JPH04363109A - 塩素ガスの濃縮方法 - Google Patents
塩素ガスの濃縮方法Info
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- JPH04363109A JPH04363109A JP3138749A JP13874991A JPH04363109A JP H04363109 A JPH04363109 A JP H04363109A JP 3138749 A JP3138749 A JP 3138749A JP 13874991 A JP13874991 A JP 13874991A JP H04363109 A JPH04363109 A JP H04363109A
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- gas
- adsorbent
- adsorption
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- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は圧力スイング吸着法を利
用する塩素の濃縮方法に関するものである。
用する塩素の濃縮方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】塩素は非常に重要な工業中間原料で多く
の化学産業で使用されており、各所に塩素の分離のため
の設備が存在する。
の化学産業で使用されており、各所に塩素の分離のため
の設備が存在する。
【0003】従来、塩素を含む混合ガスより塩素を分離
する方法としては、ガスを加圧・冷却して液体塩素とし
ガスより分離する方法や、塩素系有機溶剤に塩素を吸収
させた溶剤をストリッピングすることにより塩素を分離
する方法が知られている。しかし、前者の方法は高圧の
ガスを取り扱うので、高価で保守管理の面倒なガス圧縮
機や冷凍設備などが必要となり、特に塩素濃度の比較的
低いガスより塩素を分離する場合には、非常な高圧また
は極低温による操作となり設備費が増大する。また後者
の方法は、通常溶剤として四塩化炭素を使用するが、昨
今のフロンガスによる環境問題により四塩化炭素の使用
が禁止される方向にあり将来でも有効な方法とは言えな
くなった。
する方法としては、ガスを加圧・冷却して液体塩素とし
ガスより分離する方法や、塩素系有機溶剤に塩素を吸収
させた溶剤をストリッピングすることにより塩素を分離
する方法が知られている。しかし、前者の方法は高圧の
ガスを取り扱うので、高価で保守管理の面倒なガス圧縮
機や冷凍設備などが必要となり、特に塩素濃度の比較的
低いガスより塩素を分離する場合には、非常な高圧また
は極低温による操作となり設備費が増大する。また後者
の方法は、通常溶剤として四塩化炭素を使用するが、昨
今のフロンガスによる環境問題により四塩化炭素の使用
が禁止される方向にあり将来でも有効な方法とは言えな
くなった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】塩素を含む混合ガスよ
り塩素を分離する方法の一つに圧力スイング吸着法があ
る。この分離法に用いられる吸着剤にはゼオライト、非
ゼオライト系多孔質酸性酸化物、活性炭および分子ふる
いカーボンがあるが、現状では塩素選択性が不十分であ
るため高濃度の塩素が得られない。本発明は圧力スイン
グ吸着法に使用される吸着剤の改良を行ない、塩素を含
む混合ガスより塩素をより選択的に分離し濃縮すること
にある。
り塩素を分離する方法の一つに圧力スイング吸着法があ
る。この分離法に用いられる吸着剤にはゼオライト、非
ゼオライト系多孔質酸性酸化物、活性炭および分子ふる
いカーボンがあるが、現状では塩素選択性が不十分であ
るため高濃度の塩素が得られない。本発明は圧力スイン
グ吸着法に使用される吸着剤の改良を行ない、塩素を含
む混合ガスより塩素をより選択的に分離し濃縮すること
にある。
【0005】
【課題を解決するための手段】塩素ガスを分離する方法
として用いられる手段の一つに圧力スイング吸着法があ
る。この分離法に用いられる吸着剤にはゼオライト、非
ゼオライト系多孔質酸性酸化物、活性炭および分子ふる
いカーボンがあるが、現状では塩素選択性の点に問題が
ある。そこで本発明者らは、圧力スイング吸着法に使用
される吸着剤を改良することにより、より選択的に塩素
を分離し濃縮することができないかという点について鋭
意検討し、アルカリ金属および/又はアルカリ土類金属
を吸着剤に含有させることにより、塩素をより選択的に
分離することが可能であることを見出し、本発明に至っ
た。
