JPH04366387A - 循環流動層反応装置の操業方法 - Google Patents

循環流動層反応装置の操業方法

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JPH04366387A
JPH04366387A JP13927991A JP13927991A JPH04366387A JP H04366387 A JPH04366387 A JP H04366387A JP 13927991 A JP13927991 A JP 13927991A JP 13927991 A JP13927991 A JP 13927991A JP H04366387 A JPH04366387 A JP H04366387A
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Kazuya Kunitomo
和也 国友
Satoru Suzuki
悟 鈴木
Tetsuaki Yamamoto
山本 哲明
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、粉状鉱石の流動層を形
成し、この流動層に還元ガスを導入して還元する流動層
還元装置の操業方法に関する。
【0002】
【従来の技術】かかる流動層還元装置として、反応槽ラ
イザーへ粉状鉱石を投入し、ライザー下方から還元ガス
を導入して流動層を形成し、その上部からガスとともに
排出された還元後の粉状鉱石をサイクロンによって捕集
したのち、ダウンカマーによって再びライザーに戻す循
環型流動層反応装置があり、溶融還元による銑鉄の製造
に際して粉状鉱石の予備還元装置として使用されている
【0003】この流動層還元装置において、ライザーに
形成された流動層の固気反応を最適条件に維持するため
の方法として、例えば、特開昭62−228883号公
報、特開平1−242726号公報に記載されているよ
うに、流動層の形成状態を、ダウンカマー内の粒子レベ
ルを測定し、ダウンカマーに設けられた複数の排出口か
らダウンカマー内の粒子を排出して調整する方法が開示
されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記方法に
おいては、ダウンカマー内の粒子レベルが急速に上昇し
た場合、ダウンカマー内に設けた排出口の排出能力を大
きくして多量の粒子が一度に排出されるように、製品排
出管の容量を大きく設計しなければならない。
【0005】このように、ダウンカマーでの粉体排出管
の容量を大きくした場合には、循環量に対して極めて少
量の粉体が排出される通常の操業条件において、流動層
調整に対する制御性が悪くなる。
【0006】本発明において解決すべき課題は、上記の
循環流動層反応装置におけるダウンカマー内粒子レベル
の急激な変動に対して、通常の操業条件における制御に
影響を与えることなく対応できるための手段を見出すこ
とにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、ダウンカマー
内の粒子レベルあるいはライザー内粒子滞留量に応じて
前記サイクロン下方からサイクロン内に向けてガスを流
入させることによって、その課題を解決した。
【0008】ガスを流入させるための手段としては、サ
イクロン直下のダウンカマー部に循環量制御用補助ガス
の吹き込みノズルを設け、吹き込み量制御装置によりガ
ス量を制御しながらこのノズルを介して補助ガスを供給
する方法が有効である。このとき、補助ガスは圧力差に
よりダウンカマーからサイクロンへと流入していくよう
にする。
【0009】
【作用】ダウンカマー内粒子レベルが極度に低下すると
、圧力シールが崩壊するため、ライザーからダウンカマ
ーへのガスの多量流入を招く結果、操業不能となる。 一方、ダウンカマー内粒子レベルが極度に上昇すると、
サイクロンが粒子により閉塞される危険が生じるため、
操業不能となる。このようなダウンカマー内粒子レベル
の変化は、一般に、ダウンカマーからの排出量に相当す
る製品抜き出し量とライザーへの循環量との和に対して
、ダウンカマーへの供給量に相当するサイクロン捕集粒
子量がアンバランスとなることにより生じる。従来は、
ダウンカマーからの排出量を変化させることによりダウ
ンカマー内粒子レベルの変動を防止しようとしていたの
に対し、本発明では主にダウンカマーへの粒子供給量、
すなわちサイクロンの捕集粒子量を変化させて対処する
ものである。
【0010】そのために、本発明では、一次サイクロン
の下方からガスを流入させうる機構を設ける。これを用
いて、ダウンカマーへの粒子供給量を減少させる必要が
生じた場合には、装置内圧力より1気圧以上高い圧力を
持つ循環量制御用補助ガスを吹き込み、ダウンカマーへ
と下降してくる粒子を一次サイクロンより下流側へ移送
する。また、サイクロン下方からサイクロン内へガスを
流入させると、サイクロンの捕集効率が低下するため、
循環量制御用補助ガスの吹き込みは、単なるガスによる
粒子の上方輸送以上の効果をもたらす。したがって、ダ
