JPH0437113A - 縮小投影露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体装置の製造工程における露光工程にお
いて、フォトマスクを正確に装着するために有効な保護
部材を有する縮小投影露光装置に関するものである。

〔従来の技術〕

半導体装置の微細化に伴い、その製造工程において微小
な異物が大きな影響を及ぼすようになってきた。

第３図は従来の縮小投影露光装置を示す図である０図に
おいて、７は透明基体の主表面により形成され、内央部
に所定の回路パターン、その外側部にアライメント・マ
ーク８がそれぞれ配置されたフォトマスクであって、こ
の場合レチクル５はレチクル７の下方側に配置されたレ
ンズ系、４はレンズ系５の下方側に配置される半導体基
板（以下ウェハと称す）、ｌはウェハをセットするため
のウェハステージ、３は基体の主表面に遮光膜により所
定のアライメントパターンが形成された、ステージ上の
座標基準マーク、６はレチクル７の上側に配置されレチ
クル７を正確にセットするための３本のレチクル顕微鏡
である。

ところで、レチクル顕微鏡６はＹ方向のアライメントを
行う第１顕微鏡６ａと、回転方向のアライメントを行う
第２顕微鏡６ｂ、Ｘ方向のアライメントを行う第３顕微
鏡６Ｃからなっている。またレチクル７上には３個のア
ライメントマーク８が形成されており、それぞれ前記顕
微鏡６ａ、６ｂ、６ｃに対応して、Ｙ方向アライメント
マーク８ａ、回転方向アライメントマークｓｂ、ｘ方向
アライメントマーク８ｃが形成されている。

前記レチクル７のアライメントは次のように行う、まず
、レチクル７が図示しないレクチルホルダにより搬送さ
れる前にあらかじめレチクル顕微鏡６を座標基準マーク
３に合わせる。その後、レチクル７を図示しないレチク
ルホルダにより搬送し、レチクル顕微鏡６ａ、６ｂ、６
ｃとこれらに対応したアライメントマーク８ａ、８ｂ、
８ｃとを合わせ込み、レチクル７のアライメントを行う
。

第４図は第３図の座標基準マーク３の斜視図である。第
５図は第４図の■−■線断面を示す図である。座標基準
マーク３は所定の厚さを有する平板状のガラスにＡ１等
でアライメントマークがバターニングされており、凸状
に形成されたウェハステージ１の上に配設されて、その
主面高さがウェハステージ１に載置されたウェハ４と同
じ高さとなっている。

次にウェハ系のアライメントを行う、レンズ系５とウェ
ハ４の間にはウェハ全体の位置を確認するためのセンサ
ーとして図示しないウェハ顕微鏡が配置されている。ま
たレンズ系５とレチクル７との間にはウェハステージ１
の位置座標の測定を行う、図示しないレーザステップア
ライメント部が配置されている。前記ウェハ顕微鏡（図
示省略）とレーザステップアライメント部（図示省略）
とは共に、座標基準マーク３上の任意のアライメントマ
ークに合わせ込む、この状態でウェハ４をウェハステー
ジ１上に搬送し、その後図示しないウェハステージ顕微
鏡で粗なアライメントを行い次いで図示しないレーザス
テップアライメント部で密なアライメントを行う。

このように、レチクル系のアライメントとウェハ系のア
ライメントを座標基準マーク３で行うことにより、レチ
クル７とウェハ４とが相対的に位置合わせされる。この
後レチクル７上より例えば紫外光を照射し、レチクル７
上に形成されたパターンをウェハ４上に転写する。しか
し、すべてのアラインメントの原点的な役割を果たして
いる座標基準マーク３は露出状態で使用されていた。

〔発明が解決しようとする課題〕

従来の縮小投影露光装置では、ウェハ４の近くに座標基
準マーク３が配置されているためにウェハ４の入替えが
産室なること等により、座標マーク３に異物が付着して
しまうことがある。ステージ上座標基準マーク３上に異
物が付着すると検知信号に疑似信号が入り込みアライン
メントで使用する顕微鏡の位置がそれぞれ正確な位置に
設定できない、その結果、レチクルが正しい位置に載置
されないというエラーが発生したり、あるいはレチクル
の設定不良のまま露光を行い、全ステップが転写不良と
なってしまう等の問題が発生した。