として用いられる手段の一つに圧力スイング吸着法があ
る。この分離法に用いられる吸着剤にはゼオライト、非
ゼオライト系多孔質酸性酸化物、活性炭および分子ふる
いカーボンがあるが、現状では塩素選択性の点に問題が
ある。そこで本発明者らは、圧力スイング吸着法に使用
される吸着剤を改良することにより、より選択的に塩素
を分離し濃縮することができないかという点について鋭
意検討し、アルカリ金属および/又はアルカリ土類金属
を吸着剤に含有させることにより、塩素をより選択的に
分離することが可能であることを見出し、本発明に至っ
た。
【0006】本発明の方法が適用される塩素を含む混合
ガスには、塩素以外のガスとしては酸素・窒素・二酸化
炭素・一酸化炭素・水素・アルゴン・メタンなどの炭化
水素等が存在してよいが、圧力スイング吸着法でこれら
を含むガスから塩素を分離するには、これらのガスと吸
着剤との吸着親和力が塩素に対する場合より充分に差が
あるものを選択する必要がある。そこで本発明に使用す
る塩素の吸着剤としては、合成および天然ゼオライト、
非ゼオライト系多孔質酸性酸化物や活性炭および分子ふ
るいカーボンのような炭素質吸着剤が選択される。
ガスには、塩素以外のガスとしては酸素・窒素・二酸化
炭素・一酸化炭素・水素・アルゴン・メタンなどの炭化
水素等が存在してよいが、圧力スイング吸着法でこれら
を含むガスから塩素を分離するには、これらのガスと吸
着剤との吸着親和力が塩素に対する場合より充分に差が
あるものを選択する必要がある。そこで本発明に使用す
る塩素の吸着剤としては、合成および天然ゼオライト、
非ゼオライト系多孔質酸性酸化物や活性炭および分子ふ
るいカーボンのような炭素質吸着剤が選択される。
【0007】たとえばゼオライトとしては、A型、X型
、Y型、L型、ZSM型、天然モルデナイトなどが挙げ
られるが、好ましくはX型、Y型、L型、ZSM型であ
り、特に好ましくは高ケイ素含有のゼオライトである。 非ゼオライト系多孔質酸性酸化物としてはアルミナ、シ
リカ、シリカアルミナ、チタニア、マグネシア等が挙げ
られる。活性炭としては果実殻活性炭が好ましい。
、Y型、L型、ZSM型、天然モルデナイトなどが挙げ
られるが、好ましくはX型、Y型、L型、ZSM型であ
り、特に好ましくは高ケイ素含有のゼオライトである。 非ゼオライト系多孔質酸性酸化物としてはアルミナ、シ
リカ、シリカアルミナ、チタニア、マグネシア等が挙げ
られる。活性炭としては果実殻活性炭が好ましい。
【0008】本発明の方法は、これらの吸着剤にアルカ
リ金属イオン、アルカリ土類金属イオンを含有させたも
のを使用することを特徴とする。これらイオンの吸着剤
への含有方法は通常の方法、すなわち導入する金属イオ
ンの塩類の水溶液と吸着剤とを接触させ、次いて固液分
離、洗浄、付着水除去(乾燥)を行なう。本来、イオン
を含有させていない上記の吸着剤に対しても塩素は前出
のガスに比較しより強い親和力を有するが、イオンを含
有させた上記吸着剤は塩素に対する親和力がさらに向上
する性能を有する。
リ金属イオン、アルカリ土類金属イオンを含有させたも
のを使用することを特徴とする。これらイオンの吸着剤
への含有方法は通常の方法、すなわち導入する金属イオ
ンの塩類の水溶液と吸着剤とを接触させ、次いて固液分
離、洗浄、付着水除去(乾燥)を行なう。本来、イオン
を含有させていない上記の吸着剤に対しても塩素は前出
のガスに比較しより強い親和力を有するが、イオンを含
有させた上記吸着剤は塩素に対する親和力がさらに向上
する性能を有する。
【0009】これらのイオン含有吸着剤に対しては、塩
素は前記の各ガスに比較しより強い親和力を有している
ので、これらの吸着剤を充填した吸着塔に塩素を含む混
合ガスを導入すると塩素が他のガスより優先的に吸着さ
れるので、吸着塔のガス出口側では塩素濃度の低いガス
が、時にはほとんど検出されない程度までのガスが得ら
れる。
素は前記の各ガスに比較しより強い親和力を有している
ので、これらの吸着剤を充填した吸着塔に塩素を含む混
合ガスを導入すると塩素が他のガスより優先的に吸着さ
れるので、吸着塔のガス出口側では塩素濃度の低いガス
が、時にはほとんど検出されない程度までのガスが得ら
れる。
【0010】吸着剤に吸着される塩素を含む混合ガスの
塩素濃度には特に制限はないが、通常5〜80%塩素濃
度が適用される。塩素濃度が低い場合には脱着による再
生操作までの吸着時間は長く取ることができる。なおこ
の吸着操作の操作圧力は後の塩素の脱着操作より高い圧
力にする。操作温度は充填するゼオライトの種類、導入
ガスに含まれる塩素以外のガスの種類や経済的な問題で
決定される。たとえばY型ゼオライトを吸着剤として使
