JPH04353761A - 特殊ガス中の不純物量測定方法及びその測定装置 - Google Patents

特殊ガス中の不純物量測定方法及びその測定装置

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JPH04353761A
JPH04353761A JP3155880A JP15588091A JPH04353761A JP H04353761 A JPH04353761 A JP H04353761A JP 3155880 A JP3155880 A JP 3155880A JP 15588091 A JP15588091 A JP 15588091A JP H04353761 A JPH04353761 A JP H04353761A
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gas
sample tube
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measuring
special
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JP3155880A
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Tadahiro Omi
忠弘 大見
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N30/00Investigating or analysing materials by separation into components using adsorption, absorption or similar phenomena or using ion-exchange, e.g. chromatography or field flow fractionation

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
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  • General Physics & Mathematics (AREA)
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  • Pathology (AREA)
  • Sampling And Sample Adjustment (AREA)
  • Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体製造用の
特殊ガス(シランガス、ジシランガス等)を配管系に供
給した場合における該特殊ガス中に含まれる不純物量を
知るための測定方法及びその装置に関するものである。
【0002】
【関連技術】近年の半導体製造技術の進展は著しく、特
に超微細構造、高集積化の追求は急務となっているが、
それに伴い製造装置の環境も超高純度(いわゆるppt
レベルの純度)に保たれる必要が生じる。その結果、例
えばシリコン基盤の製造に必要な超高純度の一般ガス(
アルゴンガス、窒素ガス等)や特殊ガス(例えばシラン
ガス)等の試料ガスをガス流路たる配管系を介して供給
しようとする場合、該試料ガスに含まれる水分等の不純
物量が如何なる関係にあるかをpptレベルで詳細に知
る必要が生じる。
【0003】なお、従来より知られている一般ガス(ア
ルゴンガス、窒素ガス等)中の不純物吸着量の測定法と
しては、一般ガスが流れるサンプル管の管端部に微量分
析計(大気圧イオン化質量分析計)を接続し、該サンプ
ル管の管端部から流出する不純物量を測定する手法があ
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記特
殊ガスは腐食性、発火性、等の性質を有し、測定系に損
傷を与え、また取扱いが不便であるので、一般ガスにつ
いての上記測定の手法は採用することができない。した
がって、特殊ガスの場合、不純物量やそのガス流量との
関係等についての確認手段がなく、換言すれば大雑把な
推測に留まり、上記超微細構造の半導体製造等に対処す
るには満足すべきものではなかった。
【0005】本発明は、上記従来の課題を解決するべく
なされたものであり、取扱いに不便な特殊ガス中に含ま
れる不純物量等の測定を容易に、しかもpptレベルで
行える装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するべく
、請求項1〜請求項3の発明は、内面が不動態化処理さ
れたサンプル管内に超高純度の不活性ガスを流す第1の
工程と、該サンプル管内を超高純度レベルまでベーキン
グする第2の工程と、該サンプル管内を所定温度の雰囲
気にする第3の工程と、該サンプル管内に特殊ガスを所
定量だけ流す第4の工程と、該サンプル管内に残留する
前記特殊ガスを排気する第5の工程と、該サンプル管内
を前記超高純度レベルに至るまでベーキングする第6の
工程と、該第6の工程でのベーキングによりサンプル管
の内面から脱離した不純物量を測定する第7の工程と、
から成る構成としている。
【0007】請求項4の発明は、超高純度の不活性ガス
を供給する第1のガス供給源と、特殊ガスをガス流量制
御計を介して供給する第2のガス供給源と、前記不活性
ガスまたは特殊ガスの流れを選択的に切り替え可能な第
1の切り替えバルブと、該第1の切り替えバルブに一端
側開口部が接続されたサンプル管の他端側開口部に接続
されると共に、二方に切り替え可能な第2の切り替えバ
ルブと、前記サンプル管を保持するための保持手段と、
前記第2の切り替えバルブの一方に接続される排気手段
と、該第2の切り替えバルブの他方に接続される微量分
