JPH04370600A - Semiconductor storage device - Google Patents
Semiconductor storage deviceInfo
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- JPH04370600A JPH04370600A JP3148362A JP14836291A JPH04370600A JP H04370600 A JPH04370600 A JP H04370600A JP 3148362 A JP3148362 A JP 3148362A JP 14836291 A JP14836291 A JP 14836291A JP H04370600 A JPH04370600 A JP H04370600A
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Abstract
Description
【0001】0001
【産業上の利用分野】本発明は、試験用のメモリセルを
内蔵してなる半導体記憶装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device having built-in memory cells for testing.
【0002】0002
【従来の技術】従来の半導体記憶装置は、試験用のメモ
リセルを設けて構成されておらず、このため、その動作
試験は、メモリとして通常に使用されるメモリセルに試
験用のデータを書き込み、この書き込んだ試験用のデー
タが正しく読み出されるか否かをチェックすることによ
って行われていた。2. Description of the Related Art Conventional semiconductor memory devices are not configured with memory cells for testing, and therefore, their operation tests are carried out by writing test data into memory cells that are normally used as memory. This is done by checking whether the written test data can be read out correctly.
【0003】0003
【発明が解決しようとする課題】ここに、半導体記憶装
置の動作試験は、例えば、樹脂封止前に1回、樹脂封止
後に1回行われる。しかしながら、近年、半導体記憶装
置はメモリ容量を大幅に増加させており、この結果、試
験時間が大幅に増加し、試験コストの上昇を招いている
。このため、例えば、樹脂封止後は、少なくともロウア
ドレスバッファ、ロウデコーダ、ワード線及びコラムア
ドレスバッファ、コラムデコーダ、ビット線についての
み、効率的な試験を行うことで試験時間の増加を抑える
ことが必要とされている。Here, the operation test of the semiconductor memory device is performed, for example, once before resin sealing and once after resin sealing. However, in recent years, the memory capacity of semiconductor memory devices has significantly increased, resulting in a significant increase in test time and an increase in test costs. For this reason, for example, after resin sealing, it is possible to suppress the increase in test time by conducting efficient tests on at least the row address buffer, row decoder, word line and column address buffer, column decoder, and bit line. is necessary.
【0004】例えば、OTPROM(One Time
Programable ROM)は、樹脂封止後に
おいては、1回しかデータの書込みができないため、試
験用データを書込んで行う動作試験が不可能とされてい
るが、かかるOTPROMにおいても、その信頼性の向
上のため、少なくともロウアドレスバッファ、ロウデコ
ーダ、ワード線及びコラムアドレスバッファ、コラムデ
コーダ、ビット線の試験を行うことができるようにする
ことが要請されている。For example, OTPROM (One Time
Programmable ROM (Programmable ROM) allows data to be written only once after resin sealing, so it is said that it is impossible to perform an operation test by writing test data. In order to improve the performance, it is required to be able to test at least row address buffers, row decoders, word lines, column address buffers, column decoders, and bit lines.
【0005】本発明は、かかる点に鑑み、ロウアドレス
バッファ、ロウデコーダ、ワード線及びコラムアドレス
バッファ、コラムデコーダ、ビット線の試験を短時間で
行い、試験コストの低減化を図ることができ、また、こ
れを特にOTPROMに適用する場合には、樹脂封止後
においても、ロウアドレスバッファ、ロウデコーダ、ワ
ード線及びコラムアドレスバッファ、コラムデコーダ、
ビット線の試験を行うことができ、信頼性の向上を図る
ことができるようにした半導体記憶装置を提供すること
を目的とする。In view of the above, the present invention enables testing of row address buffers, row decoders, word lines and column address buffers, column decoders, and bit lines in a short time, thereby reducing test costs. In addition, when applying this especially to OTPROM, even after resin sealing, row address buffers, row decoders, word lines and column address buffers, column decoders,
An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device in which bit line testing can be performed and reliability can be improved.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明による半導体記憶
装置は、メモリとして通常に使用される複数のメモリセ
ルを行列状に配置してなる第1のメモリセルアレイ部と
、該第1のメモリセルアレイ部と同数又は少ない数の行
を、前記第1のメモリセルアレイ部とワード線を共通に
して設けられ、かつ、第1の試験用データを記憶する第
2のメモリセルアレイ部と、前記第1のメモリセルアレ
イ部と同数又は少ない数の列を、前記第1のメモリセル
アレイ部とビット線を共通にして設けられ、かつ、第2
の試験用データを記憶する第3のメモリセルアレイ部と
を設けて構成される。[Means for Solving the Problems] A semiconductor memory device according to the present invention includes a first memory cell array section in which a plurality of memory cells commonly used as a memory are arranged in a matrix, and a first memory cell array section. a second memory cell array section that is provided with the same number or fewer rows as the first memory cell array section and that shares a word line with the first memory cell array section and stores the first test data; The second memory cell array is provided with the same number of columns or a smaller number of columns as the memory cell array portion, and has bit lines in common with the first memory cell array portion.
and a third memory cell array section for storing test data.
【0007】[0007]
【作用】本発明によれば、第2のメモリセルアレイ部の
メモリセルの試験用データを読出すことで、ロウアドレ
スバッファ、ロウデコーダ及び全部又は一部のワード線
の試験を行うことができ、また、第3のメモリセルアレ
イ部のメモリセルの試験用データを読出すことで、コラ
ムアドレスバッファ、コラムデコーダ及び全部又は一部
のビット線の試験を行うことができる。According to the present invention, by reading the test data of the memory cells in the second memory cell array section, the row address buffer, row decoder, and all or part of the word lines can be tested. Further, by reading the test data of the memory cells in the third memory cell array section, the column address buffer, column decoder, and all or some of the bit lines can be tested.
【0008】[0008]
【実施例】以下、図1〜図9を参照して、本発明の第1
実施例〜第3実施例につき、本発明をEPROMに適用
した場合を例にして説明する。[Embodiment] Hereinafter, with reference to FIGS. 1 to 9, the first embodiment of the present invention will be described.
Embodiments to Third Embodiments will be explained by taking as an example the case where the present invention is applied to an EPROM.
【0009】第1実施例・・図1〜図7図1は本発明の
第1実施例の要部を示す図であって、図中、WL0〜W
L10はワード線、BL0〜BL10はビット線、1は
第1のメモリセルアレイ部、2は第2のメモリセルアレ
イ部、3は第3のメモリセルアレイ部である。First Embodiment...FIGS. 1 to 7 FIG. 1 is a diagram showing the main parts of the first embodiment of the present invention.
L10 is a word line, BL0 to BL10 are bit lines, 1 is a first memory cell array section, 2 is a second memory cell array section, and 3 is a third memory cell array section.
【0010】ここに、第1のメモリセルアレイ部1はメ
モリとして通常に使用される部分であり、本実施例にお
いては、64個のEPROMセル4が8行×8列に配置
されている。したがって、このメモリセルアレイ部1の
EPROMセル4をアクセスするためには、6ビットか
らなるアドレス信号が必要となる。いま、このアドレス
信号をA5、A4、A3、A2、A1、A0とし、図2
に、10進数で示すように、64個のEPROMセル4
に0〜63のアドレスを付し、アドレス信号A5〜A0
中、A5〜A3をロウアドレス、A2〜A0をコラムア
ドレスと配分する場合には、ワード線WL0〜WL7と
ロウアドレスA5〜A3との関係及びビット線BL0〜
BL7とコラムアドレスA2〜A0との関係は、同じく
図2に2進数で示すようになる。The first memory cell array section 1 is a section normally used as a memory, and in this embodiment, 64 EPROM cells 4 are arranged in 8 rows and 8 columns. Therefore, in order to access the EPROM cell 4 of this memory cell array section 1, an address signal consisting of 6 bits is required. Now, let us assume that these address signals are A5, A4, A3, A2, A1, and A0.
64 EPROM cells 4 as shown in decimal numbers
An address of 0 to 63 is attached to the address signal A5 to A0.
When allocating A5 to A3 as row addresses and A2 to A0 as column addresses, the relationship between word lines WL0 to WL7 and row addresses A5 to A3 and bit lines BL0 to
The relationship between BL7 and column addresses A2 to A0 is also shown in binary numbers in FIG. 2.
【0011】また、図1において、第2のメモリセルア
レイ部2は、ロウアドレスバッファ(図示せず)、ロウ
デコーダ(図示せず)、ワード線WL0〜WL7の試験
に使用するものであり、本実施例においては、試験用の
メモリセルとして、24個のEPROMセル5が8行×
3列に配置されている。そして、同じく図1に示すよう
に、各行のEPROMセル5に各行のアドレス情報、即
ち、対応するワード線WL0〜WL7を選択するための
ロウアドレスA5〜A3の情報が記憶されている。Further, in FIG. 1, the second memory cell array section 2 is used for testing a row address buffer (not shown), a row decoder (not shown), and word lines WL0 to WL7. In the example, 24 EPROM cells 5 are arranged in 8 rows×8 rows as test memory cells.
They are arranged in three rows. As also shown in FIG. 1, address information for each row, that is, information on row addresses A5 to A3 for selecting the corresponding word lines WL0 to WL7, is stored in the EPROM cells 5 of each row.