用し、同伴ガスに二酸化炭素が混合されている場合には
常温付近でも充分な塩素吸着を行なうことができる。一
方、充填物の劣化防止や設備の材質劣化を防止するため
に原料ガス中の水分は低い方が良く、1000ppm以
下が望ましい。
塩素濃度には特に制限はないが、通常5〜80%塩素濃
度が適用される。塩素濃度が低い場合には脱着による再
生操作までの吸着時間は長く取ることができる。なおこ
の吸着操作の操作圧力は後の塩素の脱着操作より高い圧
力にする。操作温度は充填するゼオライトの種類、導入
ガスに含まれる塩素以外のガスの種類や経済的な問題で
決定される。たとえばY型ゼオライトを吸着剤として使
用し、同伴ガスに二酸化炭素が混合されている場合には
常温付近でも充分な塩素吸着を行なうことができる。一
方、充填物の劣化防止や設備の材質劣化を防止するため
に原料ガス中の水分は低い方が良く、1000ppm以
下が望ましい。
【0011】吸着塔への塩素の吸着が進み、飽和状態に
近づいたところで原料としての塩素を含む混合ガスの吸
着塔への供給を停止する。続いて吸着塔の操作圧力を降
下させ、吸着している塩素およびその他のガスを脱着さ
せる。この時の操作圧力は吸着時の圧力以下とし、必要
に応じて真空ポンプにより大気圧以下にすることも有効
である。
近づいたところで原料としての塩素を含む混合ガスの吸
着塔への供給を停止する。続いて吸着塔の操作圧力を降
下させ、吸着している塩素およびその他のガスを脱着さ
せる。この時の操作圧力は吸着時の圧力以下とし、必要
に応じて真空ポンプにより大気圧以下にすることも有効
である。
【0012】また、操作温度は任意であるが、基本的に
は吸着時の温度と同じとする方が経済的である。もちろ
ん、経済的に有効であればいわゆるサーマルスイング方
式を取ることも可能である。更に、脱着操作時に少量の
不活性ガス、好ましくは窒素ガスを通気させることは吸
着剤から塩素ガスの脱着が促進され好ましい態様である
。
は吸着時の温度と同じとする方が経済的である。もちろ
ん、経済的に有効であればいわゆるサーマルスイング方
式を取ることも可能である。更に、脱着操作時に少量の
不活性ガス、好ましくは窒素ガスを通気させることは吸
着剤から塩素ガスの脱着が促進され好ましい態様である
。
【0013】この脱着操作により導入ガスよりも塩素濃
度の高いガスを得ることができるとともに、塩素を吸着
した吸着剤は脱塩素されるので再生することができ、再
び次の吸着操作を繰り返し行なうことができる。
度の高いガスを得ることができるとともに、塩素を吸着
した吸着剤は脱塩素されるので再生することができ、再
び次の吸着操作を繰り返し行なうことができる。
【0014】次に、工業規模におけるより具体的な形で
の実施の状態について説明する。図1にその形態を示す
。
の実施の状態について説明する。図1にその形態を示す
。
【0015】図1では塩素を含む混合原料ガスは、管1
よりガス圧縮機2に送られ、ここで所定圧力まで昇圧さ
れた後、切換弁3を経て、3基の吸着塔4a、4b、4
cの内の第1の吸着塔4aに送り込まれる。3基の吸着
塔4a、4b、4cには各々前出の塩素を優先的に吸着
する吸着剤が充填されており、加圧状態で導入された原
料ガス中の塩素が優先的に吸着され、吸着塔4aの出口
には塩素の含有率の低いガス、時にはほとんど検出でき
ない程度に低い塩素濃度のガス(以下処理済ガスとする
)が得られる。この脱塩素ガスは切換弁5、弁6を経て
ブロア7に送られ排出される(吸着工程)。
よりガス圧縮機2に送られ、ここで所定圧力まで昇圧さ
れた後、切換弁3を経て、3基の吸着塔4a、4b、4
cの内の第1の吸着塔4aに送り込まれる。3基の吸着
塔4a、4b、4cには各々前出の塩素を優先的に吸着
する吸着剤が充填されており、加圧状態で導入された原
料ガス中の塩素が優先的に吸着され、吸着塔4aの出口
には塩素の含有率の低いガス、時にはほとんど検出でき
ない程度に低い塩素濃度のガス(以下処理済ガスとする
)が得られる。この脱塩素ガスは切換弁5、弁6を経て
ブロア7に送られ排出される(吸着工程)。
【0016】この時、第2の吸着塔4bでは、第1の吸
着塔4aから吐出した処理済ガスの一部が流量調節機構
8、切換弁9を経て第2の吸着塔4b内に導入され、こ
の塔内に圧力が処理済ガスによって高められる充圧工程
が実施されており、また第3の吸着塔4cではこの塔内
と真空ポンプ10が切換弁11、12aを経て接続され
、この塔内の吸着剤が減圧状態で再生処理される再生工
程が実施されている。
着塔4aから吐出した処理済ガスの一部が流量調節機構
8、切換弁9を経て第2の吸着塔4b内に導入され、こ
の塔内に圧力が処理済ガスによって高められる充圧工程
が実施されており、また第3の吸着塔4cではこの塔内
