JPH04365552A - Correcting device for lapping surface plate and carrier for correction - Google Patents
Correcting device for lapping surface plate and carrier for correctionInfo
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- JPH04365552A JPH04365552A JP3138150A JP13815091A JPH04365552A JP H04365552 A JPH04365552 A JP H04365552A JP 3138150 A JP3138150 A JP 3138150A JP 13815091 A JP13815091 A JP 13815091A JP H04365552 A JPH04365552 A JP H04365552A
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- Japan
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- surface plate
- polishing
- lapping
- carrier
- correction
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- Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【0001】0001
【産業上の利用分野】本発明は、例えばウエハなどの被
研磨物を研磨するためのラップ定盤の研磨面を修正する
ための修正装置および修正用キャリアに関するものであ
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a modification device and a modification carrier for modifying the polishing surface of a lapping surface plate for polishing an object to be polished, such as a wafer.
【0002】0002
【従来の技術】従来、ウエハなどの被研磨物を研磨する
ためのラップ定盤の研磨面が局部的に摩耗した場合、そ
の研磨面を均一に修正するために、図7および図8に示
すような修正用キャリア31および32が使用されてい
た。2. Description of the Related Art Conventionally, when the polishing surface of a lapping surface plate for polishing an object to be polished such as a wafer is locally worn out, a method shown in FIGS. 7 and 8 is used to correct the polishing surface uniformly. Such correction carriers 31 and 32 were used.
【0003】すなわち、これらの修正用キャリア31,
32は、ラップ定盤33の研磨面33aの幅よりも外径
が大きくされるとともに、その中央部に研磨面33aの
幅よりも狭い径の穴部31a,32aが形成されたもの
であり、この修正用キャリア31,32を研磨させるこ
とにより、ラップ定盤33自身の研磨面33aを研磨す
るものである。That is, these correction carriers 31,
32 has an outer diameter larger than the width of the polishing surface 33a of the lapping surface plate 33, and holes 31a and 32a having a diameter narrower than the width of the polishing surface 33a are formed in the center thereof, By polishing the correction carriers 31 and 32, the polishing surface 33a of the lapping surface plate 33 itself is polished.
【0004】0004
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来の修
正用キャリア31,32によると、その中央部に形成さ
れる穴部31a,32aがラップ定盤33の幅よりも狭
いため、ラップ定盤33の研磨面33aが、図9に示す
ように、うねりを持った面として修正されてしまうとい
う問題があった。なお、図9において、bはラップ定盤
33の回転軸心を示している。However, according to the conventional correction carriers 31 and 32, since the holes 31a and 32a formed in the center thereof are narrower than the width of the lap surface plate 33, the width of the lap surface plate 33 is There was a problem in that the polished surface 33a of No. 33 was corrected as a surface with undulations, as shown in FIG. In addition, in FIG. 9, b indicates the rotation axis of the lap surface plate 33.
【0005】そこで、本発明は上記問題を解消し得るラ
ップ定盤の修正装置および修正用キャリアを提供するこ
とを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a lapping surface plate repairing device and a repair carrier capable of solving the above-mentioned problems.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
、本発明のラップ定盤の修正装置は、被研磨物をラップ
研磨により研磨するラップ定盤の研磨面を修正する修正
装置であって、複数個のワーク挿入用穴部が形成された
キャリアと、修正すべきラップ定盤の研磨面の凸状部に
対応する箇所の上記ワーク挿入用穴部に挿入される擬似
ワークとから構成したものである。[Means for Solving the Problems] In order to solve the above-mentioned problems, the lapping surface plate repairing device of the present invention is a repairing device for modifying the polishing surface of a lapping surface plate that polishes an object by lapping. , consisting of a carrier in which a plurality of workpiece insertion holes are formed, and a pseudo workpiece that is inserted into the workpiece insertion hole at a location corresponding to the convex part of the polishing surface of the lapping surface plate to be corrected. It is something.
【0007】また、上記課題を解決するため、本発明の
ラップ定盤の修正用キャリアは、被研磨物をラップ研磨
により研磨するラップ定盤の研磨面を修正するための修
正用キャリアであって、キャリア自体の外径をラップ定
盤の研磨面の幅よりも広くするとともに、その中央部に
ラップ定盤の研磨面の幅よりも広い径を有する穴部を形
成したものである。Further, in order to solve the above-mentioned problems, a carrier for repairing a lapping surface plate according to the present invention is a carrier for repairing a polishing surface of a lapping surface plate for polishing an object to be polished by lapping. The outer diameter of the carrier itself is made wider than the width of the polishing surface of the lapping surface plate, and a hole portion having a diameter wider than the width of the polishing surface of the lapping surface plate is formed in the center thereof.
