the fluidity during filling of copper powder. Zinc stearate is known as a lubricant, and by mixing this zinc stearate with copper powder and filling it into the via hole 3, the zinc stearate is coated on the surface of each copper powder and the inside of the via hole 3. The fluidity of copper powder is improved. Therefore, the copper powder does not aggregate during filling, and the packing density of the conductor 4 can be improved. Note that the alumina powder is filled in order to suppress abnormal grain growth.
この導体4をバイヤ孔3に充填する方法は、従来と変わ
るところはなく、同図(C)に示すように、グリーンシ
ート1の背面側に負圧をかけつつ上記混合導体4をゴム
スキージ7にて充填する。The method for filling the via hole 3 with this conductor 4 is the same as the conventional one, and as shown in FIG. and fill it.
導体4か充填されると、続いて同図(D)に示されるよ
うに、グリーンシートlのマスクフィルム2の配設面と
異なる面にバイヤ孔3を塞ぐように保護フィルム10か
配設される。この保護フィルムlOは、ハイヤ孔3に充
填された導体4の飛散を防止すると共に、後述する導体
パターンか形成される面を保護する機能を奏するもので
ある。After the conductor 4 is filled, a protective film 10 is then disposed on a surface of the green sheet L different from the surface on which the mask film 2 is disposed so as to close the via hole 3, as shown in FIG. Ru. This protective film 10 has the function of preventing the conductor 4 filled in the hire hole 3 from scattering and protecting the surface on which a conductor pattern, which will be described later, is formed.
保護膜10か配設されると、続いて導体4の上部に銅ペ
ースト4aか充填される。この銅ペースト4aはマスク
フィルム2の厚さ(約38μm)の約半分の厚さで充填
される。この銅ペースト4aは、銅粉の充填と同様にゴ
ムスキージ7を用いて行われ名。このように形成される
銅ペースト4aは、充填された導体4か飛散するのを防
止する機能を奏すると共に、導体4の充填時にバイヤ孔
3の上部に空隙か形成されたような場合に、この空隙を
埋める作用を奏する。After the protective film 10 is provided, the top of the conductor 4 is then filled with copper paste 4a. This copper paste 4a is filled to a thickness that is approximately half the thickness of the mask film 2 (approximately 38 μm). This copper paste 4a is filled using a rubber squeegee 7 in the same way as the filling of copper powder. The copper paste 4a formed in this manner has the function of preventing the filled conductor 4 from scattering, and also prevents the filled conductor 4 from scattering if a void is formed at the top of the via hole 3. It has the effect of filling voids.
上記のように導体4かバイヤ孔3に充填されると、保護
フィルム10は剥がされ、この保護フィルム10が剥離
された面に銅パターン11がスクリーン印刷されると共
に、バイヤ9の下端部にランド5が形成される(同図(
E)に示す)。続いて、このように形成されたセラミッ
ク板12は同図(F)に示されるようにマスクフィルム
2か剥がされた上て、同図(G)に示されるように複数
枚積層され焼成処理か行われる。When the conductor 4 is filled into the via hole 3 as described above, the protective film 10 is peeled off, and a copper pattern 11 is screen printed on the surface from which the protective film 10 has been peeled off, and a land is placed on the lower end of the via 9. 5 is formed (see figure (
(shown in E)). Subsequently, the mask film 2 of the thus formed ceramic plate 12 is removed as shown in FIG. 2(F), and a plurality of ceramic plates are laminated and fired as shown in FIG. 2(G). It will be done.