と真空ポンプ10が切換弁11、12aを経て接続され
、この塔内の吸着剤が減圧状態で再生処理される再生工
程が実施されている。
【0017】そして、所定量の塩素を吸着して飽和寸前
となった吸着塔4aは、切換弁3の切換えによって原料
ガスの導入が停止されると共に、切換弁13の切換えに
よって塔内が真空ポンプ10で排気されて減圧状態とな
り、吸着剤に吸着された塩素が脱着され、吸着剤が再生
される(再生工程)。この再生工程で製品としての塩素
濃度の高いガスを真空ポンプ10の吐出口から得ること
ができ、この塩素を高濃度に含有したガスは下流の消費
工程に送られる。
となった吸着塔4aは、切換弁3の切換えによって原料
ガスの導入が停止されると共に、切換弁13の切換えに
よって塔内が真空ポンプ10で排気されて減圧状態とな
り、吸着剤に吸着された塩素が脱着され、吸着剤が再生
される(再生工程)。この再生工程で製品としての塩素
濃度の高いガスを真空ポンプ10の吐出口から得ること
ができ、この塩素を高濃度に含有したガスは下流の消費
工程に送られる。
【0018】この時第2の吸着塔4bでは、原料ガスが
切換弁14を経て導入され、この塔の出口から処理済ガ
スが吐出し、切換弁15、弁6を経てブロア7に送られ
、さらに消費工程へ送られる。また第3の吸着塔4cで
は第2の吸着塔4bから吐出される処理済ガスの一部が
流量調節機構8、切換弁16を経て導入され、この塔内
の圧力が処理済ガスによって高められる充圧工程が実施
されている。その後第3の吸着塔4cでは切換弁17を
経て原料ガスが導入され、処理済ガスが切換弁18、弁
6を経てブロア7に送られ、排出される。これと同時に
第1の吸着塔4aでは、第3の吸着塔4cから吐出され
る処理済ガスの一部が流量調節機構8、切換弁19を経
て導入され、この塔内の圧力が処理済ガスによって高め
られる充圧工程が実施されている。
切換弁14を経て導入され、この塔の出口から処理済ガ
スが吐出し、切換弁15、弁6を経てブロア7に送られ
、さらに消費工程へ送られる。また第3の吸着塔4cで
は第2の吸着塔4bから吐出される処理済ガスの一部が
流量調節機構8、切換弁16を経て導入され、この塔内
の圧力が処理済ガスによって高められる充圧工程が実施
されている。その後第3の吸着塔4cでは切換弁17を
経て原料ガスが導入され、処理済ガスが切換弁18、弁
6を経てブロア7に送られ、排出される。これと同時に
第1の吸着塔4aでは、第3の吸着塔4cから吐出され
る処理済ガスの一部が流量調節機構8、切換弁19を経
て導入され、この塔内の圧力が処理済ガスによって高め
られる充圧工程が実施されている。
【0019】この時第2の吸着塔4bでは、切換弁14
の切り換えにより原料ガスの導入が停止されると共に、
切換弁20の切り換えによって塔内が真空ポンプ10で
排気されて減圧状態になり、吸着剤に吸着された塩素が
脱着され、吸着剤が再生される。
の切り換えにより原料ガスの導入が停止されると共に、
切換弁20の切り換えによって塔内が真空ポンプ10で
排気されて減圧状態になり、吸着剤に吸着された塩素が
脱着され、吸着剤が再生される。
【0020】以下同様に、この一連操作を3基の吸着塔
4a、4b,4cについて交互に操り返すことによって
塩素を含む混合原料ガスより塩素を分離し、原料ガス中
の塩素濃度以上の塩素濃度のガスを連続的に得ることが
できる。
4a、4b,4cについて交互に操り返すことによって
塩素を含む混合原料ガスより塩素を分離し、原料ガス中
の塩素濃度以上の塩素濃度のガスを連続的に得ることが
できる。
【0021】
【実施例】次に、実施例により本発明をさらに詳細に説
明する。
明する。
【0022】実施例1
合成Y型ゼオライト(ZEOCHEM製)を塩化カルシ
ウム10%水溶液に2時間接触させ、固液分離、水洗、
乾燥し、Ca交換したY型ゼオライトを得た。次にこの
Y型ゼオライトを200cc/minの窒素気流中に曝
しながら300℃に4時間保持した。次いで窒素気流中
で室温まで冷却した。この吸着剤40gを充填したステ
ンレス製の吸着カラムに25〜30℃にて塩素(15%
)・二酸化炭素(15%)・酸素(70%)の組成のガ
スを5atmの圧力に調節して200ml/minで1
2分間通気した。この間カラムから流出するガスをガス
クロマトグラフ分析を行いガス組成を分析したところ塩
素ガスは100〜300ppm検出された。
ウム10%水溶液に2時間接触させ、固液分離、水洗、
乾燥し、Ca交換したY型ゼオライトを得た。次にこの
Y型ゼオライトを200cc/minの窒素気流中に曝
しながら300℃に4時間保持した。次いで窒素気流中
で室温まで冷却した。この吸着剤40gを充填したステ
