JPH0437560B2 - - Google Patents
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- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 35
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 35
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 33
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 claims description 23
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 claims description 23
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 13
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 82
- 239000010408 film Substances 0.000 description 36
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 18
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 15
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 15
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 11
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 11
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 10
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 9
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 9
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 8
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 7
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 7
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 7
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 7
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 7
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KXJGSNRAQWDDJT-UHFFFAOYSA-N 1-acetyl-5-bromo-2h-indol-3-one Chemical compound BrC1=CC=C2N(C(=O)C)CC(=O)C2=C1 KXJGSNRAQWDDJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 5
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 5
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 5
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 4
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 4
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 3
- CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N Sucrose Chemical compound O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@@]1(CO)O[C@@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N 0.000 description 3
- 229930006000 Sucrose Natural products 0.000 description 3
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 3
- 229920000554 ionomer Polymers 0.000 description 3
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 239000005720 sucrose Substances 0.000 description 3
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 3
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DFKKECCCMVVMMA-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trifluoroethene hydrochloride Chemical group Cl.FC=C(F)F DFKKECCCMVVMMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- VVTSZOCINPYFDP-UHFFFAOYSA-N [O].[Ar] Chemical compound [O].[Ar] VVTSZOCINPYFDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 2
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 229920002493 poly(chlorotrifluoroethylene) Polymers 0.000 description 2
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 2
- 239000005023 polychlorotrifluoroethylene (PCTFE) polymer Substances 0.000 description 2
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- PFNQVRZLDWYSCW-UHFFFAOYSA-N (fluoren-9-ylideneamino) n-naphthalen-1-ylcarbamate Chemical compound C12=CC=CC=C2C2=CC=CC=C2C1=NOC(=O)NC1=CC=CC2=CC=CC=C12 PFNQVRZLDWYSCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 3-(oxolan-2-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1CCCO1 WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHDVXKLFZBWKEN-UHFFFAOYSA-N C=C.F.F.F.Cl Chemical group C=C.F.F.F.Cl CHDVXKLFZBWKEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004812 Fluorinated ethylene propylene Substances 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- 239000004373 Pullulan Substances 0.000 description 1
