JPH0437116A - 形状シミュレーション方法 - Google Patents
形状シミュレーション方法Info
- Publication number
- JPH0437116A JPH0437116A JP2144802A JP14480290A JPH0437116A JP H0437116 A JPH0437116 A JP H0437116A JP 2144802 A JP2144802 A JP 2144802A JP 14480290 A JP14480290 A JP 14480290A JP H0437116 A JPH0437116 A JP H0437116A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- point
- angle
- segments
- points
- line
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、リソグラフィー工程、及び、エツチング工程
におけるシミュレーション方法に関するものである。
におけるシミュレーション方法に関するものである。
従来の技術
従来この種の形状シミュレーション方法としては、アイ
・イー・イー・イー・トランザクション・オン−エレク
トロン・デバイシス（ＩＥＥＥ Ｔｒａｎｓａｃｔｉｏ
ｎｏｎ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ−ｄｅｖｉｃｅｓ）誌、第Ｅ
Ｄ−２６巻、第４号、４月、１９７９年、第７１７頁−
第７２２頁に開示されているＳＡＭＰＬＥが広く用いら
れている。この種のプログラムでは、リソグラフィー工
程でのレジストの現像、及び、エツチング工程での被シ
ミユレーシヨン対象の形状の時間変化の追跡には、スト
リングモデル（ｓｔｒｉｎｇ ｍｏｄｅｌ ＞が用いら
れてきた。
・イー・イー・イー・トランザクション・オン−エレク
トロン・デバイシス（ＩＥＥＥ Ｔｒａｎｓａｃｔｉｏ
ｎｏｎ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ−ｄｅｖｉｃｅｓ）誌、第Ｅ
Ｄ−２６巻、第４号、４月、１９７９年、第７１７頁−
第７２２頁に開示されているＳＡＭＰＬＥが広く用いら
れている。この種のプログラムでは、リソグラフィー工
程でのレジストの現像、及び、エツチング工程での被シ
ミユレーシヨン対象の形状の時間変化の追跡には、スト
リングモデル（ｓｔｒｉｎｇ ｍｏｄｅｌ ＞が用いら
れてきた。
第２図を用いてストリングモデルを解説する。
第２図は現像途中のレジスト形状のシミュレーションの
模式図で右方向をＸ方向、下方向を２方向とする。第２
図において、ある時間ｔでの被シミユレーシヨン対象表
面の断面形状は被シミユレーシヨン対象の表面に適度な
間隔で配置された点Ｐ １（ｔ）の集合と隣合う点を結
ぶ線分の集合で近似される。第２図で、１，２はそれぞ
れ前記点Ｐｉ（１）の一つと、前記線分の一つを示す。
模式図で右方向をＸ方向、下方向を２方向とする。第２
図において、ある時間ｔでの被シミユレーシヨン対象表
面の断面形状は被シミユレーシヨン対象の表面に適度な
間隔で配置された点Ｐ １（ｔ）の集合と隣合う点を結
ぶ線分の集合で近似される。第２図で、１，２はそれぞ
れ前記点Ｐｉ（１）の一つと、前記線分の一つを示す。
以降の説明では、点ＰｉのＸ、Ｚ平面での位置を（ｘｉ
。
。
ｚｉ）とする。第２図で、折れ線よりも下の斜線部は、
未除去の物質を表わす。ここで、物質の除去速度は単位
時間当りの表面の後退距離として、予め、Ｘ、Ｚの関数
Ｒ（ｘ、ｚ）として与えられている。ストリングモデル
では、ある時間間隔Δを毎に各点Ｐ １（ｔ）をＲ（ｘ
ｉ、ｚｉ）とΔｔの積の距離だけ移動させて、時刻を十
Δｔにおける点Ｐｉ（ｔ＋Δｔ）を求める。このとき、
各点Ｐ １（ｔ）の移動方向３は、両端の点（ｉ＝１．
Ｎ）を除き、線分Ｐ ｉ １（ｔ）Ｐ １（ｔ）と線
