JPH04362284A - 真空装置 - Google Patents

真空装置

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JPH04362284A
JPH04362284A JP16382291A JP16382291A JPH04362284A JP H04362284 A JPH04362284 A JP H04362284A JP 16382291 A JP16382291 A JP 16382291A JP 16382291 A JP16382291 A JP 16382291A JP H04362284 A JPH04362284 A JP H04362284A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vacuum
lock chamber
load lock
valve
rotary pump
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP16382291A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshihiko Takazoe
敏彦 高添
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Tel Varian Ltd
Original Assignee
Tel Varian Ltd
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Publication date
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Publication of JPH04362284A publication Critical patent/JPH04362284A/ja
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  • Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体製造装置
等において真空室の真空引きを行なうために使用される
、真空装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の真空装置について、イオン注入装
置のロードロック室の真空引きを行うための真空装置を
例に採って説明する。
【0003】図3において、半導体ウエハ20に対する
イオン注入を行うためのメインチャンバ12は、クライ
オポンプ14で高真空状態に維持されている。このため
、メインチャンバ内へ半導体ウエハ20を搬入するため
には、まず、ロードロック室2内に半導体ウエハ20を
搬入し、このロードロック室2内を真空引きした後に、
メインチャンバ12内への半導体ウエハの移送を行うの
が一般的である。
【0004】ここで、ロードロック室2は、バルブ4が
設けられた配管16を介して、ロータリーポンプ6に連
通されている。かかる構成により、このロードロック室
2に1枚の半導体ウエハ20を搬入した後、ゲート8を
閉じ、続いてバルブ4を開くことにより、ロードロック
室2内を大気圧から高真空まで真空引きすることができ
る。
【0005】その後、バルブ4を閉じるとともにゲート
10を開き、半導体ウエハ20をメインチャンバ12内
へ移送する。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】図3に示したようなロ
ードロック室2においては、上述のように、半導体ウエ
ハ20を1枚づつ搬入し、その度に大気圧から高真空ま
での真空引きを行わなければならない。したがって、イ
オン注入装置の処理能力を向上させるためには、ロード
ロック室2内の真空引きに要する時間を短縮させること
が要求される。
【0007】ここで、ロードロック室2内の真空引きに
要する時間を短縮させる方法としては、ロータリーポン
プ6として、排気能力の大きいものを使用することが考
えられる。
【0008】しかしながら、現状では、ロータリーポン
プ6の排気能力は1000リットル/分程度が限界であ
り、ロードロック室2内の真空引きに要する時間の短縮
という観点からすれば、不十分である。
【0009】また、ロータリーポンプ6は排気能力を大
きくするほど大型化し、また、高価格となるので、排気
能力の大きいロータリーポンプ6を使用する場合には、
その分、装置全体が大型化且つ高価格化してしまうとい
う課題も生じる。
【0010】本発明は、このような従来技術の課題に鑑
みて試されたものであり、小型で且つ真空引きに要する
時間を短縮することができる真空装置を安価に提供する
ことを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明の真空装置は、真
空室の真空引きを行なう真空装置であって、真空ポンプ
と、この真空ポンプと前記真空室とを連通する配管と、
この配管に設けられたバルブと、このバルブと前記真空
ポンプとの間の前記配管途中に設けられた真空タンクと
、  を具備することを特徴とする
【0012】
【作用】予め、バルブを閉じまま真空ポンプを駆動させ
て真空タンク内の真空引きを行っておき、その後、バル
ブを開く。
【0013】このとき、真空室内のガスは、瞬間的に真
空タンク内にも拡散するとともに、真空ポンプで排気さ
れる。
【0014】これにより、非常に短い時間で真空室内を
真空引きすることが可能となる。
【0015】
【実施例】以下、本発明の第1の実施例について、図1
を用いて説明する。
【0016】図1において、ロードロック室2は、バル