【0012】また、6、7、8はそれぞれ試験時にビッ
ト線BL8、BL9、BL10を選択するための試験用
ビット線選択手段である。これら試験用ビット線選択手
段6、7、8は同一の回路構成とされており、試験用ビ
ット線選択手段6を代表して示せば、図3にその回路図
を示すように構成されている。図中、9は電源電圧Vc
c、例えば、直流電圧5[V]を供給する電源線、10
は電源電圧Vccよりも高い直流電圧VHH、例えば、
直流電圧7[V]からなる信号(以下、VHH信号とい
う)が入力されるVHH信号入力端子、11はpMOS
、12、13、14はインバータであり、これらインバ
ータ12、13、14において、15、16、17はp
MOS、18、19、20はnMOSである。また、2
1はコラムゲートをなすnMOSである。Further, reference numerals 6, 7, and 8 are test bit line selection means for selecting bit lines BL8, BL9, and BL10, respectively, during testing. These test bit line selection means 6, 7, and 8 have the same circuit configuration, and the test bit line selection means 6 is representatively configured as shown in FIG. 3. . In the figure, 9 is the power supply voltage Vc
c, for example, a power line supplying a DC voltage of 5 [V], 10
is a DC voltage VHH higher than the power supply voltage Vcc, for example,
A VHH signal input terminal to which a signal consisting of a DC voltage of 7 [V] (hereinafter referred to as VHH signal) is input, 11 is a pMOS
, 12, 13, 14 are inverters, and in these inverters 12, 13, 14, 15, 16, 17 are p
MOS, 18, 19, and 20 are nMOS. Also, 2
1 is an nMOS forming a column gate.
【0013】かかる試験用ビット線選択手段6において
は、ビット線BL8を非選択とする場合、VHH信号は
入力されず、VHH信号入力端子10はLレベルとされ
る。
この結果、インバータ12の出力はLレベル、インバー
タ13の出力はHレベル、インバータ14の出力はLレ
ベルとなり、nMOS21はOFFとされる。これに対
して、ビット線BL8を選択する場合には、VHH信号
が入力され、VHH信号入力端子10は7[V]とされ
る。
この結果、インバータ12の出力はHレベル、インバー
タ13の出力はLレベル、インバータ14の出力はHレ
ベルとなり、nMOS21はONとされる。In the test bit line selection means 6, when the bit line BL8 is not selected, the VHH signal is not input and the VHH signal input terminal 10 is set to L level. As a result, the output of inverter 12 becomes L level, the output of inverter 13 becomes H level, the output of inverter 14 becomes L level, and nMOS 21 is turned off. On the other hand, when the bit line BL8 is selected, the VHH signal is input, and the VHH signal input terminal 10 is set to 7 [V]. As a result, the output of inverter 12 becomes H level, the output of inverter 13 becomes L level, the output of inverter 14 becomes H level, and nMOS 21 is turned ON.
【0014】また、図1において、第3のメモリセルア
レイ部3は、コラムアドレスバッファ(図示せず)、コ
ラムデコーダ(図示せず)、ビット線BL0〜BL7の
試験に使用するものであり、本実施例においては、試験
用のメモリセルとして、24個のEPROMセル22が
3行×8列に配置されている。そして、同じく図1に示
すように、各列のEPROMセル22に各列のアドレス
情報、即ち、対応するビット線BL0〜BL7を選択す
るためのコラムアドレスA2〜A0の情報が記憶されて
いる。Further, in FIG. 1, the third memory cell array section 3 is used for testing a column address buffer (not shown), a column decoder (not shown), and bit lines BL0 to BL7. In the embodiment, 24 EPROM cells 22 are arranged in 3 rows x 8 columns as memory cells for testing. Similarly, as shown in FIG. 1, the EPROM cells 22 of each column store address information of each column, that is, information of column addresses A2 to A0 for selecting the corresponding bit lines BL0 to BL7.
【0015】また、23、24、25はそれぞれ試験時
にワード線WL8、WL9、WL10を選択するための
試験用ワード線選択手段である。これら試験用ワード線
選択手段23、24、25は同一の回路構成とされてお
り、試験用ワード線選択手段23を代表して示せば、図
4にその回路図を示すように構成されている。図中、2
6は電源電圧Vccを供給する電源線、27はVHH信
号が入力されるVHH信号入力端子、28はpMOS、
29、30、31はインバータであり、これらインバー
タ29、30、31において、32、33、34はpM
OS、35、36、37はnMOSである。Further, 23, 24, and 25 are test word line selection means for selecting word lines WL8, WL9, and WL10, respectively, during testing. These test word line selection means 23, 24, and 25 have the same circuit configuration, and the test word line selection means 23 is representatively configured as shown in FIG. 4. . In the figure, 2
6 is a power supply line that supplies the power supply voltage Vcc, 27 is a VHH signal input terminal to which a VHH signal is input, 28 is a pMOS,
29, 30, 31 are inverters, and in these inverters 29, 30, 31, 32, 33, 34 are pM
OS, 35, 36, and 37 are nMOS.
【0016】かかる試験用ワード線選択手段23におい
ては、ワード線WL8を非選択とする場合、VHH信号
は入力されず、VHH信号入力端子27はLレベルとさ
れる。この結果、インバータ29の出力はLレベル、イ
ンバータ30の出力はHレベル、インバータ31の出力
はLレベルとなり、ワード線WL8はLレベルとされる
。
これに対して、ワード線WL8を選択する場合には、V
HH信号が入力され、VHH信号入力端子27は7[V
]とされる。この結果、インバータ29の出力はHレベ
ル、インバータ30の出力はLレベル、インバータ31
の出力はHレベルとなり、ワード線WL8はHレベルと
される。In the test word line selection means 23, when the word line WL8 is not selected, the VHH signal is not input and the VHH signal input terminal 27 is set to L level. As a result, the output of inverter 29 becomes L level, the output of inverter 30 becomes H level, the output of inverter 31 becomes L level, and word line WL8 becomes L level. On the other hand, when selecting word line WL8, V
The HH signal is input, and the VHH signal input terminal 27 is 7 [V
]. As a result, the output of inverter 29 is at H level, the output of inverter 30 is at L level, and inverter 31 is at
The output of the word line WL8 becomes H level, and the word line WL8 becomes H level.
【0017】なお、図5は第2のメモリセルアレイ部2
の一部分を示す平面図、図6は図5のA−A線に沿った
断面図、図7は図5のB−B線に沿った断面図である。
図中、38はP型シリコン基板、39はEPROMセル
5のソースをなすN+拡散層、40はEPROMセル5
のドレインをなすN+拡散層、41(図5においては、
斜線を付した部分)はEPROMセル5のフローティン
グゲート、42はコンタクトホール、43はシリコン酸
化膜、44はPSG膜、45はフィールド酸化膜、46
は試験用データを「0」とするためのP型不純物である
。Note that FIG. 5 shows the second memory cell array section 2.
6 is a sectional view taken along line AA in FIG. 5, and FIG. 7 is a sectional view taken along line BB in FIG. 5. In the figure, 38 is a P-type silicon substrate, 39 is an N+ diffusion layer that forms the source of the EPROM cell 5, and 40 is the EPROM cell 5.
N+ diffusion layer 41 (in FIG. 5,
42 is a contact hole; 43 is a silicon oxide film; 44 is a PSG film; 45 is a field oxide film;
is a P-type impurity to set the test data to "0".
【0018】このように、この第1実施例においては、
「0」を記憶するEPROMセル5については、チャネ
ル領域にP型不純物46を注入し、OFF状態となるよ
うにしているが、この代わりに、「1」を記憶するメモ
リセルのみをEPROMセルで構成し、「0」を記憶す
るメモリセルについては、例えば、フィールド酸化膜4
5の上方に、フローティングゲートとワード線を配置さ
せた構造とすることもできる。[0018] Thus, in this first embodiment,
For the EPROM cell 5 that stores "0", a P-type impurity 46 is implanted into the channel region to turn it into an OFF state, but instead of this, only the memory cell that stores "1" is made into an EPROM cell. For example, for a memory cell that stores "0", a field oxide film 4
It is also possible to adopt a structure in which a floating gate and a word line are arranged above the gate electrode 5.