ウンカマー内粒子レベル低下の効果は極めて迅速に発現
し、緊急時の対応性も大幅に改善できる。
【0011】一方、ダウンカマー内粒子レベルが通常の
管理レベルまで戻った時には、ガスの吹き込み量を低減
もしくは停止することにより、ダウンカマーへの粒子供
給量を増加させることができるため、定常状態へは容易
に移行可能である。
【0012】本発明では、このようにダウンカマーへの
粒子供給側でダウンカマー内粒子レベルの制御を行うた
め、ダウンカマーからの粒子排出側における製品抜き出
し量やライザーへの循環量は特段に変化させることなく
、ダウンカマー内粒子レベルの制御が可能となるのであ
る。
【0013】
【実施例】図1は本発明を適用した循環流動層予備還元
装置の概要を示す。
【0014】同図において、この循環流動層予備還元装
置には、側面に設けた原料供給口1と底部に設けた反応
ガス導入口2と製品排出口3とを有するライザー4、及
び同ライザー4の頂部と連通する一次サイクロン5とダ
ウンカマー6とからなる外部粒子循環装置を有し、外部
粒子循環装置はその途中に製品取出し口7を有する連結
管8によってライザー4の下部と連通している。また、
外部粒子循環装置の一次サイクロン5の直下には、循環
量制御用の補助ガス導入装置9が設けられている。
【0015】循環量制御用の補助ガスの供給は、通常は
停止しているが、ダウンカマー6内の粒子表面レベルや
ライザー4内の粒子滞留量が大きく増加し、通常の製品
取出し口7、製品排出口3からの粒子排出のみでは安定
した状態を維持できなくなった場合は、補助ガス導入装
置9を作動させ、二次サイクロン10へと排出される粒
子を増加させる。
【0016】一次サイクロン5に続いて設けられた二次
サイクロン10における捕集粉鉱粒子は、排出管11を
経て設けられたホッパー12に一時滞留したのち、取出
し口13から排出される。
【0017】同図において、通常は製品排出口3および
製品取出し口7からの還元鉱石の排出量を一定に維持し
ておく。この状態の下で、例えば反応ガス導入口2から
導入される還元ガスの流量を増大させると、ライザー4
から排気系へ排出される粉状鉱石量が増大し、一次サイ
クロン5の粉鉱捕集量が急激に増加する。これによって
ダウンカマー6の粒子表面レベルLが増大する。このダ
ウンカマー6には、差圧測定方式によるレベル測定装置
が設けられており、それによる測定値が一定の基準値を
超えたとき、補助ガス導入装置9を作動させて循環量制
御用の補助ガスを吹込む。吹き込まれたガスは圧力差に
より一次サイクロン5の方向に向かって流入する。その
結果、この一次サイクロン5内においては、捕集側が補
助ガス導入によって差圧が減少するため、一次サイクロ
ン5における捕集粉鉱量が減少する。このようにして、
ダウンカマー6中の粒子レベルを急速に低減させること
が可能となる。
【0018】なお、前記レベル測定装置によって、粒子
レベルLが規定レベル以下に達したことが見い出された
ときには、ガス導入装置9からのガス導入を停止する。
【0019】
【発明の効果】本発明によって、以下の効果を奏する。
【0020】(1)ライザーおよびダウンカマー下部か
らの還元鉱石の排出量を一定に維持しつつ、ダウンカマ
ーの粒子レベルやライザー内の粒子滞留量を調整できる
【0021】(2)ライザーおよびダウンカマー下部か
らの還元鉱石の排出量を一定のレベルに安定させること
ができるので、反応層の安定操業が可能である。
【0022】(3)ダウンカマー内の粒子を急速に抜取
ることが可能であり、非常時の対策としてきわめて有効
である。
【0023】(4)ガス導入によってダウンカマーの粒
子レベルやライザー内の粒子滞留量を調整するものであ
って、機械的作動を伴うものではないので、トラブルの
発生が少ない。
【0024】(5)ガス量,粒子径等の変動に伴うサイ
クロン粒子捕集量の変化に対し、迅速に対応できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】  本発明を実施するために使用する循環流動
層予備還元装置の概要を示す。
【符号の説明】
1  原料供給口 2  反応ガス導入口 3  製品排出口 4  ライザー 5  一次サイクロン 6  ダウンカマー 7  製品取出し口 8  連結管 9  補助ガス導入装置 10  二次サイクロン 11  排出管 12  ホッパー 13  取出し口

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  反応流動層からガスとともに排出され
    た粉体をサイクロンで捕集し、この捕集した粉体を再度
    反応流動層へと循環させる循環流動層反応装置の操業に
    おいて、ダウンカマー内の粒子レベルあるいはライザー
    内粒子滞留量に応じて前記サイクロン下方よりサイクロ
    ン内に向けてガスを吹き込む循環流動層反応装置の操業
    方法。
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