JPH04358530A - 混合ガスの均一化処理方法 - Google Patents
混合ガスの均一化処理方法Info
- Publication number
- JPH04358530A JPH04358530A JP3030066A JP3006691A JPH04358530A JP H04358530 A JPH04358530 A JP H04358530A JP 3030066 A JP3030066 A JP 3030066A JP 3006691 A JP3006691 A JP 3006691A JP H04358530 A JPH04358530 A JP H04358530A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- container
- gaseous mixture
- gas
- mixed gas
- present
- Prior art date
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- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F31/00—Mixers with shaking, oscillating, or vibrating mechanisms
- B01F31/60—Mixers with shaking, oscillating, or vibrating mechanisms with a vibrating receptacle
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は容器中の混合ガスの混合
方法に関する。
方法に関する。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】最近の半導体工業の発
達にともない各種のガスが半導体産業において使用され
ている。又これらのガスは高純度ならびにパーティクル
フリーのクリーンを要求されている。従ってこれらのガ
スを製造する工場内は極度にクリーンにしなければなら
ない。半導体産業においてガスの混合物を使用する場合
がある。その場合ほぼ純粋な２種以上のガスをガス製造
工場内で混合しなければならない。
達にともない各種のガスが半導体産業において使用され
ている。又これらのガスは高純度ならびにパーティクル
フリーのクリーンを要求されている。従ってこれらのガ
スを製造する工場内は極度にクリーンにしなければなら
ない。半導体産業においてガスの混合物を使用する場合
がある。その場合ほぼ純粋な２種以上のガスをガス製造
工場内で混合しなければならない。
【０００３】従来では混合すべき２種以上のガスを容器
１に充填し、図１に示すようなローリングマシーン２の
上に載せる。図１のローリングマシーン２は水平な２本
の軸３と軸の回りのローラー４及び少なくとも１つの軸
の先端に取り付けられている回転機５からなる。混合ガ
スが充填されている容器１をローリングマシーン２に載
せた後、回転機５により軸３を回転させ同時に容器１を
回転させて容器１内でガスを均一に混合する。しかしこ
の均一化方法では（ｉ）容器とローラーとの接触面及び
（ｉｉ）回転機の内部の箇所でパーティクルが発塵し、
かつ容器の塗装面にもきずがつき、塗装粉が塵となる。 従ってクリーンルームの維持管理が困難となった。
１に充填し、図１に示すようなローリングマシーン２の
上に載せる。図１のローリングマシーン２は水平な２本
の軸３と軸の回りのローラー４及び少なくとも１つの軸
の先端に取り付けられている回転機５からなる。混合ガ
スが充填されている容器１をローリングマシーン２に載
せた後、回転機５により軸３を回転させ同時に容器１を
回転させて容器１内でガスを均一に混合する。しかしこ
の均一化方法では（ｉ）容器とローラーとの接触面及び
（ｉｉ）回転機の内部の箇所でパーティクルが発塵し、
かつ容器の塗装面にもきずがつき、塗装粉が塵となる。 従ってクリーンルームの維持管理が困難となった。
【０００４】従来の方法では容器の表面にキズ又は汚れ
がついたりし、その対応に均一化処理、再度容器表面を
塗装したり、均一化処理後、再度容器全体を布等でカバ
ーするなどの対応が必要であった。そのため従来ではそ
の混合ガスの均一化処理をクリーンルーム内で実施する
ために均一化処理の所を局所排気を行うなどのゴミの発
生に対する処置が必要であった。
がついたりし、その対応に均一化処理、再度容器表面を
塗装したり、均一化処理後、再度容器全体を布等でカバ
ーするなどの対応が必要であった。そのため従来ではそ
の混合ガスの均一化処理をクリーンルーム内で実施する
ために均一化処理の所を局所排気を行うなどのゴミの発
生に対する処置が必要であった。
【０００５】
【課題を解決すべき手段】本発明者は混合ガスの均一化
処理の際に塵の発生がない方法を開発したものである。
処理の際に塵の発生がない方法を開発したものである。
【０００６】本発明は容器に混合ガスを充填後ボンベを
ほぼ直立状態とほぼ９０度転倒状態との間を少なくとも
２〜３回、好ましくは１０回程度往復させることを含む
容器中の混合ガスの均一化処理方法に関する。
ほぼ直立状態とほぼ９０度転倒状態との間を少なくとも
２〜３回、好ましくは１０回程度往復させることを含む
容器中の混合ガスの均一化処理方法に関する。
【０００７】本発明において混合ガスが充填されている
容器をほぼ直立状態とほぼ９０度転倒状態との間を往復
させるのには手で行なっても良く、又９０度回転する壁
にその容器を取り付けてその操作を行なっても良い。
容器をほぼ直立状態とほぼ９０度転倒状態との間を往復
させるのには手で行なっても良く、又９０度回転する壁
にその容器を取り付けてその操作を行なっても良い。
【０００８】
【作用】充填直後の混合ガスは最初に充填したガスが下
部に、最後に充填したガスが上部に分かれており、従来
の方法では容器を回転させる事で容器の内表面と内部の
ガスとの摩擦で内部のガスが攪拌され均一化が行なわれ
ていた。本発明では容器を９０°転倒させた際、上部の
ガスが下部へ、下部のガスが上部へ移動しようとする。 容器を転倒させる際、内部のガスに転倒させる方向の運
転エネルギーが働らき、ほぼ９０°転倒させた際には慣
性の法則に基づきガスが移動する。
部に、最後に充填したガスが上部に分かれており、従来
の方法では容器を回転させる事で容器の内表面と内部の
ガスとの摩擦で内部のガスが攪拌され均一化が行なわれ
ていた。本発明では容器を９０°転倒させた際、上部の
ガスが下部へ、下部のガスが上部へ移動しようとする。 容器を転倒させる際、内部のガスに転倒させる方向の運
転エネルギーが働らき、ほぼ９０°転倒させた際には慣
性の法則に基づきガスが移動する。
【０００９】ゴミの発塵は従来の方法ではローラーと容
器表面とがこすれて生じていたが、本発明ではローラー