分Ｐ １（ｔ）Ｐ ｉ ＋ １（１）がなす角の２等分
線の方向と定める。両端の点の移動方向は、種々の決定
方法がある。例えば、線分の法線方向と定める。
未除去の物質を表わす。ここで、物質の除去速度は単位
時間当りの表面の後退距離として、予め、Ｘ、Ｚの関数
Ｒ（ｘ、ｚ）として与えられている。ストリングモデル
では、ある時間間隔Δを毎に各点Ｐ １（ｔ）をＲ（ｘ
ｉ、ｚｉ）とΔｔの積の距離だけ移動させて、時刻を十
Δｔにおける点Ｐｉ（ｔ＋Δｔ）を求める。このとき、
各点Ｐ １（ｔ）の移動方向３は、両端の点（ｉ＝１．
Ｎ）を除き、線分Ｐ ｉ １（ｔ）Ｐ １（ｔ）と線
分Ｐ １（ｔ）Ｐ ｉ ＋ １（１）がなす角の２等分
線の方向と定める。両端の点の移動方向は、種々の決定
方法がある。例えば、線分の法線方向と定める。
発明が解決しようとする課題
従来のストリングモデルでは、表面上に設けた各点の移
動方向を、両端を除き、隣合う線分の２等分線の方向と
定めている。そのために、曲率半径が小さい部分、つま
り、隣合う線分のなす角度が小さい部分での計算誤差が
大きくなる。第３図を用いてこれを説明する。
動方向を、両端を除き、隣合う線分の２等分線の方向と
定めている。そのために、曲率半径が小さい部分、つま
り、隣合う線分のなす角度が小さい部分での計算誤差が
大きくなる。第３図を用いてこれを説明する。
第３図で実線よりも左の部分が、未除去の物質とする。
このような、鋭角的な形状は、フォトリソグラフィーの
シミュレーションにおいて、レジスト側壁に現われる定
在波などに相当する。点６から１０は時間ｔでの表面を
表わす点であり、簡単のために、点６．７．１０と点８
．９．１０はそれぞれ半直線２．ｍ上に並んでいるとす
る。さらに、第３図は、小さい部分を拡大したもので、
溶解速度Ｒ（ｘ、ｚ）は、６から１０の各点で近似的に
一定値Ｒと考える。
シミュレーションにおいて、レジスト側壁に現われる定
在波などに相当する。点６から１０は時間ｔでの表面を
表わす点であり、簡単のために、点６．７．１０と点８
．９．１０はそれぞれ半直線２．ｍ上に並んでいるとす
る。さらに、第３図は、小さい部分を拡大したもので、
溶解速度Ｒ（ｘ、ｚ）は、６から１０の各点で近似的に
一定値Ｒと考える。
ここで時間Δを後には、点６，７は半直線ｅの法線方向
下向きにＲΔｔ、点８，９は半直線ｍの法線方向上向き
にＲΔｔ、点１０は、半直線ｅ。
下向きにＲΔｔ、点８，９は半直線ｍの法線方向上向き
にＲΔｔ、点１０は、半直線ｅ。
ｍの２等分角の方向左向きにＲΔｔの距離移動し、それ
ぞれ、点１１から１５に移動する。しかし、現実にレジ
ストなどの溶解は、表面を表わす２半直線ｅ、ｍ上のす
べての点に対して法線方向に進む。そのために、実際に
は、Ａで示す直線上の部分、つまり、点１０をはさむ半
直線ｅ２ｍの２等分線Ｃから半直線ｅ１ｍにおろした垂
線ｋ。
ぞれ、点１１から１５に移動する。しかし、現実にレジ
ストなどの溶解は、表面を表わす２半直線ｅ、ｍ上のす
べての点に対して法線方向に進む。そのために、実際に
は、Ａで示す直線上の部分、つまり、点１０をはさむ半
直線ｅ２ｍの２等分線Ｃから半直線ｅ１ｍにおろした垂
線ｋ。
ｊの距離ｐが、ｐ＜＝ＲΔｔとなる部分は溶解する。し
かし、従来のモデルを用いた時、点１０は、２等分線Ｃ
に沿って距離ＲΔｔのみ移動し、点１５に移る。しかし
、第３図においてＡで示す部分は時刻ｔ＋Δｔには溶解
している。そのために、第３図のような形状を従来のモ
デルでシミュレーションした場合には、曲率半径の小さ
い部分が実際よりも遅く溶解し、得られた形状が実際の
形状と大きく異なる。実際に、従来のストリングモデル
を用いて、フォトリソグラフィーのシミュレーションを
行なった場合は、定在波によるレジスト側壁の突起が、
実際よりも大きく現われて、精度よいシミュレーション
が行えない。この問題は表面形状を有限個の点で表現す
ることによって生じる本質的な問題であり、溶解速度Ｒ