【0019】このように構成された第1実施例において
は、例えば次のようにして試験を行うことができる。ま
ず、試験用ビット線選択手段8にVHH信号を供給し、
ビット線BL10を選択した後、ワード線WL0〜WL
7を順に活性化してビット線BL10に接続されている
EPROMセル5のデータを読み出す。次に、試験用ビ
ット線選択手段7にVHH信号を供給し、ビット線BL
9を選択した後、ワード線WL0〜WL7を順に活性化
してビット線BL9に接続されているEPROMセル5
のデータを読み出す。次に、試験用ビット線選択手段6
にVHH信号を供給し、ビット線BL8を選択した後、
ワード線WL0〜WL7を順に活性化してビット線BL
8に接続されているEPROMセル5のデータを読み出
す。次に、試験用ワード線選択手段25にVHH信号を
供給し、ワード線WL10を活性化した後、ビット線B
L0〜BL7を順に選択してワード線WL10に接続さ
れているEPROMセル22のデータを読み出す。次に
、試験用ワード線選択手段24にVHH信号を供給し、
ワード線WL9を活性化した後、ビット線BL0〜BL
7を順に選択してワード線WL9に接続されているEP
ROMセル22のデータを読み出す。次に、試験用ワー
ド線選択手段23にVHH信号を供給し、ワード線WL
8を活性化した後、ビット線BL0〜BL7を順に選択
してワード線WL8に接続されているEPROMセル2
2のデータを読み出す。In the first embodiment configured as described above, a test can be performed, for example, as follows. First, a VHH signal is supplied to the test bit line selection means 8,
After selecting bit line BL10, word lines WL0 to WL
7 are activated in order to read data from the EPROM cell 5 connected to the bit line BL10. Next, the VHH signal is supplied to the test bit line selection means 7, and the bit line BL
After selecting bit line BL9, word lines WL0 to WL7 are activated in order to select EPROM cell 5 connected to bit line BL9.
Read the data. Next, test bit line selection means 6
After supplying the VHH signal to and selecting bit line BL8,
Activate word lines WL0 to WL7 in order to activate bit line BL.
The data of the EPROM cell 5 connected to the memory cell 8 is read out. Next, the VHH signal is supplied to the test word line selection means 25 to activate the word line WL10, and then the bit line B
L0 to BL7 are sequentially selected to read data from the EPROM cell 22 connected to the word line WL10. Next, the VHH signal is supplied to the test word line selection means 24,
After activating word line WL9, bit lines BL0 to BL
7 in order and the EPs connected to the word line WL9.
Read the data in the ROM cell 22. Next, the VHH signal is supplied to the test word line selection means 23, and the word line WL
After activating bit lines BL0 to BL7, EPROM cell 2 connected to word line WL8 is activated.
Read the data of 2.
【0020】ここに、試験用ビット線選択手段8にVH
H信号を供給し、ビット線BL10を選択した後、ワー
ド線WL0〜WL7を順に活性化してビット線BL10
に接続されているEPROMセル5のデータを読み出し
た場合、即ち、ロウアドレスA5、A4、A3を「00
0→001→010→011→100→101→110
→111」と変化させた場合、出力が「0、1、0、1
、0、1、0、1」となれば、少なくともロウアドレス
A3用のアドレスバッファは、正常であると判断できる
。なぜなら、ロウアドレスA3用のアドレスバッファが
、ロウアドレスA3の「0」、「1」に関わらず、「0
」のみを出力する故障状態(以下、この故障状態を出力
「0」固定状態という)となっていれば、他の部分が正
常であるとしても、出力は「0、0、0、0、0、0、
0、0」となってしまい、また、ロウアドレスA3の「
0」、「1」に関わらず、「1」のみを出力する故障状
態(以下、この故障状態を出力「1」固定状態という)
となっていれば、他の部分が正常であるとしても、出力
は「1、1、1、1、1、1、1、1」となってしまう
からである。Here, the test bit line selection means 8 selects VH.
After supplying the H signal and selecting bit line BL10, word lines WL0 to WL7 are activated in order to select bit line BL10.
In other words, when reading the data of the EPROM cell 5 connected to the
0→001→010→011→100→101→110
→111”, the output will be “0, 1, 0, 1
, 0, 1, 0, 1'', it can be determined that at least the address buffer for row address A3 is normal. This is because the address buffer for row address A3 is “0” regardless of whether row address A3 is “0” or “1”.
” (hereinafter, this failure state is referred to as the output “0” fixed state), even if the other parts are normal, the output will be “0, 0, 0, 0, 0. ,0,
0, 0", and the row address A3 becomes "0, 0".
A fault state in which only "1" is output, regardless of whether the output is "0" or "1" (hereinafter, this fault state is referred to as the output "1" fixed state)
If so, the output will be "1, 1, 1, 1, 1, 1, 1, 1" even if the other parts are normal.
【0021】また、試験用ビット線選択手段7にVHH
信号を供給し、ビット線BL9を選択した後、ワード線
WL0〜WL7を順に活性化してビット線BL9に接続
されているEPROMセル5のデータを読み出した場合
、即ち、ロウアドレスA5、A4、A3を「000→0
01→010→011→100→101→110→11
1」と変化させた場合、出力が「0、0、1、1、0、
0、1、1」となれば、少なくとも、ロウアドレスA4
用のアドレスバッファは、正常であると判断できる。な
ぜなら、ロウアドレスA4用のアドレスバッファが出力
「0」固定状態となっていれば、他の部分が正常である
としても、出力は「0、0、0、0、0、0、0、0」
となってしまい、また、出力「1」固定状態となってい
れば、他が正常であるとしても、出力は「1、1、1、
1、1、1、1、1」となってしまうからである。[0021] Also, the test bit line selection means 7 has VHH.
After supplying a signal and selecting bit line BL9, word lines WL0 to WL7 are sequentially activated to read data from EPROM cell 5 connected to bit line BL9, that is, row addresses A5, A4, A3 "000→0
01→010→011→100→101→110→11
1”, the output will be “0, 0, 1, 1, 0,
0, 1, 1'', at least row address A4
It can be determined that the address buffer for This is because if the address buffer for row address A4 is in a fixed output state of "0", even if other parts are normal, the output will be "0, 0, 0, 0, 0, 0, 0, 0. ”
If the output is fixed at "1", the output will be "1, 1, 1," even if everything else is normal.
1, 1, 1, 1, 1".
【0022】また、試験用ビット線選択手段6にVHH
信号を供給し、ビット線BL8を選択した後、ワード線
WL0〜WL7を順に活性化してビット線BL8に接続
されているEPROMセル5のデータを読み出した場合
、即ち、ロウアドレスA5、A4、A3を「000→0
01→010→011→100→101→110→11
1」と変化させた場合、出力が「0、0、0、0、1、
1、1、1」となれば、少なくとも、ロウアドレスA5
用のアドレスバッファは、正常であると判断できる。な
ぜなら、ロウアドレスA5用のアドレスバッファが出力
「0」固定状態となっていれば、他の部分が正常である
としても、出力は「0、0、0、0、0、0、0、0」
となってしまい、また、出力「1」固定状態となってい
れば、他が正常であるとしても、出力は「1、1、1、
1、1、1、1、1」となってしまうからである。[0022] Also, the test bit line selection means 6 has VHH.
After supplying a signal and selecting bit line BL8, word lines WL0 to WL7 are activated in order to read data from EPROM cell 5 connected to bit line BL8, that is, row addresses A5, A4, A3. "000→0
01→010→011→100→101→110→11
1”, the output will be “0, 0, 0, 0, 1,
1, 1, 1", at least row address A5
It can be determined that the address buffer for This is because if the address buffer for row address A5 is in a fixed output state of "0", even if other parts are normal, the output will be "0, 0, 0, 0, 0, 0, 0, 0. ”
If the output is fixed at "1", the output will be "1, 1, 1," even if everything else is normal.
1, 1, 1, 1, 1".
【0023】また、ロウアドレスA5、A4、A3用の
アドレスバッファが正常であるとしても、そもそも、ロ
ウデコーダが正常でなければ、ビット線BL10に接続
されているEPROMセル5からの出力が「0、1、0
、1、0、1、0、1」で、かつ、ビット線BL9に接
続されているEPROMセル5からの出力が「0、0、
1、1、0、0、1、1」で、かつ、ビット線BL8に
接続されているEPROMセル5からの出力が「0、0
、0、0、1、1、1、1」となることはない。Furthermore, even if the address buffers for row addresses A5, A4, and A3 are normal, if the row decoder is not normal in the first place, the output from the EPROM cell 5 connected to the bit line BL10 will be "0". ,1,0
, 1, 0, 1, 0, 1", and the output from the EPROM cell 5 connected to the bit line BL9 is "0, 0,
1, 1, 0, 0, 1, 1" and the output from the EPROM cell 5 connected to the bit line BL8 is "0, 0.
, 0, 0, 1, 1, 1, 1".
【0024】また、試験用ビット線選択手段8にVHH
信号を供給し、ビット線BL10を選択した後、ワード
線WL0〜WL7を順に活性化してビット線BL10に
接続されているEPROMセル5のデータを読み出した
場合において、出力が「0、1、0、1、0、1、0、
1、」となった場合には、ワード線WL0〜WL7には
短絡故障はないと判断できる。なぜなら、ワード線WL
0〜WL7中に短絡している部分があれば、例えば、ワ
ード線WL0とワード線WL1が短絡していれば、出力
は「1→1→0→1→0→1→0→1」となり、「0」
「1」が交互に出力されることはないからである。In addition, the test bit line selection means 8 has VHH.
After supplying a signal and selecting bit line BL10, word lines WL0 to WL7 are activated in order to read data from EPROM cell 5 connected to bit line BL10, and the output is "0, 1, 0. ,1,0,1,0,
1,'' it can be determined that there is no short-circuit failure in the word lines WL0 to WL7. Because the word line WL
If there is a short circuit between 0 and WL7, for example, if word line WL0 and word line WL1 are shorted, the output will be "1 → 1 → 0 → 1 → 0 → 1 → 0 → 1". , "0"
This is because "1" is not output alternately.
