JPH04356431A - 置換クロロベンゼンの合成法 - Google Patents
置換クロロベンゼンの合成法Info
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- JPH04356431A JPH04356431A JP3157357A JP15735791A JPH04356431A JP H04356431 A JPH04356431 A JP H04356431A JP 3157357 A JP3157357 A JP 3157357A JP 15735791 A JP15735791 A JP 15735791A JP H04356431 A JPH04356431 A JP H04356431A
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
位子等の合成中間体として有用な置換クロロベンゼンの
合成法に関する。
薬とアリールジハライドの反応により選択的にアルキル
又はフェニルハロベンゼンを得る製法としては、下記の
■〜■などが知られている。
スフィノ)ブタン〕パラジウムを触媒とするn−ブチル
マグネシウムブロマイドとo−ジブロモベンゼンの反応
による、o−n−ブチルブロモベンゼン(収率76%)
の合成法(「テトラヘドロンレター」第21巻、第84
5頁、1980年)
ホスフィン)パラジウムを触媒とするフェニルマグネシ
ウムブロマイドとp−クロロブロモベンゼンの反応によ
る、p−クロロビフェニル(収率73%)の合成法([
ジャーナル オブオルガノメタリック ケミストリ
ー」第118巻、第349頁、1976年)
】■ジクロロ〔1,2−ビス(ジメチルホスフィノ)エ
タン〕ニッケルを触媒とするイソプロペニルマグネシウ
ムブロマイドとp−ブロモベンゼンの反応によるp−ク
ロロ−α−メチルスチレン(収率68%)の合成法(ブ
ルチンオブ ザケミカル ソサイエテイ オブ
ジャパン 第49巻 第1958頁 1976
年)
ルホスフィノ)プロパン〕ニッケルに8当量のトリフェ
ニルホスフィンを加えたものを触媒とするメチルマグネ
シウムブロマイドとo−ジクロロベンゼンの反応による
、o−クロロトルエン(収率62%)の合成法(米国特
許第3365500号明細書)
ィノエチル)フェニルホスフィン〕ニッケルヘキサンフ
ルオロホスホニウム塩を触媒とするエチルマグネシウム
ブロマイドとp−ジクロロベンゼンの反応による、p−
クロロエチルベンゼン(収率75%)の合成法(「オル
ガノメタリックス」第3巻 第630頁 1984
年)
ムホスフィン錯体のうち、ジクロロ〔1,4−ビス(ジ
フェニルホスフィノ)ブタン〕パラジウム等は、本発明
と類似化合物を製造する触媒として公知である(前記の
例えば■)。しかしながら、本発明の後記した一般式(
2)に相当するジハロゲノベンゼンがいずれもブロムや
ヨードを含むものであって、ジクロルベンゼンに関して
は何ら報告もされていない。
うち、■、■、■の合成法では、ジブロモベンゼンやブ
ロモクロルベンゼン等の原料となるジハロベンゼンが高
価であること、■、■の合成法では、収率、選択率が全
体的に必ずしもよくないこと、また、大過剰のトリフェ
ニルホスフィンを加えたり、特殊な配位子を用いる必要
があることなど不都合な点を有する。
開発が切望されている。
高純度、高収率で得る合成法を提供することにある。
課題を解決するために鋭意検討した。その結果、パラジ
ウムホスフィン錯体触媒存在下に、o−またはm−また
はp−ジクロロベンゼンとグリニヤール試薬を反応させ
ることにより、置換クロロベンゼンを高収率、高選択率
で得る合成法を見いだした。すなわち、本発明の要旨と
するところは、一般式(4)
はハロゲン原子を示し、Lは式Ar2P−A−PAr2
を示す。ただし、AはC2〜5のアルキレン基、フェロ
セニル基を示し、Arはフェニル基を示す)で表される
パラジウムホスフィン錯体触媒または該触媒および一般
式(5)
位子の存在下に一般式(3)
はアルキル基を示すか、アルキル基又はアルコキシ基で
置換されてもよいフェニル基を示し、X´はハロゲン原
子を示す)で表されるグリニヤール試薬と一般式(2)
する一般式(1)
コキシ基で置換されてもよいフェニル基を示す)で表さ
れる置換クロロベンゼンの合成法にある。
るときは、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基
、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基
、オクチル基など、アリール基であるときはメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、メトキシ基、エトキ
