JPH0438417A - 座標測定装置 - Google Patents
座標測定装置Info
- Publication number
- JPH0438417A JPH0438417A JP2144989A JP14498990A JPH0438417A JP H0438417 A JPH0438417 A JP H0438417A JP 2144989 A JP2144989 A JP 2144989A JP 14498990 A JP14498990 A JP 14498990A JP H0438417 A JPH0438417 A JP H0438417A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate holding
- substrate
- suction hole
- photo mask
- measuring device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- A Measuring Device Byusing Mechanical Method (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
基板上の任意の点の平面座標値を測定する際に、基板を
保持して固定する基板保持機構を有する座標測定装置に
関し、 基板を変形させないで保持できる基板保持機構を有する
座標測定装置の提供を目的とし、基板を鉛直方向に保持
して固定するように基板保持機構を構成する。
保持して固定する基板保持機構を有する座標測定装置に
関し、 基板を変形させないで保持できる基板保持機構を有する
座標測定装置の提供を目的とし、基板を鉛直方向に保持
して固定するように基板保持機構を構成する。
本発明は、被測定物である基板を保持する基板保持機構
を有する座標測定装置、特に基板を変形させないで保持
できる基板保持機構を有する座標測定装置に関する。
を有する座標測定装置、特に基板を変形させないで保持
できる基板保持機構を有する座標測定装置に関する。
最近の高集積・大規模半導体装置の配線パターンは、微
細且つ高密度になっている。
細且つ高密度になっている。
従って、このような配線パターンを形成するために使用
するフォトマスクのパターン精度は益々厳しくなるとと
もに、パターン上の任意の点の平面座標値を正確に測定
できる座標測定装置が強く求められている。
するフォトマスクのパターン精度は益々厳しくなるとと
もに、パターン上の任意の点の平面座標値を正確に測定
できる座標測定装置が強く求められている。
次に、従来の座標測定装置について図面を参照しながら
説明する。
説明する。
第２図は、従来の座標測定装置の概略側断面図である。
尚、同じ部品・材料に対しては全図を通して同じ記号を
付与しである。
付与しである。
従来の座標測定装置の基板保持機構２１は、第２図に示
すように基板、例えばフォトマスク３１を水平に載置す
る平坦な真空吸着面２１ａと、一端を真空吸着面２１ａ
に開口するとともに他端が排気装置（図示せず）に連結
した真空吸着孔２１ｂと、レーザ光３２を通過させて乱
反射を防止する貫通孔２１ｃとを設けて構成したもので
ある。
すように基板、例えばフォトマスク３１を水平に載置す
る平坦な真空吸着面２１ａと、一端を真空吸着面２１ａ
に開口するとともに他端が排気装置（図示せず）に連結
した真空吸着孔２１ｂと、レーザ光３２を通過させて乱
反射を防止する貫通孔２１ｃとを設けて構成したもので
ある。
このような基板保持機構２１を有する従来の座標測定装
置によりフォトマスク３１のパターン上の任意の点の平
面座標値を測定する際には、フォトマスク３１を基板保
持機構２１の真空吸着面２１ａに載置して貫通孔２１ｃ
を閉塞し、次いで排気装置を作動して貫通孔２１ｃ内を
減圧し、フォトマスク３１を真空吸着面２１ａに保持し
て固定することとなる。
置によりフォトマスク３１のパターン上の任意の点の平
面座標値を測定する際には、フォトマスク３１を基板保
持機構２１の真空吸着面２１ａに載置して貫通孔２１ｃ