【0025】また、試験用ワード線選択手段25にVH
H信号を供給し、ワード線WL10を活性化した後、ビ
ット線BL0〜BL7を順に選択してワード線WL10
に接続されているEPROMセル22のデータを読み出
した場合、即ち、コラムアドレスA2、A1、A0を「
000→001→010→011→100→101→1
10→111」と変化させた場合、出力が「0、1、0
、1、0、1、0、1」となれば、少なくとも、コラム
アドレスA0用のアドレスバッファは、正常であると判
断できる。なぜなら、コラムアドレスA0用のアドレス
バッファが出力「0」固定状態となっていれば、他の部
分が正常であるとしても、出力は「0、0、0、0、0
、0、0、0」となってしまい、また、出力「1」固定
状態となっていれば、他の部分が正常であるとしても、
出力は「1、1、1、1、1、1、1、1」となってし
まうからである。In addition, the test word line selection means 25
After supplying the H signal and activating word line WL10, bit lines BL0 to BL7 are sequentially selected and word line WL10 is activated.
When reading the data of the EPROM cell 22 connected to the column address A2, A1, A0,
000→001→010→011→100→101→1
10 → 111", the output will be "0, 1, 0
, 1, 0, 1, 0, 1'', it can be determined that at least the address buffer for column address A0 is normal. This is because if the address buffer for column address A0 is in a fixed output state of "0", the output will be "0, 0, 0, 0, 0" even if other parts are normal.
, 0, 0, 0", and if the output is fixed at "1", even if other parts are normal,
This is because the output will be "1, 1, 1, 1, 1, 1, 1, 1".
【0026】また、試験用ワード線選択手段24にVH
H信号を供給し、ワード線WL9を活性化した後、ビッ
ト線BL0〜BL7を順に選択してワード線WL9に接
続されているEPROMセル22のデータを読み出した
場合、即ち、コラムアドレスA2、A1、A0を「00
0→001→010→011→100→101→110
→111」と変化させた場合、出力が「0、0、1、1
、0、0、1、1」となれば、少なくとも、コラムアド
レスA1用のアドレスバッファは、正常であると判断で
きる。なぜなら、コラムアドレスA1用のアドレスバッ
ファが出力「0」固定状態となっていれば、他の部分が
正常であるとしても、出力は「0、0、0、0、0、0
、0、0」となってしまい、また、出力「1」固定状態
となっていれば、他の部分が正常であるとしても、出力
は「1、1、1、1、1、1、1、1」となってしまう
からである。In addition, the test word line selection means 24 has VH
After supplying the H signal and activating the word line WL9, bit lines BL0 to BL7 are sequentially selected to read data from the EPROM cell 22 connected to the word line WL9, that is, column addresses A2, A1 , A0 as “00
0→001→010→011→100→101→110
→111”, the output will be “0, 0, 1, 1
, 0, 0, 1, 1'', it can be determined that at least the address buffer for column address A1 is normal. This is because if the address buffer for column address A1 is in a fixed output state of "0", the output will be "0, 0, 0, 0, 0, 0" even if other parts are normal.
, 0, 0", and if the output is fixed at "1", even if other parts are normal, the output will be "1, 1, 1, 1, 1, 1, 1". , 1''.
【0027】また、試験用ワード線選択手段23にVH
H信号を供給し、ワード線WL8を活性化した後、ビッ
ト線BL0〜BL7を順に選択してワード線WL8に接
続されているEPROMセル22のデータを読み出した
場合、即ち、コラムアドレスA2、A1、A0を「00
0→001→010→011→100→101→110
→111」と変化させた場合、出力が「0、0、0、0
、1、1、1、1」となれば、少なくとも、コラムアド
レスA2用のアドレスバッファは、正常であると判断で
きる。なぜなら、コラムアドレスA2用のアドレスバッ
ファが出力「0」固定状態となっていれば、他の部分が
正常であるとしても、出力は「0、0、0、0、0、0
、0、0」となってしまい、また、出力「1」固定状態
となっていれば、他の部分が正常であるとしても、出力
は「1、1、1、1、1、1、1、1」となってしまう
からである。In addition, the test word line selection means 23 has VH
After supplying the H signal and activating the word line WL8, bit lines BL0 to BL7 are sequentially selected to read data from the EPROM cell 22 connected to the word line WL8, that is, column addresses A2, A1 , A0 as “00
0→001→010→011→100→101→110
→111”, the output will be “0, 0, 0, 0
, 1, 1, 1, 1'', it can be determined that at least the address buffer for column address A2 is normal. This is because if the address buffer for column address A2 is in a fixed output state of "0", even if other parts are normal, the output will be "0, 0, 0, 0, 0, 0.
, 0, 0", and if the output is fixed at "1", even if other parts are normal, the output will be "1, 1, 1, 1, 1, 1, 1". , 1''.
【0028】また、コラムアドレスA2、A1、A0用
のアドレスバッファが正常であるとしても、そもそも、
コラムデコーダが正常でなければ、ワード線WL10に
接続されているEPROMセル22からの出力が「0、
1、0、1、0、1、0、1」で、かつ、ワード線WL
9に接続されているEPROMセル22からの出力が「
0、0、1、1、0、0、1、1」で、かつ、ワード線
WL8に接続されているEPROMセル22からの出力
が「0、0、0、0、1、1、1、1」となることはな
い。Furthermore, even if the address buffers for column addresses A2, A1, and A0 are normal, in the first place,
If the column decoder is not normal, the output from the EPROM cell 22 connected to the word line WL10 will be “0,
1, 0, 1, 0, 1, 0, 1" and the word line WL
The output from the EPROM cell 22 connected to
0, 0, 1, 1, 0, 0, 1, 1", and the output from the EPROM cell 22 connected to the word line WL8 is "0, 0, 0, 0, 1, 1, 1, 1" will never occur.
【0029】また、試験用ワード線選択手段25にVH
H信号を供給し、ワード線WL10を活性化した後、ビ
ット線BL0〜BL7を順に選択して、ワード線WL1
0に接続されているEPROMセル22のデータを読み
出した場合において、出力が「0、1、0、1、0、1
、0、1、0、1」となった場合には、ビット線BL0
〜BL7には短絡故障はないと判断できる。なぜなら、
ビット線BL0〜BL7中に短絡している部分があれば
、例えば、ビット線BL0とビット線BL1が短絡して
いれば、出力は「1→1→0→1→0→1→0→1」と
なり、「0」「1」が交互に出力されることはないから
である。In addition, the test word line selection means 25 has VH
After supplying the H signal and activating word line WL10, bit lines BL0 to BL7 are sequentially selected and word line WL1 is activated.
0, the output is "0, 1, 0, 1, 0, 1".
, 0, 1, 0, 1'', bit line BL0
~It can be determined that there is no short circuit failure in BL7. because,
If there is a short-circuited part among the bit lines BL0 to BL7, for example, if the bit line BL0 and bit line BL1 are short-circuited, the output will be "1 → 1 → 0 → 1 → 0 → 1 → 0 → 1 ”, and “0” and “1” are not output alternately.
【0030】このように、この第1実施例によれば、メ
モリセルアレイ部2の試験用データを読出すだけで、ロ
ウアドレスバッファ、ロウデコーダ、ワード線の試験を
行うことができ、メモリセルアレイ部3の試験用データ
を読出すだけで、コラムアドレスバッファ、コラムデコ
ーダ、ビット線の試験を行うことができるので、ロウア
ドレスバッファ、ロウデコーダ、ワード線及びコラムア
ドレスバッファ、コラムデコーダ、ビット線の試験を短
時間で行い、試験コストの低減化を図ることができる。As described above, according to the first embodiment, the row address buffer, row decoder, and word line can be tested by simply reading the test data from the memory cell array section 2. Column address buffers, column decoders, and bit lines can be tested simply by reading the test data in step 3. Therefore, row address buffers, row decoders, word lines, and column address buffers, column decoders, and bit lines can be tested. can be carried out in a short time, reducing test costs.
【0031】第2実施例・・図8
図8は本発明の第2実施例の要部を示す図であり、第1
実施例と対応する部分には同一符号を付している。この
第2実施例においては、第2のメモリセルアレイ部2は
8行×1列の構成とされると共に、第3のメモリセルア
レイ部3は1行×8列の構成とされ、第2及び第3のメ
モリセルアレイ部2、3のEPROMセル5、22には
、図8に示すような試験用データが格納されている。
その他については、第1実施例と同様に構成されている
。なお、図中、「×」は「1」又は「0」の任意のデー
タを意味する。Second embodiment...FIG. 8 FIG. 8 is a diagram showing the main part of the second embodiment of the present invention.
Parts corresponding to those in the embodiment are given the same reference numerals. In this second embodiment, the second memory cell array section 2 has a configuration of 8 rows x 1 column, the third memory cell array section 3 has a configuration of 1 row x 8 columns, and the second and Test data as shown in FIG. 8 is stored in the EPROM cells 5 and 22 of the memory cell array sections 2 and 3 of No. 3. The rest of the structure is the same as that of the first embodiment. In addition, in the figure, "x" means arbitrary data of "1" or "0".