シ基、プロポキシ基、ブトキシ基で置換されてもよいフ
ェニル基があげられる。
下記に示す。
021】式(1)化合物はテトラヒドロフランやジエチ
ルエーテルなどの他、ベンゼンやトルエンなどの不活性
との混合溶媒で合成したグリニヤール試薬(3)に、パ
ラジウムホスフィン錯体触媒(4)の存在下で、ジクロ
ロベンゼン(2)を反応させることにより、得られる。 この反応に用いられるパラジウムホスフィン錯体(4)
は、パラジウムニ座配位ホスフィン錯体、例えばジクロ
ロ〔1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン〕
パラジウム、ジクロロ〔1,4−ビス(ジフェニルホス
フィノ)ブタン〕パラジウム、ジクロロ〔1,5−ビス
(ジフェニルホスフィノ)ペンタン〕パラジウム、ジク
ロロ〔1,1−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセ
ン〕パラジウム等が有効である。また、式(3)化合物
のRがβ−水素を持つアルキル基の場合は、原料の還元
体等、不純物を生成し、収率が著しく低下するが、パラ
ジウムホスフィン錯体にさらに過剰量の二座ホスフィン
配位子を添加することにより、高い収率で式(1)化合
物が得られる。二座ホスフィン配位子(5)の添加量は
、例えば、パラジウム二座配位子ホスフィン錯体に対し
、式(3)化合物のRが一級アルキル基の場合は0.1
〜1.1倍モル、望ましくは0.5〜1倍モルであり、
二級アルキル基の場合は0.2倍モルが望ましい。
,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン、1,4
−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン、1,5−ビス
(ジフェニルホスフィノ)ペンタン、ジクロロ1,1´
−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェセロン、などが挙
げられる。
に対して、10−4〜10−2倍モル程度が望ましい。
ル試薬(3)に対して1〜2倍モル程度が望ましい。
)に触媒とジクロロベンゼンを加え、加熱還流を1〜3
0時間続ける。
るが副反応の防止には80℃〜100℃程度が望ましい
。
ラン、ジエチルエーテルなどの他、これらの溶媒とベン
ゼン、トルエンなどの不活性溶媒の混合溶媒が用いられ
る。
溶液を加えて生成した塩を溶解し、有機層を分離して水
洗後、芒硝で脱水する。次に溶媒を留去した後、減圧蒸
留することにより、目的とする置換クロロベンゼン(1
)を得る。
的に説明する。
置換した4径フラスコにジクロロ〔1,1´−ビス(ジ
フェニルホスフィノ)フェロセン〕パラジウム 66
mg(0.09mmol)、p−ジクロロベンゼン
19.8g(135mmol)、メチルマグネシウムク
ロライドのテトラヒドロフラン溶液 30ml(90
mmol)を加え、加熱還流条件で1時間撹拌した。反
応終了後は、反応液に塩化アンモニウム水溶液を加えて
生成した塩を溶解し、有機層を分離して水洗後、無水芒
硝で脱水した。
82〜83℃/59mmHgの留分としてp−クロロト
ルエン 10.5g(収率92%)を得た。ガスクロ
マトグラフィーによる分析純度は99.7%であった。
、赤外吸収スペクトルは標品の値にそれぞれ一致した。
素置換した4径フラスコにジクロロ〔1,3−ビス(ジ
フェニルホスフィノ)プロパン〕パラジウム 66m
g(0.09mmol)、m−ジクロロベンゼン19.
8g(135mmol)、メチルマグネシウムクロライ
ドのテトラヒドロフラン溶液30ml(90mmol)
を加え、加熱還流条件で8時間撹拌した。反応終了後は
、実施例1と同様に処理した。さらに、溶媒を留去した
後、減圧蒸留し、85〜86℃/62mmHgの留分と
してm−クロロトルエン 10.1g(収率89%)
を得た。ガスクロマトグラフィーによる分析純度は99
.7%であった。
、赤外吸収スペクトルは標品の値にそれぞれ一致した。
素置換した4径フラスコにジクロロ〔1,1´−ビス(
ジフェニルホスフィノ)フェロセン〕パラジウム 6
6mg(0.09mmol)、o−ジクロロベンゼン
19.8g(135mmol)、メチルマグネシウム
クロライドのテトラヒドロフラン溶液30ml(90m
mol)を加え、加熱還流条件で1時間撹拌を続けた。 反応終了後は、実施例1と同様に処理した。
1〜82℃/60mmHgの留分として、o−クロロト
ルエン 10.4g(収率91%)を得た。ガスクロ
マトグラフィーによる分析純度は99.7%であった。
、赤外吸収スペクトルは標品の値にそれぞれ一致した。
合成 窒素置換した4径フラスコにジクロロ〔1,4−ビス(
ジフェニルホスフィノ)ブタン〕パラジウム 36.