- 229920001218 Pullulan Polymers 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZWHFTKIBIQKCA-UHFFFAOYSA-N [Sn+2]=O.[O-2].[In+3] Chemical compound [Sn+2]=O.[O-2].[In+3] AZWHFTKIBIQKCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052454 barium strontium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000009820 dry lamination Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N ethene;prop-1-ene Chemical group C=C.CC=C HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- MNQZXJOMYWMBOU-UHFFFAOYSA-N glyceraldehyde Chemical compound OCC(O)C=O MNQZXJOMYWMBOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical class C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 229920009441 perflouroethylene propylene Polymers 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920006380 polyphenylene oxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 235000019423 pullulan Nutrition 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005028 tinplate Substances 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は電界発光素子(エレクトロルミネツセ
ンス発光素子)に関し、さらに詳しくは、可撓性
を有し、耐久性に優れた電界発光素子に関する。
〔従来の技術〕
従来、電界発光素子として、電極層上に高誘電
率層、発光層、透明電極層および捕水層等を積層
したものが知られている
発光層としては、銅やアルミニウムをドープし
た硫化亜鉛などの螢光体粉末をシアノエチルセル
ロースなどの高誘電率バインダー中に分散したも
のが用いられているが、これらの螢光体粉末は、
吸湿により発光輝度が低下するという問題があ
る。
このため、電界発光素子全体を、透明な防湿性
の保護シートで包む方法が知られている。
これまでに知られている保護シートとしては次
のようなものがある。
防湿性の優れたプラスチツクフイルム、例え
ば、1塩化3弗化エチレン(以下PCTFEと略
す)を用いる方法。
2層のポリオレフインフイルムの間に酸化珪
素の蒸着層を設けたもの(実公昭61−42319)。
透明樹脂フイルムに酸化珪素や窒化珪素のス
パツタ膜を設けたもの(実公昭62−24959)。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら、これらの防湿性フイルムには、
次のような問題があつた。
のプラスチツクフイルムを用いた場合には、
防湿性が十分でないため厚いフイルムを用いる必
要があり、可撓性が劣る。最も防湿性に優れた
PCTFEフイルムの場合でも200μm以上が必要で
ある。また、プラスチツクフイルムは、高温での
防湿性能が劣るため、高温で使用すると電界発光
素子の寿命が短くなる。
やの酸化珪素や窒化珪素を蒸着やスパツタ
したものは、高い防湿性能を得るためには厚さを
300A以上、実用的には500A以上と厚くする必要
があり、この為、屈曲するとひび割れが発生した
り、接着性が悪くなり、可撓性に乏しい。また、
酸化珪素や窒化珪素の膜厚が厚くなるにともな
い、透明性が低下してくるため、発光輝度が小さ
くなる。
本発明者らは、かかる問題点を解決するため、
鋭意検討した結果、防湿性と可撓性および透明性
の優れた新規な保護シートを用いることにより、
発光輝度が高く可撓性と耐久性の優れた電界発光
素子が得られることを見出し本発明に到達した。
〔問題点を解決するための手段〕
すなわち本発明は、透明電極、電界発光層、高
誘電率層、電極および、これらを包む保護シート
からなる電界発光素子において、保護シートが、
In、Sn、Zn、ZrおよびTiから成る群から選ばれ
た少なくとも一種の金属の金属酸化物層が積層さ
れたプラスチツクフイルムから成ることを特徴と
する電界発光素子を提供する。
以下本発明の詳細について図面を用いて説明す
る。
第1図は、本発明の電界発光素子の一実施態様
を模式的に示す断面図である。
第1図において、1はポリエステルフイルムな
どのプラスチツクフイルムにアルミニウム箔や銅
箔などを接着したり、アルミニウム、銅、酸化イ
ンジウムなどを真空析出させて形成した電極層で
ある。2はチタン酸バリウムやチタン酸ストロン
チウムなどの高誘電率粉末を、DMFなどの溶媒
とともに、シアノエチルセルロース、シユクロー
ス、グリセロールプルラン、グリセロースシユク
ロースなどの高誘電率バインダー中に分散した塗
料を、電極層上にスクリーン印刷して乾燥した高
誘電率層である。3は銅やアルミニウム、マンガ
ンなどをドープした硫化亜鉛やセレン化亜鉛、硫
化カドミウムなどの螢光体を、溶媒とともにシア
ノエチルセルロース、シユクロースなどの高誘電
率バインダー中に分散した塗料を、高誘電率層上
にスクリーン印刷して乾燥した発光層である。4
はポリエステルフイルムなどの片面に、酸化錫、
酸化インジウム、酸化インジウム−酸化錫複合酸
化物などから成る透明導電層を形成した透明電極
層であり、加熱プレスなどの方法で透明導電面が
発光層と積層される。5は、In、Sn、Zn、Zrお
よびTiから成る群から選ばれた少なくとも一種
の金属の金属酸化物層が積層されたプラスチツク
フイルムから成る保護シートであり、2枚の保護
シートによつて、電極層、高誘電率層、発光層お
よび透明電極層からなる電界発光体全体を包むよ
うに接着積層される。
電界発光素子の内部には、必要に応じてポリア
ミドフイルムなどの捕水層が含まれていても良
い。
第2図は、本発明に用いられる保護シートの一
例を模式的に示す断面図である。
第2図において、11はプラスチツクフイル
ム、12はIn、Sn、Zn、ZrおよびTiから成る群
から選ばれた少なくとも一種の金属からなる金属
酸化物層、13は保護シートを接着するための熱
可塑性接着層である。
第3図は、本発明に用いられる保護シートの他
の一例を模式的に示す断面図である。
第3図において、14はプラスチツクフイル
ム、15はIn、Sn、Zn、ZrおよびTiから成る群
から選ばれた少なくとも一種の金属からなる金属
酸化物層であり、16は金属酸化物層の上に積層
されたポリエステルなどの高分子から成る有機薄
膜層であり、17は有機薄膜層上に積層されたも
う一層の金属酸化物層であり、18は保護シート
を接着するための熱可塑性接着層である。
本発明の保護シートは、プラスチツクフイルム
に、In、Sn、Zn、ZrおよびTiから成る群から選
ばれた少なくとも一種の金属からなる金属酸化物
層が積層されたものである。
プラスチツクフイルムとしては、次の代表的有
機重合体を溶融または、溶解押出しし、必要に応
じて長手方向および/または幅方向に延伸したも
のが使用できる。
代表的有機重合体としては、ポリエチレン、ポ
リプロピレンなどのポリオレフイン、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフ
タレートなどのポリエステル、塩化ビニル、塩化
ビニリデン、芳香族ポリアミド、ポリアミドイミ
ド、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリサル
フオン、ポリエーテルサルフオン、ポリエーテル
エーテルケトン、ポリアリレート、ポリフエニレ
ンサルフアイド、ポリフエニレンオキサイド、テ
トラフルオロエチレン、1塩化3弗化エチレン、
弗素化エチレンプロピレン共重合体などがあげら
れる。これらのプラスチツクフイルムが2層以上
積層されたものであつても良い。
また、これらの共重合体や、他の有機重合体と
