JPH0436255A - ビスフェノールａ製造プロセス中の真空装置の腐蝕防止方法 - Google Patents
ビスフェノールａ製造プロセス中の真空装置の腐蝕防止方法Info
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- JPH0436255A JPH0436255A JP2141277A JP14127790A JPH0436255A JP H0436255 A JPH0436255 A JP H0436255A JP 2141277 A JP2141277 A JP 2141277A JP 14127790 A JP14127790 A JP 14127790A JP H0436255 A JPH0436255 A JP H0436255A
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- Japan
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- gas
- bisphenol
- corrosion
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、塩化水素を触媒としてフェノールおよびアセ
トンからビスフェノールＡを製造するプロセス中の塩化
水素を回収する工程に設置された真空装置の冷却液とし
て、水酸化ナトリウム水溶液を使用し、真空装置の腐蝕
を防止する方法に関する。
トンからビスフェノールＡを製造するプロセス中の塩化
水素を回収する工程に設置された真空装置の冷却液とし
て、水酸化ナトリウム水溶液を使用し、真空装置の腐蝕
を防止する方法に関する。
ビスフェノールＡの工業的な製造方法として、塩化水素
を触媒としてフェノールとアセトンから製造する方法か
ある。
を触媒としてフェノールとアセトンから製造する方法か
ある。
この反応で得られる反応液は、製品であるビスフェノー
ルＡ、未反応アセトン、未反応フェノール、塩化水素１
反応相合本、塩化水素と反応縮合水から生しる塩酸、お
よび副生不純物から成っている。この反応液は脱塩酸塔
にフィートされ、塩化水素、塩酸、未反応アセトンの殆
と全部、及び未反応フェノールの一部か留出除去された
後、脱フエノール等の精製工程を経て、高純度のビスフ
ェノール八が製造されている。
ルＡ、未反応アセトン、未反応フェノール、塩化水素１
反応相合本、塩化水素と反応縮合水から生しる塩酸、お
よび副生不純物から成っている。この反応液は脱塩酸塔
にフィートされ、塩化水素、塩酸、未反応アセトンの殆
と全部、及び未反応フェノールの一部か留出除去された
後、脱フエノール等の精製工程を経て、高純度のビスフ
ェノール八が製造されている。
このようなビスフェノールへの工業的製造プロセスにお
いて、脱塩酸塔から留出したガスは留出ガス捕集工程で
捕集され、分離器でフェノール層と塩酸層とに分離され
た後、フェノール層は反応原料として循環使用され、塩
酸層は塩化水素回収工程で、塩化水素か微量の残存フェ
ノールとともに回収され、反応縮合水は排水として排出
される方法か実施されている。
いて、脱塩酸塔から留出したガスは留出ガス捕集工程で
捕集され、分離器でフェノール層と塩酸層とに分離され
た後、フェノール層は反応原料として循環使用され、塩
酸層は塩化水素回収工程で、塩化水素か微量の残存フェ
ノールとともに回収され、反応縮合水は排水として排出
される方法か実施されている。
この工業的製造プロセスにおいては、触媒として使用す
る塩化水素はできるかぎり回収して使用する必要かある
。そのため、製造プロセス中に塩化水素の回収工程を含
み、原料と触媒に混入するガスは塩化水素を回収除去し
て廃ガスとして排出されている。
る塩化水素はできるかぎり回収して使用する必要かある
。そのため、製造プロセス中に塩化水素の回収工程を含
み、原料と触媒に混入するガスは塩化水素を回収除去し
て廃ガスとして排出されている。
すなわち、従来、反応液から分離された塩酸層の塩酸濃
縮塔からの留出ガスはコンデンサーで冷却され、ついて
コンデンサーから排出されるガスは水または水酸化ナト
リウム水溶液で洗浄され、微量の含有塩化水素を除去し
た後、真空発生装置に送られ、更に他のコンデンサーて
水て洗浄されて廃ガスとして排出されていた。
