JPH04372845A - 蛍光ｘ線分析装置 - Google Patents
蛍光ｘ線分析装置Info
- Publication number
- JPH04372845A JPH04372845A JP15131491A JP15131491A JPH04372845A JP H04372845 A JPH04372845 A JP H04372845A JP 15131491 A JP15131491 A JP 15131491A JP 15131491 A JP15131491 A JP 15131491A JP H04372845 A JPH04372845 A JP H04372845A
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- JP
- Japan
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- fluorescent
- rays
- sample
- layer
- ray
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- Pending
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、蛍光Ｘ線分析装置に関
し、特に、試料のある特定の部分のみを分析するために
それ以外の部分を被覆したり、小さい試料を保持するた
めに使用される試料マスクに関する。
し、特に、試料のある特定の部分のみを分析するために
それ以外の部分を被覆したり、小さい試料を保持するた
めに使用される試料マスクに関する。
【０００２】
【従来の技術】蛍光Ｘ線分析では入射Ｘ線の径を小さく
絞ることが困難であるため、小さい領域を分析する場合
や元々小さい試料を分析する場合には、試料マスクを使
用しなければならない。このような試料マスク用材料と
して、従来は、ステンレス鋼や純Ｔｉ、純Ｚｒ等の板に
穴を空けたものが用いられていた。なお、ステンレス鋼
の場合、ステンレス鋼製の板をそのままマスクとして用
いたのでは、マスクの部分からステンレス鋼の成分であ
るＦｅ、Ｎｉ、Ｃｒ等の主要構成元素や種々の不純物元
素による蛍光Ｘ線が放出され、試料の分析を困難にする
。従って、ステンレス鋼の場合には励起Ｘ線が照射され
る部分に金メッキを施すようにしている。
絞ることが困難であるため、小さい領域を分析する場合
や元々小さい試料を分析する場合には、試料マスクを使
用しなければならない。このような試料マスク用材料と
して、従来は、ステンレス鋼や純Ｔｉ、純Ｚｒ等の板に
穴を空けたものが用いられていた。なお、ステンレス鋼
の場合、ステンレス鋼製の板をそのままマスクとして用
いたのでは、マスクの部分からステンレス鋼の成分であ
るＦｅ、Ｎｉ、Ｃｒ等の主要構成元素や種々の不純物元
素による蛍光Ｘ線が放出され、試料の分析を困難にする
。従って、ステンレス鋼の場合には励起Ｘ線が照射され
る部分に金メッキを施すようにしている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】試料マスクとして純Ｔ
ｉや純Ｚｒの板を用いた場合、純金属板とはいっても、
それらには僅かに不純物元素が含まれているため、試料
の分析を高精度に行なおうとする場合には不適当である
。また、Ｔｉ、Ｚｒ等の分析を行なうことができないと
いう問題もある。金メッキでは、金自体がＫ、Ｌ、Ｍ、
Ｎ等の多数の蛍光Ｘ線を発生するという問題がある。特
に、波長４６．７オングストロームのＮ線が炭素の４４
．７オングストロームのＫα線に近いため、炭素を含む
試料の分析精度に影響を与えるという問題があった。
ｉや純Ｚｒの板を用いた場合、純金属板とはいっても、
それらには僅かに不純物元素が含まれているため、試料
の分析を高精度に行なおうとする場合には不適当である
。また、Ｔｉ、Ｚｒ等の分析を行なうことができないと
いう問題もある。金メッキでは、金自体がＫ、Ｌ、Ｍ、
Ｎ等の多数の蛍光Ｘ線を発生するという問題がある。特
に、波長４６．７オングストロームのＮ線が炭素の４４
．７オングストロームのＫα線に近いため、炭素を含む
試料の分析精度に影響を与えるという問題があった。
【０００４】本発明はこのような課題を解決するために
成されたものであり、その目的とするところは、試料分
析に影響するような蛍光Ｘ線を放出することのない試料
マスクを備えた蛍光Ｘ線分析装置を提供することにある
。
成されたものであり、その目的とするところは、試料分
析に影響するような蛍光Ｘ線を放出することのない試料
マスクを備えた蛍光Ｘ線分析装置を提供することにある
。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に成された本発明では、試料の分析対象箇所以外の部分
からの蛍光Ｘ線を遮断するために用いられるマスクを備
えた蛍光Ｘ線分析装置において、重金属から成る中間層
と、励起Ｘ線源のターゲット材と同じ材質から成る最上
層とを含む多重層により被覆された試料マスクを有する
ことを特徴とする。
に成された本発明では、試料の分析対象箇所以外の部分
からの蛍光Ｘ線を遮断するために用いられるマスクを備
えた蛍光Ｘ線分析装置において、重金属から成る中間層
と、励起Ｘ線源のターゲット材と同じ材質から成る最上