の共重合体であつても良く、他の有機重合体を含
有するものであつても良い。これらの有機重合体
に公知の添加剤、例えば、帯電防止剤、紫外線吸
収剤、可塑剤、滑剤などが添加されていても良
い。
本発明のプラスチツクフイルムの光線透過率
は、電界発光素子の発光輝度を高めるために重要
であり、白色光線での全光線透過率が少なくとも
70%以上、好ましくは、80%以上であることが望
ましい。
本発明のプラスチツクフイルムは、金属酸化物
層の形成に先立ち、コロナ放電処理、プラズマ処
理、グロー放電処理、逆スパツタ処理、粗面化処
理などの表面処理や、公知のアンカーコート処理
が施されても良い。
本発明のプラスチツクフイルムの厚さは、特に
制限を受けないが、電界発光素子の可撓性、形態
保持性の点から10〜200μmの範囲が望ましく、更
に好ましくは、25〜100μmの範囲であることが望
ましい。
かかるプラスチツクフイルムの少なくとも一方
の面に、In、Sn、Zn、ZrおよびTiから成る群か
ら選ばれた少なくとも一種の金属の金属酸化物層
が積層される。
金属酸化物層の積層方法としては、真空蒸着、
反応性蒸着、イオンプレーテイング、スパツタリ
ングなどの物理蒸着法を用いることができる。
中でもスパツタリングによる方法が、電界発光
素子の耐久性や可撓性の点で最も好ましい。
本発明でいうスパツタリングとは、直流2極ス
パツタ、高周波2極スパツタ、直流マグネトロン
スパツタ、高周波マグネトロンスパツタなどの、
公知のスパツタリング法が、全て含まれる。ま
た、スパツタリングの際、酸素などの反応性ガス
を導入する、いわゆる反応性スパツタリングも含
まれる。
本発明で用いられる金属酸化物層としては、
In、Sn、Zn、ZrおよびTiから成る群から選ばれ
た少なくとも一種の金属の金属酸化物であり、二
種以上の金属酸化物の混合体あるいは、複合酸化
物であつても良い。
中でも、In、Sn、Znの酸化物、および、In−
Snの複合酸化物が好ましく、最も好ましくは、
In、Snの酸化物、および、In−Snの複合酸化物
が望ましい。これらの金属酸化物層は、In2O3、
SnO、SnO2、ZnO、ZrO2、TiO2などの化学量論
的な酸化物であることが好ましいが、金属原子に
対して酸素原子が少なかつたり、過剰であつたり
する、非化学量論的な酸化物や、未酸化の金属原
子が少量含まれていても良い。
金属酸化物層中には、上記の金属原子以外の元
素、例えば、Fe、Sb、C、Mo、W、Cu、Al、
Si、Niなどが、微量含まれていても良い。
金属酸化物層の厚さとしては、防湿性と可撓性
の点で、30〜250Åの範囲が好ましい。これらの
金属酸化物層は、30Å以上で防湿性能が発現し、
50Å以上の膜厚で十分な防湿性能が得られる。ま
た、必要以上に膜厚を厚くしても、これらの金属
酸化物層の場合には防湿性能は向上せず、300Å
を越えるとかえつて透明性や、可撓性が低下す
る。更に好ましくは、50Å〜200Åであることが
望ましい。
また、プラスチツクフイルム上に、2層以上の
金属酸化物層を積層すると、防湿性能がさらに向
上する。この際、それぞれの金属酸化物層が、有
機薄膜層によつて隔てられていることが好まし
い。この為、プラスチツクフイルム上に金属酸化
物層を形成した後、この金属酸化物層上に有機薄
膜層を形成し、この有機薄膜層上に更にもう一層
の金属酸化物層を形成する方法をとることが望ま
しい。
有機薄膜層として用いられる樹脂としては、ポ
リエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、
ビニル樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アイ
オノマー、ポリカーボネートなどがあげられる。
また、有機薄膜層の厚さとしては、0.1〜10μm
の範囲が好ましく、更に好ましくは、0.3〜2μm
であることが望ましい。
かかる保護シートの片面に、電界発光層全体を
袋状に包みこむため、必要に応じて熱可塑性接着
層が積層される。熱可塑性接着層は、プラスチツ
クフイルム側でも、金属酸化物層側であつても良
いが、好ましくは、金属酸化物層側に形成される
のが良い。
本発明でいう熱可塑性接着層とは、加熱および
加圧により接着が可能な高分子層を表し、その代
表的な例としては、次のようなものがある。
ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プ
ロピレン共重合体などのポリオレフイン、ポリエ
ステル、ポリアミド、アイオノマー、エチレン酢
ビ共重合体、アクリル酸エステル、メタアクリル
酸エステルなどのアクリル樹脂、ポリビニルアセ
タール、フエノール、変成エポキシ樹脂などおよ
び、これらの共重合体や、混合物などがあげられ
るが、必ずしもこれらには限定されない。
このうち、ポリオレフイン、ポリエステル、ポ
リアミド、アイオノマー、エチレン酢ビ共重合体
が望ましい。
ヒートシール可能な熱可塑性接着層の厚さは、
接着力の点で、10〜200μmの範囲が好ましく、さ
らに好ましくは30〜100μmであることが望まし
い。
金属酸化物層の上に熱可塑性接着層を積層する
方法としては、熱可塑性接着層の成分を有機溶剤
に溶解してコーテイングする方法や、熱可塑性接
着層の成分を溶融し、押出しラミネートする方
法、あるいは、あらかじめ熱可塑性接着層のシー
トを作製し、これをドライラミネートなどにより
接着積層する方法などの公知の方法が採用でき
る。
熱可塑性接着層のヒートシール温度は、使用す
る熱可塑性接着層の特性に合せて適宜、選択する
ことができるが、80℃〜180℃の温度でヒートシ
ールできるものであることが望ましい。
〔用途〕
本発明の電界発光素子は、面状照明、表示等の
分野に広く用いることができる。中でも、液晶表
示素子や液晶テレビのバツクライト、曲面表示、
あるいは自動車、電車などのパネル表示などに用
いることができる。
〔効果〕
本発明の電界発光素子は、極めて薄い金属酸化
物層ですぐれた防湿性能が発揮されることから、
可撓性にすぐれる、
高温での防湿性にすぐれる、
透明性にすぐれる、
電界発光素子が薄型化できる、
等の効果を有する。
〔作用〕
従来から知られている酸化珪素や窒化珪素が
300A以上の膜厚で初めて防湿性能が発現するの
に対して、本発明で用いるIn、Sn、Zn、Zrおよ
びTiから成る群から選ばれた少なくとも一種の
金属の金属酸化物層が、極めて薄い膜厚でもすぐ
れた防湿性を発揮する理由については明らかでは
ないが、これらの金属酸化物がプラスチツクフイ
ルム表面と良く接着するために、薄い膜厚でも均
一な膜となるためと推定される。
以下実施例について説明する。
〔実施例〕
実施例 1〜5
(電界発光体の作成)
片面に、酸化インジウム−酸化錫の透明導電膜
とアルミニウム箔の引き出し電極を形成した二軸
延伸ポリエチレンテレフタレートフイルム(厚さ
75μm)の透明導電層の上に、スクリーン印刷法
で、シアノエチルセルロース(40部)、銅をドー
プした硫化亜鉛粉末(60部)、DMF(100部)の混
合溶液を塗布乾燥して、80μmの発光層を形成し
た。
この発光層の上に、スクリーン印刷法で、シア
ノエチルセルロース(50部)、チタン酸バリウム
粉末(50部)、DMF(100部)の混合溶液を塗布乾
燥して、100μmの高誘電率層を形成した。
次いで、二軸延伸ポリエチレンテレフタレート
フイルム(厚さ50μm)の片面に、アルミニウム
箔(厚さ35μm)と引き出し電極を積層した電極
層のアルミニウム箔面と、前記の高誘電率層面と
を重ね合わせ、150℃で加熱接着し、切断して、
100×100mmのサイズの電界発光体を得た。
(保護シートの作成)
二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフイルム
(厚さ50μm、幅300mm、長さ200m)の片面に、反
応性スパツタ法で酸化インジウムの膜を形成し
た。
反応性スパツタは、巻取式マグネトロンスパツ
タ装置を使用し、インジウム板(厚厚さ5mm、
150×350mm)をターゲツトとして、酸素−アルゴ
ン混合ガス(混合比40−60体積%)を供給しなが
ら、巻取速度を変えて、厚さが60Å、100Å、150
Å、200Åの酸化インジウム膜を得た。
次いで、この酸化インジウム膜の上に、グラビ
アコーテイング法で線状飽和ポリエステル樹脂の
溶媒溶液を塗布した後乾燥して、厚さが0.5μmの
線状飽和ポリエステル樹脂からなる有機塗工層を
形成した。
この有機塗工層の上に、第1層目と同様にし
て、第2層目の酸化インジウムの膜を形成した。
次いで、この酸化インジウムの上に、ウレタン