（ｘ、ｚ）が定数でなく、また、各点が、直線上に配置
されていない場合にも、ある隣合う線分のなす角度が小
さいとき、顕著に現われる問題である。この現象を小さ
くするには、点Ｐｉの個数を増やして、間隔を狭くする
などが考えられるが、計算時間の増大と計算に要する記
憶容量の増大をともない実用的ではない。
かし、従来のモデルを用いた時、点１０は、２等分線Ｃ
に沿って距離ＲΔｔのみ移動し、点１５に移る。しかし
、第３図においてＡで示す部分は時刻ｔ＋Δｔには溶解
している。そのために、第３図のような形状を従来のモ
デルでシミュレーションした場合には、曲率半径の小さ
い部分が実際よりも遅く溶解し、得られた形状が実際の
形状と大きく異なる。実際に、従来のストリングモデル
を用いて、フォトリソグラフィーのシミュレーションを
行なった場合は、定在波によるレジスト側壁の突起が、
実際よりも大きく現われて、精度よいシミュレーション
が行えない。この問題は表面形状を有限個の点で表現す
ることによって生じる本質的な問題であり、溶解速度Ｒ
（ｘ、ｚ）が定数でなく、また、各点が、直線上に配置
されていない場合にも、ある隣合う線分のなす角度が小
さいとき、顕著に現われる問題である。この現象を小さ
くするには、点Ｐｉの個数を増やして、間隔を狭くする
などが考えられるが、計算時間の増大と計算に要する記
憶容量の増大をともない実用的ではない。
従来のモデルには、以上のような問題がある。
課題を解決するための手段
以上のような問題点を解決するためにに本発明では、被
除去物質の除去速度を位置の関数として与える手段と、
被除去物質の表面の断面形状を有限個の点で近似して表
現する手段と、表面の断面形状を表現する各点とそれに
隣接する２点を結ぶ２線分間の角度を求める手段と、あ
る点を挟む２線分間の角度がある与えられた角度より小
さい場合に、前記点の計算刻み時間後の位置を前記２線
分を法線方向にその位置での除去速度と計算刻み時間の
積の距離動かし、移動後の各々の線分を通る２Ｍ線の交
点として求める手段と、ある点を挟む２線分間の角度が
ある与えられた角度より大きい場合に、前記点の計算刻
み時間後の位置を、前記２線分のなす角の２等分線の方
向にその位置での除去速度と計算刻み時間の積の距離動
かした位置として求める手段を用いて、リソグラフィー
工程、及び、エツチング工程の形状シミュレーションを
行なう。
除去物質の除去速度を位置の関数として与える手段と、
被除去物質の表面の断面形状を有限個の点で近似して表
現する手段と、表面の断面形状を表現する各点とそれに
隣接する２点を結ぶ２線分間の角度を求める手段と、あ
る点を挟む２線分間の角度がある与えられた角度より小
さい場合に、前記点の計算刻み時間後の位置を前記２線
分を法線方向にその位置での除去速度と計算刻み時間の
積の距離動かし、移動後の各々の線分を通る２Ｍ線の交
点として求める手段と、ある点を挟む２線分間の角度が
ある与えられた角度より大きい場合に、前記点の計算刻
み時間後の位置を、前記２線分のなす角の２等分線の方
向にその位置での除去速度と計算刻み時間の積の距離動
かした位置として求める手段を用いて、リソグラフィー
工程、及び、エツチング工程の形状シミュレーションを
行なう。
作用
隣合う線分のなす角度が小さい点Ｐｉ（ｔ）において、
それら線分を通る直線を溶解速度と時間間隔Δｔの積の
距離を法線方向に移動させ、その交点を新たな点Ｐｉ（
ｔ＋Δｔ）とすることは、近似的にその部分の点Ｐｉの
間隔を無限に小さく設定してシミュレーションを行なう
ことに相当する。
それら線分を通る直線を溶解速度と時間間隔Δｔの積の
距離を法線方向に移動させ、その交点を新たな点Ｐｉ（
ｔ＋Δｔ）とすることは、近似的にその部分の点Ｐｉの
間隔を無限に小さく設定してシミュレーションを行なう
ことに相当する。
これにより、被シミユレーシヨン対象の形状を有限個の
点で近似したために、周率半径の小さい部分、つまり、
隣合う線分の角度が比較的小さい部分で生じた物質表面