ンレス製の吸着カラムに25〜30℃にて塩素(15%
)・二酸化炭素(15%)・酸素(70%)の組成のガ
スを5atmの圧力に調節して200ml/minで1
2分間通気した。この間カラムから流出するガスをガス
クロマトグラフ分析を行いガス組成を分析したところ塩
素ガスは100〜300ppm検出された。
【0023】通気完了後、原料ガスの供給を停止し、真
空ポンプで吸着カラムを60mmHg abs.の圧
力に5分間おき、塩素ガスを脱着させた。脱着したガス
を分析したところ塩素濃度88%であった。この脱着後
の吸着カラムに再び初めと同様の組成のガスを同条件で
通気したところ、やはり12分間は流出するガスの塩素
濃度は100〜300ppmであった。
空ポンプで吸着カラムを60mmHg abs.の圧
力に5分間おき、塩素ガスを脱着させた。脱着したガス
を分析したところ塩素濃度88%であった。この脱着後
の吸着カラムに再び初めと同様の組成のガスを同条件で
通気したところ、やはり12分間は流出するガスの塩素
濃度は100〜300ppmであった。
【0024】実施例2
合成Y型ゼオライト(ZEOCHEM製)を塩化バリウ
ム10%水溶液に2時間接触させ、固液分離、水洗、乾
燥し、Ba交換したY型ゼオライトを得た。次にこのY
型ゼオライトを200cc/minの窒素気流中に曝し
ながら300℃に4時間保持した。次いで窒素気流中で
室温まで冷却した。この吸着剤40gを充填したステン
レス製の吸着カラムに25〜30℃にて塩素(5%)・
二酸化炭素(15%)・ヘリウム(80%)の組成のガ
スを5atmの圧力に調節して25分間通気した。この
間カラムから流出するガスをガスクロマトグラフ分析を
行いガス組成を分析したところ、塩素ガスは100〜3
00ppm検出された。
ム10%水溶液に2時間接触させ、固液分離、水洗、乾
燥し、Ba交換したY型ゼオライトを得た。次にこのY
型ゼオライトを200cc/minの窒素気流中に曝し
ながら300℃に4時間保持した。次いで窒素気流中で
室温まで冷却した。この吸着剤40gを充填したステン
レス製の吸着カラムに25〜30℃にて塩素(5%)・
二酸化炭素(15%)・ヘリウム(80%)の組成のガ
スを5atmの圧力に調節して25分間通気した。この
間カラムから流出するガスをガスクロマトグラフ分析を
行いガス組成を分析したところ、塩素ガスは100〜3
00ppm検出された。
【0025】通気完了後、原料ガスの供給を停止し、真
空ポンプで吸着カラムを60mmHg abs.の圧
力に5分間おき、塩素ガスを脱着させた。脱着したガス
を分析したところ、塩素濃度65%であった。この脱着
後の吸着カラムに再び初めと同様の組成のガスを同条件
で通気したところ、やはり25分間は流出ガスの塩素濃
度は100〜300ppmであった。
空ポンプで吸着カラムを60mmHg abs.の圧
力に5分間おき、塩素ガスを脱着させた。脱着したガス
を分析したところ、塩素濃度65%であった。この脱着
後の吸着カラムに再び初めと同様の組成のガスを同条件
で通気したところ、やはり25分間は流出ガスの塩素濃
度は100〜300ppmであった。
【0026】実施例3
合成Y型ゼオライト(ZEOCHEM製)を塩化リチウ
ム10%水溶液に2時間このY型ゼオライトを200c
c/minの窒素気流中に曝しながら300℃に4時間
保持した。次いで窒素気流中で室温まで冷却した。この
吸着剤40gを充填したステンレス製の吸着カラムに2
5〜30℃にて塩素(15%)・窒素(15%)・ヘリ
ウム(70%)の組成のガスを5atmの圧力に調節し
て200ml/minで12分間通気した。この間カラ
ムから流出するガスをガスクロマトグラフ分析を行いガ
ス組成を分析したところ、塩素ガスは100〜300p
pm検出された。
ム10%水溶液に2時間このY型ゼオライトを200c
c/minの窒素気流中に曝しながら300℃に4時間
保持した。次いで窒素気流中で室温まで冷却した。この
吸着剤40gを充填したステンレス製の吸着カラムに2
5〜30℃にて塩素(15%)・窒素(15%)・ヘリ
ウム(70%)の組成のガスを5atmの圧力に調節し
て200ml/minで12分間通気した。この間カラ
ムから流出するガスをガスクロマトグラフ分析を行いガ
ス組成を分析したところ、塩素ガスは100〜300p
pm検出された。
【0027】通気完了後、原料ガスの供給を停止し、真
空ポンプで吸着カラムを60mmHg abs.の圧
力に5分間おき、更に窒素ガスを7ml/minで3分
間通気し塩素ガスを脱着させた。脱着したガスを分析し
たところ塩素濃度93%であった。この脱着後の吸着カ
ラムに再び初めと同様の組成のガスを同条件で通気した