ブ26が設けられた配管32を介して、ロータリーポン
プ6に連通されている。また、バルブ26とロータリー
ポンプ6との間には、真空タンク22が設けられてる。 さらに、このロードロック室2は、バルブ28が設けら
れた配管34により、クライオポンプ24にも連通され
ている。
【0017】なお、本実施例では、ロードロック室2の
容積を0.3リットル、真空タンク22の容積を15リ
ットルとし、また、ロータリーポンプ6の排気能力を1
0リットル/秒、クライオポンプの排気能力を1000
リットル/秒とする。ただし、これらの値は、特に限定
されるものではない。
【0018】かかる構成によれば、以下のような手順に
より、短時間でロードロック室2内の真空引きを行うこ
とができる。
【0019】■まず、バルブ26,28,30を閉じた
状態で、ロータリーポンプ6を駆動させ、真空タンク2
2内のガス(ここでは空気)を排気する。
【0020】■真空タンク22内の真空引きが終了する
と、ロードロック室2に1枚の半導体ウエハ20を搬入
した後、ゲート8を閉じる。
【0021】■次に、ロータリーポンプ6を駆動させた
ままの状態でバルブ26を開き、さらに、例えば0.5
秒後に再びバルブ26を閉じる。これにより、ロードロ
ック室2内の荒引きを行なうことができる。
【0022】すなわち、バルブ26を開くことにより、
ロードロック室2内の空気は、瞬間的に真空タンク22
内にまで拡散する。すなわち、ロードロック室2内の空
気は急激に排気される。
【0023】ここで、上述したように、ロードロック室
2の容積は0.3リットルであり、また、真空タンク2
2の容積は15リットルである。したがって、バルブ2
6を開いたとき、ロードロック室2内の空気の量は、0
.3/(15+0.3)、すなわち、約50分の1まで
一気に減少する。近似的には、ロードロック室2内から
15リットルの排気が行われたことになる。
【0024】さらに、このとき、ロータリーポンプ6は
駆動状態のままであるので、バルブ26を閉じるまでの
0.5秒間に、10リットル/秒×0.5秒=5リット
ルの排気を行なう。
【0025】すなわち、バルブ26を開いてから再び閉
じるまでの0.5秒間に、20リットルの排気が行われ
る。
【0026】このようにして、ロードロック室2内を大
気圧から数Torr〜十数Torr程度まで荒引きする
ことができる。
【0027】なお、ここではバルブ26を開く時間を0
.5秒間としたが、この時間に限定されるものではなく
、真空タンク22の容量や配管の大きさ等、種々の条件
に応じて決定すればよい。
【0028】■続いて、バルブ28を開き、クライオポ
ンプ24を用いて、高真空まで真空引きを行なう。本発
明者の検討によれば、この真空引きに要する時間は、0
.5〜1秒である。
【0029】■ロードロック室2内が十分な真空度に達
すると、バルブ28を閉じるとともにゲート10を開き
、半導体ウエハ20をメインチャンバ12内へ移送する
【0030】このように、本実施例の真空装置によれば
、ロードロック室2内の真空引きを、1〜1.5秒程度
で行なうことができた。これに対して、従来の真空装置
(図3参照)を用いた場合の所用時間は、ロードロック
室2の容積およびロータリーポンプ6の排気能力を同じ
とした場合、2.5〜3秒であった。すなわち、本実施
例の真空装置によれば、ロードロック室2内の真空引き
に要する時間を1〜1.5秒短縮することができた。
【0031】従来、通常のイオン注入装置では、メイン
チャンバ12内で処理することができる半導体ウエハ2
0の枚数は、1時間につき200〜230枚程度であっ
た。換言すれば、一枚の半導体ウエハ20の処理に要す
る時間は、16〜18秒であった。
【0032】これに対して、ロードロック室2内の真空
引きに本実施例の真空装置を使用することした場合、上
述のように、ロードロック室2内の真空引きに要する時
間を1〜1.5秒短縮することができるので、一枚の半
導体ウエハ20の処理に要する時間を6〜9%短縮する
ことができることになる。
【0033】なお、本実施例では真空タンク22の容積
を15リットルとしたが、上述したように、かかる容積
は特に限定されるものではない。但し、以下の条件を満
たすように決定することが望ましい。
【0034】真空タンク22とロータリーポンプ6とバ
ルブ26とを用いてロードロック室2の荒引きを行う際
には、荒引き後の真空度が、少なくとも、その後クライ
オポンプ24を使用することができる値に達しているこ
とが必要である。
【0035】上述のように、バルブ26を開くことによ
る荒引きは、ロードロック室2内の空気を瞬間的に真空
タンク22内にまで拡散させることと、ロータリーポン
プ6による排気とによって行なわれが、この荒引きに要
する時間を最小限に抑えるためには、真空タンク22に
よる排気のみによって、ロードロック室2内の真空度を
クライオポンプ24を使用することができる値にまで低
下させることが望ましい。
【0036】ここで、クライオポンプ24を使用するこ
とができるか否かの条件は、ロードロック室2内の真空
度とロードロック室2の容積との積によって与えられる
。ここでは、この値をx[Torr・l]とする。
【0037】今、ロードロック室2の容積をm[l]、
真空タンク22の容積をM[l]とし、ゲートバルブ2
6を開く直前の真空タンク22内の真空度を0[Tor
r]と近似すると、ロードロック室2内の空気が真空タ
ンク22内にまで拡散した後のロードロック室2内の真
空度は、760×{m/(m+M)}[Torr]であ
る。したがって、真空タンク22のみによってロードロ
ック室2内の真空度をクライオポンプ24を使用するこ