を閉塞し、次いで排気装置を作動して貫通孔２１ｃ内を
減圧し、フォトマスク３１を真空吸着面２１ａに保持し
て固定することとなる。
ところが、前記した如〈従来の座標測定装置の基板保持
機構２１に固定されたフォトマスク３１は、第２図にお
いて点線で示すように自重で播鉢状になって変形するこ
ととなる。
機構２１に固定されたフォトマスク３１は、第２図にお
いて点線で示すように自重で播鉢状になって変形するこ
ととなる。
従って、かかる状態にあるフォトマスク３１においては
、そのパターン上の任意の点の平面座標値を正確に測定
できないという問題があった。
、そのパターン上の任意の点の平面座標値を正確に測定
できないという問題があった。
本発明は、このような問題を解決するためになされたも
ので、その目的は基板を変形させないで保持できる基板
保持機構を有する座標測定装置の提供にある。
ので、その目的は基板を変形させないで保持できる基板
保持機構を有する座標測定装置の提供にある。
前記目的は、基板上の任意の点の平面座標値を測定する
さいに、基板を保持して固定する基板保持機構を存する
座標測定装置において、基板保持機構が基板を鉛直方向
に保持して固定することを特徴とする座標測定装置によ
り達成される。
さいに、基板を保持して固定する基板保持機構を存する
座標測定装置において、基板保持機構が基板を鉛直方向
に保持して固定することを特徴とする座標測定装置によ
り達成される。
本発明の座標測定装置は、基板を鉛直方向に保持して固
定する基板保持機構を備えて構成されている。
定する基板保持機構を備えて構成されている。
このため、基板保持機構により鉛直方向に保持された基
板は、変形することがない。
板は、変形することがない。
従って、斯かる基板保持機構を有する本発明の座標測定
装置は、基板上の任意の点の平面座標値を正確に渭ｊ定
できることとなる。
装置は、基板上の任意の点の平面座標値を正確に渭ｊ定
できることとなる。
以下、本発明の一実施例を図面を参照しながら説明する
。
。
第１図は、本発明の一実施例の座標測定装置を説明する
ための図で、同図（ａ）は座標測定装置の基板保持機構
の概略平面図、同図（ｂ）は座標測定装置の基板保持機
構の概略側面図である。
ための図で、同図（ａ）は座標測定装置の基板保持機構
の概略平面図、同図（ｂ）は座標測定装置の基板保持機
構の概略側面図である。
本発明の一実施例の座標測定装置は、第１図の（ａ）及
び（ｂ）図に示すように、 平坦な表面が鉛直方向（以降、Ｚ軸方向と呼称する）と
平行な垂直盤１１と、 垂直盤１１の表面に固定した軸受け１２ａに両端部を支
持され、且つ下端を駆動モータ１２ｃに連結し、駆動モ
ータ１２ｃに回転されて螺合したボールナフト１２ｂを
Ｚ軸方向（上下方向）に移動するボールねじ１２と、 垂直盤１１の表面に固定した支持金具１３ａに両端部を
固定されてＺ軸方向に平行且つ離隔した一対のスライド
レール１３ｂに、それぞれＺ方向に摺動自在に取りつけ
た二つのスライダー１３と、裏面をボールナフｌ−１２
ｂとスライダー１３に固定し、ボールナツト１２ｂによ
りＺ軸方向に移動されるＺ軸に平行な表面を有するテー
ブル１４と、チーフル■４の表面に固定した軸受け１５
ａに両端部を支持され、且つ一端を駆動モータ１５ｃに
連結して、駆動モータ１５ｃに回転されて螺合したボー
ルナツト１５ｂをＸ軸方向（Ｚ軸方向に垂直な方向、即
ち水平方向）に移動するボールねじ１５と、裏面をボー
ルナンド１５ｂに固定し、テーブル１４表面に平行な表
面に一端を開口し、且つ他端を連結した排気装置（図示
せず）により内部を減圧され、基板、例えばフォトマス
ク３１をＺ軸方向に保持する真空吸着孔１６ａを有する
基板保持板１６と、フォトマスク３１の裏面を真空吸着
して先端に固定したスライダー１７ａを、フォトマスク
３１のＹ軸に対する傾斜を正確に測定できる測距装置（
図示せず）に制御されてＹ軸方向（Ｘ軸に垂直な方向）
に伸縮させ、フォトマスク３１を正確にＹ軸と平行にす
る傾斜角調整機構１７とを含んでなる基板保持機構を備
えて構成したものである。
び（ｂ）図に示すように、 平坦な表面が鉛直方向（以降、Ｚ軸方向と呼称する）と