【0008】[0008]
【作用】上記ラップ定盤の修正装置の構成によると、修
正すべき研磨面の形状に応じて、すなわち凸状部に応じ
て、擬似ワークをキャリアに挿入して研磨を行わせるた
め、ラップ定盤の研磨面をうねりのない均一なフラット
状態にすることができる。[Operation] According to the configuration of the above-mentioned lapping surface plate correction device, the lapping is fixed because the pseudo workpiece is inserted into the carrier and polished according to the shape of the polished surface to be corrected, that is, according to the convex part. The polished surface of the disc can be made uniform and flat without waviness.
【0009】また、上記ラップ定盤の修正用キャリアの
構成によると、ラップ定盤の研磨面を研磨する修正用キ
ャリアに、研磨面の幅よりも広い径を有する穴部を形成
したので、この修正用キャリアを使用して研磨を行うこ
とにより、研磨面がうねることなく、均一なフラット状
態に研磨することができる。Furthermore, according to the configuration of the carrier for repairing the lapping surface plate, the hole portion having a diameter wider than the width of the polishing surface is formed in the carrier for polishing the polishing surface of the lapping surface plate. By performing polishing using a correction carrier, the polishing surface can be polished to a uniform flat state without waviness.
【0010】0010
【実施例】以下、本発明の第1の実施例におけるラップ
定盤の修正装置を図1〜図4に基づき説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A lapping surface plate correction apparatus according to a first embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 to 4.
【0011】この修正装置は、図1および図2に示すよ
うに、被研磨物をラップ研磨により研磨するラップ定盤
の研磨面を修正する修正装置であって、複数個例えば1
9個のワーク挿入用穴部1aが全体に亘って一様に分布
形成された円板状のキャリア1と、修正すべきラップ定
盤の研磨面の凸状部に対応する箇所の上記ワーク挿入用
穴部1aに挿入される鋳鉄製でかつ円板状の擬似ワーク
2とから構成されている。As shown in FIGS. 1 and 2, this modification device is a modification device for modifying the polishing surface of a lapping surface plate for polishing a workpiece by lapping polishing.
A disc-shaped carrier 1 in which nine workpiece insertion holes 1a are uniformly distributed throughout, and the workpiece is inserted at a location corresponding to the convex portion of the polishing surface of the lapping surface plate to be corrected. It consists of a disc-shaped pseudo workpiece 2 made of cast iron that is inserted into a hole 1a.
【0012】そして、ラップ定盤を修正のために研磨す
る場合、例えば図3(a)に示すように、ラップ定盤3
の研磨面3aの中央部が凹み、すなわち内周部と外周部
とが凸状部3bになっている場合には、図3(b)に示
すように、上記キャリア1のワーク挿入用穴部1aの内
、その凸状部3bに対応するワーク挿入用穴部1a、す
なわち周縁部の12個のワーク挿入用穴部1aに上記擬
似ワーク2が挿入されて研磨が行われる。When polishing the lapping surface plate for correction, for example, as shown in FIG. 3(a), the lapping surface plate 3
When the central part of the polishing surface 3a is concave, that is, the inner and outer circumferential parts are convex parts 3b, as shown in FIG. 3(b), the workpiece insertion hole of the carrier 1 The pseudo workpieces 2 are inserted into the workpiece insertion holes 1a corresponding to the convex portions 3b of the workpieces 1a, that is, the 12 workpiece insertion holes 1a on the peripheral edge, and polishing is performed.
【0013】また、図4(a)に示すように、ラップ定
盤3の研磨面3aの内周部および外周部が凹み、すなわ
ち中央部が凸状部3cになっている場合には、図4(b
)に示すように、上記ワーク挿入用穴部1aの内、この
凸状部3cに対応する箇所のワーク挿入用穴部1aに、
すなわち中央部のワーク挿入用穴部1a内に多くの擬似
ワーク2を挿入し、周縁部のワーク挿入用穴部1a内に
は適当間隔置きに擬似ワーク2を挿入して研磨が行われ
る。Further, as shown in FIG. 4(a), when the inner and outer peripheral portions of the polishing surface 3a of the lapping surface plate 3 are concave, that is, the central portion is a convex portion 3c, as shown in FIG. 4(b
), in the workpiece insertion hole 1a of the workpiece insertion hole 1a at a location corresponding to the convex portion 3c,
That is, polishing is performed by inserting many pseudo-workpieces 2 into the workpiece insertion holes 1a at the center and inserting the pseudo-workpieces 2 at appropriate intervals into the workpiece insertion holes 1a at the periphery.