とができる値にまで低下させるためには、   760×{m/(m+M)}[Torr]×m[l
]≦x[Torr・l]を満たさなければならない。よ
って、真空タンク22の容積Mは、 M≧m{(760m/x)−1} とすることが望ましい。
【0038】一方、この真空タンク22の容積Mが大き
いほど荒引きの能力は向上し、荒引き後のクライオポン
プ24による真空引きの時間を短縮することができる。 したがって、真空タンク22の容積Mは、イオン注入装
置全体の大きさや、この真空タンク22をロータリーポ
ンプ6で真空引きする際の所要時間等を考慮しつつ、可
能なかぎり大きくすることが望ましい。
【0039】なお、真空タンク22の種類や形状等も特
に限定されるものではない。バルブ26とロータリーポ
ンプ6との間に、ある程度の体積の真空状態の空間を提
供することができるものであれば、本発明の目的を達成
することができる。本願では、このような空間を提供す
る手段のすべてを、「真空タンク」と総称することとす
る。
【0040】次に、本発明の第2の実施例について、図
2を用いて説明する。
【0041】図2において、ロードロック室2,2´は
、それぞれ、バルブ40,50が設けられた配管36お
よびバルブ42,48が設けられた配管38を介して、
ロータリーポンプ6に連通されている。また、バルブ4
0とロータリーポンプ6との間およびバルブ42とロー
タリーポンプ6との間には、それぞれ、真空タンク44
,46が設けられてる。さらに、配管36のゲート40
とゲート50との間の部分、および、配管38のゲート
38とゲート48との間の部分は、配管52によって、
互いに連通されている。
【0042】なお、本実施例でも、上述の第1の実施例
と同様、ロードロック室2の容積を0.3リットル、真
空タンク44,46の容積をそれぞれ15リットルとし
、また、ロータリーポンプ6の排気能力を10リットル
/秒とする。
【0043】以下、本実施例の真空装置を用いてロード
ロック室内の真空引きを行なう手順について、図2に示
したロードロック室2内の真空引きを行なう場合を例に
採って説明する。
【0044】■まず、バルブ48,50を閉じ、配管3
6,38内および真空タンク44,46内を真空排気す
る。
【0045】■真空タンク44,46内の真空引きが終
了すると、バルブ40,42は閉じておくいた状態で、
ロードロック室2に1枚の半導体ウエハ20を搬入した
後、ゲート8を閉じる。
【0046】■次に、ロータリーポンプ6を駆動させた
ままの状態でバルブ40を開き、同時にバルブ48を開
く。さらに、例えば0.5秒後に再びバルブ40を閉じ
る。これにより、ロードロック室2内の空気の量は、上
述の第1の実施例と同様、約50分の1まで一気に減少
するので、ロードロック室2内の荒引きを行なうことが
できる。
【0047】■続いて、バルブ42を開き、例えば0.
5秒後に再びバルブ42とバルブ48を同時に閉じる。 これにより、ロードロック室2内の空気の量は、さらに
50分の1となり、ロードロック室2内の高真空引きを
行なうことができる。
【0048】■その後、ゲート10を開き、半導体ウエ
ハ20をメインチャンバ12内へ移送する。
【0049】なお、ロードロック室2´についても、ま
ったく同じ手順によって真空引きを行なうことができる
【0050】このように、本実施例の真空装置によれば
、ロードロック室2内の真空引きを、クライオポンプを
使用することなく、且つ、非常に短時間(約1秒)で行
なうことができた。
【0051】また、2つのロードロック室2,2´を1
系統の真空装置で真空引きすることができるので、非常
に安価であり、且つ、装置の小型化に効果的である。
【0052】ただし、それぞれのロードロック室2,2
´について、別々にこのような真空装置を設けてもよい
ことはもちろんである。
【0053】加えて、それぞれの真空タンク44,46
に、別々にロータリーポンプを連通させることとしても
よい。この場合には、真空タンク44,46の排気に要
する時間を短縮することができる。
【0054】さらに、真空タンク44,46の容量・形
状や、ロータリーポンプ6の排気能力等が特に限定され
るものでないのは、上述の第1の実施例と同様である。
【0055】以上、本発明の真空装置について、イオン
注入装置ののロードロック室の真空引きを行うための真
空装置を例に採って説明したが、本発明の真空装置はか
かる用途に限定されるものでなく、他の目的で使用され
る真空室の真空引きに使用しても同様の効果を得ること
ができるのはもちろんである。
【0056】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、小型で、且つ、真空引きに要する時間を短縮する
ことが可能な真空装置を、安価に提供することができる
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例に係わる真空装置を概略
的に示す構成図である。
【図2】本発明の第2の実施例に係わる真空装置を概略
的に示す構成図である。
【図3】従来の真空装置の1例を概略的に示す構成図で
ある。
【符号の説明】
2                    ロードロ
ック室6                    ロ
ータリーポンプ8,10              
ゲート12                    
メインチャンバ14,24             
 クライオポンプ22,44,46        真
空タンク32,34,36,38  配管 26,28,30,40,42,48,50  バルブ
20                    半導体
ウエハ                TE0375
01