【0032】このように構成された第2実施例において
は、例えば、次のようにして試験を行うことができる。
まず、試験用ビット線選択手段6にVHH信号を供給し
、ビット線BL8を選択した後、ワード線WL0〜WL
7を順に活性化してビット線BL8に接続されているE
PROMセル5のデータを読み出す。次に、試験用ワー
ド線選択手段23にVHH信号を供給し、ワード線WL
8を活性化した後、ビット線BL0〜BL7を順に選択
してワード線WL8に接続されているEPROMセル2
2のデータを読み出す。In the second embodiment configured as described above, a test can be performed, for example, as follows. First, the VHH signal is supplied to the test bit line selection means 6 to select the bit line BL8, and then the word lines WL0 to WL
7 is activated in order and connected to the bit line BL8.
Read the data of PROM cell 5. Next, the VHH signal is supplied to the test word line selection means 23, and the word line WL
After activating bit lines BL0 to BL7, EPROM cell 2 connected to word line WL8 is activated.
Read the data of 2.
【0033】ここに、試験用ビット線選択手段6にVH
H信号を供給し、ビット線BL8を選択した後、ワード
線WL0〜WL7を順に活性化してビット線BL8に接
続されているEPROMセル5のデータを読み出した場
合における出力が「0、1、1、0、1、×、×、×」
の場合には、ロウアドレスA5、A4、A3用のロウア
ドレスバッファ及びロウデコーダは正常であると判断す
ることができる。Here, the test bit line selection means 6 selects VH.
After supplying the H signal and selecting the bit line BL8, the word lines WL0 to WL7 are sequentially activated and the output when reading data from the EPROM cell 5 connected to the bit line BL8 is "0, 1, 1. , 0, 1, ×, ×, ×”
In this case, it can be determined that the row address buffers and row decoders for row addresses A5, A4, and A3 are normal.
【0034】なぜなら、まず、ワード線WL0、WL1
に接続されているEPROMセル5から「0、1」が出
力されたということは、ロウアドレスA5用のアドレス
バッファが出力「0」固定状態で、かつ、ロウアドレス
A4用のアドレスバッファが出力「0」固定状態である
可能性、及び、ロウアドレスA5用のアドレスバッファ
が出力「1」固定状態で、かつ、ロウアドレスA4用の
アドレスバッファが出力「1」固定状態である可能性は
あるが、ロウアドレスA5用のアドレスバッファが出力
「0」固定状態で、かつ、ロウアドレスA4用のアドレ
スバッファが出力「1」固定状態である可能性、及び、
ロウアドレスA5用のアドレスバッファが出力「1」固
定状態で、かつ、ロウアドレスA4用のアドレスバッフ
ァが出力「0」固定状態である可能性はなく(ロウアド
レスA5用のアドレスバッファが出力「0」固定状態で
、かつ、ロウアドレスA4用のアドレスバッファが出力
「1」固定状態であれば、ロウアドレスA5、A4、A
3を「000→001」と変化させた場合、実際にアク
セスされるロウアドレスは「010→011」となるの
で、出力は「1、0」となる。また、ロウアドレスA5
用のアドレスバッファが出力「1」固定状態で、かつ、
ロウアドレスA4用のアドレスバッファが出力「0」固
定状態であれば、ロウアドレスA5、A4、A3を「0
00→001」と変化させた場合、実際にアクセスされ
るロウアドレスは「100→101」となるので、出力
は「1、×」となる)、また、少なくとも、ロウアドレ
スA3用のアドレスバッファは正常であると判断するこ
とができる(ロウアドレスA3用のアドレスバッファが
出力「0」固定状態であれば、出力は「0、0」又は「
×、×」となり、出力「1」固定状態であれば、出力は
「1、1」又は「×、×」となる)。This is because, first, the word lines WL0, WL1
The fact that "0, 1" is output from the EPROM cell 5 connected to the row address means that the address buffer for row address A5 is fixed at output "0" and the address buffer for row address A4 is output "0". There is a possibility that the address buffer for row address A5 is in a fixed state with output "0", and that the address buffer for row address A5 is in a fixed state with output "1", and that the address buffer for row address A4 is in a fixed state with output "1". , the possibility that the address buffer for row address A5 is in a fixed output state of "0" and the address buffer for row address A4 is in a fixed state of output "1", and
There is no possibility that the address buffer for row address A5 has a fixed output of "1" and the address buffer for row address A4 has a fixed output of "0" (the address buffer for row address A5 has a fixed output of "0"). ” is in the fixed state and the address buffer for row address A4 is in the output “1” fixed state, row addresses A5, A4, A
If 3 is changed from "000 to 001", the row address actually accessed will be from "010 to 011", so the output will be "1, 0". Also, row address A5
address buffer is fixed at output “1”, and
If the address buffer for row address A4 is in a fixed output state of "0", row addresses A5, A4, and A3 are set to "0".
00 → 001'', the row address actually accessed will be ``100 → 101'', so the output will be ``1, ×''), and at least the address buffer for row address A3 will be It can be determined that it is normal (if the address buffer for row address A3 is in a fixed state of output "0", the output will be "0, 0" or "
×, ×”, and if the output is fixed at “1”, the output will be “1, 1” or “×, ×”).
【0035】また、そうであるならば、ワード線WL0
、WL1、WL2、WL3に接続されているEPROM
セル5から「0、1、1、0」が出力されたということ
は、ロウアドレスA5用のアドレスバッファは、出力「
0」固定状態である可能性はあるが、ロウアドレスA4
用のアドレスバッファは正常であると判断することがで
きる(ロウアドレスA4用のアドレスバッファが出力「
0」固定状態であれば、ロウアドレスA5、A4、A3
を「000→001→010→011」と変化させた場
合、実際にアクセスされるロウアドレスは「000→0
01→000→001」となるので、出力は「0、1、
0、1」となる。また、ロウアドレスA4用のアドレス
バッファが出力「1」固定状態であれば、ロウアドレス
A5、A4、A3を「000→001→010→011
」と変化させた場合、実際にアクセスされるロウアドレ
スは「010→011→010→011」となるので、
出力は「1、0、1、0」となる)。If so, word line WL0
, WL1, WL2, and EPROM connected to WL3
The fact that "0, 1, 1, 0" is output from cell 5 means that the address buffer for row address A5 outputs "0, 1, 1, 0".
0" may be in a fixed state, but the row address A4
It can be determined that the address buffer for row address A4 is normal (the address buffer for row address A4 outputs "
0” fixed state, row addresses A5, A4, A3
If the row address is changed from 000 to 001 to 010 to 011, the row address actually accessed is from 000 to 0.
01→000→001", the output is "0, 1,
0, 1". Also, if the address buffer for row address A4 is in a fixed output state of "1", row addresses A5, A4, and A3 are set to "000→001→010→011".
”, the row address actually accessed will be “010→011→010→011”, so
The output will be "1, 0, 1, 0").
【0036】また、そうであるならば、ワード線WL0
、WL1、WL2、WL3、WL4に接続されているE
PROMセル5から「0、1、1、0、1」が出力され
たということは、ロウアドレスA5用のアドレスバッフ
ァは出力「0」固定状態である可能性はなく(ロウアド
レスA5用のアドレスバッファが出力「0」固定状態で
あれば、ロウアドレスA5、A4、A3を「000→0
01→010→011→100」と変化させた場合、実
際にアクセスされるロウアドレスは「000→001→
010→011→000」となり、出力は「0、1、1
、0、0」となってしまう)、正常であると判断するこ
とができる。If so, word line WL0
, WL1, WL2, WL3, and E connected to WL4.
The fact that "0, 1, 1, 0, 1" is output from PROM cell 5 means that there is no possibility that the address buffer for row address A5 is in a fixed output state of "0" (the address for row address A5 is If the buffer output is fixed at “0”, row addresses A5, A4, A3 are changed from “000→0”.
01→010→011→100", the row address actually accessed is "000→001→100".
010→011→000", and the output is "0, 1, 1
, 0, 0''), it can be determined to be normal.
【0037】また、ロウアドレスA5、A4、A3用の
アドレスバッファが正常であるとしても、そもそも、ロ
ウデコーダが正常でなければ、ビット線BL8に接続さ
れているEPROMセル5からの出力が「0、1、1、
0、1、×、×、×」となることはない。また、この場
合には、少なくとも、ワード線WL0とワード線WL1
との間、ワード線WL2とワード線WL3との間、ワー
ド線WL3とワード線WL4との間には短絡はないと判
断することができる。Furthermore, even if the address buffers for row addresses A5, A4, and A3 are normal, if the row decoder is not normal in the first place, the output from the EPROM cell 5 connected to the bit line BL8 will be "0". ,1,1,
0, 1, ×, ×, ×”. Further, in this case, at least the word line WL0 and the word line WL1
It can be determined that there is no short circuit between the word line WL2 and the word line WL3, and between the word line WL3 and the word line WL4.