焼成前、セラミック板12が複数枚積層され、かつ加圧
されることにより、各セラミック板12は面方向に伸延
し、積層された各グリーンシート1は積層方向に縮む現
象か発生する。この時、バイヤ孔3に充填された導体4
は上記グリーンシート1の収縮により圧縮されるが、バ
イヤ孔3内には銅粉に加えて潤滑剤として機能するステ
アリン酸亜鉛か添加されているため各銅粉の流動性は良
好で、この圧縮力により銅粉は移動し単にスキージ7で
充填するだけで銅粉間に生じている間隙か埋まってゆく
。これにより、バイヤ孔3への導体4の充填密度をより
向上させることが出来る。Before firing, a plurality of ceramic plates 12 are stacked and pressurized, so that each ceramic plate 12 stretches in the plane direction, and each stacked green sheet 1 contracts in the stacking direction. At this time, the conductor 4 filled in the via hole 3
is compressed by the contraction of the green sheet 1, but since zinc stearate, which functions as a lubricant, is added in addition to the copper powder in the via hole 3, the fluidity of each copper powder is good, and this compression The force causes the copper powder to move, and by simply filling it with the squeegee 7, the gaps between the copper powders are filled. Thereby, the packing density of the conductor 4 into the via hole 3 can be further improved.
上記のように、導体4として銅粉を用い、かつ導体4に
ステアリン酸亜鉛を添加することにより、導体4の充填
時における充填密度を向上させることかでき、セラミッ
ク12の積層時にこの充填密度は更に向上するため、形
成されるバイヤ9の電気的接続性を向上させることかで
き、ひいては多層セラミック基板の信頼性を向上させる
ことかできる。As mentioned above, by using copper powder as the conductor 4 and adding zinc stearate to the conductor 4, it is possible to improve the packing density when filling the conductor 4, and when the ceramic 12 is laminated, this packing density can be improved. In order to further improve the electrical connectivity of the formed vias 9, it is possible to improve the reliability of the multilayer ceramic substrate.
第2図は焼結密度とステアリン酸亜鉛の添加量との関係
を示している。同図に示されるように、ステアリン酸亜
鉛の添加量か増すと焼結密度か向上するか、その増加量
は1wt%以上になると焼結密度80%程度で一定とな
る。また、ステアリン酸亜鉛をあまり多く添加すると導
体4の抵抗値は増大するため、ステアリン酸亜鉛の添加
量は0.3〜3wt%程度に選定するのか良い。FIG. 2 shows the relationship between the sintered density and the amount of zinc stearate added. As shown in the figure, as the amount of zinc stearate added increases, the sintered density improves, and when the amount of increase exceeds 1 wt%, the sintered density becomes constant at about 80%. Furthermore, if too much zinc stearate is added, the resistance value of the conductor 4 will increase, so the amount of zinc stearate added should be selected to be about 0.3 to 3 wt%.
次に本発明の第2実施例について説明する。第2実施例
に係る多層セラミック基板のバイヤ形成方法は、各工程
で行う作業は第1図を用いて説明した作業とほぼ同一で
あるか、同図(C)。Next, a second embodiment of the present invention will be described. In the method for forming vias in a multilayer ceramic substrate according to the second embodiment, the operations performed in each step are almost the same as those described using FIG. 1, as shown in FIG. 1(C).
(D)で示される工程で、導体4として銅粉と酸化鋼と
を混合したものを用いると共に、この導体4をバイヤ孔
3に充填する際、合わせてチタニア(TiO2)を添加
することを特徴とするものである。この銅粉の粒径は特
定の流動分布を有するように、例えば平均1.1μm程
度に選定されている。また、酸化銅の充填景は10〜2
0wt%に選定されている。In the process shown in (D), a mixture of copper powder and oxidized steel is used as the conductor 4, and titania (TiO2) is also added when filling the via hole 3 with the conductor 4. That is. The particle size of this copper powder is selected to be, for example, about 1.1 μm on average so as to have a specific flow distribution. In addition, the filling pattern of copper oxide is 10 to 2
It is selected to be 0wt%.