平行な垂直盤１１と、 垂直盤１１の表面に固定した軸受け１２ａに両端部を支
持され、且つ下端を駆動モータ１２ｃに連結し、駆動モ
ータ１２ｃに回転されて螺合したボールナフト１２ｂを
Ｚ軸方向（上下方向）に移動するボールねじ１２と、 垂直盤１１の表面に固定した支持金具１３ａに両端部を
固定されてＺ軸方向に平行且つ離隔した一対のスライド
レール１３ｂに、それぞれＺ方向に摺動自在に取りつけ
た二つのスライダー１３と、裏面をボールナフｌ−１２
ｂとスライダー１３に固定し、ボールナツト１２ｂによ
りＺ軸方向に移動されるＺ軸に平行な表面を有するテー
ブル１４と、チーフル■４の表面に固定した軸受け１５
ａに両端部を支持され、且つ一端を駆動モータ１５ｃに
連結して、駆動モータ１５ｃに回転されて螺合したボー
ルナツト１５ｂをＸ軸方向（Ｚ軸方向に垂直な方向、即
ち水平方向）に移動するボールねじ１５と、裏面をボー
ルナンド１５ｂに固定し、テーブル１４表面に平行な表
面に一端を開口し、且つ他端を連結した排気装置（図示
せず）により内部を減圧され、基板、例えばフォトマス
ク３１をＺ軸方向に保持する真空吸着孔１６ａを有する
基板保持板１６と、フォトマスク３１の裏面を真空吸着
して先端に固定したスライダー１７ａを、フォトマスク
３１のＹ軸に対する傾斜を正確に測定できる測距装置（
図示せず）に制御されてＹ軸方向（Ｘ軸に垂直な方向）
に伸縮させ、フォトマスク３１を正確にＹ軸と平行にす
る傾斜角調整機構１７とを含んでなる基板保持機構を備
えて構成したものである。
かかる構成をした本発明の一実施例の座標測定装置の基
板保持機構の使用方法を説明する。
板保持機構の使用方法を説明する。
まず、駆動モータ１２ｃを作動してテーブル１４をＸ軸
方向に移動し、テーブル１４がＸ軸方向の所定位置にき
たら駆動モータ１２ｃの作動を停止する。
方向に移動し、テーブル１４がＸ軸方向の所定位置にき
たら駆動モータ１２ｃの作動を停止する。
次いで、駆動モータ１５ｃを作動して基板保持板１６を
Ｘ軸方向に移動し、基板保持板１６がＸ軸方向の所定位
置にきたら駆動モータ１２ｃの作動を停止する。
Ｘ軸方向に移動し、基板保持板１６がＸ軸方向の所定位
置にきたら駆動モータ１２ｃの作動を停止する。
この後、基板保持板１６の表面にフォトマスク３１の裏
面を密接して真空吸着孔１６ａを閉塞するとともに、真
空吸着孔１６ａに連結した排気装置を作動し、フォトマ
スク３１を真空吸着して基板保持板１６の表面に保持す
る。
面を密接して真空吸着孔１６ａを閉塞するとともに、真
空吸着孔１６ａに連結した排気装置を作動し、フォトマ
スク３１を真空吸着して基板保持板１６の表面に保持す
る。
続いて、傾斜角調整機構１７のスライダー１７ａの先端
に開口した真空吸着孔（図示せず）をフォトマスク３１
の下端部の裏面で閉塞し、真空吸着孔に連結した排気装
置（図示せず）を作動し、フォトマスク３１をスライダ
ー１７ａの先端に固定する。
に開口した真空吸着孔（図示せず）をフォトマスク３１
の下端部の裏面で閉塞し、真空吸着孔に連結した排気装
置（図示せず）を作動し、フォトマスク３１をスライダ
ー１７ａの先端に固定する。
しかる後、測距装置によりフォトマスク３１のＹ軸に対
する傾きを測定し、フォトマスク３１に傾きがあれば測
距装置は傾斜角調整機構１７を制御してスライダー１７
ａをＹ軸方向に微小移動して傾きを修正する。
する傾きを測定し、フォトマスク３１に傾きがあれば測
距装置は傾斜角調整機構１７を制御してスライダー１７
ａをＹ軸方向に微小移動して傾きを修正する。
斯くして、フォトマスク３１は、表面の方向がＸ軸とＹ
軸に平行、且つＹ軸に垂直に保持されるとともに、表面
と垂直方向に曲がる変形もない状態で保持されているこ
ととなる。
軸に平行、且つＹ軸に垂直に保持されるとともに、表面
と垂直方向に曲がる変形もない状態で保持されているこ
ととなる。
この結果、本発明の座標測定装置は、フォトマスク３１
のパターン上の任意の点の平面座標値を正確に測定でき
ることとなる。
のパターン上の任意の点の平面座標値を正確に測定でき
ることとなる。
以上の説明から明らかなように本発明によれば、フォト