【0014】このように、修正すべきラップ定盤の研磨
面の形状に応じて、すなわち凸状部に応じて、擬似ワー
クをキャリアに挿入して研磨を行わせるようにしたので
、ラップ定盤の研磨面をうねりのない均一なフラット状
態にすることができ、しかも凸状部に対応する箇所だけ
研磨するため、例えば研磨面全体を研磨する場合よりも
短時間に修正作業を行うことができる。In this way, the pseudo workpiece is inserted into the carrier and polished according to the shape of the polishing surface of the lapping surface plate to be corrected, that is, according to the convex portion, so that the lapping surface plate can be polished. It is possible to make the polished surface uniform and flat without waviness, and since only the areas corresponding to the convex parts are polished, correction work can be done in a shorter time than when polishing the entire polished surface, for example. .
【0015】次に、本発明の第2の実施例におけるラッ
プ定盤の修正用キャリアを図5および図6に基づき説明
する。この修正用キャリア11は、被研磨物をラップ研
磨により研磨するラップ定盤12の研磨面12aを修正
するための修正用キャリアであって、キャリア11自体
の外径をラップ定盤12の研磨面12aの幅よりも広く
するとともに、その中央部にラップ定盤12の研磨面の
幅よりも広い径を有する穴部11aを形成したものであ
る。Next, a carrier for repairing a lapping surface plate according to a second embodiment of the present invention will be explained based on FIGS. 5 and 6. This correction carrier 11 is a correction carrier for correcting the polishing surface 12a of the lapping surface plate 12 that polishes the workpiece by lapping, and the outer diameter of the carrier 11 itself is adjusted to the polishing surface 12a of the lapping surface plate 12. 12a, and a hole 11a having a diameter wider than the width of the polishing surface of the lapping surface plate 12 is formed in the center thereof.
【0016】したがって、ラップ定盤12を研磨する場
合には、図6に示すように、上下のラップ定盤12間に
、研磨面12aの幅よりも広い穴部11aを有する修正
用キャリア11を挿入して研磨を行えば、従来のように
、研磨面がうねることなく、均一なフラット状態に研磨
される。Therefore, when polishing the lapping surface plate 12, as shown in FIG. When inserted and polished, the polished surface will be polished to a uniform flat state without waviness as in conventional methods.
【0017】また、上記修正用キャリア11の厚みは、
キャリア11自体の外径の1/15以上の厚みにされて
いる。これは、キャリア11自体の剛性を増大させるた
めである。Furthermore, the thickness of the correction carrier 11 is as follows:
The thickness is 1/15 or more of the outer diameter of the carrier 11 itself. This is to increase the rigidity of the carrier 11 itself.
【0018】なお、上記図3,図4および図6において
、aはラップ定盤の回転軸心を示している。Note that in FIGS. 3, 4, and 6, a indicates the rotation axis of the lap surface plate.
【0019】[0019]
【発明の効果】以上のように本発明のラップ定盤の修正
装置の構成によると、修正すべき研磨面の形状に応じて
、すなわち凸状部に応じて、擬似ワークをキャリアに挿
入して研磨を行わせるようにしたので、ラップ定盤の研
磨面をうねりのない均一なフラット状態にすることがで
き、しかも凸状部に対応する箇所だけ研磨するため、例
えば研磨面全体を研磨する場合よりも短時間に修正作業
を行うことができる。[Effects of the Invention] As described above, according to the configuration of the lapping surface plate repairing device of the present invention, the pseudo workpiece is inserted into the carrier according to the shape of the polishing surface to be repaired, that is, according to the convex portion. Since the polishing is performed, the polishing surface of the lapping surface plate can be made uniform and flat without any undulations. Moreover, since only the parts corresponding to the convex parts are polished, for example, when polishing the entire polishing surface Corrections can be made in a shorter time.
【0020】また、本発明のラップ定盤の修正用キャリ
アの構成によると、ラップ定盤の研磨面を研磨する修正
用キャリアに、研磨面の幅よりも広い穴部を形成したの
で、この修正用キャリアを使用して研磨を行うことによ
り、従来のように、研磨面がうねることなく、均一なフ
ラット状態に研磨することができる。Further, according to the structure of the carrier for repairing the lapping surface plate of the present invention, the hole portion wider than the width of the polishing surface is formed in the carrier for polishing the polishing surface of the lapping surface plate, so that this modification can be performed easily. By performing polishing using a carrier, the polishing surface can be polished to a uniform flat state without waviness as in the conventional method.
【図1】本発明の第1の実施例におけるキャリアの平面
図である。FIG. 1 is a plan view of a carrier in a first embodiment of the present invention.
【図2】同第1の実施例における擬似ワークの側面図で
ある。FIG. 2 is a side view of a pseudo workpiece in the first embodiment.
【図3】同第1の実施例における修正作業を説明するも
ので、(a)はラップ定盤の研磨面の状態を示す要部断
面図、(b)は擬似ワークの挿入する箇所を示すキャリ
アの平面図である。[Fig. 3] This explains the correction work in the first embodiment, in which (a) is a sectional view of the main part showing the state of the polishing surface of the lapping surface plate, and (b) shows the place where the pseudo workpiece is inserted. FIG. 3 is a plan view of the carrier.