本発明は以上のような従来の問題点を解消するためにな
されたもので、座標基準マークを異物付着から保護し、
レチクルアライメントが好適に行われる縮小投影露光装
置を得ることを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

この発明に係る縮小投影露光装置はフォトマスクを固定
する際に正しい位置ぎめを確認するための座標基準マー
クに保護部材を装着したもので、この保護材は座標基準
マークの外周囲を取り囲み所定の高さを有する枠体と、
この枠体の前記座標基準マークに装着される面と反対側
の面に接着され光学的に所定の透過率を有する薄膜から
なるものである。

〔作用〕

この発明によれば、上述のように構成された保護部材を
装着したことにより、ステージ上座標基準マーク上に異
物が付着すると、検知信号に疑似信号が入り込み、装置
がマーク位置を元来のマーク位置と誤認識してマスク合
わせを行うことができなくなったり、またステージ上座
標基準マーク保護部材上に異物が付着してもレンズ系の
焦点からずれた位置に異物があるため、レチクル顕微鏡
の検知信号に対する影響が発生したりするのが低減され
る。

〔実施例〕

以下、本発明の実施例を図について説明する。

第１図はこの発明の一実施例による縮小投影露光装置を
示す図であり、特に保護材を座標基準マークに装着した
状態を示す斜視図、第２図は第１図のＩ−１線における
断面図を示す図である。なお、従来の技術の説明と重複
する部分は適宜その説明を省略する０図において、１．
３は従来のものとおなしもの、２は保護部材である。そ
してこの保護部材２は薄膜（座標基準マーク用保護体）
２ａとフレーム（枠体）２ｂから構成されている。

膜２ａは数μｍの均一な膜厚を有し、透明なニトロセル
ロースなどの材質で形成されている。フレーム２ｂは数
閣の高さを有し、アルミニウムなどからなり、この場合
、円形状に形成されている。

保護材２のフレーム２ｂがステージ１の凸部にはめ込ま
れることにより、座標基準マーク３上のマーク形成面は
保護部材２により密封状態となる。

これによりマーク形成部が異物の付着から保護されるも
のである。この座標基準マーク保護部材２の使用による
位置合わせ露光原理は従来の技術で示すものと同様であ
る。しかし、座標基準マーク３上の所定の読み取りを行
うとき、座標基準マーク保護部材２の上に所定寸法の異
物が付着しても、異物が座標基準マーク面から数■ずれ
た位置であるため、焦点位置が異物からずれ、所定マー
クのより良好な信号認識ができ、適切なアラインメント
が可能である。従って信親性の高い半導体製造装置がで
きる。

なお、この方法による保護材のはりつけに限らずはめ合
い式、ネジ式等剥着自在のものが考えられる。

また保護膜の材質はニトロセルロース等の他にガラス薄
板等、材質の異なるものが考えられる。

〔発明の効果〕

以上のように、本発明に係る縮小投影露光装置によれば
、座標基準マークに保護部材を装着するようにしたので
、フォトマスクのアライメントエラーを抑制でき、より
適切な露光が安定して得られる効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は座標基準マークを有する基板にマーク保護部材
を装着した状態の斜視図、第２図は第１図の１−Ｉ線に
おける断面図、第３図は縮小投影露光装置の概略図、第
４図は第３図の座標基準マークの斜視図、第５図は第４
図の■−■線断面図である。 図において、１はうエバステージ、３は座標基準マーク
を有する基板、２は座標基準マーク保護部材、２ａは膜
、２ｂはフレーム、４はウェハ、５はレンズ系、６はレ
チクル顕微鏡、６ａは第１顕微鏡、６ｂは第２顕微鏡、
６ｃは第３顕微鏡、７はレチクル、８はレチクルアライ
ンメント、８ａはＹ方向アラインメントマーク、８ｂは
回転方向アラインメントマーク、８ｃはＸ方向アライン
メントマークである。 なお図中同一符号は同−又は相当部分を示す。 第１図 １、りｒ／／／？ゲージ 第２図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）縮小投影露光装置において、 フォトマスクを固定する際に正しい位置ぎめを確認する
   ためのステージ上の座標基準マークの外周部を取り囲む
   枠体と、 この枠体の上記座標基準マークに装着される面と反対側
   の面に装着され、光学的に所定の透過率を有する座標基
   準マーク用保護体とを備えたことを特徴とする縮小投影
   露光装置。