2mg(0.06mmol)、1,4−ビス(ジフェニ
ルホスフィノ)ブタン 25.6mg(0.06mm
ol)、m−ジクロロベンゼン 17.6g(120
mmol)、エチルマグネシウムブロマイドのテトラヒ
ドロフラン溶液 30ml(60mmol)を加え、
加熱還流条件で15時間撹拌した。
。さらに、溶媒を留去した後、減圧蒸留により93〜9
4℃/60mmHgの留分としてm−クロロエチルベン
ゼン6.2g(収率73%)を得た。ガスクロマトグラ
フィーによる分析純度は99.7%であった。
に赤外吸収スペクトルは標品の値にそれぞれ一致した。
窒素置換した4径フラスコにジクロロ〔1,1´−ビス
(ジフェニルホスフィノ)フェロセン〕パラジウム
48.3mg(0.066mmol)、o−ジクロロベ
ンゼン 19.4g(132mmol)、フェニルマ
グネシウムブロマイドのテトラヒドロフラン溶液、30
ml(66mmol)を加え、加熱還流条件で15時間
撹拌した。
。さらに溶媒を留去した後、減圧蒸留により68〜69
℃/0.2mmHgの留分としてo−クロロビフェニル
9.9g(収率79%)を得た。ガスクロマトグラフィ
ーによる分析純度は99.9%であった。
ム、赤外吸収スペクトルは標品の値にそれぞれ一致した
。
ンゼンの合成 窒素置換した4径フラスコにジクロロ〔1,1´−ビス
(ジフェニルホスフィノ)フェロセン〕パラジウム
66mg(0.09mmol)、1,1´−ビス(ジフ
ェニルホスフィノ)フェロセン 25mg(0.04
5mmol)、m−ジクロロベンゼン 26.5g(
180mmol)、n−プロピルマグネシウムクロライ
ド 50ml(90mmol)を加え、加熱還流条件
で15時間撹拌した。
。さらに、溶媒を留去した後、減圧蒸留により56〜5
7℃/4mmHgの留分としてm−クロロ−n−プロピ
ルベンゼン 11.7g(収率84%)を得た。ガス
クロマトグラフィーによる分析純度は99.9%であっ
た。
、赤外吸収スペクトルは標品の値にそれぞれ一致した。
ルベンゼンの合成 窒素置換した4径フラスコにジクロロ〔1,1´−ビス
(ジフェニルホスフィノ)フェロセン〕パラジウム
66mg(0.09mmol)、1,1´−ビス(ジフ
ェニルホスフィノ)フェロセン 10mg(0.01
8mmol)、m−ジクロロベンゼン 26.5g(
180mmol)、iso−プロピルマグネシウムブロ
マイドのテトラヒドロフラン溶液50ml(90mmo
l)を加え、加熱還流条件で15時間撹拌した。
。さらに、溶媒を留去した後、減圧条件により53〜5
4℃/3mmHgの留分としてm−クロロ−iso−プ
ロピルベンゼン 5.8g(収率42%)を得た。ガ
スクロマトグラフィーによる分析純度は99.7%であ
った。
ム、赤外吸収スペクトラムは標品の値にそれぞれ一致し
た。
1,1´−ビフェニルの合成 窒素置換した4径フラスコにジクロロ〔1,1´−ビス
(ジフェニルホスフィノ)フェロセン〕パラジウム
43.9mg(0.06mmol)、p−ジクロロベン
ゼン 17.6g(120mmol)、o−トリルマ
グネシウムブロマイドのテトラヒドロフラン溶液30m
l(60mmol)を加え、加熱還流条件で2時間撹拌
した。
。さらに溶媒を留去した後、減圧蒸留により89〜90
℃/0.5mmHgの留分として4−クロロ−2´−メ
チル−1、1´−ビフェニル 10.4g(収率85
%)を得た。ガスクロマトグラフィーによる分析純度は
99.9%であった。
、赤外吸収スペクトルは標品の値にそれぞれ一致した。
1,1´−ビフェニルの合成 窒素置換した4径フラスコにジクロロ〔1,1´−ビス
(ジフェニルホスフィノ)フェロセン〕パラジウム
43.9mg(0.06mmol)、p−ジクロロベン
ゼン 17.6g(120mmol)、p−メトキシ
フェニルマグネシウムブロマイドのテトラヒドロフラン
溶液 30ml(60mmol)を加え、加熱還流条
件で2時間撹拌した。
。さらに溶媒を留去した後、減圧蒸留により、113〜
114℃/0.1mmHgの留分として3−クロロ−4
´−メトキシ−1,1´−ビフェニル 11.6g(
収率88%)を得た。ガスクロマトグラフィーによる分
析純度は99.9%であった。
、赤外吸収スペクトルは標品の値にそれぞれ一致した。
ベンゼンの合成 窒素置換した4径フラスコにジクロロ〔1,1´−ビス
(ジフェニルホスフィノ)フェロセン〕パラジウム
38.8mg(0.053mmol)、1,1´−ビス
(ジフェニルホスフィノ)フェロセン 14.7g(
0.027mmol)、m−ジクロロベンゼン 15