ところ、やはり12分間は流出するガスの塩素濃度は1
00〜300ppmであった。
空ポンプで吸着カラムを60mmHg abs.の圧
力に5分間おき、更に窒素ガスを7ml/minで3分
間通気し塩素ガスを脱着させた。脱着したガスを分析し
たところ塩素濃度93%であった。この脱着後の吸着カ
ラムに再び初めと同様の組成のガスを同条件で通気した
ところ、やはり12分間は流出するガスの塩素濃度は1
00〜300ppmであった。
【0028】実施例4
合成13X型ゼオライト(富士デビソン製)を塩化カル
シウム10%水溶液に2時間接触させ、固液分離、水洗
、乾燥し、Ca交換した13X型ゼオライトを得た。 次にこの13X型ゼオライトを200cc/minの窒
素気流中に曝しながら300℃に4時間保持した。次い
で窒素気流中で室温まで冷却した。この吸着剤40gを
充填したステンレス製の吸着カラムに60℃にて塩素(
15%)・二酸化炭素(15%)・ヘリウム(70%)
の組成のガスを5atmの圧力に調節して200ml/
minで6分間通気した。この間カラムから流出するガ
スをガスクロマトグラフ分析を行いガス組成を分析した
ところ、塩素ガスは200〜500ppm検出された。
シウム10%水溶液に2時間接触させ、固液分離、水洗
、乾燥し、Ca交換した13X型ゼオライトを得た。 次にこの13X型ゼオライトを200cc/minの窒
素気流中に曝しながら300℃に4時間保持した。次い
で窒素気流中で室温まで冷却した。この吸着剤40gを
充填したステンレス製の吸着カラムに60℃にて塩素(
15%)・二酸化炭素(15%)・ヘリウム(70%)
の組成のガスを5atmの圧力に調節して200ml/
minで6分間通気した。この間カラムから流出するガ
スをガスクロマトグラフ分析を行いガス組成を分析した
ところ、塩素ガスは200〜500ppm検出された。
【0029】通気完了後、原料ガスの供給を停止し、真
空ポンプで吸着カラムを60mmHgabs.の圧力に
5分間おき、塩素ガスを脱着させた。脱着したガスを分
析したところ塩素濃度82%であった。この吸着後の吸
着カラムに再び初めと同様の組成のガスを同条件で通気
したところ、やはり6分間は流出するガスの塩素濃度は
200〜500ppmであった。
空ポンプで吸着カラムを60mmHgabs.の圧力に
5分間おき、塩素ガスを脱着させた。脱着したガスを分
析したところ塩素濃度82%であった。この吸着後の吸
着カラムに再び初めと同様の組成のガスを同条件で通気
したところ、やはり6分間は流出するガスの塩素濃度は
200〜500ppmであった。
【0030】実施例5
ガス吸着用活性炭PCB(東洋カルゴン製)を塩化カル
シウム10%水溶液に2時間接触させ、固液分離、水洗
、乾燥し、Caを含有した活性炭PCBを得た。次にこ
のPCBを200cc/minの窒素気流中に曝しなが
ら150℃に2時間保持した。次いで窒素気流中で室温
まで冷却した。この吸着剤30gを充填したステンレス
製の吸着カラムに60℃にて塩素(15%)・二酸化炭
素(15%)・ヘリウム(70%)の組成のガスを5a
tmの圧力に調節して200ml/minで6分間通気
した。この間カラムから流出するガスをガスクロマトグ
ラフ分析を行いガス組成を分析したところ、塩素ガスは
300〜800ppm検出された。
シウム10%水溶液に2時間接触させ、固液分離、水洗
、乾燥し、Caを含有した活性炭PCBを得た。次にこ
のPCBを200cc/minの窒素気流中に曝しなが
ら150℃に2時間保持した。次いで窒素気流中で室温
まで冷却した。この吸着剤30gを充填したステンレス
製の吸着カラムに60℃にて塩素(15%)・二酸化炭
素(15%)・ヘリウム(70%)の組成のガスを5a
tmの圧力に調節して200ml/minで6分間通気
した。この間カラムから流出するガスをガスクロマトグ
ラフ分析を行いガス組成を分析したところ、塩素ガスは
300〜800ppm検出された。
【0031】通気完了後、原料ガスの供給を停止し、真
空ポンプで吸着カラムを60mmHg abs.の圧
力に5分間おき、塩素ガスを脱着させた。脱着したガス
を分析したところ、塩素濃度82%であった。この脱着
後の吸着カラムに再び初めと同様の組成のガスを同条件
で通気したところ、やはり6分間は流出するガスの塩素
濃度は300〜800ppmであった。
空ポンプで吸着カラムを60mmHg abs.の圧
力に5分間おき、塩素ガスを脱着させた。脱着したガス
を分析したところ、塩素濃度82%であった。この脱着
後の吸着カラムに再び初めと同様の組成のガスを同条件
で通気したところ、やはり6分間は流出するガスの塩素
濃度は300〜800ppmであった。
【0032】実施例6