を使用せず、表面がこすれてゴミが発生することはない
。又従来の方法ではローラーを回転させる為、回転機か
らもゴミの発塵が考えられていたが、本発明では回転機
を使用しない為、均一化処理装置からのゴミの発塵もな
い。
器表面とがこすれて生じていたが、本発明ではローラー
を使用せず、表面がこすれてゴミが発生することはない
。又従来の方法ではローラーを回転させる為、回転機か
らもゴミの発塵が考えられていたが、本発明では回転機
を使用しない為、均一化処理装置からのゴミの発塵もな
い。
【００１０】実施態様
本発明と従来の方法との混合ガスの濃度比較 混合ガ
ス種 本 発 明
従来の方法ＣＯ２ ＋Ｈ
ｅ混合 ＣＯ２ １０．４７％
ＣＯ２ １０．４０％ＳｉＨ４ ＋Ｎ２ 混合
ＳｉＨ４ ４．１６％ ＳｉＨ
４ ４．１５％ＰＨ３ ＋Ｈ２ 混合
ＰＨ３ １４．７ｐｐｍ ＰＨ３ １４
．６ｐｐｍ本発明では容器表面にキズ、汚れがつかない
ため、これらの対応は必要としない。
ス種 本 発 明
従来の方法ＣＯ２ ＋Ｈ
ｅ混合 ＣＯ２ １０．４７％
ＣＯ２ １０．４０％ＳｉＨ４ ＋Ｎ２ 混合
ＳｉＨ４ ４．１６％ ＳｉＨ
４ ４．１５％ＰＨ３ ＋Ｈ２ 混合
ＰＨ３ １４．７ｐｐｍ ＰＨ３ １４
．６ｐｐｍ本発明では容器表面にキズ、汚れがつかない
ため、これらの対応は必要としない。
【００１１】数本ロットで、混合ガスを充填した際、従
来の方法では容器が回転するため必ず容器を集合配管か
ら取りはずし、均一化を行っていたが、本発明では容器
が回転しないので、容器を集合配管から取りはずさなく
ても、数本ロット同時に均一化処理を行うことができる
。
来の方法では容器が回転するため必ず容器を集合配管か
ら取りはずし、均一化を行っていたが、本発明では容器
が回転しないので、容器を集合配管から取りはずさなく
ても、数本ロット同時に均一化処理を行うことができる
。
【００１２】又容器とガス充填装置とをフレキシブルホ
ースで接続した場合、接続をはずさずに、均一化処理が
でき、そのまま分析までの一連の作業が接続部の脱着な
しで行うことができる。
ースで接続した場合、接続をはずさずに、均一化処理が
でき、そのまま分析までの一連の作業が接続部の脱着な
しで行うことができる。
【００１３】本発明は医療用ガス、食品用ガスの製造に
も応用できる。
も応用できる。
【図１】従来の混合ガス均一化方法を示す斜視図である
。
。
Claims (1)
- 【請求項１】 容器に混合ガスを充填後ボンベをほぼ
直立状態とほぼ９０度転倒状態との間を少なくとも数回
往復させることを含む容器中の混合ガスの均一化処理方
法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3030066A JPH04358530A (ja) | 1991-02-25 | 1991-02-25 | 混合ガスの均一化処理方法 |
| CA002079898A CA2079898A1 (en) | 1991-02-25 | 1992-02-25 | Method for homogenization treatment of mixed gases |
| PCT/JP1992/000202 WO1992014540A1 (en) | 1991-02-25 | 1992-02-25 | Method for homogenization treatment of mixed gases |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3030066A JPH04358530A (ja) | 1991-02-25 | 1991-02-25 | 混合ガスの均一化処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04358530A true JPH04358530A (ja) | 1992-12-11 |
Family
ID=12293445
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3030066A Pending JPH04358530A (ja) | 1991-02-25 | 1991-02-25 | 混合ガスの均一化処理方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04358530A (ja) |
| CA (1) | CA2079898A1 (ja) |
| WO (1) | WO1992014540A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20200084100A (ko) * | 2019-01-02 | 2020-07-10 | ㈜에이치엔에스 | 반도체 제조공정용 가스용기를 흔드는 장치 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4869158A (ja) * | 1971-12-22 | 1973-09-20 | ||
| FR2473885B1 (fr) * | 1980-01-18 | 1986-01-10 | Fix R | Procede d'obtention d'un moyen therapeutique sous forme gazeuse, dispositif pour la mise en oeuvre de ce procede, et moyen therapeutique ainsi obtenu |
| JPS5933532B2 (ja) * | 1981-04-03 | 1984-08-16 | スタンレー電気株式会社 | 非晶質シリコンの形成方法 |
-
1991
- 1991-02-25 JP JP3030066A patent/JPH04358530A/ja active Pending
-
1992
- 1992-02-25 CA CA002079898A patent/CA2079898A1/en not_active Abandoned
- 1992-02-25 WO PCT/JP1992/000202 patent/WO1992014540A1/en not_active Ceased
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20200084100A (ko) * | 2019-01-02 | 2020-07-10 | ㈜에이치엔에스 | 반도체 제조공정용 가스용기를 흔드는 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO1992014540A1 (en) | 1992-09-03 |
| CA2079898A1 (en) | 1992-08-26 |
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