【0038】このようにして、ビット線BL8に接続さ
れているEPROMセル5のデータを読み出した場合に
おける出力が「0、1、1、0、1、×、×、×」の場
合には、ロウアドレスA5、A4、A3用のロウアドレ
スバッファ及びロウデコーダは正常であると判断するこ
とができる。In this way, when the data of the EPROM cell 5 connected to the bit line BL8 is read and the output is "0, 1, 1, 0, 1, ×, ×, ×", It can be determined that the row address buffers and row decoders for row addresses A5, A4, and A3 are normal.
【0039】また、試験用ワード線選択手段23にVH
H信号を供給し、ワード線WL8を選択した後、ビット
線BL0〜BL7を順に選択して、ワード線WL8に接
続されているEPROMセル22のデータを読み出した
場合における出力が「0、1、1、0、1、×、×、×
」の場合には、コラムアドレスA2、A1、A0用のコ
ラムアドレスバッファ及びコラムデコーダは正常である
と判断することができる。In addition, the test word line selection means 23
After supplying the H signal and selecting the word line WL8, bit lines BL0 to BL7 are sequentially selected and the output when reading data from the EPROM cell 22 connected to the word line WL8 is "0, 1, 1, 0, 1, ×, ×, ×
'', it can be determined that the column address buffers and column decoders for column addresses A2, A1, and A0 are normal.
【0040】なぜなら、まず、ビット線BL0、BL1
に接続されているEPROMセル22から「0、1」が
出力されたということは、コラムアドレスA2用のアド
レスバッファが出力「0」固定状態で、かつ、コラムア
ドレスA1用のアドレスバッファが出力「0」固定状態
である可能性、及び、コラムアドレスA2用のアドレス
バッファが出力「1」固定状態で、かつ、コラムアドレ
スA1用のアドレスバッファが出力「1」固定状態であ
る可能性はあるが、コラムアドレスA2用のアドレスバ
ッファが出力「0」固定状態で、かつ、コラムアドレス
A1用のアドレスバッファが出力「1」固定状態である
可能性、及び、コラムアドレスA2用のアドレスバッフ
ァが出力「1」固定状態で、かつ、コラムアドレスA1
用のアドレスバッファが出力「0」固定状態である可能
性はなく(コラムアドレスA2用のアドレスバッファが
出力「0」固定状態で、かつ、コラムアドレスA1用の
アドレスバッファが出力「1」固定状態であれば、コラ
ムアドレスA2、A1、A0を「000→001」と変
化させた場合、実際にアクセスされるコラムアドレスは
「010→011」となるので、出力は「1、0」とな
る。
また、コラムアドレスA2用のアドレスバッファが出力
「1」固定状態で、かつ、コラムアドレスA1用のアド
レスバッファが出力「0」固定状態であれば、コラムア
ドレスA2、A1、A0を「000→001」と変化さ
せた場合、実際にアクセスされるコラムアドレスは「1
00→101」となるので、出力は「1、×」となる)
、また、少なくとも、コラムアドレスA0用のアドレス
バッファは正常であると判断することができる(コラム
アドレスA0用のアドレスバッファが出力「0」固定状
態であれば、出力は「0、0」又は「×、×」となり、
出力「1」固定状態であれば、出力は「1、1」又は「
×、×」となる)。[0040] This is because, first, the bit lines BL0 and BL1
The fact that "0, 1" is output from the EPROM cell 22 connected to column address A2 means that the address buffer for column address A2 is fixed at output "0" and the address buffer for column address A1 is output "0". There is a possibility that the address buffer for column address A2 is in a fixed state with output "0", and that the address buffer for column address A2 is in a fixed state with output "1". , there is a possibility that the address buffer for column address A2 is in a fixed output state of "0" and the address buffer for column address A1 is in a fixed state of output "1", and that the address buffer for column address A2 is in a fixed state of output "1". 1” fixed state and column address A1
There is no possibility that the address buffer for column address A2 is in a fixed output state of "0" (the address buffer for column address A2 is in a fixed state of output "0", and the address buffer for column address A1 is in a fixed state of output "1"). In this case, if column addresses A2, A1, and A0 are changed from "000 to 001," the column address actually accessed will be from "010 to 011," so the output will be "1, 0." Furthermore, if the address buffer for column address A2 is in a fixed output state of "1" and the address buffer for column address A1 is in a fixed state of output "0", column addresses A2, A1, and A0 are changed to "000→001". ”, the column address actually accessed is “1”.
00 → 101", so the output is "1, ×")
In addition, it can be determined that at least the address buffer for column address A0 is normal (if the address buffer for column address A0 is in a fixed output state of "0", the output will be "0, 0" or " ×, ×”,
If the output is fixed at “1”, the output will be “1, 1” or “
×, ×”).
【0041】また、そうであるならば、ビット線BL0
、BL1、BL2、BL3に接続されているEPROM
セル22から「0、1、1、0」が出力されたというこ
とは、コラムアドレスA2用のアドレスバッファは出力
「0」固定状態である可能性はあるが、コラムアドレス
A1用のアドレスバッファは正常であると判断すること
ができる(コラムアドレスA1用のアドレスバッファが
出力「0」固定状態であれば、コラムアドレスA2、A
1、A0を「000→001→010→011」と変化
させた場合、実際にアクセスされるコラムアドレスは「
000→001→000→001」となるので、出力は
「0、1、0、1」となる。また、コラムアドレスA1
用のアドレスバッファが出力「1」固定状態であれば、
ロウアドレスA2、A1、A0を「000→001→0
10→011」と変化させた場合、実際にアクセスされ
るコラムアドレスは「010→011→010→011
」となるので、出力は「1、0、1、0」となる)。If so, bit line BL0
, BL1, BL2, and EPROM connected to BL3
The fact that "0, 1, 1, 0" is output from cell 22 means that the address buffer for column address A2 may be in a fixed output state of "0", but the address buffer for column address A1 is It can be determined that it is normal (if the address buffer for column address A1 is in a fixed state of output "0", column addresses A2, A
1. When A0 is changed as "000→001→010→011", the column address actually accessed is "
000→001→000→001", the output is "0, 1, 0, 1". Also, column address A1
If the address buffer for is fixed to output “1”,
Change row addresses A2, A1, A0 to “000→001→0
10 → 011", the column address actually accessed is "010 → 011 → 010 → 011".
”, so the output is “1, 0, 1, 0”).
【0042】また、そうであるならば、ビット線BL0
、BL1、BL2、BL3、BL4に接続されているE
PROMセル22から「0、1、1、0、1」が出力さ
れたということは、コラムアドレスA2用のアドレスバ
ッファは出力「0」固定状態である可能性はなく(コラ
ムアドレスA2用のアドレスバッファが出力「0」固定
状態であれば、コラムアドレスA2、A1、A0を「0
00→001→010→011→100」と変化させた
場合、実際にアクセスされるコラムアドレスは「000
→001→010→011→000」となり、出力は「
0、1、1、0、0」となってしまう)、正常であると
判断することができる。If so, bit line BL0
, BL1, BL2, BL3, and E connected to BL4.
The fact that "0, 1, 1, 0, 1" is output from the PROM cell 22 means that there is no possibility that the address buffer for column address A2 is in a fixed output state of "0" (the address for column address A2 is If the buffer output is fixed at “0”, column addresses A2, A1, and A0 are set to “0”.
00 → 001 → 010 → 011 → 100", the column address actually accessed will be "000
→001→010→011→000", and the output is "
0, 1, 1, 0, 0), it can be determined that it is normal.
【0043】また、コラムアドレスA2、A1、A0用
のアドレスバッファが正常であるとしても、そもそも、
コラムデコーダが正常でなければ、ワード線WL8に接
続されているEPROMセル22からの出力が「0、1
、1、0、1、×、×、×」となることはない。また、
この場合には、少なくとも、ビット線BL0とビット線
BL1との間、ビット線BL2とビット線BL3との間
、ビット線BL3とビット線BL4との間には短絡はな
いと判断することができる。Furthermore, even if the address buffers for column addresses A2, A1, and A0 are normal, in the first place,
If the column decoder is not normal, the output from the EPROM cell 22 connected to the word line WL8 will be “0, 1”.
, 1, 0, 1, ×, ×, ×”. Also,
In this case, it can be determined that there is no short circuit at least between bit line BL0 and bit line BL1, between bit line BL2 and bit line BL3, and between bit line BL3 and bit line BL4. .
【0044】このようにして、ワード線WL8に接続さ
れているEPROMセル22の試験用データを読み出し
た場合における出力が「0、1、1、0、1、×、×、
×」の場合には、コラムアドレスA2、A1、A0用の
アドレスバッファ及びコラムデコーダは正常であると判
断することができる。In this way, when the test data of the EPROM cell 22 connected to the word line WL8 is read, the output is "0, 1, 1, 0, 1, ×, ×,
In the case of "x", it can be determined that the address buffers and column decoders for column addresses A2, A1, and A0 are normal.