を表わす点の進行の遅れを防ぐことかできる。また、隣
合う線分のなす角度が大きい点Ｐ １（ｔ）において、
隣合う線分のなす角の２等分線の方向に前記点Ｐ １（
ｔ）の移動方向を設定することで、全ての点において２
直線の交点を求める必要がなく、計算時間を短くするこ
とができる。
点で近似したために、周率半径の小さい部分、つまり、
隣合う線分の角度が比較的小さい部分で生じた物質表面
を表わす点の進行の遅れを防ぐことかできる。また、隣
合う線分のなす角度が大きい点Ｐ １（ｔ）において、
隣合う線分のなす角の２等分線の方向に前記点Ｐ １（
ｔ）の移動方向を設定することで、全ての点において２
直線の交点を求める必要がなく、計算時間を短くするこ
とができる。
実施例
第１図に、本発明を用いたストリングモデルによる形状
シミュレーションのフローチャートの一例を示す。
シミュレーションのフローチャートの一例を示す。
第１図において、溶解速度の計算手段１７で示すルーチ
ンで除去（溶解）速度をｘ、ｚの開数Ｒ（ｘ、ｚ）とし
て求める。
ンで除去（溶解）速度をｘ、ｚの開数Ｒ（ｘ、ｚ）とし
て求める。
初期設定の手段１８で示すルーチンで、被シミユレーシ
ヨン対象の初期形状にもとづいて、点Ｐｉの初期位置を
決定する。ここでは、点Ｐｉの個数をＮ個とする。
ヨン対象の初期形状にもとづいて、点Ｐｉの初期位置を
決定する。ここでは、点Ｐｉの個数をＮ個とする。
時刻変数を初期化する手段１９、変数ｉを初期化する手
段２０で、時刻変数ｔと、点の番号の変数ｉを初期化す
る。
段２０で、時刻変数ｔと、点の番号の変数ｉを初期化す
る。
点Ｐｉの位置を判断する手段２１において、点Ｐｉが端
の点（ｉ−１ｏｒＮ）かどうか判断する。
の点（ｉ−１ｏｒＮ）かどうか判断する。
端の点であれば、点の進行方向を場合分けして移動させ
る必要があるので、端点処理手段２２において点Ｐｉを
時刻ｔ＋Δｔの位置に移動させる。
る必要があるので、端点処理手段２２において点Ｐｉを
時刻ｔ＋Δｔの位置に移動させる。
線分のなす角度を判断する手段２３において、点Ｐｉを
はさむ線分の角度が、あらかじめパラメータとして与え
る角度θ０以下かどうか判断する。
はさむ線分の角度が、あらかじめパラメータとして与え
る角度θ０以下かどうか判断する。
角度がθ０以下の時は、線分を移動する手段２４におい
て本発明による方法で、点Ｐｉをｔ十Δｔの位置に移動
する。ここでは、直線ＰｉＰｉ１の移動距離は、点Ｐｉ
での除去速度Ｒ（ｘｉ。
て本発明による方法で、点Ｐｉをｔ十Δｔの位置に移動
する。ここでは、直線ＰｉＰｉ１の移動距離は、点Ｐｉ
での除去速度Ｒ（ｘｉ。
ｚｉ）とそれに隣接する点Ｐｉ−１での除去速度Ｒ（ｘ
ｉ−１，ｚｉ−１）の単純平均と時間間隔Δｔの積とす
る。直線ＰｉＰｉ＋１の移動距離についても同様に点Ｐ
ｉでの除去速度Ｒ（ｘｉ、ｚｉ）とそれに隣接する点Ｐ
ｉ＋１での除去速度Ｒ（ｘｉ＋１．ｚｉ＋１）での単純
平均とΔｔの積とする。
ｉ−１，ｚｉ−１）の単純平均と時間間隔Δｔの積とす
る。直線ＰｉＰｉ＋１の移動距離についても同様に点Ｐ
ｉでの除去速度Ｒ（ｘｉ、ｚｉ）とそれに隣接する点Ｐ
ｉ＋１での除去速度Ｒ（ｘｉ＋１．ｚｉ＋１）での単純
平均とΔｔの積とする。
角度がθ０を越える場合は、線分のなす角度の２等分角
上を移動する手段２５において点Ｐｉをその点を挟む線
分の２等分線の方向にＲ（ｘｉ。
上を移動する手段２５において点Ｐｉをその点を挟む線
分の２等分線の方向にＲ（ｘｉ。
ｚｉ）Δｔの距離移動する。
変数ｉをカウントする手段２６でｉをインクリメントす
る。処理終了を判断する手段２７でｉ〉Ｎかどうか判断
する。ｉ＞Ｎなら、その時刻の計算は完了なので時刻を
カウントする手段２８へ進む。ｉ＞Ｎでなければ、次の
点を計算するために、点Ｐｉの位置を判断する手段２１
へ戻る。
る。処理終了を判断する手段２７でｉ〉Ｎかどうか判断
する。ｉ＞Ｎなら、その時刻の計算は完了なので時刻を