縮塔からの留出ガスはコンデンサーで冷却され、ついて
コンデンサーから排出されるガスは水または水酸化ナト
リウム水溶液で洗浄され、微量の含有塩化水素を除去し
た後、真空発生装置に送られ、更に他のコンデンサーて
水て洗浄されて廃ガスとして排出されていた。
しかしなから、この洗浄処理で留出ガス中の塩化水素を
完全に除去することか困難であった。
完全に除去することか困難であった。
その結果、塩酸回収工程で排ガス処理用のコンデンサー
に連結された真空装置、すなわち、スチームエジェクタ
ーおよびバロメトリックコンデンサ−か腐蝕された。
に連結された真空装置、すなわち、スチームエジェクタ
ーおよびバロメトリックコンデンサ−か腐蝕された。
また、塩化水素を完全に除去していないガスを排出する
こととなり、環境衛生上問題かあった。
こととなり、環境衛生上問題かあった。
本発明の課題は、ビスフェノールＡの製造プロセス中の
塩化水素を回収する工程に設置された真空装置、例えば
スチームニンニクターおよびバロメトリックコンデンサ
−の腐蝕を防止し、ビスフェノールＡの製造プロセスの
安定な操業を可能にし、且つ塩化水素ガスを含まない廃
ガスを排出し環境衛生上の問題を解決する方法を提供す
る二とである。
塩化水素を回収する工程に設置された真空装置、例えば
スチームニンニクターおよびバロメトリックコンデンサ
−の腐蝕を防止し、ビスフェノールＡの製造プロセスの
安定な操業を可能にし、且つ塩化水素ガスを含まない廃
ガスを排出し環境衛生上の問題を解決する方法を提供す
る二とである。
本発明者等は、上記の課題を解決するために鋭意検討し
て本発明に到達した。
て本発明に到達した。
すなわち、本発明は塩化水素を触媒としてフェノールと
アセトンを反応させてビスフェノールＡを製造するプロ
セスにおいて、塩化水素を回収する工程に設置された真
空装置の冷却液として水酸化ナトリウム水溶液を使用す
ることを特徴とするビスフェノールＡ製造プロセスにお
ける真空装置の腐蝕防止方法である。
アセトンを反応させてビスフェノールＡを製造するプロ
セスにおいて、塩化水素を回収する工程に設置された真
空装置の冷却液として水酸化ナトリウム水溶液を使用す
ることを特徴とするビスフェノールＡ製造プロセスにお
ける真空装置の腐蝕防止方法である。
以下、本発明を図面を参照して説明する。
第１図は、本発明の方法を実施するビスフエノルへの廃
ガス処理工程を示す概略図である。
ガス処理工程を示す概略図である。
すなわち、塩化水素を触媒としてフェノールとアセトン
からビスフェノールＡを製造する工業的プロセスの中で
、本発明に関連する工程であり、塩化水素を回収する工
程とその工程内に設置された、例えば、カーホン製熱交
換器ならびにこの交換器を経て流出する塩化水素ガスを
真空装置で吸引処理して、塩化水素ガスを除去したガス
を廃ガスとして排出する工程の概略を示すものである。
からビスフェノールＡを製造する工業的プロセスの中で
、本発明に関連する工程であり、塩化水素を回収する工
程とその工程内に設置された、例えば、カーホン製熱交
換器ならびにこの交換器を経て流出する塩化水素ガスを
真空装置で吸引処理して、塩化水素ガスを除去したガス
を廃ガスとして排出する工程の概略を示すものである。
この図面において、脱塩酸基留出ガスの凝縮液から分離
された塩酸層は、ライン■から塩酸濃縮塔・↓に装入さ
れる。
された塩酸層は、ライン■から塩酸濃縮塔・↓に装入さ
れる。
二の塔からの留出ガスＣは熱交換器■に送られ、凝縮成
分を凝縮除去し熱回収されたガス＠は洗浄塔・■に送ら
れて水または水酸化ナトリウム水溶液で洗浄される。更
にガスは真空装置で吸引されて真空装置内のコンデンサ
ー〇中で水酸化ナトリウム水溶液■により冷却されて排
出される。
分を凝縮除去し熱回収されたガス＠は洗浄塔・■に送ら
れて水または水酸化ナトリウム水溶液で洗浄される。更
にガスは真空装置で吸引されて真空装置内のコンデンサ
ー〇中で水酸化ナトリウム水溶液■により冷却されて排
出される。
本発明の方法では、真空装置で吸引されたガスをコンデ
ンサー・ｓｊ中で冷却するに際し、従来、水を使用して
いたものを、水酸化ナトリウム水溶液に変えて使用する
。
ンサー・ｓｊ中で冷却するに際し、従来、水を使用して
いたものを、水酸化ナトリウム水溶液に変えて使用する