樹脂を用いて、未延伸ポリプロピレンシート(厚
さ50μm)を接着し、保護シートを作成した。
酸化インジウムの厚さが二層とも60Åのものを
実施例1、厚さが二層とも100Åのものを実施例
2、厚さが二層とも150Åのものを実施例3、厚
さが二層とも200Åのものを実施例4、厚さが一
層目が60Åで二層目が100Åのものを実施例5と
する。
(電界発光層の作成)
酸化インジウムとポリエチレンテレフタレート
フイルムからなる前記の保護シートを2枚、未延
伸ポリプロピレンシートが互いに内側になるよう
にして重ね、この間に、前記の電界発光体を挿入
して、加熱プレスにより150℃で接着して電界発
光素子を得た、
得られた電界発光素子を400Hz、100Vの電源に
接続し初期発光輝度(LO)を測定した。
発光輝度の測定は、ソニーテクトロニクス社の
デジタルフオトメータおよび検出器(型式J−
6503)を使用した。
次いで、この電界発光素子を、平坦に保ち、電
圧を印加したまま60℃、90%RHの高温高湿下で
1000時間保管し、その後の発光輝度(L1)を測
定し、輝度保持率A(L1/L0)を求めた。
また、同時に、この電界発光素子を、直径100
mmの円筒に、発光層が外側を向くように折り曲げ
て、電圧を印加したまま60℃、90%RHの高温高
湿下で1000時間保管し、その後の発光輝度(L2)
を測定し、輝度保持率B(L2/L0)を求めた。
測定した、初期発光輝度(L0)、輝度保持率A
(L1/L0)、輝度保持率B(L2/L0)の値を表1
に示す。
実施例 6〜9
保護シートの作成を次のようにした以外は実施
例1〜5と同様にして、電界発光素子を作成し、
初期発光輝度(L0)を測定した。次いで、平坦
に保つたまま、および、直径100mmに折り曲げて、
電圧を印加したまま60℃、90%RHの高温高湿下
で1000時間保管し、輝度保持率A(L1/L0)、輝
度保持率B(L2/L0)を測定した。結果を表1に
示す。
(保護シートの作成)
二軸延伸ポリエチレンフタレートフイルム(厚
さ75μm、幅300mm、長さ200m)の片面に、反応
性スパツタ法で酸化錫の膜を形成した。
反応性スパツタは、巻取式マグネトロンスパツ
タ装置を使用し、錫板(厚さ5mm、150×350mm)
をターゲツトとして、酸素−アルゴン混合ガス
(混合比45−55体積%)を供給しながら、巻取速
度を変えて、厚さが70Å、120Å、150Å、180Å
の酸化錫の膜を得た。
次いで、この酸化錫の膜の上に、ウレタン樹脂
を用いて、未延伸ポリプロピレンシート(厚さ
50μm)を接着し、保護シートを作成した。
酸化錫膜の厚さが70Åのものを実施例6、厚さ
が120Åのものを実施例7、厚さが150Åのものを
実施例8、厚さが180Åのものを実施例9とする。
比較例 1〜3
保護シートの作成を次のようにした以外は実施
例1〜5と同様にして、電界発光素子を作成し、
初期発光輝度(L0)を測定した。次いで、平坦
に保つたまま、および、直径100mmに折り曲げて、
電圧を印加し、60℃、90%RHの高温高湿下で
1000時間保管し、輝度保持率A(L1/L0)、輝度
保持率B(L2/L0)を測定した。結果を表1に示
す。
(保護シートの作成)
二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフイルム
(厚さ75μm、幅200mm、長さ200mm)の片面に、高
周波スパツタ法で酸化珪素の膜を形成した。
高周波スパツタは、バツチ式マグネトロンスパ
ツタ装置に高周波(13.56MHz)電源を接続し、
酸化珪素板(厚さ6mm、8インチ直径)をターゲ
ツトとして、アルゴンガスを供給しながら行つ
た。膜厚はスパツタ時間を制御し、100Å、400
Å、800Åの酸化珪素の膜を得た。
次いで、この酸化珪素膜の上に、ウレタン樹脂
を用いて、未延伸ポリプロピレンシート(厚さ
50μm)を接着し、保護シートを作成した。
酸化珪素膜の厚さが100Åのものを比較例1、
厚さが400Åのものを比較例2、厚さが800Åのも
のを比較例3とする。
比較例 4〜5
保護シートの作成を次のようにした以外は実施
例1〜5と同様にして、電界発光素子を作成し、
初期発光輝度(L0)を測定した。次いで、平坦
に保つたまま、および、直径100mmに折り曲げて、
電圧を印加し、60℃、90%RHの高温高湿下で
1000時間保管し、輝度保持率A(L1/L0)、輝度
保持率B(L2/L0)を測定した。結果を表1に示
す。
(保護シートの作成)
二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフイルム
(厚さ75μm、幅200mm、長さ200mm)の片面に、ウ
レタン樹脂を用いて、未延伸ポリプロピレンシー
ト(厚さ50μm)を接着し、保護シートを作成し
た。この保護シートを用いた電界発光素子を比較
例4とする。
溶融押出しして得られた1塩化3弗化エチレン
フイルム(厚さ100μm)の片面をグロー放電処理
した後、ウレタン樹脂を用いて、未延伸ポリプロ
ピレンシート(厚さ50μm)を接着し、保護シー
トを作成した。この保護シートを用いた電界発光
素子を比較例5とする。
表1に示すように、本発明による電界発光素子
は、透明性に優れるため発光輝度が高く、また高
温高湿下でも耐久性に優れ、折り曲げた状態でも
発光輝度の低下が少ない等の特徴を示す。
[Industrial Field of Application] The present invention relates to an electroluminescent device (electroluminescent device), and more particularly to an electroluminescent device that is flexible and has excellent durability. [Prior art] Conventionally, electroluminescent devices have been known that have a high dielectric constant layer, a light emitting layer, a transparent electrode layer, a water trapping layer, etc. laminated on an electrode layer.The light emitting layer is made of copper or aluminum. Fluorescent powders such as doped zinc sulfide dispersed in high dielectric constant binders such as cyanoethyl cellulose are used;
There is a problem in that the luminance of light emission decreases due to moisture absorption. For this reason, a method is known in which the entire electroluminescent device is wrapped in a transparent moisture-proof protective sheet. Heretofore known protective sheets include the following. A method using a plastic film with excellent moisture resistance, such as monochloride trifluoroethylene (hereinafter abbreviated as PCTFE). A vapor-deposited layer of silicon oxide is provided between two layers of polyolefin film (Utility Model Publication No. 61-42319). A transparent resin film with a sputtered film of silicon oxide or silicon nitride (Utility Model Publication No. 62-24959). [Problems to be solved by the invention] However, these moisture-proof films have the following problems.