カウントする手段２８へ進む。ｉ＞Ｎでなければ、次の
点を計算するために、点Ｐｉの位置を判断する手段２１
へ戻る。
時刻をカウントする手段２８でｔをΔｔインクリメント
する。ｔ〉終了時刻であれば、計算を終了する手段３０
へ進む。ｔ〉終了時刻でなければ、変数ｉを初期化する
手段２０へ戻る。
する。ｔ〉終了時刻であれば、計算を終了する手段３０
へ進む。ｔ〉終了時刻でなければ、変数ｉを初期化する
手段２０へ戻る。
なお、角度θ０はフィッティングパラメータであり、こ
れを実験結果にもとづいて最適化する。
れを実験結果にもとづいて最適化する。
発明の効果
本発明により リソグラフィー工程、及び、エツチング
工程での形状シミュレーションを従来よりも精度よく行
なうことができる。特に、フォトリソゲラフイーのシミ
ュレーションにおいて、定在波によるレジストパターン
側壁の凹凸を実際のレジストパターンにおける凹凸に近
づけることができる。これにより、シミュレーションに
よるプロセスの予測、評価をより精度よく行えるので、
プロセス開発の能率が向上する。
工程での形状シミュレーションを従来よりも精度よく行
なうことができる。特に、フォトリソゲラフイーのシミ
ュレーションにおいて、定在波によるレジストパターン
側壁の凹凸を実際のレジストパターンにおける凹凸に近
づけることができる。これにより、シミュレーションに
よるプロセスの予測、評価をより精度よく行えるので、
プロセス開発の能率が向上する。
第１図は本発明の一実施例である形状シミュレーション
のフローチャート、第２図は従来のストリングモデルを
説明するための図、第３図は従来のストリングモデルに
おける課題を説明するための図である。 １７・・・・・・溶解速度の計算手段、１８・・・・・
・初期設定の手段、１９・・・・・・時刻変数を初期化
する手段、２０・・・・・・変数ｉを初期化する手段、
２１・・・・・・点Ｐｉの位置を判断する手段、２２・
・・・・・端点処理手段、２３・・・・・・線分のなす
角度を判断する手段、２４・・・・・・線分を移動する
手段、２５・・・・・・線分のなす角度の２等分角上を
移動する手段、２６・・・・・・変数１をカウントする
手段、２７・・・・・・処理終了を判断する手段、２８
・・・・・・時刻をカウントする手段、２９・・・・・
・時刻が終了か判断する手段、３０・・・・・・終了す
る手段。 代理人の氏名 弁理士 粟野重孝 ほか１名第１図 第２図 Ｉ。 第３図
のフローチャート、第２図は従来のストリングモデルを
説明するための図、第３図は従来のストリングモデルに
おける課題を説明するための図である。 １７・・・・・・溶解速度の計算手段、１８・・・・・
・初期設定の手段、１９・・・・・・時刻変数を初期化
する手段、２０・・・・・・変数ｉを初期化する手段、
２１・・・・・・点Ｐｉの位置を判断する手段、２２・
・・・・・端点処理手段、２３・・・・・・線分のなす
角度を判断する手段、２４・・・・・・線分を移動する
手段、２５・・・・・・線分のなす角度の２等分角上を
移動する手段、２６・・・・・・変数１をカウントする
手段、２７・・・・・・処理終了を判断する手段、２８
・・・・・・時刻をカウントする手段、２９・・・・・
・時刻が終了か判断する手段、３０・・・・・・終了す
る手段。 代理人の氏名 弁理士 粟野重孝 ほか１名第１図 第２図 Ｉ。 第３図
Claims (1)
- 被除去物質の除去速度を位置の関数として与える手段
と、前記被除去物質の表面の断面形状を有限個の点で近
似して表現する手段と、前記被除去物質の表面の断面形
状を表現する各点とそれに隣接する２点を結ぶ２線分間
の角度を求める手段と、ある点を挟む２線分間の角度が
ある与えられた角度より小さい場合に、前記点の計算刻
み時間後の位置を前記２線分を法線方向にその位置での
除去速度と計算刻み時間の積の距離動かし、移動後の各
々の線分を通る２直線の交点として求める手段と、ある
点を挟む２線分間の角度がある与えられた角度より大き