マスク等に形成したパターン上の任意の点の平面座標値
を正確に測定できる座標測定装置を提供することができ
る。
マスク等に形成したパターン上の任意の点の平面座標値
を正確に測定できる座標測定装置を提供することができ
る。
第１図は、本発明の一実施例の座標測定装置を説明する
ための図、 第２図は、従来の座標測定装置の概略側断面図である。 図において、 １１は垂直盤、 １２と１５はボールねじ、 １２ａ と１５ａは軸受、 １２ｂ と１５ｂはボールナツト、 １２ｃと１５ｃは駆動モータ、 １３はスライダー １３ａは支持金具、 １３ｂはスライドレール、 １４はテーブル、 １６は基板保持板、 １６ａは真空吸着孔、 １７は傾斜角調整機構、 １７ａはスライダー ３１は基板（フォトマスク）をそれぞれ示す。
ための図、 第２図は、従来の座標測定装置の概略側断面図である。 図において、 １１は垂直盤、 １２と１５はボールねじ、 １２ａ と１５ａは軸受、 １２ｂ と１５ｂはボールナツト、 １２ｃと１５ｃは駆動モータ、 １３はスライダー １３ａは支持金具、 １３ｂはスライドレール、 １４はテーブル、 １６は基板保持板、 １６ａは真空吸着孔、 １７は傾斜角調整機構、 １７ａはスライダー ３１は基板（フォトマスク）をそれぞれ示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 基板上の任意の点の平面座標値を測定するさいに、基
板を保持して固定する基板保持機構を有する座標測定装
置において、 基板保持機構が基板を鉛直方向に保持して固定すること
を特徴とする座標測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2144989A JPH0438417A (ja) | 1990-06-01 | 1990-06-01 | 座標測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2144989A JPH0438417A (ja) | 1990-06-01 | 1990-06-01 | 座標測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0438417A true JPH0438417A (ja) | 1992-02-07 |
Family
ID=15374892
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2144989A Pending JPH0438417A (ja) | 1990-06-01 | 1990-06-01 | 座標測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0438417A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7649740B2 (en) | 2007-01-17 | 2010-01-19 | Olympus Corporation | Stacked mounting structure |
| US7679196B2 (en) | 2005-12-22 | 2010-03-16 | Olympus Corporation | Stacked mounting structure |
-
1990
- 1990-06-01 JP JP2144989A patent/JPH0438417A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7679196B2 (en) | 2005-12-22 | 2010-03-16 | Olympus Corporation | Stacked mounting structure |
| US7649740B2 (en) | 2007-01-17 | 2010-01-19 | Olympus Corporation | Stacked mounting structure |
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