【0045】このように、この第2実施例によっても、
第2のメモリセルアレイ部2の試験用データを読出すだ
けで、ロウアドレスバッファ、ロウデコーダ、一部のワ
ード線の試験を行うことができ、また、第3のメモリセ
ルアレイ部3の試験用データを読出すだけで、コラムア
ドレスバッファ、コラムデコーダ、一部のビット線の試
験を行うことができるので、ロウアドレスバッファ、ロ
ウデコーダ、ワード線及びコラムアドレスバッファ、コ
ラムデコーダ、ビット線の試験を短時間で行い、試験コ
ストの低減化を図ることができるが、更に、この第2実
施例によれば、第1実施例の場合よりも、第2、第3の
メモリセルアレイ部2、3の面積を小さくすることがで
きる。[0045] In this way, also in this second embodiment,
By simply reading the test data from the second memory cell array section 2, the row address buffer, row decoder, and some word lines can be tested. The column address buffer, column decoder, and some bit lines can be tested just by reading the . In addition, according to the second embodiment, the area of the second and third memory cell array sections 2 and 3 is larger than that of the first embodiment. can be made smaller.
【0046】なお、一般に、第1のメモリセルアレイ部
1に、0番地〜2n+1番地(但し、n=1以上の整数
)の行と、0番地〜2m+1番地(但し、m=1以上の
整数)の列を設ける場合には、第2のメモリセルアレイ
部2の0番地、3番地の行のEPROMセルに同一の論
理(例えば、「0」)を記憶させ、1番地、2n番地の
行のEPROMセルに、0番地、3番地のEPROMセ
ル5とは異なる論理(例えば、「1」)を記憶させ、ま
た、0番地、3番地の列のEPROMセルに同一の論理
(例えば、「0」)を記憶させ、1番地、2m番地の列
のEPROMセルに、0番地、3番地の列のEPROM
セル22とは異なる論理(例えば、「1」)を記憶させ
ることで、上述のように試験を行うことができる。Generally, the first memory cell array section 1 has rows from addresses 0 to 2n+1 (where n is an integer greater than or equal to 1), and rows from addresses 0 to 2m+1 (where m is an integer greater than or equal to 1). , the EPROM cells in the rows at addresses 0 and 3 in the second memory cell array section 2 store the same logic (for example, "0"), and the EPROM cells in the rows at addresses 1 and 2n store the same logic (for example, "0"). The cell stores a logic different from that of the EPROM cell 5 at addresses 0 and 3 (for example, "1"), and the same logic (for example, "0") is stored in the EPROM cell in the column at addresses 0 and 3. is stored in the EPROM cells in the columns 1 and 2m, and the EPROM cells in the columns 0 and 3.
By storing a different logic (for example, "1") than the cell 22, the test can be performed as described above.
【0047】第3実施例・・図9
図9は、本発明の第3実施例の要部を示す図であり、こ
の第3実施例においては、第1のメモリセルアレイ部1
のロウアドレスで0番地、1番地、2番地、3番地、4
番地の行の部分にのみ行を設け、その各行に1個のEP
ROMセル5を1列となるように配置すると共に、第1
のメモリセルアレイ部1のコラムアドレスで0番地、1
番地、2番地、3番地、4番地の列の部分にのみ列を設
け、その各列に1個のEPROMセル22を1行となる
ように配置し、第2、第3のメモリセルアレイ部2、3
のEPROMセル5、22に、図9に示すような試験デ
ータを格納し、その他については、第2実施例と同様に
構成されている。Third Embodiment...FIG. 9 FIG. 9 is a diagram showing the main part of a third embodiment of the present invention. In this third embodiment, the first memory cell array section 1
The row addresses are 0, 1, 2, 3, and 4.
A row is provided only in the address row, and one EP is placed in each row.
The ROM cells 5 are arranged in one row, and the first
The column addresses of memory cell array section 1 are 0 and 1.
Columns are provided only in the columns of addresses 2, 3, and 4, and one EPROM cell 22 is arranged in each column in one row, and the second and third memory cell array sections 2 ,3
Test data as shown in FIG. 9 is stored in the EPROM cells 5 and 22 of the second embodiment, and the other configuration is the same as that of the second embodiment.
【0048】この第3実施例によれば、第2実施例の場
合と同様にロウアドレスバッファ、ロウデコーダ、一部
のワード線及びコラムアドレスバッファ、コラムデコー
ダ、一部のビット線の試験を短時間で行い、試験コスト
の低減化を図ることができるが、更に、この第3実施例
によれば、第2実施例の場合よりも、第2、第3のメモ
リセルアレイ部2、3のEPROMセル5、22の数を
減らすことができる。According to the third embodiment, as in the second embodiment, the tests of the row address buffer, row decoder, some word lines, column address buffer, column decoder, and some bit lines are shortened. In addition, according to the third embodiment, the EPROM of the second and third memory cell array sections 2 and 3 is more efficient than the second embodiment. The number of cells 5 and 22 can be reduced.
【0049】なお、一般に、第1のメモリセルアレイ部
1に、0番地〜2n+1番地の行と、0番地〜2m+1
番地の列を設ける場合には、第2のメモリセルアレイ部
2には、第1のメモリセルアレイ部1のロウアドレスで
0番地、1番地、3番地、2n番地の行の部分にのみ行
を設け、その各行に1個のEPROMセルを1列となる
ように配置し、試験用データとして、第1のメモリセル
アレイ部1のロウアドレスで0番地、3番地のEPRO
Mセルに同一の論理(例えば、「0」)を記憶させ、第
1のメモリセルアレイ部1のロウアドレスで1番地、2
n番地のEPROMセルに、第1のメモリセルアレイ部
1のロウアドレスで0番地、3番地のEPROMセルと
は異なる論理(例えば、「1」)を記憶させ、第3のメ
モリセルアレイ部3には、第1のメモリセルアレイ部1
のコラムアドレスで0番地、1番地、3番地、2m番地
の列の部分にのみ列を設け、その各列に、1個のEPR
OMセルを1行となるように配置し、試験用データとし
て、第1のメモリセルアレイ部1のコラムアドレスで0
番地、3番地のEPROMセルに同一の論理(例えば、
「0」)を記憶させ、第1のメモリセルアレイ部1のコ
ラムアドレスで1番地、2m番地のEPROMセルに、
第1のメモリセルアレイ部1のコラムアドレスで0番地
、3番地のEPROMセルとは異なる論理(例えば、「
1」)を記憶させるようにすれば良い。Generally, the first memory cell array section 1 has rows from addresses 0 to 2n+1 and rows from addresses 0 to 2m+1.
When providing columns of addresses, rows are provided in the second memory cell array section 2 only at the rows of addresses 0, 1, 3, and 2n in the row address of the first memory cell array section 1. , one EPROM cell is arranged in each row in one column, and as test data, the EPROM cells at addresses 0 and 3 in the row address of the first memory cell array section 1 are used as test data.
The same logic (for example, "0") is stored in the M cells, and the row addresses 1 and 2 of the first memory cell array section 1 are stored.
The EPROM cell at address n stores a different logic (for example, "1") from the EPROM cells at addresses 0 and 3 at the row address of the first memory cell array section 1, and the third memory cell array section 3 stores a different logic (for example, "1"). , first memory cell array section 1
A column is provided only in the column address 0, 1, 3, and 2m in the column address, and each column has one EPR.
The OM cells are arranged in one row, and the column address of the first memory cell array section 1 is set to 0 as test data.
The EPROM cell at address 3 has the same logic (for example,
"0") is stored in the EPROM cells at addresses 1 and 2m in the column address of the first memory cell array section 1.
The logic (for example, "
1)).
【0050】なお、上述の実施例においては、第2、第
3のメモリセルアレイ部2、3に設けるメモリセルをE
PROMセルで構成した場合につき述べたが、この代わ
りにマスクROMセル等を使用することもできる。In the above embodiment, the memory cells provided in the second and third memory cell array sections 2 and 3 are
Although the case has been described in which it is configured with PROM cells, mask ROM cells or the like may be used instead.
【0051】また、上述の実施例においては、本発明を
OTPROMに適用した場合につき述べたが、その他、
本発明は、マスクROM、DRAM、SRAM、EEP
ROM等、メモリセルを行列状に配置して構成される、
あらゆる半導体記憶装置に適用することができるもので
あるが、特に、OTPROMに適用する場合には、樹脂
封止した後においては今まで行うことができなかったロ
ウアドレスバッファ、ロウデコーダ、ワード線及びコラ
ムアドレスバッファ、コラムデコーダ、ビット線の試験
を行うことができ、信頼性の向上を図ることができる。[0051] In the above embodiment, the case where the present invention is applied to an OTPROM has been described;
The present invention applies to mask ROM, DRAM, SRAM, EEP
ROM, etc., is configured by arranging memory cells in rows and columns.
It can be applied to any semiconductor memory device, but especially when applied to OTPROM, it can be used to create row address buffers, row decoders, word lines, and Column address buffers, column decoders, and bit lines can be tested, improving reliability.