い場合に、前記点の計算刻み時間後の位置を、前記２線
分のなす角の２等分線の方向にその位置での除去速度と
計算刻み時間の積の距離動かした位置として求める手段
を有することを特徴とする形状シミュレーション方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2144802A JPH0437116A (ja) | 1990-06-01 | 1990-06-01 | 形状シミュレーション方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2144802A JPH0437116A (ja) | 1990-06-01 | 1990-06-01 | 形状シミュレーション方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0437116A true JPH0437116A (ja) | 1992-02-07 |
Family
ID=15370806
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2144802A Pending JPH0437116A (ja) | 1990-06-01 | 1990-06-01 | 形状シミュレーション方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0437116A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5574658A (en) * | 1993-06-25 | 1996-11-12 | Fujitsu Limited | Method of designing optimum skeleton and plate structures |
| JP2006265641A (ja) * | 2005-03-24 | 2006-10-05 | Furukawa Electric Co Ltd:The | エッチング・シミュレーション方法及びエッチング・シミュレーション装置 |
| JP2009049111A (ja) * | 2007-08-16 | 2009-03-05 | Toshiba Corp | シミュレーション方法およびシミュレーションプログラム |
| US11261030B2 (en) | 2019-08-12 | 2022-03-01 | Clean Conveyor Belt BVBA | Conveyor belt with upright ribs |
-
1990
- 1990-06-01 JP JP2144802A patent/JPH0437116A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5574658A (en) * | 1993-06-25 | 1996-11-12 | Fujitsu Limited | Method of designing optimum skeleton and plate structures |
| JP2006265641A (ja) * | 2005-03-24 | 2006-10-05 | Furukawa Electric Co Ltd:The | エッチング・シミュレーション方法及びエッチング・シミュレーション装置 |
| JP2009049111A (ja) * | 2007-08-16 | 2009-03-05 | Toshiba Corp | シミュレーション方法およびシミュレーションプログラム |
| US11261030B2 (en) | 2019-08-12 | 2022-03-01 | Clean Conveyor Belt BVBA | Conveyor belt with upright ribs |
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