析計と、前記サンプル管内を任意の一定温度に制御可能
な加熱手段とを備える構成としている。この場合、前記
不活性ガス及び特殊ガスは、少なくとも各ガスの純度レ
ベルを低下させない程度に放出ガスが規制された接ガス
部を通過するように構成されると好適である。
【0008】また、前記微量分析計は、大気圧イオン質
量分析計であると好適である。
【0009】
【作用】まず、内面が不動態化処理されたサンプル管内
に超高純度の不活性ガス(すなわちpptレベルの不純
物濃度を有するアルゴンガス等)を流すことにより、該
サンプル管内を予め高純度レベルの雰囲気にする。次い
で、加熱手段を作動させて該サンプル管内を超高純度レ
ベル(バックグラウンド程度)の雰囲気にすべく所定の
高温度でベーキングする。続いて、該サンプル管内を冷
却し所定の温度雰囲気にするべく前記加熱手段を制御す
る。その後、該サンプル管内に所定の不純物濃度レベル
の特殊ガス(シランガス等)を所定量(所定流量で、か
つ、所定時間)だけ流す。続いて、特殊ガスの流入を停
止し、排気手段により該サンプル管内の試料ガスを可及
的に短時間で放逐させる。その後、前記加熱手段により
サンプル管内を前記超高純度レベルに至るまでベーキン
グを行い、その間に該サンプル管から脱離した不純物量
を検出する。
【0010】
【実施例】図1は本発明に係る測定方法を実施するため
の装置の一実施例を示すものである。同図に示すように
、第1のガス供給源たる純化器1のガス入口側には例え
ばアルゴンのような不活性ガスの原料ガスの供給源(図
示省略)がガス継ぎ手1aを介して接続され、そのガス
出口側には第1及び第2のガス供給ライン2、3が接続
されている。該第1のガス供給ライン2には第2のガス
供給源たる特殊ガス(シランガス)のボンベ4、レギュ
レータ5、及びガス流量制御計(MFC)6が上流側か
らその順序で接続されている。なお、第1のガス供給ラ
イン2における前記レギュレータ5の上流側には第1の
バルブ7が設けられ、前記ボンベ4は第2のバルブ8を
介して前記第1のバルブ7の下流側、すなわち前記第1
のガス供給ライン2に接続されている。
【0011】さらに、第2のガス供給ライン3には第3
のバルブ9が設けられ、前記MFC6の下流側には第4
のバルブ10及び第5のバルブ11が分岐して設けられ
ている。
【0012】なお、前記純化器1からは超高純度のアル
ゴンガスが得られ、前記ボンベ6は所定濃度の超高純度
の特殊ガス(例えばシランガスが5%で水素ガスが95
%のもの)が充填されている。
【0013】前記第3、第4、第5のバルブ9、10、
11は集積化された第1の切り替えバルブを構成してお
り、第3及び第5のバルブ9、11と第4のバルブ10
との開弁、閉弁は排他的に行われる。また、第3及び第
4のバルブ9、10は保持手段たる第1の継ぎ手13を
介してサンプル管14の一端側開口部に接続され、該サ
ンプル管14の他端側開口部は他の保持手段たる第2の
継ぎ手15を介し第2の切り替えバルブを構成する第7
及び第8のバルブ16、17に接続されている。
【0014】一方、前記第2のガス供給ライン3には第
9のバルブ18が接続され、該第9のバルブ18はバイ
パスライン19を介して前記第2の切り替えバルブを構
成する第10のバルブ20が接続され、該第10のバル
ブ20の下流側と前記第7のバルブ16の下流側との合
流部は中継管21に接続されている。
【0015】また、前記サンプル管14にはその管長方
向に沿うゾーン毎に適数の加熱ヒータ22〜24が付設
されており、当該各ゾーンに対応して温度検出器25〜
27が夫々設けられている。各ヒータ22〜24は、夫
々サンプル管14の割り宛てられた当該ゾーンを温度検
出器25〜27の出力により精度良く温度制御可能に設
けられている。
【0016】前記中継管21には微量分析計としての大
気圧イオン化質量分析計(APIMS)28が接続され
ており、該APIMS28の検出部には流況計29を介
して排気手段が接続されている。
【0017】なお、前記第6のバルブ12には洗浄手段
30が接続されており、また、該洗浄手段30にはガス
流量計(MFM)31を介して前記第8のバルブ17が
接続されている一方、前記中継管21には小加熱ヒータ
32が接続されている。また、前記第1及び第2の切り
替えバルブ、ガス継ぎ手等の接ガス部はオールメタル製
であり、通過する前記アルゴンガスやシランガスの純度
を低下させない程度に放出ガスが規制されている。
【0018】次に、上記のように構成された本実施例に
よる測定方法につき説明する。
【0019】まず、サンプル管14は、例えば、管径が
1/4インチで管長が2メートルのステンレス管であり
、さらに内面が不動態化処理、すなわち電解研磨され、
かつ、酸化皮膜が形成されたものを用意し、これを前記
両継ぎ手13、15の間に取り付ける。
【0020】続いて、第1のバルブ7を開弁し、第2の
バルブ8を閉弁する一方、第3、第5、第6、及び第7
のバルブ9、11、12、16を夫々開弁し、第4、第
8、第9及び第10のバルブ10、17、18、20を
夫々閉弁する。すなわち、第1及び第2のガス供給ライ
ン2、3には超高純度のアルゴンガスが流れ、第1のガ
ス供給ライン2とに流入したアルゴンガスは洗浄手段2
9に流れ込み、第2のガス供給ライン3に流入したアル
ゴンガスはサンプル管14内をパージする。このときサ
ンプル管14にアルゴンガスが流入しているか否かは流
況計29により確認することができ、さらにそのときの
アルゴンガスの純度等はAPIMS28により測定する
ことができる。
【0021】次いで、加熱ヒータ22、23、24を制
御し、サンプル管14内を、例えば450℃の高温雰囲
気に設定、すなわちベーキングを行う。
【0022】次いで、上記各バルブの開閉状態から、第
1のバルブ7を閉弁する一方、第2のバルブ8を開弁す