分子ふるいカーボンMSC(武田薬品製)を塩化カルシ
ウム10%水溶液に2時間接触させ、固液分離、水洗、
乾燥し、Caを含有した分子ふるいカーボンMSCを得
た。次にこのMSCを200cc/minの窒素気流中
に曝しながら150℃に2時間保持した。次いで窒素気
流中で室温まで冷却した。この吸着剤を充填したステン
レス製の吸着カラムに60℃にて塩素(15%)・二酸
化炭素(15%)・ヘリウム(70%)の組成のガスを
5atmの圧力に調節して200ml/minで6分間
通気した。この間カラムから流出するガスをガスクロマ
トグラフ分析を行いガス組成を分析したところ塩素ガス
は200〜500ppm検出された。
ウム10%水溶液に2時間接触させ、固液分離、水洗、
乾燥し、Caを含有した分子ふるいカーボンMSCを得
た。次にこのMSCを200cc/minの窒素気流中
に曝しながら150℃に2時間保持した。次いで窒素気
流中で室温まで冷却した。この吸着剤を充填したステン
レス製の吸着カラムに60℃にて塩素(15%)・二酸
化炭素(15%)・ヘリウム(70%)の組成のガスを
5atmの圧力に調節して200ml/minで6分間
通気した。この間カラムから流出するガスをガスクロマ
トグラフ分析を行いガス組成を分析したところ塩素ガス
は200〜500ppm検出された。
【0033】通気完了後、原料ガスの供給を停止し、真
空ポンプで吸着カラムを60mmHg abs.の圧
力に5分間おき、塩素ガスを脱着させた。脱着したガス
を分析したところ、塩素濃度89%であった。この脱着
後の吸着カラムに再び初めと同様の組成のガスを同条件
で通気したところ、やはり6分間は流出するガスの塩素
濃度は200〜500ppmだった。
空ポンプで吸着カラムを60mmHg abs.の圧
力に5分間おき、塩素ガスを脱着させた。脱着したガス
を分析したところ、塩素濃度89%であった。この脱着
後の吸着カラムに再び初めと同様の組成のガスを同条件
で通気したところ、やはり6分間は流出するガスの塩素
濃度は200〜500ppmだった。
【0034】比較例1
合成Y型ゼオライト(ZEOCHEM製)40gを充填
したステンレス製の吸着カラムに25〜30℃にて塩素
(15%)・二酸化炭素(15%)・酸素(70%)の
組成のガスを5atmの圧力に調節して200ml/m
inで12分間通気した。この間カラムから流出するガ
スをガスクロマトグラフ分析を行いガス組成を分析した
ところ塩素ガスは100〜300ppm検出された。
したステンレス製の吸着カラムに25〜30℃にて塩素
(15%)・二酸化炭素(15%)・酸素(70%)の
組成のガスを5atmの圧力に調節して200ml/m
inで12分間通気した。この間カラムから流出するガ
スをガスクロマトグラフ分析を行いガス組成を分析した
ところ塩素ガスは100〜300ppm検出された。
【0035】通気完了後、原料ガスの供給を停止し、真
空ポンプで吸着カラムを60mmHg abs.の圧
力に5分間おき、塩素ガスを脱着させた。脱着したガス
を分析したところ塩素濃度78%であった。この脱着後
の吸着カラムに再び初めと同様の組成のガスを同条件で
通気したところ、やはり12分間は流出するガスの塩素
濃度は100〜300ppmであった。
空ポンプで吸着カラムを60mmHg abs.の圧
力に5分間おき、塩素ガスを脱着させた。脱着したガス
を分析したところ塩素濃度78%であった。この脱着後
の吸着カラムに再び初めと同様の組成のガスを同条件で
通気したところ、やはり12分間は流出するガスの塩素
濃度は100〜300ppmであった。
【0036】
【発明の効果】本発明は圧力スイング吸着法に用いられ
る吸着剤にアルカリ金属および/又はアルカリ土類金属
を含有させることにより改良し、塩素を含む混合ガスか
ら塩素をより選択的に分離する方法を提供するもので、
塩素濃度の向上策として非常に有効である。
る吸着剤にアルカリ金属および/又はアルカリ土類金属
を含有させることにより改良し、塩素を含む混合ガスか
ら塩素をより選択的に分離する方法を提供するもので、
塩素濃度の向上策として非常に有効である。
【0037】本発明は塩素を利用する設備において付属
設備として実施される。
設備として実施される。
【図1】本発明を特に連続的に行うために複数の吸着塔
を用いる設備の模式図である。
を用いる設備の模式図である。
1. 原料ガス供給管
2. 圧縮機
4a.4b.4c. 吸着塔
6. 弁
7. ブロア
8. 流量調節機構
10. 真空ポンプ
3,5,9,11,12a,12b,13〜20 切
換弁
換弁
Claims (4)
- 【請求項1】 塩素を吸着しうる吸着剤を充填した吸
着塔に、塩素を含む混合ガスを導入して塩素を吸着させ