。
本発明の方法を適用できる真空装置は、各種のものか挙
げられる。例えは、単段または多段のスチームエジェク
タ、水封式真空ポンプとスチームエジェクター、水ニン
ニクターとスチームエジェクターとて稼働する真空ポン
プまたはスチームエジェクターとバロメトリックコンデ
ンサ−と組み合わされた真空装置等が挙げられる。
げられる。例えは、単段または多段のスチームエジェク
タ、水封式真空ポンプとスチームエジェクター、水ニン
ニクターとスチームエジェクターとて稼働する真空ポン
プまたはスチームエジェクターとバロメトリックコンデ
ンサ−と組み合わされた真空装置等が挙げられる。
本発明の方法によれば、真空装置の腐蝕か防止され、ま
た、ガス中に含有されるフェノールか水酸化ナトリウム
水溶液に溶解し、フェノールの結晶析出による不都合も
発生しない。
た、ガス中に含有されるフェノールか水酸化ナトリウム
水溶液に溶解し、フェノールの結晶析出による不都合も
発生しない。
更に、本発明の効果を次の例により説明する。
実施例
第１図のビスフェノールＡの製造プロセスて排ガスを処
理した。第１図に示す各ラインの流量および成分は表１
に示す通りてあった。
理した。第１図に示す各ラインの流量および成分は表１
に示す通りてあった。
すなわち、ライン１１に水酸化ナトリウム水溶液を流し
、ライン７の塩化水素を含有するガスを洗浄し、ライン
１２て塩化水素を全く含有しないガス■ ・・・・コン
デンサー ■ ・・・・洗浄塔 ■ ・・・・スチームエノエクター ■ °・・・ハロメトリックコンデンサー■ ・・・・
水酸化ナトリウム水溶液供給ライン また、１〜１２は実施の例を説明するための流体ライン
を示す。
、ライン７の塩化水素を含有するガスを洗浄し、ライン
１２て塩化水素を全く含有しないガス■ ・・・・コン
デンサー ■ ・・・・洗浄塔 ■ ・・・・スチームエノエクター ■ °・・・ハロメトリックコンデンサー■ ・・・・
水酸化ナトリウム水溶液供給ライン また、１〜１２は実施の例を説明するための流体ライン
を示す。
Claims (1)
- １）塩化水素を触媒としてフェノールとアセトンとを反
応させてビスフェノールＡを製造するプロセスにおいて
、塩化水素を回収する工程に設置された真空装置の冷却
液として、水酸化ナトリウム水溶液を使用することを特
徴とするビスフェノールＡ製造プロセス中の真空装置の
腐蝕防止方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2141277A JPH089562B2 (ja) | 1990-06-01 | 1990-06-01 | ビスフェノールａ製造プロセス中の真空装置の腐蝕防止方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2141277A JPH089562B2 (ja) | 1990-06-01 | 1990-06-01 | ビスフェノールａ製造プロセス中の真空装置の腐蝕防止方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0436255A true JPH0436255A (ja) | 1992-02-06 |
| JPH089562B2 JPH089562B2 (ja) | 1996-01-31 |
Family
ID=15288152
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2141277A Expired - Fee Related JPH089562B2 (ja) | 1990-06-01 | 1990-06-01 | ビスフェノールａ製造プロセス中の真空装置の腐蝕防止方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH089562B2 (ja) |
-
1990
- 1990-06-01 JP JP2141277A patent/JPH089562B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH089562B2 (ja) | 1996-01-31 |
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