る。これにより、ボンベ4からシランガスが第1のガス
供給ライン2に流出し、レギュレータ5により所定の水
分濃度(例えば10ppb)で、かつ、所定流量(例え
ば1.2l/min)で流出し、洗浄手段30に向けて
流れる。
【0023】続いて、第7のバルブ16を閉弁する一方
、第8、第9、及び第10のバルブ17、18、20を
開弁する。これにより、バイパスライン19のパージが
アルゴンガスにより行える。
【0024】次に、加熱ヒータ22、23、24を制御
し、前記ベーキングされたサンプル管14内を冷却して
所定の温度(例えば25℃)に一定に保つ。
【0025】該サンプル管14内が一定温度に保たれた
ら、第4のバルブ10を開弁する一方、第3、第5及び
第6のバルブ9、11、12を閉弁する。これにより、
該サンプル管14内に前記流量でシランガスが流入する
が、この流入により、サンプル管14の内壁にはシラン
ガスに含まれる水分が吸着をし始める。このシランガス
の流入開始時及びMFC6の表示値を記録しておけば、
サンプル管14内に流入するシランガスの量が推定でき
る。
【0026】続いて、第4のバルブ10を閉弁し、第3
、第5、第6のバルブ9、11、12を開弁する。これ
により、サンプル管14内へのシランガスの流入は停止
する一方、サンプル管14内に残留していたシランガス
は純化器1からのアルゴンガスにより極短時間で放逐さ
れ、洗浄手段29により所定濃度以下に希釈された状態
で排出される。シランガスがサンプル管14内から放逐
されたか否か、及びその放逐量はMFM30を監視する
ことにより容易に可能である。このシランガスの放逐量
は水分の含有量の真値を求める際の補正に必要である。
【0027】次いで、第7のバルブ16を開弁し、第8
、第9、10のバルブ17、18、20を夫々閉弁する
。これにより、サンプル管14内には超高純度のアルゴ
ンガスのみが流れるが、かかる状態で加熱ヒータ22、
23、24を作動させ、前記サンプル管14内が前記バ
ックグラウンドの純度レベルに至るべく、すなわち前記
ベーキングを行う。このベーキングが完了したか否か、
そして、その完了するまでの間にサンプル管14の内壁
から脱離する水分量はAPIMS28により確認できる
【0028】なお、小加熱ヒータ32を制御することに
より中継管21内を所定の高温度に保つことができ、ま
た、サンプル管14からのガス流出状態は流況計29に
より確認できる。
【0029】続いて、第1のバルブ7を開弁し、第2の
バルブ8を閉弁すると、第1及び第2のガス供給ライン
2、3にアルゴンガスによりパージされる状態、すなわ
ち当初の状態に戻る。
【0030】以下上記手順を繰り返し、サンプル管14
内を他の雰囲気温度(例えば40℃、60℃、80℃等
)に設定した場合におけるシランガス中の水分量を測定
する。
【0031】図2は、前記サンプル管14に前記所定濃
度のシランガスを所定流量(0.5l/min)で流し
た場合における水分含有量の測定を行った結果を示すも
のである。同図から理解できるように、シランガスの流
入量Qが少ない領域では該流入量Qと水分含有量qとは
比例関係にある一方、流入量Qが所定量Q0を越えると
、サンプル管14の内壁への水分吸着の飽和のため水分
含有量も飽和することが理解できる。
【0032】なお、図中仮想線で示すように(直線T1
、T2、T3、…)、サンプル管14内の温度をT1、
T2、T3…の順で上昇させると、水分の含有量の飽和
値が低下することを示している。
【0033】
【発明の効果】以上のように請求項1〜請求項3の発明
によれば、内面が不動態化処理されたサンプル管内に超
高純度の不活性ガスを流す第1の工程と、該サンプル管
内を少なくともバックグラウンドの純度レベルまでベー
キングする第2の工程と、該サンプル管内を所定温度の
雰囲気にする第3の工程と、該サンプル管内に特殊ガス
を所定量だけ流す第4の工程と、該サンプル管内に残留
する前記特殊ガスを排気する第5の工程と、該サンプル
管内を前記純度レベルに至るまでベーキングする第6の
工程と、該ベーキングによりサンプル管の内面から脱離
した不純物量を測定する第7の工程と、から成る構成と
したので、取扱いに不便なシランガスのような特殊ガス
中の不純物量に関する情報を容易にしかも高精度で得る
ことができ、例えば半導体製造における超微細構造の作
成等に十分な貢献ができる。
【0034】請求項4の発明によれば、超高純度の不活
性ガスを供給する第1のガス供給源と、特殊ガスをガス
流量制御計を介して供給する第2のガス供給源と、前記
不活性ガスまたは特殊ガスの流れを選択的に切り替え可
能な第1の切り替えバルブと、該第1のバルブに一端側
開口部が接続されたサンプル管の他端側開口部に接続さ
れると共に、二方に切り替え可能な第2の切り替えバル
ブと、前記サンプル管を保持するための保持手段と、前
記第2の切り替えバルブの一方に接続される排気手段と
、該第2のバルブの他方に接続される微量分析計と、前
記サンプル管内を任意の一定温度に制御可能な加熱手段
とを備える構成としたので、上記測定方法につき従前の
装置を流用しつつ容易にしかも高精度で実施できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る不純物量の測定方法に使用される
装置の一実施例を示すガスフロー構成図である。
【図2】図1に示す装置により測定された結果を示すグ
ラフである。
【符号の説明】
1  ガス純化器(第1のガス供給源)4  ボンベ(
第2のガス供給源) 6  ガス流量制御計 9、10、11  第3、第4、第5のバルブ(第1の
切り替えバルブ) 14  サンプル管 16、17、20  第7、第8、第10のバルブ(第
2の切り替えバルブ) 13、15  第1、第2の継ぎ手(保持手段)28 
 APIMS(微量分析計)