【0052】[0052]
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、第2の
メモリセルアレイ部のメモリセルの試験用データを読出
すことで、ロウアドレスバッファ、ロウデコーダ、全部
又は一部のワード線の試験を行うことができ、また、第
3のメモリセルアレイ部のメモリセルの試験用データを
読出すことで、コラムアドレスバッファ、コラムデコー
ダ、全部又は一部のビット線の試験を行うことができる
ので、ロウアドレスバッファ、ロウデコーダ、ワード線
及びコラムアドレスバッファ、コラムデコーダ、ビット
線の試験を短時間で行い、試験コストの低減化を図るこ
とができ、また、特に、OTPROMに適用する場合に
は、樹脂封止した後においては今まで行うことができな
かったロウアドレスバッファ、ロウデコーダ、ワード線
及びコラムアドレスバッファ、コラムデコーダ、ビット
線の試験を行うことができ、信頼性の向上を図ることが
できる。As described above, according to the present invention, by reading the test data of the memory cells in the second memory cell array section, the row address buffer, row decoder, all or some of the word lines can be Also, by reading the test data of the memory cells in the third memory cell array section, the column address buffer, column decoder, and all or part of the bit lines can be tested. , row address buffers, row decoders, word lines, column address buffers, column decoders, and bit lines can be tested in a short time, reducing test costs. Especially when applied to OTPROMs, After sealing with resin, it is possible to perform tests on row address buffers, row decoders, word lines and column address buffers, column decoders, and bit lines, which have not been possible until now, thereby improving reliability. Can be done.
【図1】本発明の第1実施例の要部を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing main parts of a first embodiment of the present invention.
【図2】本発明の第1実施例におけるワード線とロウア
ドレスとの関係及びビット線とコラムアドレスとの関係
を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing the relationship between word lines and row addresses and the relationship between bit lines and column addresses in the first embodiment of the present invention.
【図3】本発明の第1実施例を構成する試験用ビット線
選択手段を示す回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram showing test bit line selection means constituting the first embodiment of the present invention.
【図4】本発明の第1実施例を構成する試験用ワード線
選択手段を示す回路図である。FIG. 4 is a circuit diagram showing test word line selection means constituting the first embodiment of the present invention.
【図5】第2のメモリセルアレイ部の一部分を示す平面
図である。FIG. 5 is a plan view showing a portion of the second memory cell array section.
【図6】図5のA−A線に沿った断面図である。6 is a sectional view taken along line AA in FIG. 5. FIG.
【図7】図5のB−B線に沿った断面図である。7 is a sectional view taken along line BB in FIG. 5. FIG.
【図8】本発明の第2実施例の要部を示す図である。FIG. 8 is a diagram showing main parts of a second embodiment of the present invention.
【図9】本発明の第3実施例の要部を示す図である。FIG. 9 is a diagram showing main parts of a third embodiment of the present invention.
1 第1のメモリセルアレイ部 2 第2のメモリセルアレイ部 3 第3のメモリセルアレイ部 1 First memory cell array section 2 Second memory cell array section 3 Third memory cell array section
Claims (4)
リセルを行列状に配置してなる第1のメモリセルアレイ
部と、該第1のメモリセルアレイ部と同数又は少ない数
の行を前記第1のメモリセルアレイ部とワード線を共通
にして設けられ、第1の試験用データを記憶する第2の
メモリセルアレイ部と、前記第1のメモリセルアレイ部
と同数又は少ない数の列を前記第1のメモリセルアレイ
部とビット線を共通にして設けられ、第2の試験用デー
タを記憶する第3のメモリセルアレイ部とを設けて構成
されていることを特徴とする半導体記憶装置。1. A first memory cell array section in which a plurality of memory cells commonly used as a memory are arranged in rows and columns; A second memory cell array section that is provided to share a word line with the memory cell array section and stores the first test data; 1. A semiconductor memory device comprising a memory cell array section and a third memory cell array section that shares a common bit line and stores second test data.
1のメモリセルアレイ部と同数の行及び前記第1のメモ
リセルアレイ部の行を選択するための行アドレスのビッ
ト数と同数の列を有し、前記第1の試験用データとして
、各行のメモリセルに前記行アドレスの情報を記憶して
おり、前記第3のメモリセルアレイ部は、前記第1のメ
モリセルアレイ部の列を選択するための列アドレスのビ
ット数と同数の行及び前記第1のメモリセルアレイ部と
同数の列を有し、前記第2の試験用データとして、各列
のメモリセルに前記列アドレスの情報を記憶しているこ
とを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。2. The second memory cell array section has the same number of rows as the first memory cell array section and the same number of columns as the number of bits of a row address for selecting the rows of the first memory cell array section. and storing information of the row address in the memory cells of each row as the first test data, and the third memory cell array section is for selecting a column of the first memory cell array section. has the same number of rows as the number of bits of the column address and the same number of columns as the first memory cell array section, and stores information on the column address in the memory cells of each column as the second test data. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising a semiconductor memory device.
1のメモリセルアレイ部と同数の行及び1ビットの列を
有し、前記第1の試験用データとして、前記第1のメモ
リセルアレイ部の行アドレスで0番地、3番地のメモリ
セルに同一の論理を記憶し、第1のメモリセルアレイ部
の行アドレスで1番地、2n番地(但し、n=1以上の
整数)のメモリセルに前記第1のメモリセルアレイ部の
行アドレスで0番地、3番地のメモリセルとは異なる論
理を記憶しており、前記第3のメモリセルアレイ部は、
1ビットの行及び前記第1のメモリセルアレイ部と同数
の列を有し、前記第2の試験用データとして、前記第1
のメモリセルアレイ部の列アドレスで0番地、3番地の
メモリセルに同一の論理を記憶し、前記第1のメモリセ
ルアレイ部の列アドレスで1番地、2m番地(但し、m
=1以上の整数)のメモリセルに前記第1のメモリセル
アレイ部の列アドレスで0番地、3番地のメモリセルと
は異なる論理を記憶していることを特徴とする請求項1
記載の半導体記憶装置。3. The second memory cell array section has the same number of rows and 1-bit columns as the first memory cell array section, and the second memory cell array section has the same number of rows and one-bit columns as the first memory cell array section, and the second memory cell array section has the same number of rows and 1-bit columns as the first memory cell array section. The same logic is stored in the memory cells at addresses 0 and 3 at the row address of , and the same logic is stored in the memory cells at addresses 1 and 2n (where n = an integer greater than or equal to 1) at the row address of the first memory cell array section. A different logic is stored in the memory cells at row addresses 0 and 3 in the first memory cell array section, and the third memory cell array section
It has a row of 1 bit and the same number of columns as the first memory cell array section, and as the second test data, the first
The same logic is stored in the memory cells at addresses 0 and 3 in the column address of the first memory cell array section, and the same logic is stored in the memory cells at addresses 1 and 2m in the column address of the first memory cell array section (however, m
= an integer of 1 or more) stores a logic different from that of the memory cells at addresses 0 and 3 in the column address of the first memory cell array section.
The semiconductor storage device described above.
1のメモリセルアレイ部の行アドレスで0番地、1番地
、3番地、2n番地(但し、n=1以上の整数)の行の
部分にのみ行を有し、その各行に1個のメモリセルを1
列となるように配置し、前記第1の試験用データとして
、前記第1のメモリセルアレイ部の行アドレスで0番地
、3番地のメモリセルに同一の論理を記憶し、第1のメ
モリセルアレイ部の行アドレスで1番地、2n番地(但
し、n=1以上の整数)のメモリセルに前記第1のメモ
リセルアレイ部の行アドレスで0番地、3番地のメモリ
セルとは異なる論理を記憶しており、前記第3のメモリ
セルアレイ部は、前記第1のメモリセルアレイ部の列ア
ドレスで0番地、1番地、3番地、2m番地(但し、m
=1以上の整数)の列の部分にのみ列を有し、その各列
に1個のメモリセルを1行となるように配置し、前記第
2の試験用データとして、前記第1のメモリセルアレイ
部の列アドレスで0番地、3番地のメモリセルに同一の
論理を記憶し、前記第1のメモリセルアレイ部の列アド
レスで1番地、2m番地(但し、m=1以上の整数)の
メモリセルに前記第1のメモリセルアレイ部の列アドレ
スで0番地、3番地のメモリセルとは異なる論理を記憶
していることを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装
置。4. The second memory cell array section is a portion of the row of the first memory cell array section at row addresses 0, 1, 3, and 2n (where n = an integer greater than or equal to 1). has only one row and one memory cell in each row.
The same logic is stored as the first test data in the memory cells at addresses 0 and 3 in the row address of the first memory cell array section. The memory cells at addresses 1 and 2n (where n is an integer of 1 or more) at the row address of are stored with different logic from the memory cells at addresses 0 and 3 at the row address of the first memory cell array section. The third memory cell array section has column addresses 0, 1, 3, and 2m (however, m
= an integer greater than or equal to 1), and one memory cell is arranged in each column so as to form one row, and the first memory is used as the second test data. The same logic is stored in memory cells at addresses 0 and 3 in the column address of the cell array section, and memories at addresses 1 and 2m (where m = an integer of 1 or more) in the column address of the first memory cell array section. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the cell stores logic different from memory cells at addresses 0 and 3 in the column address of the first memory cell array section.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14836291A JP3223524B2 (en) | 1991-06-20 | 1991-06-20 | Semiconductor storage device |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP14836291A JP3223524B2 (en) | 1991-06-20 | 1991-06-20 | Semiconductor storage device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04370600A true JPH04370600A (en) | 1992-12-22 |
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Family Applications (1)
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|---|---|
| JP (1) | JP3223524B2 (en) |
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