、その後塩素を含む混合ガスの導入を停止し、ガス導入
時よりも低い圧力下で脱着を行い、導入ガスの塩素濃度
より高い塩素ガスを得るとともに吸着剤を再生する方法
において、塩素を吸着しうる吸着剤がアルカリ金属およ
び/又はアルカリ土類金属を含有したゼオライトである
塩素ガスの濃縮方法。 - 【請求項2】 塩素を吸着しうる吸着剤がアルカリ金
属および/又はアルカリ土類金属を含有した非ゼオライ
ト系多孔質酸性酸化物である請求項1記載の方法。 - 【請求項3】 塩素を吸着しうる吸着剤がアルカリ金
属および/又はアルカリ土類金属を含有した活性炭であ
る請求項1記載の方法。 - 【請求項4】 活性炭が分子ふるいカーボンである請
求3記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03138749A JP3080687B2 (ja) | 1991-06-11 | 1991-06-11 | 塩素ガスの濃縮方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03138749A JP3080687B2 (ja) | 1991-06-11 | 1991-06-11 | 塩素ガスの濃縮方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04363109A true JPH04363109A (ja) | 1992-12-16 |
| JP3080687B2 JP3080687B2 (ja) | 2000-08-28 |
Family
ID=15229286
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03138749A Expired - Lifetime JP3080687B2 (ja) | 1991-06-11 | 1991-06-11 | 塩素ガスの濃縮方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3080687B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5536302A (en) * | 1994-03-23 | 1996-07-16 | Air Products And Chemicals, Inc. | Adsorbent for removal of trace oxygen from inert gases |
| WO2014002482A1 (ja) | 2012-06-25 | 2014-01-03 | パナソニック株式会社 | 二酸化炭素吸着材 |
| KR20180094317A (ko) | 2017-02-15 | 2018-08-23 | 한국원자력연구원 | 흡착제를 이용한 순환식 염폐기물 재활용 시스템 및 방법 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3029575A (en) | 1958-11-03 | 1962-04-17 | Exxon Research Engineering Co | Chlorine separation process |
-
1991
- 1991-06-11 JP JP03138749A patent/JP3080687B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5536302A (en) * | 1994-03-23 | 1996-07-16 | Air Products And Chemicals, Inc. | Adsorbent for removal of trace oxygen from inert gases |
| WO2014002482A1 (ja) | 2012-06-25 | 2014-01-03 | パナソニック株式会社 | 二酸化炭素吸着材 |
| US9555391B2 (en) | 2012-06-25 | 2017-01-31 | Panasonic Corporation | Carbon dioxide adsorbent |
| KR20180094317A (ko) | 2017-02-15 | 2018-08-23 | 한국원자력연구원 | 흡착제를 이용한 순환식 염폐기물 재활용 시스템 및 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3080687B2 (ja) | 2000-08-28 |
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