I had the following problem. When using plastic film,
Due to insufficient moisture resistance, it is necessary to use a thick film, and flexibility is poor. Most moisture-proof
Even in the case of PCTFE film, a thickness of 200 μm or more is required. Furthermore, since plastic film has poor moisture-proofing performance at high temperatures, the life of the electroluminescent device will be shortened if used at high temperatures. Products made of vapor-deposited or sputtered silicon oxide or silicon nitride must be thicker in order to obtain high moisture-proof performance.
It needs to be thicker than 300A, practically 500A or more, and because of this, it tends to crack when bent, has poor adhesion, and lacks flexibility. Also,
As the film thickness of silicon oxide or silicon nitride increases, the transparency decreases, resulting in a decrease in luminance. In order to solve such problems, the present inventors
After extensive research, we developed a new protective sheet with excellent moisture resistance, flexibility, and transparency.
The inventors have discovered that it is possible to obtain an electroluminescent device with high luminance and excellent flexibility and durability, resulting in the present invention. [Means for Solving the Problems] That is, the present invention provides an electroluminescent device comprising a transparent electrode, an electroluminescent layer, a high dielectric constant layer, an electrode, and a protective sheet surrounding these, wherein the protective sheet is
Provided is an electroluminescent device comprising a plastic film laminated with a metal oxide layer of at least one metal selected from the group consisting of In, Sn, Zn, Zr and Ti. The details of the present invention will be explained below with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing one embodiment of the electroluminescent device of the present invention. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes an electrode layer formed by adhering aluminum foil, copper foil, etc. to a plastic film such as a polyester film, or by depositing aluminum, copper, indium oxide, etc. in vacuum. 2 is an electrode layer using a paint in which high dielectric constant powder such as barium titanate or strontium titanate is dispersed in a high dielectric constant binder such as cyanoethyl cellulose, sucrose, glycerol pullulan, or glycerose sucrose together with a solvent such as DMF. This is a high dielectric constant layer that is screen printed and dried on top. 3 is a high-permittivity layer using a paint in which a phosphor such as zinc sulfide, zinc selenide, or cadmium sulfide doped with copper, aluminum, or manganese is dispersed together with a solvent in a high-permittivity binder such as cyanoethyl cellulose or sucrose. This is a luminescent layer that is screen printed and dried on top. 4
tin oxide, on one side of polyester film, etc.
This is a transparent electrode layer in which a transparent conductive layer made of indium oxide, indium oxide-tin oxide composite oxide, etc. is formed, and the transparent conductive surface is laminated with a light emitting layer by a method such as hot pressing. 5 is a protective sheet made of a plastic film laminated with a metal oxide layer of at least one metal selected from the group consisting of In, Sn, Zn, Zr and Ti; The electrode layer, the high dielectric constant layer, the light emitting layer and the transparent electrode layer are adhesively laminated so as to cover the entire electroluminescent body. The interior of the electroluminescent element may contain a water-absorbing layer such as a polyamide film, if necessary. FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing an example of a protective sheet used in the present invention. In FIG. 2, 11 is a plastic film, 12 is a metal oxide layer made of at least one metal selected from the group consisting of In, Sn, Zn, Zr, and Ti, and 13 is a thermoplastic film for bonding the protective sheet. It is an adhesive layer. FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing another example of the protective sheet used in the present invention. In FIG. 3, 14 is a plastic film, 15 is a metal oxide layer made of at least one metal selected from the group consisting of In, Sn, Zn, Zr, and Ti, and 16 is a metal oxide layer on the metal oxide layer. 17 is another metal oxide layer laminated on the organic thin film layer, and 18 is a thermoplastic adhesive layer for bonding the protective sheet. be. The protective sheet of the present invention has a plastic film laminated with a metal oxide layer made of at least one metal selected from the group consisting of In, Sn, Zn, Zr, and Ti. As the plastic film, the following typical organic polymers can be melted or melt-extruded and stretched in the longitudinal direction and/or width direction as necessary. Typical organic polymers include polyolefins such as polyethylene and polypropylene, polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene-2,6-naphthalate, vinyl chloride, vinylidene chloride, aromatic polyamide, polyamideimide, polyimide, polyetherimide, polysulfone, Polyether sulfone, polyether ether ketone, polyarylate, polyphenylene sulfide, polyphenylene oxide, tetrafluoroethylene, monochloride trifluoroethylene,
Examples include fluorinated ethylene propylene copolymers. Two or more layers of these plastic films may be laminated. Further, it may be a copolymer of these or a copolymer with another organic polymer, or it may contain another organic polymer. Known additives such as antistatic agents, ultraviolet absorbers, plasticizers, and lubricants may be added to these organic polymers. The light transmittance of the plastic film of the present invention is important for increasing the luminance of the electroluminescent device, and the total light transmittance in white light is at least
It is desirable that it be 70% or more, preferably 80% or more. Prior to the formation of the metal oxide layer, the plastic film of the present invention is subjected to surface treatments such as corona discharge treatment, plasma treatment, glow discharge treatment, reverse sputtering treatment, and surface roughening treatment, as well as known anchor coating treatment. Also good. The thickness of the plastic film of the present invention is not particularly limited, but from the viewpoint of flexibility and shape retention of the electroluminescent device, it is preferably in the range of 10 to 200 μm, more preferably in the range of 25 to 100 μm. This is desirable. A metal oxide layer of at least one metal selected from the group consisting of In, Sn, Zn, Zr and Ti is laminated on at least one surface of the plastic film. The metal oxide layer can be laminated using vacuum evaporation,
Physical vapor deposition methods such as reactive vapor deposition, ion plating, and sputtering can be used. Among these, the method using sputtering is most preferable in terms of durability and flexibility of the electroluminescent device. Sputtering as used in the present invention refers to direct current two-pole sputtering, high-frequency two-pole sputtering, direct current magnetron sputtering, high-frequency magnetron sputtering, etc.