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  内面が不動態化処理されたサンプル管
    内に超高純度の不活性ガスを流す第1の工程と、該サン
    プル管内を超高純度レベルまでベーキングする第2の工
    程と、該サンプル管内を所定温度の雰囲気にする第3の
    工程と、該サンプル管内に特殊ガスを所定量だけ流す第
    4の工程と、該サンプル管内に残留する前記特殊ガスを
    排気する第5の工程と、該サンプル管内を前記超高純度
    レベルに至るまでベーキングする第6の工程と、該第6
    の工程でのベーキングによりサンプル管の内面から脱離
    した不純物量を測定する第7の工程と、から成ることを
    特徴とする特殊ガス中の不純物量測定方法。
  2. 【請求項2】  前記特殊ガスは、シランガスであるこ
    とを特徴とする請求項1記載の特殊ガス中の不純物量測
    定方法。
  3. 【請求項3】  前記不活性ガスは、アルゴンガスであ
    ることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の特
    殊ガス中の不純物吸着量測定方法。
  4. 【請求項4】  超高純度の不活性ガスを供給する第1
    のガス供給源と、特殊ガスをガス流量制御計を介して供
    給する第2のガス供給源と、前記不活性ガスまたは特殊
    ガスの流れを選択的に切り替え可能な第1の切り替えバ
    ルブと、該第1の切り替えバルブに一端側開口部が接続
    されたサンプル管の他端側開口部に接続されると共に、
    二方に切り替え可能な第2の切り替えバルブと、前記サ
    ンプル管を保持するための保持手段と、前記第2の切り
    替えバルブの一方に接続される排気手段と、該第2の切
    り替えバルブの他方に接続される微量分析計と、前記サ
    ンプル管内を任意の一定温度に制御可能な加熱手段とを
    備えたことを特徴とする特殊ガス中の不純物量測定装置
  5. 【請求項5】  前記不活性ガス及び特殊ガスは、少な
    くとも各ガスの純度レベルを低下させない程度に放出ガ
    スが規制された接ガス部を通過することを特徴とする請
    求項4に記載の特殊ガス中の不純物量測定装置。
  6. 【請求項6】  前記微量分析計は、大気圧イオン質量
    分析計であることを特徴とする請求項4または請求項5
    に記載の特殊ガス中の不純物量測定装置。
JP3155880A 1991-05-30 1991-05-30 特殊ガス中の不純物量測定方法及びその測定装置 Pending JPH04353761A (ja)