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  真空室の真空引きを行なう真空装置で
    あって、真空ポンプと、この真空ポンプと前記真空室と
    を連通する配管と、この配管に設けられたバルブと、こ
    のバルブと前記真空ポンプとの間の前記配管途中に設け
    られた真空タンクと、  を具備することを特徴とする
    真空装置。
JP16382291A 1991-06-07 1991-06-07 真空装置 Withdrawn JPH04362284A (ja)

Priority Applications (1)

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JP16382291A JPH04362284A (ja) 1991-06-07 1991-06-07 真空装置

Applications Claiming Priority (1)

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JP16382291A JPH04362284A (ja) 1991-06-07 1991-06-07 真空装置

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JPH04362284A true JPH04362284A (ja) 1992-12-15

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ID=15781393

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JP16382291A Withdrawn JPH04362284A (ja) 1991-06-07 1991-06-07 真空装置

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JP (1) JPH04362284A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009052432A (ja) * 2007-08-24 2009-03-12 Tadashi Kamimura 真空排気幇助装置と真空排気幇助方法
KR100905396B1 (ko) * 2007-08-01 2009-06-30 주식회사 에이디피엔지니어링 로드락 챔버의 진공장치 및 이를 이용한 로드락 챔버의압력 전환 방법
WO2024069767A1 (ja) * 2022-09-27 2024-04-04 株式会社Kokusai Electric 基板処理方法、半導体装置の製造方法、プログラム及び基板処理装置

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Effective date: 19980903