チタニアは銅と銅粉、または銅と酸化銅との分散性を向
上させる機能を有し、チタニアを添加することにより導
体4をバイヤ孔3に充填する時における銅粉及びに酸化
銅の凝集を防止することかできる。このように銅粉及び
酸化鋼の凝集か防止されることにより、バイヤ孔3に対
する導体4の充填密度を向上させることかことができる
。また、銅粉と酸化銅は均一にバイヤ孔3内に充填され
るため、グリーンシートlから発生するバインダガスの
ガス抜けか良好となり、ガス状残渣の発生を防止するこ
とかでき、これによっても導体4の充填密度を向上させ
ることかできる。よって、バイヤ9の電気的接続性は向
上し、ひいては多層セラミック基板の信頼性を向上させ
ることができる。Titania has the function of improving the dispersibility of copper and copper powder, or copper and copper oxide, and by adding titania, it prevents the agglomeration of copper powder and copper oxide when filling the via hole 3 with the conductor 4. It can be prevented. By thus preventing agglomeration of the copper powder and oxidized steel, it is possible to improve the packing density of the conductor 4 in the via hole 3. In addition, since the copper powder and copper oxide are uniformly filled into the via hole 3, the binder gas generated from the green sheet 1 can be easily released, and the generation of gaseous residue can be prevented. It is also possible to improve the packing density of the conductors 4. Therefore, the electrical connectivity of the vias 9 is improved, and as a result, the reliability of the multilayer ceramic substrate can be improved.
更に、チタニアはバイヤ孔3内において銅粉とグリーン
シートlの密着性を向上させる機能を奏する。仮にチタ
ニアを添加しない場合を想定すると、銅粉とグリーンシ
ー)1(バイヤ孔3の内壁)との密着性は不良であり、
銅粉とグリーンシートlとか密着しないことによるボア
か発生してしまう。しかるに、チタニアを導体4に添加
してバイヤ孔3に充填することにより、導体4とグリー
ンシートlの密着性は向上しボアの発生を防止できる。Furthermore, titania has the function of improving the adhesion between the copper powder and the green sheet l in the via hole 3. Assuming that titania is not added, the adhesion between the copper powder and Green Sea) 1 (the inner wall of the via hole 3) is poor;
Bores occur due to the copper powder and green sheet not coming into close contact. However, by adding titania to the conductor 4 and filling the via hole 3, the adhesion between the conductor 4 and the green sheet 1 is improved and the occurrence of bores can be prevented.
よって、これによってもバイヤ9の電気的接続性を向上
させることができる。Therefore, this also makes it possible to improve the electrical connectivity of the vias 9.
第3図は銅の凝集粒径とチタニアの添加量の関係を示し
ている。同図に示されるように、チタニアの添加量を増
大させるに伴い銅の凝集粒径は小さくなり、バイヤ孔3
に対する導体4の充填密度が向上する。しかるに、チタ
ニアの添加量かあまり多くなるとバイヤ9の抵抗値か増
大してしまう。FIG. 3 shows the relationship between the copper agglomerated particle size and the amount of titania added. As shown in the figure, as the amount of titania added increases, the copper agglomerate particle size decreases, and the via hole 3
The packing density of the conductor 4 is improved. However, if the amount of titania added is too large, the resistance value of the via 9 will increase.
このため、チタニアの添加量は0,2〜0.6wt%程
度に選定するのが良い。Therefore, the amount of titania added is preferably selected to be approximately 0.2 to 0.6 wt%.
尚、上記した実施例ではステアリン酸亜鉛とチタニアを
夫々別個に導体4に添加する構成を示したか、ステアリ
ン酸亜鉛とチタニアは同時に用いても良いものである。Incidentally, in the above-mentioned embodiments, a configuration is shown in which zinc stearate and titania are added to the conductor 4 separately, but zinc stearate and titania may be used simultaneously.
両者を同時に添加した場合、ステアリン酸亜鉛とチタニ
アか夫々独立して上記してきた作用を奏し、よりハイヤ
9の電気的接続性を向上させることかできる。When both are added at the same time, zinc stearate and titania each exhibit the above-described effects independently, and the electrical connectivity of the hire car 9 can be further improved.