.6g(106mmol)、n−オクチルマグネシウム
クロライドのテトラヒドロフラン溶液 30ml(5
3mmol)を加え、加熱還流条件で2時間撹拌した。
。さらに溶媒を留去した後、減圧蒸留により103〜1
04℃/0.6mmHgの留分としてp−クロロ−n−
オクチルベンゼン 10.5g(収率88%)を得た
。ガスクロマトグラフィーによる分析純度は99.9%
であった。
ル、赤外吸収スペクトルは標品の値にそれぞれ一致した
。
に比べ、安価なジクロロベンゼンを原料とし、選択性よ
く、高収率で医薬、農薬及び触媒配位子の中間体を得る
ことができる。したがって、本発明は置換クロロベンゼ
ンの工業的な合成法として有用である。
Claims (1)
- 【請求項】 一般式 【化1】 PdX2(L) (式中、Xはハロゲン原子を示し、Lは式Ar2P−A
−PAr2を示す。ただし、AはC2〜5のアルキレン
基、フェロセニル基を示し、Arはフェニル基を示す)
で表されるパラジウムホスフィン錯体触媒または該触媒
および一般式 【化2】 L (式中、Lは前記に同じ)で表される二座ホスフィン配
位子の存在下に一般式 【化3】 R−Mg−X´ (式中、Rはアルキル基を示すか、アルキル基又はアル
コキシ基で置換されてもよいフェニル基を示し、X´は
ハロゲン原子を示す)で表されるグリニヤール試薬と一
般式 【化4】 で表されるジクロロベンゼンを反応させることを特徴と
する一般式 【化5】 (式中、Rはアルキル基を示すか、アルキル基又はアル
コキシ基で置換されてもよいフェニル基を示す)で表さ
れる置換クロロベンゼンの合成法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3157357A JP3001122B2 (ja) | 1991-06-03 | 1991-06-03 | 置換クロロベンゼンの合成法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3157357A JP3001122B2 (ja) | 1991-06-03 | 1991-06-03 | 置換クロロベンゼンの合成法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04356431A true JPH04356431A (ja) | 1992-12-10 |
| JP3001122B2 JP3001122B2 (ja) | 2000-01-24 |
Family
ID=15647904
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3157357A Expired - Lifetime JP3001122B2 (ja) | 1991-06-03 | 1991-06-03 | 置換クロロベンゼンの合成法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3001122B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0979809A1 (de) * | 1998-08-12 | 2000-02-16 | Clariant GmbH | Vefahren zur Herstellung von 4-Chlorbiphenylen |
| JP2008056653A (ja) * | 2006-08-04 | 2008-03-13 | Tosoh Corp | ハロゲン化ビフェニル類の製造方法 |
-
1991
- 1991-06-03 JP JP3157357A patent/JP3001122B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0979809A1 (de) * | 1998-08-12 | 2000-02-16 | Clariant GmbH | Vefahren zur Herstellung von 4-Chlorbiphenylen |
| JP2008056653A (ja) * | 2006-08-04 | 2008-03-13 | Tosoh Corp | ハロゲン化ビフェニル類の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3001122B2 (ja) | 2000-01-24 |
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