All known sputtering methods are included. It also includes so-called reactive sputtering, in which a reactive gas such as oxygen is introduced during sputtering. The metal oxide layer used in the present invention includes:
It is a metal oxide of at least one metal selected from the group consisting of In, Sn, Zn, Zr, and Ti, and may be a mixture of two or more metal oxides or a composite oxide. Among them, In, Sn, Zn oxides, and In−
A composite oxide of Sn is preferred, and most preferably,
In, Sn oxides, and In-Sn composite oxides are desirable. These metal oxide layers are composed of In 2 O 3 ,
Stoichiometric oxides such as SnO, SnO 2 , ZnO, ZrO 2 and TiO 2 are preferred, but non-stoichiometric oxides, such as those with a small number or excess of oxygen atoms relative to metal atoms, are preferred. may contain small amounts of oxidized oxides or unoxidized metal atoms. The metal oxide layer contains elements other than the metal atoms mentioned above, such as Fe, Sb, C, Mo, W, Cu, Al,
A trace amount of Si, Ni, etc. may be included. The thickness of the metal oxide layer is preferably in the range of 30 to 250 Å from the viewpoint of moisture resistance and flexibility. These metal oxide layers exhibit moisture-proofing performance at a thickness of 30 Å or more,
Sufficient moisture-proof performance can be obtained with a film thickness of 50 Å or more. Furthermore, even if the film thickness is made thicker than necessary, the moisture-proof performance of these metal oxide layers will not improve;
If it exceeds this value, the transparency and flexibility will deteriorate. More preferably, it is 50 Å to 200 Å. Moreover, when two or more metal oxide layers are laminated on the plastic film, the moisture-proof performance is further improved. In this case, it is preferable that each metal oxide layer is separated by an organic thin film layer. For this purpose, a method is used in which a metal oxide layer is formed on a plastic film, an organic thin film layer is formed on this metal oxide layer, and another metal oxide layer is formed on this organic thin film layer. This is desirable. Resins used for the organic thin film layer include polyester resin, acrylic resin, epoxy resin,
Examples include vinyl resin, melamine resin, urethane resin, ionomer, and polycarbonate. In addition, the thickness of the organic thin film layer is 0.1 to 10 μm.
The range is preferably from 0.3 to 2 μm, more preferably from 0.3 to 2 μm.
It is desirable that If necessary, a thermoplastic adhesive layer is laminated on one side of such a protective sheet in order to enclose the entire electroluminescent layer in a bag-like manner. The thermoplastic adhesive layer may be formed on the plastic film side or the metal oxide layer side, but is preferably formed on the metal oxide layer side. The thermoplastic adhesive layer in the present invention refers to a polymer layer that can be bonded by heating and pressure, and typical examples thereof include the following. Polyolefins such as polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene copolymers, polyesters, polyamides, ionomers, ethylene vinyl acetate copolymers, acrylic resins such as acrylic esters and methacrylic esters, polyvinyl acetals, phenols, modified epoxy resins, etc. , copolymers and mixtures thereof, but are not necessarily limited thereto. Among these, polyolefins, polyesters, polyamides, ionomers, and ethylene vinyl acetate copolymers are preferred. The thickness of the heat-sealable thermoplastic adhesive layer is
In terms of adhesive strength, the range is preferably 10 to 200 μm, more preferably 30 to 100 μm. Methods for laminating the thermoplastic adhesive layer on the metal oxide layer include a method in which the components of the thermoplastic adhesive layer are dissolved in an organic solvent and coated, and a method in which the components of the thermoplastic adhesive layer are melted and extrusion laminated. Alternatively, a known method can be employed, such as a method in which a sheet of a thermoplastic adhesive layer is prepared in advance and the sheets are adhesively laminated by dry lamination or the like. The heat-sealing temperature of the thermoplastic adhesive layer can be appropriately selected depending on the characteristics of the thermoplastic adhesive layer used, but it is desirable that the thermoplastic adhesive layer can be heat-sealed at a temperature of 80°C to 180°C. [Applications] The electroluminescent device of the present invention can be widely used in fields such as planar illumination and display. Among them, LCD display elements, LCD TV backlights, curved displays,
Alternatively, it can be used for panel displays in automobiles, trains, etc. [Effects] The electroluminescent device of the present invention exhibits excellent moisture-proofing performance with an extremely thin metal oxide layer, so it has excellent flexibility, moisture-proofing at high temperatures, and excellent transparency. , The electroluminescent device can be made thinner, and the like. [Action] Conventionally known silicon oxide and silicon nitride
Moisture-proofing performance is achieved only with a film thickness of 300A or more, whereas the metal oxide layer of at least one metal selected from the group consisting of In, Sn, Zn, Zr, and Ti used in the present invention is extremely thin. Although it is not clear why the film exhibits excellent moisture resistance regardless of its thickness, it is presumed that this is because these metal oxides adhere well to the surface of the plastic film, resulting in a uniform film even at a thin film thickness. Examples will be described below. [Example] Examples 1 to 5 (Creation of electroluminescent material) A biaxially stretched polyethylene terephthalate film (thickness:
A mixed solution of cyanoethyl cellulose (40 parts), copper-doped zinc sulfide powder (60 parts), and DMF (100 parts) was applied by screen printing onto a transparent conductive layer of 80 μm diameter. A light emitting layer was formed. A mixed solution of cyanoethyl cellulose (50 parts), barium titanate powder (50 parts), and DMF (100 parts) is applied onto this luminescent layer using a screen printing method and dried to form a 100 μm high dielectric constant layer. did. Next, the aluminum foil surface of the electrode layer in which the aluminum foil (thickness 35 μm) and the extraction electrode were laminated on one side of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film (thickness 50 μm) and the above-mentioned high dielectric constant layer surface were stacked at 150 μm. Heat glue at ℃, cut,
An electroluminescent material with a size of 100×100 mm was obtained. (Preparation of protective sheet) An indium oxide film was formed on one side of a biaxially stretched polyethylene terephthalate film (thickness: 50 μm, width: 300 mm, length: 200 m) by a reactive sputtering method. For reactive sputtering, a winding type magnetron sputtering device is used, and an indium plate (thickness 5 mm,
150 x 350 mm), and while supplying oxygen-argon mixed gas (mixing ratio 40-60% by volume), the winding speed was changed to obtain thicknesses of 60 Å, 100 Å, and 150 Å.
An indium oxide film with a thickness of 200 Å was obtained. Next, a solvent solution of a linear saturated polyester resin was applied onto this indium oxide film using a gravure coating method and dried to form an organic coating layer made of a linear saturated polyester resin with a thickness of 0.5 μm. . On this organic coating layer, a second layer of indium oxide film was formed in the same manner as the first layer. Next, an unstretched polypropylene sheet (thickness: 50 μm) was adhered onto this indium oxide using urethane resin to create a protective sheet. Example 1: Both layers of indium oxide have a thickness of 60 Å. Example 2: Both layers have a thickness of 100 Å. Example 3: Both layers have a thickness of 150 Å. Example 4 has a thickness of both 200 Å, and Example 5 has a thickness of 60 Å for the first layer and 100 Å for the second layer. (Creation of electroluminescent layer) Two protective sheets made of indium oxide and polyethylene terephthalate film are stacked with the unstretched polypropylene sheets facing inside each other, and the electroluminescent material is inserted between them. An electroluminescent device was obtained by bonding at 150°C using a hot press.The obtained electroluminescent device was connected to a power source of 400Hz and 100V, and the initial luminescence brightness (LO) was measured. The luminance was measured using a Sony Tektronix digital photometer and detector (model J-
6503) was used. Next, this electroluminescent device was kept flat and exposed to high temperature and humidity at 60°C and 90%RH while applying voltage.
After storage for 1000 hours, the luminance luminance (L1) was measured and the luminance retention rate A (L1/L0) was determined. At the same time, this electroluminescent element was
Bend the emissive layer in a mm cylinder so that it faces outward and store it at 60°C and 90% RH for 1000 hours under high temperature and high humidity with voltage applied.Then the luminescence brightness (L2)
was measured, and the brightness retention rate B (L2/L0) was determined. Measured initial emission brightness (L0), brightness retention rate A
(L1/L0) and brightness retention rate B (L2/L0) in Table 1.
Shown below. Examples 6 to 9 Electroluminescent devices were created in the same manner as Examples 1 to 5 except that the protective sheets were created as follows,
The initial luminescence brightness (L0) was measured. Then, while keeping it flat, bend it to a diameter of 100 mm.
It was stored for 1000 hours at a high temperature and humidity of 60° C. and 90% RH with the voltage applied, and the brightness retention rate A (L1/L0) and brightness retention rate B (L2/L0) were measured. The results are shown in Table 1. (Preparation of protective sheet) A tin oxide film was formed on one side of a biaxially stretched polyethylene phthalate film (thickness: 75 μm, width: 300 mm, length: 200 m) by a reactive sputtering method. For reactive sputtering, a winding type magnetron sputtering device is used, and a tin plate (thickness 5 mm, 150 x 350 mm) is used.
While supplying oxygen-argon mixed gas (mixing ratio 45-55% by volume), the winding speed was changed to obtain thicknesses of 70 Å, 120 Å, 150 Å, and 180 Å.
A film of tin oxide was obtained. Next, on top of this tin oxide film, an unstretched polypropylene sheet (thickness
50 μm) to create a protective sheet. Example 6 has a tin oxide film with a thickness of 70 Å, Example 7 has a thickness of 120 Å, Example 8 has a thickness of 150 Å, and Example 9 has a tin oxide film with a thickness of 180 Å. Comparative Examples 1 to 3 Electroluminescent elements were created in the same manner as Examples 1 to 5 except that the protective sheet was created as follows,
The initial luminance (L0) was measured. Then, while keeping it flat, bend it to a diameter of 100 mm.
Apply voltage and under high temperature and high humidity at 60℃ and 90%RH.
It was stored for 1000 hours and the brightness retention rate A (L1/L0) and brightness retention rate B (L2/L0) were measured. The results are shown in Table 1. (Preparation of protective sheet) A silicon oxide film was formed on one side of a biaxially stretched polyethylene terephthalate film (thickness: 75 μm, width: 200 mm, length: 200 mm) using a high-frequency sputtering method. High-frequency sputtering connects a high-frequency (13.56MHz) power source to a batch-type magnetron sputtering device.