層とを含む多重層により被覆された試料マスクを有する
ことを特徴とする。
【０００６】
【作用】励起Ｘ線が多重層を通過して試料マスクの基板
に達した場合、基板及び多重層の各層から蛍光Ｘ線が放
出される。まず、基板から放出される蛍光Ｘ線は多重層
中の中間層を構成する重金属（重金属であるため、吸収
係数が大きい）により吸収され、外部には放出されない
（蛍光Ｘ線分析装置の分析部には入らない）。この中間
層からの蛍光Ｘ線は最上層により吸収され、外部に放出
されない。（最上層の下に複数の中間層がある場合には
、下側の中間層からの蛍光Ｘ線は上側の中間層により吸
収され、最上層の直下の中間層からの蛍光Ｘ線が最上層
により吸収される。）最上層から放出される蛍光Ｘ線は
分析部に入るが、最上層が励起Ｘ線源と同じ材質から成
るため、元々分析の妨げにはならない。
に達した場合、基板及び多重層の各層から蛍光Ｘ線が放
出される。まず、基板から放出される蛍光Ｘ線は多重層
中の中間層を構成する重金属（重金属であるため、吸収
係数が大きい）により吸収され、外部には放出されない
（蛍光Ｘ線分析装置の分析部には入らない）。この中間
層からの蛍光Ｘ線は最上層により吸収され、外部に放出
されない。（最上層の下に複数の中間層がある場合には
、下側の中間層からの蛍光Ｘ線は上側の中間層により吸
収され、最上層の直下の中間層からの蛍光Ｘ線が最上層
により吸収される。）最上層から放出される蛍光Ｘ線は
分析部に入るが、最上層が励起Ｘ線源と同じ材質から成
るため、元々分析の妨げにはならない。
【０００７】
【実施例】本発明の一実施例を図１により説明する。本
実施例の試料マスク１５はステンレス鋼製の基板１１を
使用したものであり、試料１０の分析箇所に励起Ｘ線を
照射するための窓１６の周囲には、金（Ａｕ）１２及び
ロジウム（Ｒｈ）１３の２層から成る多重層１４を被覆
している。なお、本試料マスク１５は、ロジウムターゲ
ットのＸ線管球により励起Ｘ線を生成する場合に用いる
。
実施例の試料マスク１５はステンレス鋼製の基板１１を
使用したものであり、試料１０の分析箇所に励起Ｘ線を
照射するための窓１６の周囲には、金（Ａｕ）１２及び
ロジウム（Ｒｈ）１３の２層から成る多重層１４を被覆
している。なお、本試料マスク１５は、ロジウムターゲ
ットのＸ線管球により励起Ｘ線を生成する場合に用いる
。
【０００８】励起Ｘ線を窓１６の付近に照射したとき、
試料１０以外に、基板１１及び多重層１４の各層からも
蛍光Ｘ線が放出される。このうち、基板１１からの蛍光
Ｘ線（基板１１はステンレス鋼製であるため、Ｆｅ、Ｃ
ｒ、Ｎｉ等の蛍光Ｘ線が中心である）は多重層１４の第
１層であるＡｕ層１２により吸収される。Ａｕ層１２か
ら放出される蛍光Ｘ線はその上層であるＲｈ層１３によ
り吸収される。最上層であるＲｈ層１３から放出される
蛍光Ｘ線は試料１０からの蛍光Ｘ線と共に蛍光Ｘ線装置
のＸ線分析部に入るが、ＲｈターゲットのＸ線管球を使
用していることから試料１０については元々Ｒｈ成分の
分析を行なうことを意図していないため、最上層１３か
らの蛍光Ｘ線の放出は問題とならない。
試料１０以外に、基板１１及び多重層１４の各層からも
蛍光Ｘ線が放出される。このうち、基板１１からの蛍光
Ｘ線（基板１１はステンレス鋼製であるため、Ｆｅ、Ｃ
ｒ、Ｎｉ等の蛍光Ｘ線が中心である）は多重層１４の第
１層であるＡｕ層１２により吸収される。Ａｕ層１２か
ら放出される蛍光Ｘ線はその上層であるＲｈ層１３によ
り吸収される。最上層であるＲｈ層１３から放出される
蛍光Ｘ線は試料１０からの蛍光Ｘ線と共に蛍光Ｘ線装置
のＸ線分析部に入るが、ＲｈターゲットのＸ線管球を使
用していることから試料１０については元々Ｒｈ成分の
分析を行なうことを意図していないため、最上層１３か
らの蛍光Ｘ線の放出は問題とならない。
【０００９】同様に、クロム（Ｃｒ）ターゲット、モリ
ブデン（Ｍｏ）ターゲット等のＸ線管球を使用する場合
には、多重層１４の最上層１３にはその金属を使用する
。また、中間層１２としては、金（Ａｕ）の他に、プラ
チナ（Ｐｔ）や鉛（Ｐｂ）等の吸収係数の大きい金属を
使用することができる。なお、最上層１３とこのような
重金属中間層１２との接着性が良くない場合には、それ
らの間に適当な接着層を介在させてもよい。
ブデン（Ｍｏ）ターゲット等のＸ線管球を使用する場合
には、多重層１４の最上層１３にはその金属を使用する
。また、中間層１２としては、金（Ａｕ）の他に、プラ
チナ（Ｐｔ）や鉛（Ｐｂ）等の吸収係数の大きい金属を
使用することができる。なお、最上層１３とこのような
重金属中間層１２との接着性が良くない場合には、それ
らの間に適当な接着層を介在させてもよい。
【００１０】
【発明の効果】本発明に係る試料マスクを使用すること
により、試料の分析結果に影響するような蛍光Ｘ線が試
料マスクから放出されることがなくなり、精度の高い蛍
光Ｘ線分析を行なうことができるようになる。
により、試料の分析結果に影響するような蛍光Ｘ線が試
料マスクから放出されることがなくなり、精度の高い蛍
光Ｘ線分析を行なうことができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の一実施例である試料マスクの断面
図。
図。
１０…試料
１１…マスク基板 １２…中間層（Ａｕ）
１３…最上層（Ｒｈ） １４…多重層
１５…試料マスク １６…分析窓