【図4】同第1の実施例における修正作業を説明するも
ので、(a)はラップ定盤の研磨面の状態を示す要部断
面図、(b)は擬似ワークの挿入する箇所を示すキャリ
アの平面図である。[Fig. 4] This explains the correction work in the first embodiment, in which (a) is a sectional view of the main part showing the condition of the polishing surface of the lapping surface plate, and (b) shows the place where the pseudo workpiece is inserted. FIG. 3 is a plan view of the carrier.
【図5】本発明の第2の実施例における修正用キャリア
の平面図である。FIG. 5 is a plan view of a correction carrier in a second embodiment of the present invention.
【図6】同第2の実施例における修正作業を示す要部断
面図である。FIG. 6 is a sectional view of a main part showing a correction work in the second embodiment.
【図7】従来例における修正用キャリアの平面図である
。FIG. 7 is a plan view of a correction carrier in a conventional example.
【図8】従来例における修正用キャリアの平面図である
。FIG. 8 is a plan view of a correction carrier in a conventional example.
【図9】従来例における修正作業を行った場合のラップ
定盤の研磨状態を示す要部断面図である。FIG. 9 is a sectional view of a main part showing a polishing state of a lapping surface plate when a correction work is performed in a conventional example.
1 キャリア
1a ワーク挿入用穴部2
擬似ワーク
3 ラップ定盤
3a 研磨面
3b,3c 凸状部
11 修正用キャリア11a
穴部
12 ラップ定盤
12a 研磨面1 Carrier 1a Workpiece insertion hole 2
Pseudo workpiece 3 Lapping surface plate 3a Polishing surfaces 3b, 3c Convex portion 11 Correction carrier 11a
Hole 12 Lap surface plate 12a Polished surface
Claims (2)
プ定盤の研磨面を修正する修正装置であって、複数個の
ワーク挿入用穴部が形成されたキャリアと、修正すべき
ラップ定盤の研磨面の凸状部に対応する箇所の上記ワー
ク挿入用穴部に挿入される擬似ワークとから構成したこ
とを特徴とするラップ定盤の修正装置。1. A correction device for correcting the polishing surface of a lapping surface plate for polishing an object to be polished by lapping, the device comprising: a carrier in which a plurality of workpiece insertion holes are formed; and a lapping surface plate to be corrected. A lapping surface plate repairing device comprising a pseudo workpiece inserted into the workpiece insertion hole at a location corresponding to the convex portion of the polishing surface.
プ定盤の研磨面を修正するための修正用キャリアであっ
て、キャリア自体の外径をラップ定盤の研磨面の幅より
も広くするとともに、その中央部にラップ定盤の研磨面
の幅よりも広い径を有する穴部を形成したことを特徴と
するラップ定盤の修正用キャリア。2. A modification carrier for modifying the polishing surface of a lapping surface plate for polishing a workpiece by lapping, the carrier itself having an outer diameter wider than the width of the polishing surface of the lapping surface plate. A carrier for repairing a lapping surface plate, characterized in that a hole portion having a diameter wider than the width of the polishing surface of the lapping surface plate is formed in the center thereof.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3138150A JPH04365552A (en) | 1991-06-11 | 1991-06-11 | Correcting device for lapping surface plate and carrier for correction |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3138150A JPH04365552A (en) | 1991-06-11 | 1991-06-11 | Correcting device for lapping surface plate and carrier for correction |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04365552A true JPH04365552A (en) | 1992-12-17 |
Family
ID=15215186
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3138150A Pending JPH04365552A (en) | 1991-06-11 | 1991-06-11 | Correcting device for lapping surface plate and carrier for correction |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04365552A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012200817A (en) * | 2011-03-25 | 2012-10-22 | Hoya Corp | Substrate manufacturing method, mask blank manufacturing method, transcription mask manufacturing method, and correction carrier |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS523149A (en) * | 1975-06-25 | 1977-01-11 | Dainichi Nippon Cables Ltd | Oillimpregnated capacitor |
| JPS56165413A (en) * | 1980-05-26 | 1981-12-19 | Toshiba Corp | Thickness slip oscillator |
-
1991
- 1991-06-11 JP JP3138150A patent/JPH04365552A/en active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS523149A (en) * | 1975-06-25 | 1977-01-11 | Dainichi Nippon Cables Ltd | Oillimpregnated capacitor |
| JPS56165413A (en) * | 1980-05-26 | 1981-12-19 | Toshiba Corp | Thickness slip oscillator |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012200817A (en) * | 2011-03-25 | 2012-10-22 | Hoya Corp | Substrate manufacturing method, mask blank manufacturing method, transcription mask manufacturing method, and correction carrier |
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