A silicon oxide plate (6 mm thick, 8 inch diameter) was used as a target, and argon gas was supplied. The film thickness is 100Å, 400Å by controlling the sputtering time.
A silicon oxide film with a thickness of 800 Å was obtained. Next, on top of this silicon oxide film, an unstretched polypropylene sheet (thickness
50 μm) to create a protective sheet. Comparative example 1 has a silicon oxide film with a thickness of 100 Å.
Comparative Example 2 has a thickness of 400 Å, and Comparative Example 3 has a thickness of 800 Å. Comparative Examples 4-5 Electroluminescent elements were created in the same manner as Examples 1-5 except that the protective sheet was created as follows,
The initial luminance (L0) was measured. Then, while keeping it flat, bend it to a diameter of 100 mm.
Apply voltage and under high temperature and high humidity at 60℃ and 90%RH.
It was stored for 1000 hours and the brightness retention rate A (L1/L0) and brightness retention rate B (L2/L0) were measured. The results are shown in Table 1. (Creation of protective sheet) An unstretched polypropylene sheet (thickness 50 μm) is adhered to one side of a biaxially stretched polyethylene terephthalate film (thickness 75 μm, width 200 mm, length 200 mm) using urethane resin, and a protective sheet is formed. Created. Comparative Example 4 is an electroluminescent device using this protective sheet. After performing glow discharge treatment on one side of the monochloride trifluoride ethylene film (thickness 100 μm) obtained by melt extrusion, an unstretched polypropylene sheet (thickness 50 μm) was adhered using urethane resin, and a protective sheet was attached. Created. Comparative Example 5 is an electroluminescent device using this protective sheet. As shown in Table 1, the electroluminescent device according to the present invention has characteristics such as high luminance due to its excellent transparency, excellent durability even under high temperature and high humidity, and little decrease in luminance even when folded. show.
【表】【table】
第1図は、本発明に電界発光素子の一実施態様
を模式的に示す断面図である。第1図において、
1は電極層、2は高誘電率層、3は発光層、4は
透明電極層、5は保護シートである。
第2図は、本発明に用いられる保護シートの一
例を模式的に示す断面図である。第2図におい
て、11はプラスチツクフイルム、12は金属酸
化物層、13は熱可塑性接着層である。
第3図は、本発明に用いられる保護シートの他
の一例を模式的に示す断面図である。第3図にお
いて、14はプラスチツクフイルム、15は金属
酸化物層、16は有機薄膜層、17は金属酸化物
層であり、18は熱可塑性接着層である。
FIG. 1 is a sectional view schematically showing one embodiment of an electroluminescent device according to the present invention. In Figure 1,
1 is an electrode layer, 2 is a high dielectric constant layer, 3 is a light emitting layer, 4 is a transparent electrode layer, and 5 is a protective sheet. FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing an example of a protective sheet used in the present invention. In FIG. 2, 11 is a plastic film, 12 is a metal oxide layer, and 13 is a thermoplastic adhesive layer. FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing another example of the protective sheet used in the present invention. In FIG. 3, 14 is a plastic film, 15 is a metal oxide layer, 16 is an organic thin film layer, 17 is a metal oxide layer, and 18 is a thermoplastic adhesive layer.
Claims (1)
よび、これらを包む保護シートからなる電界発光
素子において、該保護シートが、In、Sn、Zn、
ZrおよびTiから成る群から選ばれた少なくとも
一種の金属の金属酸化物層が積層されたプラスチ
ツクフイルムから成ることを特徴とする電界発光
素子。 2 保護シートが、In、Sn、Zn、ZrおよびTiか
ら成る群から選ばれた少なくとも一種の金属の金
属酸化物層が、少なくとも二層以上積層されたプ
ラスチツクフイルムから成ることを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載の電界発光素子。[Claims] 1. An electroluminescent device comprising an electrode layer, a high dielectric constant layer, a light-emitting layer, a transparent electrode layer, and a protective sheet surrounding these, wherein the protective sheet includes In, Sn, Zn,
1. An electroluminescent device comprising a plastic film laminated with a metal oxide layer of at least one metal selected from the group consisting of Zr and Ti. 2. A patent claim characterized in that the protective sheet is made of a plastic film laminated with at least two or more metal oxide layers of at least one metal selected from the group consisting of In, Sn, Zn, Zr, and Ti. The electroluminescent device according to item 1.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62215735A JPS6459791A (en) | 1987-08-28 | 1987-08-28 | Electroluminescence element |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62215735A JPS6459791A (en) | 1987-08-28 | 1987-08-28 | Electroluminescence element |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6459791A JPS6459791A (en) | 1989-03-07 |
| JPH0437560B2 true JPH0437560B2 (en) | 1992-06-19 |
Family
ID=16677327
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62215735A Granted JPS6459791A (en) | 1987-08-28 | 1987-08-28 | Electroluminescence element |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6459791A (en) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2776040B2 (en) * | 1990-04-27 | 1998-07-16 | 凸版印刷株式会社 | Organic thin film EL device |
| JP4926324B2 (en) | 2001-02-08 | 2012-05-09 | 三星モバイルディスプレイ株式會社 | Organic EL device |
| TW548860B (en) * | 2001-06-20 | 2003-08-21 | Semiconductor Energy Lab | Light emitting device and method of manufacturing the same |
| US7211828B2 (en) | 2001-06-20 | 2007-05-01 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device and electronic apparatus |
| TW546857B (en) | 2001-07-03 | 2003-08-11 | Semiconductor Energy Lab | Light-emitting device, method of manufacturing a light-emitting device, and electronic equipment |
| US20080000388A1 (en) * | 2004-10-22 | 2008-01-03 | Yoshiyuki Abe | Gas Barrier Transparent Resin Substrate Method for Manufacturing Thereof, and Flexible Display Element Using Barrier Transparent Resin Substrate |
-
1987
- 1987-08-28 JP JP62215735A patent/JPS6459791A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6459791A (en) | 1989-03-07 |
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