１１…マスク基板 １２…中間層（Ａｕ）
１３…最上層（Ｒｈ） １４…多重層
１５…試料マスク １６…分析窓
Claims (1)
- 【請求項１】 試料の分析対象箇所以外の部分からの
蛍光Ｘ線を遮断するために用いられるマスクを備えた蛍
光Ｘ線分析装置において、重金属から成る中間層と、励
起Ｘ線源のターゲット材と同じ材質から成る最上層とを
含む多重層により被覆された試料マスクを有することを
特徴とするＸ線分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15131491A JPH04372845A (ja) | 1991-06-24 | 1991-06-24 | 蛍光ｘ線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15131491A JPH04372845A (ja) | 1991-06-24 | 1991-06-24 | 蛍光ｘ線分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04372845A true JPH04372845A (ja) | 1992-12-25 |
Family
ID=15515939
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15131491A Pending JPH04372845A (ja) | 1991-06-24 | 1991-06-24 | 蛍光ｘ線分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04372845A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005015189A3 (en) * | 2003-08-12 | 2005-07-07 | X Ray Optical Sys Inc | X-ray fluorescence system with apertured sample mask for analyzing patterned surfaces |
| JP2009257797A (ja) * | 2008-04-14 | 2009-11-05 | Shimadzu Corp | エネルギ分散型ｘ線検出装置 |
| JP2013221745A (ja) * | 2012-04-12 | 2013-10-28 | Horiba Ltd | Ｘ線検出装置 |
| RU2580334C1 (ru) * | 2014-09-17 | 2016-04-10 | Общество с ограниченной ответственностью "Научно-исследовательский институт природных газов и газовых технологий - Газпром ВНИИГАЗ" | Способ определения тяжелых металлов в техническом углероде |
-
1991
- 1991-06-24 JP JP15131491A patent/JPH04372845A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005015189A3 (en) * | 2003-08-12 | 2005-07-07 | X Ray Optical Sys Inc | X-ray fluorescence system with apertured sample mask for analyzing patterned surfaces |
| US7023955B2 (en) | 2003-08-12 | 2006-04-04 | X-Ray Optical System, Inc. | X-ray fluorescence system with apertured mask for analyzing patterned surfaces |
| JP2007502421A (ja) * | 2003-08-12 | 2007-02-08 | エックス−レイ オプティカル システムズ インコーポレーテッド | パターン化された表面の分析のための開口マスクを備えるｘ線蛍光システム |
| JP2009257797A (ja) * | 2008-04-14 | 2009-11-05 | Shimadzu Corp | エネルギ分散型ｘ線検出装置 |
| JP2013221745A (ja) * | 2012-04-12 | 2013-10-28 | Horiba Ltd | Ｘ線検出装置 |
| RU2580334C1 (ru) * | 2014-09-17 | 2016-04-10 | Общество с ограниченной ответственностью "Научно-исследовательский институт природных газов и газовых технологий - Газпром ВНИИГАЗ" | Способ определения тяжелых металлов в техническом углероде |
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