上述のように、本発明方法によれば、導体内にボアか発
生するようなことはなくなり、また導体の充填密度か高
くなるため、バイヤの電気的導通性を向上させることか
でき、ひいては多層セラミック基板の信頼性を向上させ
ることができる等の特長を有する。As described above, according to the method of the present invention, the occurrence of bores in the conductor is eliminated, and the packing density of the conductor is increased, so that the electrical conductivity of the via can be improved, and the multilayer structure can be improved. It has features such as being able to improve the reliability of ceramic substrates.
第1図は本発明の一実施例である多層セラミック基板の
バイヤ形成方法を説明するための工程図、第2図は焼結
密度とステアリン酸亜鉛の添加量との関係を示す図、
第3図は銅の凝集粒径とチタニアの添加量との関係を示
す図、
第4図は従来の多層セラミック基板のパイヤ形成方法の
一例を示す工程図である。
図において、
lはグリーンシート、
2はバイヤ孔、
4は導体、
9はバイヤ、
IOは保護フィルム、
12はセラミック板、
13は多層セラミック基板
を示す。
第1図
第2図FIG. 1 is a process diagram for explaining the via forming method for a multilayer ceramic substrate according to an embodiment of the present invention; FIG. 2 is a diagram showing the relationship between sintered density and the amount of zinc stearate added; The figure is a diagram showing the relationship between the copper agglomerated particle size and the amount of titania added, and FIG. 4 is a process diagram showing an example of a conventional method for forming a pyre in a multilayer ceramic substrate. In the figure, 1 is a green sheet, 2 is a via hole, 4 is a conductor, 9 is a via, IO is a protective film, 12 is a ceramic plate, and 13 is a multilayer ceramic substrate. Figure 1 Figure 2
Claims (1)
3)を形成した後、該バイヤ孔(3)に導体(4)を充
填し、続いて該グリーンシート(1)を複数枚積層して
焼成することにより該導体(4)をも焼成し各層間にお
ける電気的導通を行うバイヤ(9)を形成する多層セラ
ミック基板のバイヤ形成方法において、 該導体(4)として銅粉を用いると共に、該導体(4)
にステアリン酸亜鉛または/およびチタニア(TiO_
2)を添加し該バイヤ孔(3)に充填することを特徴と
する多層セラミック基板のバイヤ形成方法。[Claims] The green sheet (1) is made with holes (byer holes).
3), the conductor (4) is filled in the via hole (3), and then the conductor (4) is also fired by laminating and firing a plurality of green sheets (1). In a method for forming a via for a multilayer ceramic substrate in which a via (9) is formed to provide electrical continuity between layers, copper powder is used as the conductor (4), and the conductor (4)
Zinc stearate or/and titania (TiO_
2) is added to fill the via hole (3).
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2104319A JPH0824217B2 (en) | 1990-04-19 | 1990-04-19 | Method for forming via on multilayer ceramic substrate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2104319A JPH0824217B2 (en) | 1990-04-19 | 1990-04-19 | Method for forming via on multilayer ceramic substrate |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH043496A true JPH043496A (en) | 1992-01-08 |
| JPH0824217B2 JPH0824217B2 (en) | 1996-03-06 |
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ID=14377617
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2104319A Expired - Fee Related JPH0824217B2 (en) | 1990-04-19 | 1990-04-19 | Method for forming via on multilayer ceramic substrate |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0824217B2 (en) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6315866A (en) * | 1986-07-07 | 1988-01-22 | Copal Co Ltd | Electrically conductive composition for thick-film paste |
-
1990
- 1990-04-19 JP JP2104319A patent/JPH0824217B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6315866A (en) * | 1986-07-07 | 1988-01-22 | Copal Co Ltd | Electrically conductive composition for thick-film paste |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0824217B2 (en) | 1996-03-06 |
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