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EP92910180A EP0651247A1 (en) 1991-05-30 1992-05-13 Method and device for measuring quantities of impurities in special gas
US08/150,142 US5447053A (en) 1991-05-30 1992-05-13 Method and device for measuring quantities of impurities in special gas

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5612534A (en) * 1993-11-09 1997-03-18 Hitachi, Ltd. Atmospheric pressure ionization mass spectrometer
US6436353B1 (en) 1997-06-13 2002-08-20 Tadahiro Ohmi Gas recovering apparatus
JPWO2021106601A1 (ja) * 2019-11-27 2021-06-03

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2749924B1 (fr) * 1996-06-18 1998-08-21 Air Liquide Dispositif pour fournir a un appareil l'un quelconque de plusieurs gaz
US5922286A (en) * 1996-06-18 1999-07-13 L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'atude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude Device for delivering any one of a plurality of gases to an apparatus
US5714678A (en) * 1996-11-26 1998-02-03 American Air Liquide Inc. Method for rapidly determining an impurity level in a gas source or a gas distribution system
US6637277B2 (en) 2001-03-13 2003-10-28 Contrôle Analytique Inc. Fluid sampling device
US20030063271A1 (en) * 2001-08-17 2003-04-03 Nicholes Mary Kristin Sampling and measurement system with multiple slurry chemical manifold
JP4374814B2 (ja) * 2001-09-20 2009-12-02 株式会社日立製作所 過弗化物処理の処理方法
DE602004004369T2 (de) 2003-02-21 2007-11-29 Entegris, Inc., Chaska Verfahren zur analyse von verunreinigungen in einem prozessfluidstrom
US7028563B2 (en) * 2004-04-05 2006-04-18 Systeme Analytique Inc. Fluid sampling system and method thereof
CN112858555B (zh) * 2021-01-08 2023-06-09 烟台万华电子材料有限公司 一种高纯乙硅烷的分析方法
CN114414698A (zh) * 2022-01-21 2022-04-29 北京博赛德科技有限公司 一种氢气中多种痕量杂质同时分析系统及其检测方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3194054A (en) * 1961-08-07 1965-07-13 William M Deaton Apparatus for concentrating trace impurities in high-purity helium
US4170901A (en) * 1978-06-15 1979-10-16 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Sorption tube atmospheric sampling system
GB2085309B (en) * 1980-10-10 1984-02-15 Perkin Elmer Ltd Concentrating gas component by condensation
JPS6017229U (ja) * 1983-07-15 1985-02-05 三菱油化株式会社 ガス中の微量成分の濃縮装置
US4534777A (en) * 1984-06-29 1985-08-13 Honeywell Inc. Gas separation apparatus
US4767043A (en) * 1987-07-06 1988-08-30 Stanley-Bostitch, Inc. Fastener driving device with improved countersink adjusting mechanism
JPH0644986B2 (ja) * 1988-05-08 1994-06-15 忠弘 大見 プロセスガス供給配管装置
JPH0247549A (ja) * 1988-08-09 1990-02-16 Nec Corp 微量ガス成分の分析装置
JP3138009B2 (ja) * 1991-05-30 2001-02-26 忠弘 大見 不純物吸着量の評価方法及びその評価用装置
US5214952A (en) * 1991-08-16 1993-06-01 Praxair Technology, Inc. Calibration for ultra high purity gas analysis

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5612534A (en) * 1993-11-09 1997-03-18 Hitachi, Ltd. Atmospheric pressure ionization mass spectrometer
US6436353B1 (en) 1997-06-13 2002-08-20 Tadahiro Ohmi Gas recovering apparatus
JPWO2021106601A1 (ja) * 2019-11-27 2021-06-03
WO2021106601A1 (ja) * 2019-11-27 2021-06-03 昭和電工株式会社 質量分析計によるハロゲンフッ化物含有ガス中のフッ素ガス濃度の測定方法
KR20210146388A (ko) * 2019-11-27 2021-12-03 쇼와 덴코 가부시키가이샤 질량 분석계에 의한 할로겐 불화물 함유 가스 중의 불소 가스 농도의 측정 방법
US11984308B2 (en) 2019-11-27 2024-05-14 Resonac Corporation Method for measuring concentration of fluorine gas in halogen fluoride-containing gas using mass spectrometer

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